JPH08304789A - プラズマアドレス表示装置の製造方法 - Google Patents
プラズマアドレス表示装置の製造方法Info
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- JPH08304789A JPH08304789A JP7110447A JP11044795A JPH08304789A JP H08304789 A JPH08304789 A JP H08304789A JP 7110447 A JP7110447 A JP 7110447A JP 11044795 A JP11044795 A JP 11044795A JP H08304789 A JPH08304789 A JP H08304789A
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- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133374—Constructional arrangements; Manufacturing methods for displaying permanent signs or marks
Abstract
(57)【要約】
【目的】ごみの混入による液晶層のギャップむらや誘電
体シートの割れを可及的に防止することができるプラズ
マアドレス表示装置の製造方法を提供する。 【構成】プラズマセル３を構成するプラズマ基板ガラス
３１と誘電体シート４とが多数並列的に設けられた隔壁
４を介して対向するプラズマアドレス表示装置の製造方
法であって、隔壁５の一部を誘電体シート４に形成する
と共に、プラズマ基板ガラス３１に隔壁５の一部を形成
し、これらの誘電体シート４とプラズマ基板ガラス３１
とをこれらに形成した隔壁５の一部同士を合わせて隔壁
６を完成するようにして接合する。
体シートの割れを可及的に防止することができるプラズ
マアドレス表示装置の製造方法を提供する。 【構成】プラズマセル３を構成するプラズマ基板ガラス
３１と誘電体シート４とが多数並列的に設けられた隔壁
４を介して対向するプラズマアドレス表示装置の製造方
法であって、隔壁５の一部を誘電体シート４に形成する
と共に、プラズマ基板ガラス３１に隔壁５の一部を形成
し、これらの誘電体シート４とプラズマ基板ガラス３１
とをこれらに形成した隔壁５の一部同士を合わせて隔壁
６を完成するようにして接合する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶セルとプラズマセ
ルとを誘電体シートを介して積層したプラズマアドレス
表示装置の製造方法に関する。
ルとを誘電体シートを介して積層したプラズマアドレス
表示装置の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、液晶セルとプラズマセルとが誘電
体シートを介して積層されてなるプラズマアドレス表示
装置が提案されている。図３は、このプラズマアドレス
表示装置の構造の一例を示すものである。
体シートを介して積層されてなるプラズマアドレス表示
装置が提案されている。図３は、このプラズマアドレス
表示装置の構造の一例を示すものである。
【０００３】図３のプラズマアドレス表示装置は、液晶
セル２とプラズマセル３とを誘電体シート４を介して積
層したフラットパネル構造を有する。液晶セル２は、カ
ラーフィルター基板２１が液晶シール材２２を介して所
定の間隙を有した状態で誘電体シート４に接合されてい
る。カラーフィルタ基板２１内面側の面には、図示しな
いが行方向に延びる透明導電材料からなるストライプ状
のデータ電極が列方向（図面垂直方向）に並列的に形成
されている。カラーフィルタ基板２１と誘電体シート４
との間隙には液晶が充填されて液晶層２３が形成されて
いる。なお、図３では示していないが液晶層２３には間
隙の寸法を均一にするためにスペーサーが配設されてい
る。
セル２とプラズマセル３とを誘電体シート４を介して積
層したフラットパネル構造を有する。液晶セル２は、カ
ラーフィルター基板２１が液晶シール材２２を介して所
定の間隙を有した状態で誘電体シート４に接合されてい
る。カラーフィルタ基板２１内面側の面には、図示しな
いが行方向に延びる透明導電材料からなるストライプ状
のデータ電極が列方向（図面垂直方向）に並列的に形成
されている。カラーフィルタ基板２１と誘電体シート４
との間隙には液晶が充填されて液晶層２３が形成されて
