JPH08302248A - 導電膜組成物 - Google Patents
導電膜組成物Info
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- JPH08302248A JPH08302248A JP8068856A JP6885696A JPH08302248A JP H08302248 A JPH08302248 A JP H08302248A JP 8068856 A JP8068856 A JP 8068856A JP 6885696 A JP6885696 A JP 6885696A JP H08302248 A JPH08302248 A JP H08302248A
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/867—Means associated with the outside of the vessel for shielding, e.g. magnetic shields
- H01J29/868—Screens covering the input or output face of the vessel, e.g. transparent anti-static coatings, X-ray absorbing layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D5/00—Coating compositions, e.g. paints, varnishes or lacquers, characterised by their physical nature or the effects produced; Filling pastes
- C09D5/24—Electrically-conducting paints
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01B—CABLES; CONDUCTORS; INSULATORS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR CONDUCTIVE, INSULATING OR DIELECTRIC PROPERTIES
- H01B1/00—Conductors or conductive bodies characterised by the conductive materials; Selection of materials as conductors
- H01B1/20—Conductive material dispersed in non-conductive organic material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05F—STATIC ELECTRICITY; NATURALLY-OCCURRING ELECTRICITY
- H05F1/00—Preventing the formation of electrostatic charges
- H05F1/02—Preventing the formation of electrostatic charges by surface treatment
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 光透過度、耐摩擦性に優れると共に、ガ
ラス、セラミックスなどのような基材に対する密着性の
優れた導電膜組成物を提供する。 【解決手段】 エチレングリコールとテルピネオールを
主溶媒にし、エチルアルコール、ｎ−ブチルアルコール
及びエチルセロソルブを副溶媒にし、インジウム化合物
と多塩基性カルボン酸およびスズ化合物を固形成分とし
て含む。
ラス、セラミックスなどのような基材に対する密着性の
優れた導電膜組成物を提供する。 【解決手段】 エチレングリコールとテルピネオールを
主溶媒にし、エチルアルコール、ｎ−ブチルアルコール
及びエチルセロソルブを副溶媒にし、インジウム化合物
と多塩基性カルボン酸およびスズ化合物を固形成分とし
て含む。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は導電膜組成物に関
し、より詳しくは、陰極線管（ＣＲＴ）、液晶表示素子
（ＬＣＤ）、蛍光表示板（ＶＦＤ）、エレクトロ・ルミ
ネセンス（ＥＬＥＣＴＲＯ ＬＵＭＩＮＥＳＣＥＮＣ
Ｅ）などの画像表示管のガラス基材に電気導電性を付与
することにより透明導電性回路の静電気による電気的な
誤動作防止、および表示窓の埃などによる汚染を、効果
的に防止できる導電膜組成物に関する。
し、より詳しくは、陰極線管（ＣＲＴ）、液晶表示素子
（ＬＣＤ）、蛍光表示板（ＶＦＤ）、エレクトロ・ルミ
ネセンス（ＥＬＥＣＴＲＯ ＬＵＭＩＮＥＳＣＥＮＣ
Ｅ）などの画像表示管のガラス基材に電気導電性を付与
することにより透明導電性回路の静電気による電気的な
誤動作防止、および表示窓の埃などによる汚染を、効果
的に防止できる導電膜組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】陰極線管（ＣＲＴ）、液晶表示素子（Ｌ
ＣＤ）、蛍光表示板（ＶＦＤ）、エレクトロ・ルミネセ
ンスなどの画像表示管の動作時に画像表示窓の表面には
多量の静電気が帯電し、空気中で帯電された埃が静電気
的力によって付きやすくなって、画像の質を低下させる
ので、これを使用する使用者の健康にも悪影響を与える
ようになる。従って、これら画像表示管の画面表示窓に
生じる静電気を防止するため、種々の手段が講じられて
