JPH11237613A

JPH11237613A - プラズマアドレス表示装置

Info

Publication number: JPH11237613A
Application number: JP10040776A
Authority: JP
Inventors: Yasuhiro Matsushima; 康浩松島
Original assignee: Sharp Corp
Current assignee: Sharp Corp
Priority date: 1998-02-23
Filing date: 1998-02-23
Publication date: 1999-08-31

Abstract

(57)【要約】【課題】対向基板を複雑な工程を要さずに作製するこ
とができるプラズマアドレス表示装置を提供する。【解決手段】液晶セル１０２とプラズマセル１０３と
が中間基板１０４を介して積層され、該プラズマセル１
０３を構成するプラズマ基板ガラス１３１と該中間基板
１０４とが多数並列的に設けられた隔壁１０５を介して
対向し、該プラズマセル１０３内のプラズマ放電によ
り、前記液晶セル１０２内の液晶のスイッチングが行わ
れる画素部を有し、前記中間基板１０４における画素部
以外の領域には非透光性材料からなる遮光パターン２０
３が配置されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶セルとプラズ
マセルとを間に中間基板を介して積層してなるプラズマ
アドレス表示装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、液晶セルを用いたマトリクスタイ
プの電気光学装置として、例えば液晶表示装置が知られ
ている。この液晶表示装置を高解像度化、高コントラス
ト化する為の手段としては、各画素毎に薄膜トランジス
タ等のスイッチング素子を設け、これを線順次で駆動す
るアクティブマトリクス方式が一般に用いられている。
しかしながら、この場合、薄膜トランジスタの様なスイ
ッチング素子は製造上欠陥の発生が多く、また、このよ
うなスイッチング素子を基板上に多数設ける必要があ
り、特に大面積化した時に製造歩留りが悪くなるという
短所がある。

【０００３】そこで、この短所を解決する手段として、
ブザク等は特開平１−２１７３９６号公報において、薄
膜トランジスタ等からなるスイッチング素子に代えてプ
ラズマスイッチを利用する構成のプラズマアドレス表示
装置を提案している。

【０００４】図９は、このプラズマアドレス表示装置の
構造の一例を示す断面図である。

【０００５】このプラズマアドレス表示装置は、液晶セ
ル２とプラズマセル３とを中間基板４を介して積層した
構成のフラットパネル構造を有する。

【０００６】液晶セル２は、対向基板２１が液晶シール
材２２を介して所定の間隙を有した状態で中間基板４に
接合されている。対向基板２１内面側の面には、図示し
ないが行方向に延びる透明導電材料からなるストライプ
状のデータ電極が列方向に並列的に形成されている。対
向基板２１と中間基板４との間隙には液晶が充填されて
液晶層２３が形成されている。なお、図９では示してい
ないが液晶層２３には間隙の寸法を均一にするためにス
ペーサが配設されている。

【０００７】プラズマセル３においては、プラズマ基板
ガラス３１が中間基板４と所定の間隙をもって対向して
いる。中間基板４側のプラズマ基板ガラス３１上には、
列方向に延び、行方向に所定の間隙を持って並列的に形
成された、ニッケルなどからなるストライプ状の放電電
極３２が形成され、この放電電極３２上に、絶縁性のセ
ラミックなどからなり、放電電極３２より幅が狭いバリ
ヤリブ３３が、放電電極３２と等ピッチで重ね合わされ
て形成されている。これらの放電電極３２とバリヤリブ
３３を介してプラズマ基板ガラス３１が中間基板４と所
定の間隙を持って対向している。これらの放電電極３２
とバリヤリブ３３とが隔壁５を構成し、この隔壁５で区
画された密閉空間がプラズマ室３４として構成されてい
る。このプラズマ室３４は、列方向に延び、行方向に所
定の間隔で形成されている。プラズマ室３４にはイオン
化可能なガスが封入されている。このガスとしては、例
えばヘリウム、ネオン、アルゴンまたはこれらの混合ガ
スなどが使用される。このように、放電電極３２とバリ
ヤリブ３３は、各プラズマ室３４を区分けする隔壁５と
しての役割を果たすと共に、各プラズマ室３４のギャッ
プスペーサとしての役割も果たす。