いる。なお、図３では示していないが液晶層２３には間
隙の寸法を均一にするためにスペーサーが配設されてい
る。
【０００４】プラズマセル３においては、プラズマ基板
ガラス３１が誘電体シート４と所定の間隙をもって対向
している。誘電体シート４側のプラズマ基板ガラス３１
上には、列方向に延び、行方向に所定の間隙を持って並
列的に形成されたニッケル製などのストライプ状の表示
電極３２が形成され、この表示電極３２上に、絶縁性の
セラミックなどからなり、表示電極３２より幅が狭いバ
リヤリブ３３が、表示電極３２と等ピッチで重ね合わさ
れて形成されている。これらの表示電極３２とバリヤリ
ブ３３を介してプラズマ基板ガラス３１が誘電体シート
４と所定の間隙を持って対向している。これら表示電極
３２とバリヤリブ３３とが隔壁５を構成し、この隔壁５
で区画された密閉空間がプラズマ室３４として構成され
ている。このプラズマ室３４は、列方向に延び、行方向
に所定の間隔で形成されている。プラズマ室３４にはイ
オン化可能なガスが封入されている。このガスとして
は、例えばヘリウム、ネオン、アルゴンあるいはこれら
の混合ガスなどが使用される。このように、表示電極３
２とバリヤリブ３３は、各プラズマ室を区分けする隔壁
５としての役割を果たすと共に、各プラズマ室のギャッ
プスペーサーとしての役割も果たす。なお、表示電極３
２は、交互にアノード表示電極３２Ａとカソード表示電
極３２Ｋとなるようにそれぞれドライバに接続されてい
る。プラズマ基板ガラス３１の周辺部は低融点ガラスな
どを使用したフリットシール３５が配設され、このフリ
ットシール３５でプラズマ基板ガラス３１と誘電体シー
ト４とが気密的に接合されている。
ガラス３１が誘電体シート４と所定の間隙をもって対向
している。誘電体シート４側のプラズマ基板ガラス３１
上には、列方向に延び、行方向に所定の間隙を持って並
列的に形成されたニッケル製などのストライプ状の表示
電極３２が形成され、この表示電極３２上に、絶縁性の
セラミックなどからなり、表示電極３２より幅が狭いバ
リヤリブ３３が、表示電極３２と等ピッチで重ね合わさ
れて形成されている。これらの表示電極３２とバリヤリ
ブ３３を介してプラズマ基板ガラス３１が誘電体シート
４と所定の間隙を持って対向している。これら表示電極
３２とバリヤリブ３３とが隔壁５を構成し、この隔壁５
で区画された密閉空間がプラズマ室３４として構成され
ている。このプラズマ室３４は、列方向に延び、行方向
に所定の間隔で形成されている。プラズマ室３４にはイ
オン化可能なガスが封入されている。このガスとして
は、例えばヘリウム、ネオン、アルゴンあるいはこれら
の混合ガスなどが使用される。このように、表示電極３
２とバリヤリブ３３は、各プラズマ室を区分けする隔壁
５としての役割を果たすと共に、各プラズマ室のギャッ
プスペーサーとしての役割も果たす。なお、表示電極３
２は、交互にアノード表示電極３２Ａとカソード表示電
極３２Ｋとなるようにそれぞれドライバに接続されてい
る。プラズマ基板ガラス３１の周辺部は低融点ガラスな
どを使用したフリットシール３５が配設され、このフリ
ットシール３５でプラズマ基板ガラス３１と誘電体シー
ト４とが気密的に接合されている。
【０００５】上記プラズマアドレス表示装置は、データ
電極とプラズマ室３４は直交し、データ電極が列駆動単
位となり、プラズマ室３４は行駆動単位となり、これら
の交差部に画素が規定されるものである。このようなプ
ラズマアドレス表示装置において、アノード表示電極３
２Ａとカソード表示電極３２Ｋとの間に所定電圧が印加
されると、そのプラズマ室の部分のガスが選択的にイオ
ン化されてプラズマ放電が発生し、その内部は略アノー
ド電位に維持される。この状態で、データ電極にデータ
電圧が印加されると、そのプラズマ室３４に対応して列
方向に並ぶ画素の液晶層２３に誘電体シート４を介して
データ電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終了する
と、プラズマ室３４は浮遊電位となり、対応する画素の
液晶層２３に書き込まれた電圧は、次の書き込み期間
（例えば１フレーム後）まで保持される。このとき、プ
ラズマ室３４はサンプリングスイッチとして機能し、各
画素の液晶層２３はサンプリングキャパシタとして機能
している。
電極とプラズマ室３４は直交し、データ電極が列駆動単
位となり、プラズマ室３４は行駆動単位となり、これら
の交差部に画素が規定されるものである。このようなプ
ラズマアドレス表示装置において、アノード表示電極３