きた結果、現在では金属成分を主成分とする透明導電膜
を画面表示窓の表面に形成して、導電性を付与する方法
が開発されている。ガラスまたはセラミックスを基材と
する画像表示窓の透明導電膜の形成方法として、ＣＶＤ
法、ＰＶＤ法などが一般的に行われているが、これらＣ
ＶＤ法、ＰＶＤ法などにより基材の表面に電気伝導性を
付与するにはコスト高である。設備面積が大きい真空蒸
着装置が必要なだけでなく、装置の大きさによって皮膜
を形成する基材の表面積と形状が制限される問題があ
る。これを解決するため、例えば、日本国特公昭５８−
４７８号、同５８−２５９７号、及び同５８−１４２４
号などに、インジウム化合物とスズ化合物を有機溶剤に
溶解した溶液を、基板に塗布した後、３００〜７００℃
の温度で焼成することが開示されている。
ＣＤ）、蛍光表示板（ＶＦＤ）、エレクトロ・ルミネセ
ンスなどの画像表示管の動作時に画像表示窓の表面には
多量の静電気が帯電し、空気中で帯電された埃が静電気
的力によって付きやすくなって、画像の質を低下させる
ので、これを使用する使用者の健康にも悪影響を与える
ようになる。従って、これら画像表示管の画面表示窓に
生じる静電気を防止するため、種々の手段が講じられて
きた結果、現在では金属成分を主成分とする透明導電膜
を画面表示窓の表面に形成して、導電性を付与する方法
が開発されている。ガラスまたはセラミックスを基材と
する画像表示窓の透明導電膜の形成方法として、ＣＶＤ
法、ＰＶＤ法などが一般的に行われているが、これらＣ
ＶＤ法、ＰＶＤ法などにより基材の表面に電気伝導性を
付与するにはコスト高である。設備面積が大きい真空蒸
着装置が必要なだけでなく、装置の大きさによって皮膜
を形成する基材の表面積と形状が制限される問題があ
る。これを解決するため、例えば、日本国特公昭５８−
４７８号、同５８−２５９７号、及び同５８−１４２４
号などに、インジウム化合物とスズ化合物を有機溶剤に
溶解した溶液を、基板に塗布した後、３００〜７００℃
の温度で焼成することが開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな方法によって形成された皮膜は、基材との付着性が
悪く、皮膜強度が弱いので、剥離し易い、あるいは引掻
きより傷つき易いなどの問題点がある。本発明は、かか
る従来技術の有する問題点を解決するために案出された
もので、その目的は、光透過度、耐摩擦性に優れると共
に、ガラス、セラミックスなどのような基材に対する密
着性の優秀な特性を備えた新規な組成の導電膜組成物を
提供する点にある。
うな方法によって形成された皮膜は、基材との付着性が
悪く、皮膜強度が弱いので、剥離し易い、あるいは引掻
きより傷つき易いなどの問題点がある。本発明は、かか
る従来技術の有する問題点を解決するために案出された
もので、その目的は、光透過度、耐摩擦性に優れると共
に、ガラス、セラミックスなどのような基材に対する密
着性の優秀な特性を備えた新規な組成の導電膜組成物を
提供する点にある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】前記課題は、請求項記載
の発明により達成される。即ち、本発明にかかる導電膜
組成物の特徴構成は、エチレングリコールとテルピネオ
ールを主溶媒にし、エチルアルコール、ｎ−ブチルアル
コール及びエチルセロソルブを副溶媒にし、インジウム
化合物と多塩基性カルボン酸およびスズ化合物を固形成
分として含まれる点にある。組成物中、主溶媒としてエ
チレングリコールとテルピネオールが使用されていて、
このエチレングリコールが組成物の皮膜強度を増加させ
る。つまり、エチレングリコールが多塩基性カルボン酸
などとエステル結合し、これがその後の焼成により強固
な皮膜を形成する。さらに、テルピネオールが乾燥性を
向上させるだけでなく、塗布膜の乾燥後均一性を向上さ
せる。そして、インジウム化合物とスズ化合物とが導電
性に優れた化合物を形成するのである。その結果、光透
過度、耐摩擦性に優れると共に、ガラス、セラミックス
などの基材に対する密着性の優秀な特性を備えた導電膜
組成物を提供できた。
の発明により達成される。即ち、本発明にかかる導電膜
組成物の特徴構成は、エチレングリコールとテルピネオ
ールを主溶媒にし、エチルアルコール、ｎ−ブチルアル
コール及びエチルセロソルブを副溶媒にし、インジウム
化合物と多塩基性カルボン酸およびスズ化合物を固形成
分として含まれる点にある。組成物中、主溶媒としてエ
チレングリコールとテルピネオールが使用されていて、
このエチレングリコールが組成物の皮膜強度を増加させ
る。つまり、エチレングリコールが多塩基性カルボン酸
などとエステル結合し、これがその後の焼成により強固
な皮膜を形成する。さらに、テルピネオールが乾燥性を
向上させるだけでなく、塗布膜の乾燥後均一性を向上さ
せる。そして、インジウム化合物とスズ化合物とが導電
性に優れた化合物を形成するのである。その結果、光透
過度、耐摩擦性に優れると共に、ガラス、セラミックス
などの基材に対する密着性の優秀な特性を備えた導電膜
組成物を提供できた。
【０００５】前記インジウム化合物は、ともに添加され
る多塩基性カルボン酸と錯塩が形成できる硝酸インジウ
ム三水和物（Ｉｎ（ＮＯ3）3・３Ｈ2Ｏ）が特に好まし
く、組成物の中に１〜１０重量％含まれることが好まし
い。１重量％未満の添加であると所定の効果を発揮せ
ず、１０重量％を越える添加は効果のさらなる向上がみ
られず意味がない。
る多塩基性カルボン酸と錯塩が形成できる硝酸インジウ
ム三水和物（Ｉｎ（ＮＯ3）3・３Ｈ2Ｏ）が特に好まし
く、組成物の中に１〜１０重量％含まれることが好まし