【０００８】なお、放電電極３２は、交互にアノード電
極３２Ａとカソード電極３２Ｋとなるようにそれぞれド
ライバ（図示せず）に接続されている。プラズマ基板ガ
ラス３１の周辺部には低融点ガラスなどを使用したフリ
ットシール３５が配設され、このフリットシール３５で
プラズマ基板ガラス３１と中間基板４とが気密的に接合
されている。

【０００９】このように構成されたプラズマアドレス表
示装置は、データ電極（図示せず）とプラズマ室３４と
が直交し、データ電極が列駆動単位となり、プラズマ室
３４は行駆動単位となり、これらの交差部に画素が規定
されるものである。

【００１０】このようなプラズマアドレス表示装置にお
いて、アノード電極３２Ａとカソード電極３２Ｋとの間
に所定電圧が印加されると、そのプラズマ室３４の部分
のガスが選択的にイオン化されてプラズマ放電が発生
し、その内部は略アノード電位に維持される。この状態
で、データ電極にデータ電圧が印加されると、そのプラ
ズマ室３４に対応して列方向に並ぶ画素の液晶層２３部
分に中間基板４を介してデータ電圧が書き込まれる。プ
ラズマ放電が終了すると、プラズマ室３４は浮遊電位と
なり、対応する画素の液晶層２３に書き込まれた電圧
は、次の書き込み期間、例えば１フレーム後まで保持さ
れる。このとき、プラズマ室３４はサンプリングスイッ
チとして機能し、各画素の液晶層２３はサンプリングキ
ャパシタとして機能している。

【００１１】各画素の液晶層２３部分に対してデータ電
極から書き込まれたデータ電圧によって液晶が動作する
ことから画素単位で表示が行われる。従って、プラズマ
放電を発生させて列方向に並ぶ複数の画素の液晶層２３
にデータ電圧を書き込むプラズマ室３４を行方向に順次
走査していくことで、二次元画像の表示を行うことがで
きる。

【００１２】このようなプラズマアドレス表示装置の製
造方法について、図１０に基づいて簡単に説明する。

【００１３】まず、図１０（Ａ）に示すように、プラズ
マ基板ガラス３１上に放電電極パターンを、例えばスク
リーン印刷法でストライプ状に印刷した後、乾燥して放
電電極３２を形成する。

【００１４】次に、ストライプ状に形成した放電電極３
２の上にスクリーン印刷でバリヤリブ３３を、図１０
（Ｂ）に示すように、重ねて積層する。この場合、バリ
ヤリブ３３は約２００μｍ程度の高さとするために、ス
クリーン印刷を繰り返して重ね塗りを行うことでこの高
さを出すようにしている。所定の高さのバリヤリブを印
刷した後、焼成を行い、バリヤリブの上部を研磨し、バ
リヤリブ３３の高さを所定の高さに揃える。このバリヤ
リブ３３と放電電極３２とで隔壁が形成される。

【００１５】そして、図１０（Ｃ）に示すように、プラ
ズマ基板ガラス３１の周辺にフリットシール３５をディ
スペンサーなどで形成し、このフリットシール３５を介
してガラス製の中間基板４をバリヤリブ３３上に乗せた
状態でプラズマ基板ガラス３１に接合し、形成されたプ
ラズマ室３４を真空に引いた後、ガスを注入する。

【００１６】次に、図示しない配向処理を行い、図１０
（Ｄ）に示すように、液晶層２３を均一の厚さにするた
めのスペーサ２４を散布し、図１０（Ｅ）に示すよう
に、液晶シール材２２を介して対向基板２１を中間基板
４に接合して、液晶室を形成し、その後液晶を注入して
図９に示したプラズマアドレス表示装置を得ることがで
きる。また、図示していないがバックライトがプラズマ
アドレス表示装置の外部に配置される。

【００１７】ここで、対向基板２１について説明を行
う。図１１は、対向基板２１の平面図であり、図１２は
図１１におけるａ−ａ線による断面図である。

【００１８】対向基板２１は、ガラス基板１０上に、遮
光パターン１２が画素部１３以外の領域にマトリクス状
に形成される。遮光パターン１２は、後述するデータ電
極１６間においてバックライトからの光が漏れるのを防
止するためのものである。次に、カラー表示を行うため
のＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の色フィルタ部を有す
るカラーフィルタ１４が、少なくとも画素部１３を覆い
ストライプ状に形成される。それらの上部に絶縁層１５
が基板１０全面に形成される。次に、絶縁層１５の上部
に、カラーフィルタ１４とほぼ同一のパターンでデータ
信号を入力するためのストライプ状のデータ電極１６が
順次形成される。