２Ａとカソード表示電極３２Ｋとの間に所定電圧が印加
されると、そのプラズマ室の部分のガスが選択的にイオ
ン化されてプラズマ放電が発生し、その内部は略アノー
ド電位に維持される。この状態で、データ電極にデータ
電圧が印加されると、そのプラズマ室３４に対応して列
方向に並ぶ画素の液晶層２３に誘電体シート４を介して
データ電圧が書き込まれる。プラズマ放電が終了する
と、プラズマ室３４は浮遊電位となり、対応する画素の
液晶層２３に書き込まれた電圧は、次の書き込み期間
（例えば１フレーム後）まで保持される。このとき、プ
ラズマ室３４はサンプリングスイッチとして機能し、各
画素の液晶層２３はサンプリングキャパシタとして機能
している。
【０００６】各画素の液晶層２３に対してデータ電極１
５から書き込まれたデータ電圧によって液晶が動作する
ことから画素単位で表示が行われる。従って、プラズマ
放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素の液晶層２３
にデータ電圧を書き込むプラズマ室３４を行方向に順次
走査していくことで、二次元画像の表示を行うことがで
きる。
５から書き込まれたデータ電圧によって液晶が動作する
ことから画素単位で表示が行われる。従って、プラズマ
放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素の液晶層２３
にデータ電圧を書き込むプラズマ室３４を行方向に順次
走査していくことで、二次元画像の表示を行うことがで
きる。
【０００７】このようなプラズマアドレス表示装置の製
造方法について、図４で簡単に説明すると、まず、図４
（Ａ）に示すように、プラズマ基板ガラス３１上に表示
電極パターンを例えばスクリーン印刷法でストライプ状
に印刷した後、乾燥して表示電極３２を形成する。
造方法について、図４で簡単に説明すると、まず、図４
（Ａ）に示すように、プラズマ基板ガラス３１上に表示
電極パターンを例えばスクリーン印刷法でストライプ状
に印刷した後、乾燥して表示電極３２を形成する。
【０００８】次に、ストライプ状に形成した表示電極３
２の上にスクリーン印刷でバリヤリブ３３を、図４
（Ｂ）に示すように、重ねて積層する。この場合、バリ
ヤリブ３３は約２００μｍ程度の高さとするために、ス
クリーン印刷を繰り返して重ね塗りを行うことでこの高
さを出すようにしている。所定の高さのバリヤリブを印
刷した後、焼成を行い、バリヤリブの上部を研磨し、バ
リヤリブの高さを所定の高さにそろえる。
２の上にスクリーン印刷でバリヤリブ３３を、図４
（Ｂ）に示すように、重ねて積層する。この場合、バリ
ヤリブ３３は約２００μｍ程度の高さとするために、ス
クリーン印刷を繰り返して重ね塗りを行うことでこの高
さを出すようにしている。所定の高さのバリヤリブを印
刷した後、焼成を行い、バリヤリブの上部を研磨し、バ
リヤリブの高さを所定の高さにそろえる。
【０００９】そして、図４（Ｃ）に示すように、プラズ
マ基板ガラス３１の周辺にフリットシール３５をディス
ペンサーなどで形成し、このフリットシール３５を介し
てガラス製の誘電体シート４をバリヤリブに乗せた状態
でプラズマ基板ガラスに接合し、形成されたプラズマ室
３４を真空に引いた後、ガスを注入する。
マ基板ガラス３１の周辺にフリットシール３５をディス
ペンサーなどで形成し、このフリットシール３５を介し
てガラス製の誘電体シート４をバリヤリブに乗せた状態
でプラズマ基板ガラスに接合し、形成されたプラズマ室
３４を真空に引いた後、ガスを注入する。
【００１０】次に、図示しない配向処理を行い、図４
（Ｄ）に示すように、液晶層を均一の厚さにするための
スペーサー２４を散布し、図４（Ｅ）に示すように、液
晶シール材２２を介してカラーフィルタ２１を誘電体シ
ート４に接合して、液晶室を形成し、その後液晶を注入
して図３に示したプラズマアドレス表示装置を得ること
ができる。
（Ｄ）に示すように、液晶層を均一の厚さにするための
スペーサー２４を散布し、図４（Ｅ）に示すように、液
晶シール材２２を介してカラーフィルタ２１を誘電体シ
ート４に接合して、液晶室を形成し、その後液晶を注入
して図３に示したプラズマアドレス表示装置を得ること
ができる。
【００１１】ところで、上記誘電体シート４をバリヤリ
ブ３３上に乗せてプラズマ基板ガラス３１に接合する際
に、図５に示すように、５〜１０数μｍ程度のごみＤ
が、バリヤリブ３３と誘電体シート４との合わせ面間に
挟まることがある。誘電体シート４は約５０μｍ程度の