い。１重量％未満の添加であると所定の効果を発揮せ
ず、１０重量％を越える添加は効果のさらなる向上がみ
られず意味がない。
【０００６】本発明中の多塩基性カルボン酸は、蓚酸、
マロン酸、スクシン酸、グルタル酸、アジピン酸、マレ
イン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、またはＥＤＴＡなどを例として挙げられ、組成物
中で０．１〜３重量％含まれることが好ましい。０．１
重量％未満の添加では所定の効果を発揮せず、３重量％
を越える添加は膜の白濁現象を起こす可能性があり、膜
の透明度に悪影響を及ぼすので好ましくない。また、ス
ズ化合物はスズオクトエート（２−エチルヘキサン酸第
一スズ）を主成分とし、組成物中０．１〜３重量％含ま
れることが好ましい。０．１重量％未満の添加では所定
の効果を発揮せず、３重量％を越える添加は効果のさら
なる向上がみられず意味がない。前記エチレングリコー
ルが組成物中に１０〜４０重量％含まれることが好まし
い。エチレングリコール含有量が１０重量％未満である
と、十分な皮膜強度を上げ得ず、４０重量％を越えて含
まれると、膜の乾燥温度が高くなったり、乾燥条件の設
定に無理が生じるようになるので、好ましくない。
マロン酸、スクシン酸、グルタル酸、アジピン酸、マレ
イン酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタ
ル酸、またはＥＤＴＡなどを例として挙げられ、組成物
中で０．１〜３重量％含まれることが好ましい。０．１
重量％未満の添加では所定の効果を発揮せず、３重量％
を越える添加は膜の白濁現象を起こす可能性があり、膜
の透明度に悪影響を及ぼすので好ましくない。また、ス
ズ化合物はスズオクトエート（２−エチルヘキサン酸第
一スズ）を主成分とし、組成物中０．１〜３重量％含ま
れることが好ましい。０．１重量％未満の添加では所定
の効果を発揮せず、３重量％を越える添加は効果のさら
なる向上がみられず意味がない。前記エチレングリコー
ルが組成物中に１０〜４０重量％含まれることが好まし
い。エチレングリコール含有量が１０重量％未満である
と、十分な皮膜強度を上げ得ず、４０重量％を越えて含
まれると、膜の乾燥温度が高くなったり、乾燥条件の設
定に無理が生じるようになるので、好ましくない。
【０００７】前記テルピネオールは１０〜４０重量％含
まれることが好ましい。１０重量％未満では所定の効果
を発揮せず、４０重量％を越える添加は膜強度の低下を
もたらすおそれがあり好ましくない。また、組成物の乾
燥温度を落とすために、エチルアルコール、ｎ−ブチル
アルコール及びエチルセロソルブを、夫々組成物中に１
０〜５０重量％含まれることが好ましい。１０重量％未
満では添加効果がなく、５０重量％を越える添加は効果
のさらなる向上がみられず意味がない、のみならずコー
ティング方法によっては液組成が変化するおそれがあっ
て好ましくない。そして、これらの混合比を１：１：１
にすると一層好ましい。この比率が著しく変わると、膜
の乾燥時に乾燥温度の上昇をもたらすおそれがあって好
ましくない。尚、この混合比である１：１：１は厳密な
比率である必要はなく、従って、本明細書では実質的に
ほぼこの比率であることを含むものとしてこの比率を用
いる。
まれることが好ましい。１０重量％未満では所定の効果
を発揮せず、４０重量％を越える添加は膜強度の低下を
もたらすおそれがあり好ましくない。また、組成物の乾
燥温度を落とすために、エチルアルコール、ｎ−ブチル
アルコール及びエチルセロソルブを、夫々組成物中に１
０〜５０重量％含まれることが好ましい。１０重量％未
満では添加効果がなく、５０重量％を越える添加は効果
のさらなる向上がみられず意味がない、のみならずコー
ティング方法によっては液組成が変化するおそれがあっ
て好ましくない。そして、これらの混合比を１：１：１
にすると一層好ましい。この比率が著しく変わると、膜
の乾燥時に乾燥温度の上昇をもたらすおそれがあって好
ましくない。尚、この混合比である１：１：１は厳密な
比率である必要はなく、従って、本明細書では実質的に
ほぼこの比率であることを含むものとしてこの比率を用
いる。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明による組成物は、ガラスあ
るいはセラミックスのような基材上に、通常のロールコ
ーティング方法によって均一な厚みで容易に塗布でき
る。塗布された膜は、ガラスあるいはセラミックス基材
に対して接着性が優れており、２００℃以下の低温でも
速やかに乾燥され、又５００℃以下の低い温度でよく焼
成される。焼成によって得られる塗布膜は、光透明性が
優れているだけでなく、膜の表面強度が高く耐摩擦性が
大きい。以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
るいはセラミックスのような基材上に、通常のロールコ
ーティング方法によって均一な厚みで容易に塗布でき
る。塗布された膜は、ガラスあるいはセラミックス基材
に対して接着性が優れており、２００℃以下の低温でも
速やかに乾燥され、又５００℃以下の低い温度でよく焼
成される。焼成によって得られる塗布膜は、光透明性が
優れているだけでなく、膜の表面強度が高く耐摩擦性が
大きい。以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
【０００９】
＜実施例１＞硝酸インジウム三水和物１００重量部とフ
マル酸１５重量部を、水とエチルアルコールの１：１混
合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、エチレング