【００１９】

【発明が解決しようとする課題】従って、最上部にある
データ電極１６の形成面に大きな段差が生じる。そのた
めデータ電極１６に断線が生じ易い。また、データ電極
１６の上側に配向膜（図示せず）を形成し、ラビングを
行って配向処理を行うが、段差が大きいと配向むらが生
じる。さらに、隣合うデータ電極１６間に設けられる遮
光パターン１２とデータ電極１６とは接触しないように
遮光パターン１２を形成することが必要であり、そのた
め遮光パターン１２とデータ電極１６との間に絶縁層１
５を形成することを要するため、対向基板２１の作製工
程が複雑となる。

【００２０】また、上記中間基板４をバリヤリブ３３上
に乗せてプラズマ基板ガラス３１に接合する際、中間基
板４が約５０μｍ程度の厚さの薄板ガラスであるため、
その薄板ガラスで構成される中間基板４がバリヤリブ３
３に押圧されることになり、この部分で局所的に大きく
変形して割れることもある。さらに、液晶シール材２２
を用いて中間基板４と液晶セル２との貼り合せが行われ
るが、この貼り合せ時に液晶シール材２２と接する中間
基板４が押圧され、シール部分において中間基板４にひ
びが入ることもある。そして、このように割れやひびの
入った表示パネルは不良品となり、製造コストを上昇さ
せる原因となる。

【００２１】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、中間基板に遮光パターン
を形成して対向基板を複雑な工程を要さずに作製するこ
とができるプラズマアドレス表示装置を提供することを
目的とする。

【００２２】

【課題を解決するための手段】本発明のプラズマアドレ
ス表示装置は、液晶セルとプラズマセルとが中間基板を
介して積層され、該プラズマセルを構成しかつ該中間基
板とは反対側に存在するプラズマ基板ガラスと該中間基
板とが多数並列的に設けられた隔壁を介して対向し、該
プラズマセル内のプラズマ放電により、該液晶セル内の
液晶のスイッチングが行われる画素部を有するプラズマ
アドレス表示装置であって、前記中間基板における画素
部以外の領域には非透光性材料からなる遮光パターンが
設けられ、そのことにより上記目的が達成される。

【００２３】本発明のプラズマアドレス表示装置におい
て、前記遮光パターンが有機材料からなる構成とするこ
とができる。

【００２４】本発明のプラズマアドレス表示装置におい
て、前記遮光パターンがその厚みを１０μｍ以上として
形成されている構成とすることができる。

【００２５】本発明のプラズマアドレス表示装置におい
て、前記中間基板は、画素部に透光性の開口部を有する
第１基板と、該第１基板に貼り合わされた第２基板とか
らなる構成とすることができる。このとき、前記第１基
板が、厚み０．５ｍｍ〜２ｍｍのものであり、また、前
記第２基板が、厚み１０μｍ〜２５μｍのものである構
成とすることができる。

【００２６】以下、本発明の作用につき説明する。

【００２７】本発明にあっては、中間基板における画素
部以外の領域には非透光性材料からなる遮光パターンが
設けられているので、対向基板の作製を容易にできる。
また、プラズマ電極や隔壁により乱反射した不用光を効
果的に除去することが出来るため、プラズマアドレス表
示装置の表示品位を向上できる。

【００２８】また、本発明にあっては、非透光性材料か
らなる遮光パターンに有機材料を使用すると、中間基板
の機械的強度が向上し、中間基板の貼り合わせ工程等に
おいて割れにくくなる。

【００２９】また、本発明にあっては、有機材料からな
る遮光パターンを厚み１０μｍ以上とすると、例えば有
機材料に黒色の高分子樹脂を使用しても、中間基板の機
械的強度が向上し、中間基板がその貼り合わせ工程等に
おいて割れにくくなる。

【００３０】また、本発明にあっては、中間基板が画素
部に透光性の開口部を有する第１基板と、第１基板に貼
り合わされた第２基板とからなる構成とすると、第１基
板を０．５ｍｍ〜２ｍｍの厚い基板を使用することが出
来る。よって、第２基板として比較的薄い１０μｍ〜２
５μｍの薄板ガラスを使用することも可能である。ま
た、このような構造の中間基板はその機械的強度が向上
し、中間基板の貼り合わせ工程等において割れ、欠け、
ひび等の発生を防止することができる。また、第１基板
に、開口部を設けて基板全面に非透光性材料を配置する
ことにより、画素部以外を非透光性の遮光パターンとし
た中間基板を容易に作製することができる。