厚さの薄板硝子であり、誘電体シート４上に形成される
液晶層は約７μｍ程度の厚さであるので、このような大
きさのごみＤがバリヤリブ３３と誘電体シート４との間
に挟まると、液晶層２３のギャップむらになり、その結
果液晶表示のむらになる。また、それだけでなく、薄板
硝子で構成される誘電体シート４は、バリヤリブ３３に
押圧されているので、ごみＤの部分で局所的に大きく変
形し、割れることもある。このため、このようにごみＤ
が入ったパネルは不良品となり、製造のコストを上昇さ
せる原因となっている。
ブ３３上に乗せてプラズマ基板ガラス３１に接合する際
に、図５に示すように、５〜１０数μｍ程度のごみＤ
が、バリヤリブ３３と誘電体シート４との合わせ面間に
挟まることがある。誘電体シート４は約５０μｍ程度の
厚さの薄板硝子であり、誘電体シート４上に形成される
液晶層は約７μｍ程度の厚さであるので、このような大
きさのごみＤがバリヤリブ３３と誘電体シート４との間
に挟まると、液晶層２３のギャップむらになり、その結
果液晶表示のむらになる。また、それだけでなく、薄板
硝子で構成される誘電体シート４は、バリヤリブ３３に
押圧されているので、ごみＤの部分で局所的に大きく変
形し、割れることもある。このため、このようにごみＤ
が入ったパネルは不良品となり、製造のコストを上昇さ
せる原因となっている。
【００１２】本発明は、上記事情に鑑みなされたもの
で、ごみの混入による液晶層のギャップむらや誘電体シ
ートの割れを可及的に防止することができるプラズマア
ドレス表示装置の製造方法を提供することを目的とす
る。
で、ごみの混入による液晶層のギャップむらや誘電体シ
ートの割れを可及的に防止することができるプラズマア
ドレス表示装置の製造方法を提供することを目的とす
る。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のプラズマアドレス表示装置の製造方法は、
液晶セルとプラズマセルとが誘電体シートを介して積層
され、該プラズマセルを構成するプラズマ基板ガラスと
該誘電体シートとが多数並列的に設けられた隔壁を介し
て対向するプラズマアドレス表示装置の製造方法であっ
て、前記隔壁の一部を前記誘電体シートに形成すると共
に、前記プラズマ基板ガラスに前記隔壁の一部を形成
し、これらの前記誘電体シートと前記プラズマ基板ガラ
スとをこれらに形成した隔壁の一部同士を合わせて隔壁
を完成するようにして接合するものである。
め、本発明のプラズマアドレス表示装置の製造方法は、
液晶セルとプラズマセルとが誘電体シートを介して積層
され、該プラズマセルを構成するプラズマ基板ガラスと
該誘電体シートとが多数並列的に設けられた隔壁を介し
て対向するプラズマアドレス表示装置の製造方法であっ
て、前記隔壁の一部を前記誘電体シートに形成すると共
に、前記プラズマ基板ガラスに前記隔壁の一部を形成
し、これらの前記誘電体シートと前記プラズマ基板ガラ
スとをこれらに形成した隔壁の一部同士を合わせて隔壁
を完成するようにして接合するものである。
【００１４】この場合、隔壁が、プラズマ基板ガラスに
形成された表示電極と、誘電体シートに形成されたバリ
ヤリブとで完成するようにすることが好ましい。また、
隔壁が、プラズマ基板ガラスに形成された表示電極と、
この表示電極上に形成されたバリヤリブの上下に分割さ
れた一方と、誘電体シートに形成されたバリヤリブの上
下に分割された他方とで完成するようにすることが好ま
しい。
形成された表示電極と、誘電体シートに形成されたバリ
ヤリブとで完成するようにすることが好ましい。また、
隔壁が、プラズマ基板ガラスに形成された表示電極と、
この表示電極上に形成されたバリヤリブの上下に分割さ
れた一方と、誘電体シートに形成されたバリヤリブの上
下に分割された他方とで完成するようにすることが好ま
しい。
【００１５】
【作用】本発明のプラズマアドレス表示装置の製造方法
は、プラズマ室を構成する隔壁の製造方法を改良して、
ごみの混入の影響を可及的に少なくし得たものである。
は、プラズマ室を構成する隔壁の製造方法を改良して、
ごみの混入の影響を可及的に少なくし得たものである。
【００１６】即ち、従来は、隔壁を構成する表示電極と
この上に形成されるバリヤリブとをプラズマ基板ガラス
に形成していたが、本発明においては、プラズマ基板ガ
ラスに隔壁の一部を、誘電体シートに隔壁の一部を形成
し、これらを合わせることにより、隔壁を完成するよう
にしたものである。
この上に形成されるバリヤリブとをプラズマ基板ガラス