リコール２００重量部（約１８％）とテルピネオール２
００重量部を混合し、エチルアルコール、ｎ−ブタノー
ル及びエチルセロソルブ１：１：１とからなる混合物を
５００重量部混合して常温で４時間撹拌後スズオクトエ
ートを１５重量部を添加して撹拌を実施しながら２４時
間熟成させてペースト状のコーティング組成物を製造し
た。この組成物をロールコート印刷方法によってガラス
基材に塗布した後、１５０〜１８０℃の空気内で乾燥さ
せて溶剤を蒸発させることによって均一な塗布膜を得
た。続いて塗布された基材を５００℃の空気内で３時間
焼成して透明導電膜を形成した。
マル酸１５重量部を、水とエチルアルコールの１：１混
合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、エチレング
リコール２００重量部（約１８％）とテルピネオール２
００重量部を混合し、エチルアルコール、ｎ−ブタノー
ル及びエチルセロソルブ１：１：１とからなる混合物を
５００重量部混合して常温で４時間撹拌後スズオクトエ
ートを１５重量部を添加して撹拌を実施しながら２４時
間熟成させてペースト状のコーティング組成物を製造し
た。この組成物をロールコート印刷方法によってガラス
基材に塗布した後、１５０〜１８０℃の空気内で乾燥さ
せて溶剤を蒸発させることによって均一な塗布膜を得
た。続いて塗布された基材を５００℃の空気内で３時間
焼成して透明導電膜を形成した。
【００１０】＜実施例２＞窒酸インジウム三水和物１０
０重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコール
の１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、
エチレングリコール３００重量部（約２７％）とテルピ
ネオール２００重量部を混合した後、エチルアルコー
ル、ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に
構成した混合物を４００重量部混合して常温で４時間撹
拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌
を実施しながら２４時間熟成させてペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物をロールコート印
刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１８
０％の空気内で乾燥させて溶剤を蒸発させることによっ
て均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５０
０℃の空気内で３時間焼成して透明導電膜を形成した。
０重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコール
の１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、
エチレングリコール３００重量部（約２７％）とテルピ
ネオール２００重量部を混合した後、エチルアルコー
ル、ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に
構成した混合物を４００重量部混合して常温で４時間撹
拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌
を実施しながら２４時間熟成させてペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物をロールコート印
刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１８
０％の空気内で乾燥させて溶剤を蒸発させることによっ
て均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５０
０℃の空気内で３時間焼成して透明導電膜を形成した。
【００１１】＜実施例３＞硝酸インジウム三水和物１０
０重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコール
の１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、
エチレングリコール４００重量部（約３０％）とテルピ
ネオール３００重量部を混合した後、エチルアルコー
ル、ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に
構成した混合物を４００重量部混合して常温で４時間撹
拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌
を実施しながら２４時間熟成させてペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物をロールコート印
刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１８
０℃の空気内で乾燥させて溶剤を蒸発させることによっ
て均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５０
０℃の空気内で３時間焼成して透明導電膜を形成した。
０重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコール
の１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、
エチレングリコール４００重量部（約３０％）とテルピ
ネオール３００重量部を混合した後、エチルアルコー