【００３１】

【発明の実施の形態】（第１の実施形態）以下、本発明
の第１の実施形態につき図面を参照しながら具体的に説
明する。

【００３２】図１は、本実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置を示す断面図である。

【００３３】本実施形態のプラズマアドレス表示装置
は、液晶セル１０２とプラズマセル１０３とを中間基板
１０４を介して積層したフラットパネル構造を有する。
また、プラズマアドレス表示装置の外部にはバックライ
ト（図示せず）が配置され、プラズマ基板ガラス１３１
側から光が照射される。

【００３４】プラズマセル１０３は、スクリーン印刷法
等種々の方法によってＮｉ等の放電電極１３２をプラズ
マ基板ガラス１３１に形成し、この放電電極１３２に対
応させてバリヤリブ１３３を放電電極１３２の上側に形
成しているプラズマ基板ガラス１３１を有する。プラズ
マ基板ガラス１３１は、フリットシール１３５を介して
後述する構成の中間基板１０４と接合されている。上記
バリヤリブ１３３と放電電極１３２とはプラズマ室１３
４を区画する隔壁１０５として構成される。

【００３５】一方、液晶セル１０２は、前記中間基板１
０４と対向基板１２１とが液晶シール材１２２を介して
貼り合わされ、間に液晶材料が封入されている。液晶セ
ル１０２における対向基板１２１にはデータ信号を入力
するためのデータ電極１２５が形成されている。

【００３６】図２は本実施形態における中間基板１０４
の平面図を示し、図３は図２におけるＡ−Ａ線による断
面図を示す。

【００３７】本実施形態の中間基板１０４は、厚み５０
μｍの薄板ガラス２０１の画素部２０２以外の領域にマ
トリクス状に遮光パターン２０３が形成されている。遮
光パターン２０３の材料としては、Ｃｒ、Ａｌ等の金属
や他の非透光性材料を使用できるが、本実施形態におい
ては黒色の高分子材料を使用した。例えば遮光パターン
２０３の厚みが１０μｍ以上となるように黒色の高分子
材料を使用すれば、中間基板１０４の機械的強度が向上
する。

【００３８】図４に示すように、この中間基板１０４
と、放電電極１３２及びバリヤリブ１３３が形成された
プラズマ基板ガラス１３１とをフリットシール１３５を
介して貼り合せを行った。

【００３９】次に、この状態の中間基板１０４に対し、
データ電極１２５が形成された対向基板１２１を液晶シ
ール材１２２を用いて貼り合せた。その後、基板１０４
と１２１との間に液晶材料を注入した。また、基板１０
４と１２１との間には間隔を均一に保つために６μｍの
直径のスペーサ１２４を介在させている。

【００４０】このようにして、本実施形態によるプラズ
マアドレス表示装置は作製される。

【００４１】図５は本実施形態における対向基板１２１
の平面図を示し、図６は図５におけるｂ−ｂ線による断
面図を示す。

【００４２】本実施形態においては、ガラス基板１５０
上にＲ、Ｇ、Ｂの色フィルタ部を有するカラーフィルタ
１５１をストライプ状に形成している。続いて、このカ
ラーフィルタ１５１とほぼ同様のパターンでデータ電極
１２５をＩＴＯ等の透明導電膜を用いて形成した。本実
施形態の対向基板１２１においては、遮光パターンがな
く、データ電極１２５と遮光パターンとの短絡の虞れが
ないので、絶縁膜が無くても良い。また、データ電極１
２５はカラーフィルタ１５１と同様のパターン形成すれ
ば良いので、データ電極形成面はほぼ平坦である。

【００４３】本実施形態においては、遮光パターン２０
３を中間基板１０４上に形成しているので、対向基板１
２１の作製工程が簡略化されるとともに対向基板１２１
においてデータ電極１２５の断線が生じ難くなる。

【００４４】また、バックライトからの光は、通常プラ
ズマ基板ガラス１３１側から液晶層を通過するが、対向
基板１２１ではなく中間基板１０４に遮光パターン２０
３を形成することにより、放電電極１３２やバリヤリブ
１３３により乱反射した不用光を効果的に除去すること
が出来る。したがって、プラズマアドレス表示装置の表
示品位が向上する。