に形成していたが、本発明においては、プラズマ基板ガ
ラスに隔壁の一部を、誘電体シートに隔壁の一部を形成
し、これらを合わせることにより、隔壁を完成するよう
にしたものである。
【００１７】このような方法によれば、ごみが合わせ面
に混入する確率は、従来と変わりはないが、たとえごみ
が合わせ面に混入したとしても、ごみは、誘電体シート
に直接当たらず、バリヤリブを押し上げるだけであるの
で、ごみが誘電体シートに直に接すると１点加圧にな
り、応力が局所的に集中するのに対し、誘電体シートは
なだらかに変形し、ストレスが分散するため、誘電体シ
ートが割れるおそれは少なくなり、液晶のギャップむら
も見え難くなり、品質に影響を与えるおそれは少なくな
る。更に、バリヤリブの合わせ面は比較的粗くポーラス
であり、このためごみが合わせ面に挟まっても、ごみが
粗い面にある程度沈むので、この点でもごみの影響を少
なくし得る。
に混入する確率は、従来と変わりはないが、たとえごみ
が合わせ面に混入したとしても、ごみは、誘電体シート
に直接当たらず、バリヤリブを押し上げるだけであるの
で、ごみが誘電体シートに直に接すると１点加圧にな
り、応力が局所的に集中するのに対し、誘電体シートは
なだらかに変形し、ストレスが分散するため、誘電体シ
ートが割れるおそれは少なくなり、液晶のギャップむら
も見え難くなり、品質に影響を与えるおそれは少なくな
る。更に、バリヤリブの合わせ面は比較的粗くポーラス
であり、このためごみが合わせ面に挟まっても、ごみが
粗い面にある程度沈むので、この点でもごみの影響を少
なくし得る。
【００１８】
【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
ながら具体的に説明する。図１、図２は、それぞれ、本
発明において、隔壁を完成させながら誘電体シートとプ
ラズマ基板ガラスとを接合する様子を説明する断面図で
ある。 ［第１実施例］本例の方法は、図１（Ａ）に示すよう
に、表示電極３２をプラズマ基板ガラス３１に形成し、
この表示電極に対応させてバリヤリブ３３を誘電体シー
ト（薄板硝子）４に形成する工程と、同図（Ｂ）に示す
ように、誘電体シート４とプラズマ基板ガラス３１とを
フリットシール３５を介して接合する際に、これらの表
示電極３２とバリヤリブ３３とを合わせて隔壁５を完成
させる工程とを有する。
ながら具体的に説明する。図１、図２は、それぞれ、本
発明において、隔壁を完成させながら誘電体シートとプ
ラズマ基板ガラスとを接合する様子を説明する断面図で
ある。 ［第１実施例］本例の方法は、図１（Ａ）に示すよう
に、表示電極３２をプラズマ基板ガラス３１に形成し、
この表示電極に対応させてバリヤリブ３３を誘電体シー
ト（薄板硝子）４に形成する工程と、同図（Ｂ）に示す
ように、誘電体シート４とプラズマ基板ガラス３１とを
フリットシール３５を介して接合する際に、これらの表
示電極３２とバリヤリブ３３とを合わせて隔壁５を完成
させる工程とを有する。
【００１９】この場合、表示電極３２は、スクリーン印
刷法、ＣＶＤ、ＰＶＤ等の蒸着法で膜を形成した後フォ
トリソグラフィによってパターニングする方法等種々の
方法によって形成することができる。材質はニッケルな
どの金属が代表的であるが、これに限られるものではな
い。
刷法、ＣＶＤ、ＰＶＤ等の蒸着法で膜を形成した後フォ
トリソグラフィによってパターニングする方法等種々の
方法によって形成することができる。材質はニッケルな
どの金属が代表的であるが、これに限られるものではな
い。
【００２０】また、バリヤリブ３３は、表示電極３２の
形成位置に対応した位置、即ち表示電極３２と等ピッチ
で誘電体シート４に形成する。ピッチ間隔は、現状では
約０．６９ｍｍ程度である。形成方法は、通常スクリー
ン印刷法が採用される。バリヤリブの印刷材料は、ガラ
スとの膨張性の観点から、鉛とセラミックと溶剤等から
作られるペーストである。１回の印刷では十分な高さを
得ることができないので、通常数回重ね塗りをする。所
定の高さにバリヤリブを印刷した後、焼成を行う。この
焼成温度は、通常５７０℃程度である。
形成位置に対応した位置、即ち表示電極３２と等ピッチ
で誘電体シート４に形成する。ピッチ間隔は、現状では
約０．６９ｍｍ程度である。形成方法は、通常スクリー
ン印刷法が採用される。バリヤリブの印刷材料は、ガラ
スとの膨張性の観点から、鉛とセラミックと溶剤等から
作られるペーストである。１回の印刷では十分な高さを
得ることができないので、通常数回重ね塗りをする。所
定の高さにバリヤリブを印刷した後、焼成を行う。この