ル、ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に
構成した混合物を４００重量部混合して常温で４時間撹
拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌
を実施しながら２４時間熟成させてペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物をロールコート印
刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１８
０℃の空気内で乾燥させて溶剤を蒸発させることによっ
て均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５０
０℃の空気内で３時間焼成して透明導電膜を形成した。
【００１２】＜実施例４＞硝酸インジウム三水和物１０
０重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコール
の１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、
エチレングリコール４００重量部（約３６％）とテルピ
ネオール３００重量部を混合した後、エチルアルコー
ル、ｎ‐ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に
構成した混合物を２００重量部混合して常温で４時間撹
拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌
を実施しながら２４時間熟成させてペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物をロールコート印
刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１８
０℃の空気内で乾燥させて溶剤を蒸発させることによっ
て均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５０
０℃の空気内で３時間焼成して透明導電膜を形成した。
０重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコール
の１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、
エチレングリコール４００重量部（約３６％）とテルピ
ネオール３００重量部を混合した後、エチルアルコー
ル、ｎ‐ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に
構成した混合物を２００重量部混合して常温で４時間撹
拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌
を実施しながら２４時間熟成させてペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物をロールコート印
刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１８
０℃の空気内で乾燥させて溶剤を蒸発させることによっ
て均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５０
０℃の空気内で３時間焼成して透明導電膜を形成した。
【００１３】＜実施例５＞硝酸インジウム三水和物１０
０重量部とフマル酸１５重量部を、水とエチルアルコー
ルの１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた
後、エチレングリコール１００重量部（約９％）とテル
ピネオール２００重量部を混合し、エチルアルコール、
ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に構成
した混合物を６００重量部混合して、常温で４時間撹拌
した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌を
実施しながら２４時間熟成させて、ペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物を、ロールコート
印刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１
８０℃の空気内で乾燥させ、溶剤を蒸発させることによ
って均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５
００℃の空気中で３時間焼成して透明導電膜を形成し
た。
０重量部とフマル酸１５重量部を、水とエチルアルコー
ルの１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた
後、エチレングリコール１００重量部（約９％）とテル
ピネオール２００重量部を混合し、エチルアルコール、
ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１に構成
した混合物を６００重量部混合して、常温で４時間撹拌
した後、スズオクトエート１５重量部を添加して撹拌を
実施しながら２４時間熟成させて、ペースト状のコーテ
ィング組成物を製造した。この組成物を、ロールコート
印刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５０〜１
８０℃の空気内で乾燥させ、溶剤を蒸発させることによ
って均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された基材を５