【００４５】（第２の実施形態）以下、本発明の第２の
実施形態について図面を参照しながら具体的に説明す
る。

【００４６】図７は、本実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置を示す断面図である。

【００４７】本実施形態のプラズマアドレス表示装置
は、スクリーン印刷法等種々の方法によってＮｉ等の放
電電極１３２をプラズマ基板ガラス１３１に形成し、こ
の放電電極１３２に対応させてバリヤリブ１３３を放電
電極１３２の上部に形成する工程と、中間基板１０４と
プラズマ基板ガラス１３１とをフリットシール１３５を
介して接合する工程とを有する。

【００４８】本実施形態における中間基板１０４を図８
に示す。

【００４９】本実施形態における中間基板１０４として
は、通常の厚みのガラス基板１４１に非透光性である黒
色材料の樹脂膜１０７を形成した後、その基板における
画素部に対応した位置に開口部１４２を形成し、その
後、薄板ガラス１０４Ｂを貼り合せたものを使用してい
る。開口部１４２を形成した後、ガラス基板１４１に黒
色の樹脂膜１０７を形成しても良い。中間基板１０４以
外の構成は、実施形態１と同様である。

【００５０】本実施形態によれば、黒色材料の樹脂膜１
０７が形成されたガラス基板１４１に開口部１４２を形
成するといった単純な製造工程により、中間基板１０４
に遮光パターンを形成することが出来る。

【００５１】従って、中間基板１０４としての強度は、
薄板ガラス１０４Ｂを用いたものよりも遥かに強く、貼
り合せ工程における割れ、欠け、ひびの心配はない。ま
た、画素部においてはデータ電極に印加された電圧が薄
板ガラス１０４Ｂと液晶層との容量比で、液晶層に電圧
が印加されるため、低電圧化のためには中間基板１０４
は薄い方が望ましく、また液晶層の容量は小さい方が望
ましい。

【００５２】本実施形態においては、画素部の中間基板
１０４は薄くなっているため、画素部以外の中間基板１
０４本体を厚くしたために電圧が高くなることはない。
また、強度の問題で、中間基板１０４は少なくとも厚み
３０μｍ程度のものを使用していたが、それ以下の厚
み、具体的には１０μｍから２５μｍの薄板ガラス１０
４Ｂをガラス基板１４１に貼り合せることにより、中間
基板１０４の画素部として用いることができる。さらに
は、ガラス基板１４１には、従来の中間基板としては使
用できなかった５００μｍから２．０ｍｍの厚みのガラ
スを使用することができる。

【００５３】また、薄板ガラス１０４Ｂを貼り合せた後
に、プラズマ基板ガラス１３１との貼り合せを行うこと
が出来るため、中間基板１０４としての強度は十分であ
り、プラズマ基板ガラス１３１との貼り合せ工程を容易
に行うことができる。

【００５４】また、ガラス基板１４１の強度の問題で開
口部を大きく形成することができない場合には、１画素
に対して開口部１４２を複数形成することも可能であ
る。

【００５５】このようにして、中間基板１０４とプラズ
マ基板ガラス１３１とを接合する工程が完了した後、形
成されたプラズマ室１３４にガスを注入する。次に、配
向膜を形成し、配向処理を行うが、薄板ガラス１０４Ｂ
はガラス基板１４１における液晶セルに対向した面に貼
り合わされているので、配向膜が形成される中間基板１
０４の表面は平坦であり、ラビング時の配向不良は起こ
り難い。

【００５６】次に、液晶層を均一の厚さにするためのス
ペーサ１２４を散布し、液晶シール材１２２を介して対
向基板を中間基板１０４に接合して、液晶室を形成し、
その後液晶を注入して図７に示したプラズマアドレス表
示装置を得た。

【００５７】本実施形態においても実施形態１と同様、
遮光パターンが形成されていない対向基板が利用できる
ため、対向基板の作製工程が簡略化されるとともに対向
基板においてデータ電極の断線が生じにくくなる。

【００５８】また、バックライトからの光は、通常プラ
ズマ基板ガラス側から液晶層を通過するが、対向基板で
はなく中間基板に遮光パターンを形成することにより、
プラズマ電極や隔壁により乱反射した不用光を効果的に
除去することが出来る。したがって、プラズマアドレス
表示装置の表示品位が向上する。