焼成温度は、通常５７０℃程度である。
【００２１】本例においては、バリヤリブ３３を全て誘
電体シート４に形成しているので、ごみがバリヤリブ３
３と表示電極３２間に挟まれたとしても、これによりバ
リヤリブ３３はごみの高さ分持ち上がるが、バリヤリブ
３３と誘電体シート４間のごみが誘電体シートに局所的
応力を与えるのと異なり、ストレスが一点に集中するこ
とがなく、誘電体シート４（薄板硝子）がなだらかに変
形するので、誘電体シート４が割れるおそれは少なく、
液晶のギャップむらも生じ難い。
電体シート４に形成しているので、ごみがバリヤリブ３
３と表示電極３２間に挟まれたとしても、これによりバ
リヤリブ３３はごみの高さ分持ち上がるが、バリヤリブ
３３と誘電体シート４間のごみが誘電体シートに局所的
応力を与えるのと異なり、ストレスが一点に集中するこ
とがなく、誘電体シート４（薄板硝子）がなだらかに変
形するので、誘電体シート４が割れるおそれは少なく、
液晶のギャップむらも生じ難い。
【００２２】なお、バリヤリブ３３をプラズマ基板ガラ
ス３１に形成する従来法の場合は、焼成後、通常バリヤ
リブ３３の表面の研磨を行う。この研磨の目的は、誘電
体シート４の面を出すためであるので、誘電体シート４
にバリヤリブ３３を形成する本例においては、研磨は特
に必要な工程ではない。従って、本例では、研磨を省略
することができるので、工程を減らしてコスト低下が可
能となる。 ［第２実施例］本例の製造方法の工程を図２に示す。こ
の例では、同図（Ａ）に示すように、バリヤリブ３３を
上下に２分割し、誘電体シート４に半割バリヤリブ３３
ａを形成する工程とプラズマ基板ガラス３１に形成した
表示電極３２の上に半割バリヤリブ３３ｂを形成する工
程と、同図（Ｂ）に示すように、誘電体シート４とプラ
ズマ基板ガラス３１とをフリットシール３５を介して接
合する際に、これらの表示電極３２と半割バリヤリブ３
３ａと３３ｂとを合わせて隔壁５を完成させる工程とを
有する。
ス３１に形成する従来法の場合は、焼成後、通常バリヤ
リブ３３の表面の研磨を行う。この研磨の目的は、誘電
体シート４の面を出すためであるので、誘電体シート４
にバリヤリブ３３を形成する本例においては、研磨は特
に必要な工程ではない。従って、本例では、研磨を省略
することができるので、工程を減らしてコスト低下が可
能となる。 ［第２実施例］本例の製造方法の工程を図２に示す。こ
の例では、同図（Ａ）に示すように、バリヤリブ３３を
上下に２分割し、誘電体シート４に半割バリヤリブ３３
ａを形成する工程とプラズマ基板ガラス３１に形成した
表示電極３２の上に半割バリヤリブ３３ｂを形成する工
程と、同図（Ｂ）に示すように、誘電体シート４とプラ
ズマ基板ガラス３１とをフリットシール３５を介して接
合する際に、これらの表示電極３２と半割バリヤリブ３
３ａと３３ｂとを合わせて隔壁５を完成させる工程とを
有する。
【００２３】この場合、表示電極３２、半割バリヤリブ
３３ａ、３３ｂの形成は、上記と同様とすることができ
る。また、半割バリヤリブのそれぞれの高さは適宜選定
することができる。本例では、半割バリヤリブ３３ａ、
３３ｂの粗い端面同士が合わせ面となるので、ごみがこ
の合わせ面に挟まっても、ごみがバリヤリブ表面の凹み
にある程度埋め込まれるので、ごみの影響を低下させる
効果は、実施例１よりも高い。また、ごみによる誘電体
シートへの影響は、同様になだらかになり、誘電体シー
トが割れるおそれは少ない。更に、バリヤリブの研磨を
省略できることも同様である。
３３ａ、３３ｂの形成は、上記と同様とすることができ
る。また、半割バリヤリブのそれぞれの高さは適宜選定
することができる。本例では、半割バリヤリブ３３ａ、
３３ｂの粗い端面同士が合わせ面となるので、ごみがこ
の合わせ面に挟まっても、ごみがバリヤリブ表面の凹み
にある程度埋め込まれるので、ごみの影響を低下させる
効果は、実施例１よりも高い。また、ごみによる誘電体
シートへの影響は、同様になだらかになり、誘電体シー
トが割れるおそれは少ない。更に、バリヤリブの研磨を
省略できることも同様である。
【００２４】このようにして、誘電体シート４とプラズ
マ基板ガラス３１とを接合して、図４（Ｃ）に示したよ
うな工程が完了した後、形成されたプラズマ室３４にガ
スを注入する。次に、図示しない配向処理を行い、図４
（Ｄ）に示したように、液晶層を均一の厚さにするため
のスペーサー２４を散布し、液晶シール材２２を介して
カラーフィルタ２１を誘電体シート４に接合して、液晶
室を形成し、その後液晶を注入して図２に示したプラズ
マアドレス表示装置を得ることができる。
マ基板ガラス３１とを接合して、図４（Ｃ）に示したよ
うな工程が完了した後、形成されたプラズマ室３４にガ
スを注入する。次に、図示しない配向処理を行い、図４
（Ｄ）に示したように、液晶層を均一の厚さにするため
のスペーサー２４を散布し、液晶シール材２２を介して
カラーフィルタ２１を誘電体シート４に接合して、液晶
室を形成し、その後液晶を注入して図２に示したプラズ
マアドレス表示装置を得ることができる。
【００２５】本発明は、上記実施例に限定されるもので
はない。例えば、隔壁はバリヤリブのみで構成してもよ
く、その他本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更す
ることができる。
はない。例えば、隔壁はバリヤリブのみで構成してもよ
く、その他本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更す
ることができる。
【００２６】
【発明の効果】本発明のプラズマアドレス表示装置の製
造方法によれば、誘電体シートとプラズマ基板ガラスを
接合する際に、合わせ面にごみが混入することによる誘
電体シートに割れが発生したり、液晶のむらが発生する
ことを可及的に防止できるものである。
造方法によれば、誘電体シートとプラズマ基板ガラスを
接合する際に、合わせ面にごみが混入することによる誘
電体シートに割れが発生したり、液晶のむらが発生する
ことを可及的に防止できるものである。
【図１】本発明のプラズマアドレス表示装置の製造方法
の一実施例を示す断面図である。
の一実施例を示す断面図である。
【図２】本発明のプラズマアドレス表示装置の製造方法
の他の実施例を示す断面図である。
の他の実施例を示す断面図である。
【図３】プラズマアドレス表示装置の一例を示す断面図
である。
である。
【図４】（Ａ）〜（Ｅ）は、図３のプラズマアドレス表
示装置の製造工程を示すフローチャートである。
示装置の製造工程を示すフローチャートである。
【図５】誘電体シートとバリヤリブとの合わせ面にごみ
が混入する状態を説明する断面図である。
が混入する状態を説明する断面図である。
２ 液晶セル ３ プラズマセル ４ 誘電体シート ５ 隔壁 ２１ カラーフィルタ基板 ２２ 液晶シール材 ２３ 液晶層 ３１ プラズマ基板ガラス ３２ 表示電極 ３３ バリヤリブ ３３ａ、３３ｂ 半割バリヤリブ ３４ プラズマ室 ３５ フリットシール
Claims (3)
- 【請求項１】液晶セルとプラズマセルとが誘電体シート
を介して積層され、該プラズマセルを構成するプラズマ
基板ガラスと該誘電体シートとが多数並列的に設けられ
た隔壁を介して対向するプラズマアドレス表示装置の製
造方法であって、 前記隔壁の一部を前記誘電体シートに形成すると共に、
前記プラズマ基板ガラスに前記隔壁の一部を形成し、こ
れらの前記誘電体シートと前記プラズマ基板ガラスとを
これらに形成した隔壁の一部同士を合わせて隔壁を完成
するようにして接合することを特徴とするプラズマアド
レス表示装置の製造方法。 - 【請求項２】隔壁が、プラズマ基板ガラスに形成された
表示電極と、誘電体シートに形成されたバリヤリブとで
完成する請求項１記載のプラズマアドレス表示装置の製
造方法。 - 【請求項３】隔壁が、プラズマ基板ガラスに形成された
表示電極と、この表示電極上に形成されたバリヤリブの
上下に分割された一方と、誘電体シートに形成されたバ
リヤリブの上下に分割された他方とで完成する請求項１
記載のプラズマアドレス表示装置の製造方法。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7110447A JPH08304789A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | プラズマアドレス表示装置の製造方法 |
| TW085105194A TW344083B (en) | 1995-05-09 | 1996-05-01 | Process of manufacturing plasma address display unit |
| KR1019960014098A KR100399299B1 (ko) | 1995-05-09 | 1996-05-01 | 플라즈마어드레스표시장치의 제조방법 |
| SG1996009755A SG49950A1 (en) | 1995-05-09 | 1996-05-07 | Method of producing plasma addressed display device |