【００５９】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明による場合
には、液晶セルとプラズマセルとが中間基板を介して積
層され、該プラズマセルを構成するプラズマ基板ガラス
と該中間基板とが多数並列的に設けられた隔壁を介して
対向し、該プラズマセル内のプラズマ放電により、前記
液晶セル内の液晶のスイッチングが行われる画素部を有
し、前記中間基板における画素部以外の領域には非透光
性材料からなる遮光パターンが設けられているので、対
向基板の作製を容易にでき、また、プラズマ電極や隔壁
により乱反射した不用光を効果的に除去することが出来
るため、プラズマアドレス表示装置の表示品位を向上で
きる。

【００６０】また、本発明による場合には、非透光性材
料からなる遮光パターンが有機材料であるので、中間基
板の機械的強度が向上し、中間基板の貼り合わせ工程等
において割れにくくなる。

【００６１】また、本発明による場合には、有機材料か
らなる遮光パターンが厚み１０μｍ以上であるので、例
えば黒色の高分子樹脂を使用しても、中間基板の機械的
強度が向上し、中間基板の貼り合わせ工程等において割
れにくくなる。

【００６２】また、本発明による場合には、中間基板が
画素部に透光性の開口部を有する第１基板と、第１基板
に貼り合わされた第２基板とからなるとき、第１基板を
厚い基板とすることが出来、中間基板の機械的強度が向
上し、中間基板の貼り合わせ工程等において割れ、欠
け、ひび等の発生を防止できる。また、第１基板に、開
口部を設けて基板全面に非透光性材料を配置することに
より、画素部以外を非透光性とした中間基板を容易に作
製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置を示す断面図である。

【図２】本発明の第１の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置の中間基板を示す平面図である。

【図３】本発明の第１の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置の中間基板を示す断面図である。

【図４】本発明の第１の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置におけるプラズマ基板ガラスと中間基板との
間の部分を示す断面図である。

【図５】本発明の第１の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置の対向基板を示す平面図である。

【図６】本発明の第１の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置の対向基板を示す断面図である。

【図７】本発明の第２の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置を示す断面図である。

【図８】本発明の第２の実施形態に係るプラズマアドレ
ス表示装置の中間基板を示す断面図である。

【図９】従来例のプラズマアドレス表示装置の一例を示
す断面図である。

【図１０】（Ａ）〜（Ｅ）は、図９のプラズマアドレス
表示装置の製造工程を示すフローチャートである。

【図１１】従来例のプラズマアドレス表示装置の対向基
板を示す平面図である。

【図１２】従来例のプラズマアドレス表示装置の対向基
板を示す断面図である。

【符号の説明】

１０２液晶セル１０３プラズマセル１０４中間基板１０４Ｂ薄板ガラス１０５隔壁１０７樹脂膜１２１対向基板１２２液晶シール材１２４スペーサ１２５データ電極１３１プラズマ基板ガラス１３２放電電極１３３バリヤリブ１３４プラズマ室１３５フリットシール１４１ガラス基板１４２開口部２０１薄板ガラス２０２画素部２０３遮光パターン

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液晶セルとプラズマセルとが中間基板を
介して積層され、該プラズマセルを構成しかつ該中間基
板とは反対側に存在するプラズマ基板ガラスと該中間基
板とが多数並列的に設けられた隔壁を介して対向し、該
プラズマセル内のプラズマ放電により、該液晶セル内の
液晶のスイッチングが行われる画素部を有するプラズマ
アドレス表示装置であって、前記中間基板における画素部以外の領域には非透光性材
料からなる遮光パターンが設けられているプラズマアド
レス表示装置。
【請求項２】前記遮光パターンが有機材料からなる請
求項１記載のプラズマアドレス表示装置。
【請求項３】前記遮光パターンがその厚みを１０μｍ
以上として形成されている請求項２記載のプラズマアド
レス表示装置。
【請求項４】前記中間基板は、画素部に透光性の開口
部を有する第１基板と、該第１基板に貼り合わされた第
２基板とからなることを特徴とする請求項１ないし請求
項３のいずれかに記載のプラズマアドレス表示装置。
【請求項５】前記第１基板が、厚み０．５ｍｍ〜２ｍ
ｍのものである請求項４記載のプラズマアドレス表示装
置。
【請求項６】前記第２基板が、厚み１０μｍ〜２５μ
ｍのものである請求項４または５記載のプラズマアドレ
ス表示装置。