| US08/647,180 US5900100A (en) | 1995-05-09 | 1996-05-09 | Method of producing plasma addressed display device |
| CN96106219A CN1143789A (zh) | 1995-05-09 | 1996-05-09 | 制造等离子体寻址显示装置的方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7110447A JPH08304789A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | プラズマアドレス表示装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08304789A true JPH08304789A (ja) | 1996-11-22 |
Family
ID=14535955
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7110447A Pending JPH08304789A (ja) | 1995-05-09 | 1995-05-09 | プラズマアドレス表示装置の製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5900100A (ja) |
| JP (1) | JPH08304789A (ja) |
| KR (1) | KR100399299B1 (ja) |
| CN (1) | CN1143789A (ja) |
| SG (1) | SG49950A1 (ja) |
| TW (1) | TW344083B (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH10269935A (ja) * | 1997-03-26 | 1998-10-09 | Mitsubishi Electric Corp | パネルディスプレイ製造方法及び製造装置 |
| WO2001025839A1 (en) * | 1999-10-05 | 2001-04-12 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Plasma addressed display device |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3013470B2 (ja) * | 1991-02-20 | 2000-02-28 | ソニー株式会社 | 画像表示装置 |
| JPH05216415A (ja) * | 1992-02-04 | 1993-08-27 | Sony Corp | プラズマアドレス電気光学装置 |
-
1995
- 1995-05-09 JP JP7110447A patent/JPH08304789A/ja active Pending
-
1996
- 1996-05-01 KR KR1019960014098A patent/KR100399299B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1996-05-01 TW TW085105194A patent/TW344083B/zh active
- 1996-05-07 SG SG1996009755A patent/SG49950A1/en unknown
- 1996-05-09 CN CN96106219A patent/CN1143789A/zh active Pending
- 1996-05-09 US US08/647,180 patent/US5900100A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW344083B (en) | 1998-11-01 |
| KR100399299B1 (ko) | 2004-02-25 |
| SG49950A1 (en) | 1998-06-15 |
| CN1143789A (zh) | 1997-02-26 |
| US5900100A (en) | 1999-05-04 |
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