００℃の空気中で３時間焼成して透明導電膜を形成し
た。
【００１４】＜比較例＞硝酸インジウム三水和物１００
重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコールの
１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、テ
ルピネオール５００重量部を混合した後、エチルアルコ
ール、ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１
に構成した混合物を４００重量部混合して、常温で４時
間撹拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して
撹拌を実施しながら２４時間熟成させて、ペースト状の
コーティング組成物を製造した。この組成物を、ロール
コート印刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５
０〜１８０℃の空気内で乾燥させて、溶剤を蒸発させる
ことによって均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された
基材を５００℃の空気中で３時間焼成して、透明導電膜
を形成した。前記実施例１〜５及び比較例で形成された
導電膜のシート抵抗、光透過度、及び摩擦強度を測定し
た。その結果を表１に示す。
重量部とフマル酸１５重量部を水とエチルアルコールの
１：１混合溶液１００重量部に入れて溶解させた後、テ
ルピネオール５００重量部を混合した後、エチルアルコ
ール、ｎ−ブタノール及びエチルセロソルブ１：１：１
に構成した混合物を４００重量部混合して、常温で４時
間撹拌した後、スズオクトエート１５重量部を添加して
撹拌を実施しながら２４時間熟成させて、ペースト状の
コーティング組成物を製造した。この組成物を、ロール
コート印刷方法によってガラス基材に塗布した後、１５
０〜１８０℃の空気内で乾燥させて、溶剤を蒸発させる
ことによって均一な塗布膜を得た。続いて、塗布された
基材を５００℃の空気中で３時間焼成して、透明導電膜
を形成した。前記実施例１〜５及び比較例で形成された
導電膜のシート抵抗、光透過度、及び摩擦強度を測定し
た。その結果を表１に示す。
【００１５】
【表１】 区分 シート抵抗 光透過度 膜強度（剥がれ始めた （ｋΩ／ｃｍ2 ） （％Ｔ） 摩擦回数） ────────────────────────────────── 実施例１ ２．５４ ９１．２ １００ 実施例２ ３．１２ ９１．４ ５００ 実施例３ ２．１５ ９１．３ ５００ 実施例４ ２．６８ ９１．２ ５００ 実施例５ ２．３８ ９１．３ ５０ 比較例 ３．８１ ９１．５ ３０
【００１６】
【発明の効果】表１で見るように、本発明にかかる組成
物のコーティングによって形成された皮膜は、シート抵
抗が３．１２ｋΩ／ｃｍ2以下であり、光透明度が９１
％以上、膜強度が５０回以上になる優秀な導電性、光透
明度および皮膜強度性を持つ。このように、本発明によ
れば、光透過度、耐摩擦性およびガラス、セラミックス
などのような基材に対する密着性の優秀な特性を持つ、
新規な組成の導電膜組成物を提供できた。
物のコーティングによって形成された皮膜は、シート抵
抗が３．１２ｋΩ／ｃｍ2以下であり、光透明度が９１
％以上、膜強度が５０回以上になる優秀な導電性、光透
明度および皮膜強度性を持つ。このように、本発明によ
れば、光透過度、耐摩擦性およびガラス、セラミックス
などのような基材に対する密着性の優秀な特性を持つ、
新規な組成の導電膜組成物を提供できた。
Claims (9)
- 【請求項１】 エチレングリコールとテルピネオールを
主溶媒にし、エチルアルコール、ｎ−ブチルアルコール
及びエチルセロソルブを副溶媒にし、インジウム化合物
と多塩基性カルボン酸およびスズ化合物を固形成分とし
て含む導電膜組成物。 - 【請求項２】 前記インジウム化合物が組成物中に１〜
１０重量％含まれる請求項１記載の導電膜組成物。 - 【請求項３】 前記多塩基性カルボン酸が、蓚酸、マロ
ン酸、スクシン酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン
酸、フマル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル
酸、ＥＤＴＡからなる群から選択される請求項１又は２
記載の導電膜組成物。 - 【請求項４】 前記多塩基性カルボン酸が組成物中に
０.１〜３重量％含まれる請求項１〜３のいずれかに記
載の導電膜組成物。 - 【請求項５】 前記スズ化合物がスズオクトエートを主
成分とすると共に、０．１〜３重量％含まれる請求項１
〜４のいずれかに記載の導電膜組成物。 - 【請求項６】 前記エチレングリコールが組成物中に１
０〜４０重量％含まれる請求項１〜５のいずれかに記載
の導電膜組成物。 - 【請求項７】 前記テルピネオールが組成物中に１０〜
４０重量％含まれる請求項１〜６のいずれかに記載の導
電膜組成物。 - 【請求項８】 前記エチルアルコール、ｎ−ブチルアル
コール及びエチルセロソルブが、各々組成物中に１０〜
５０重量％含まれる請求項１〜７のいずれかに記載の導
電膜組成物。 - 【請求項９】 前記エチルアルコール、ｎ−ブチルアル
コール及びエチルセロソルブが、各々１：１：１の比で
含まれる請求項１〜８のいずれかに記載の導電膜組成
物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR1019950011467A KR0149293B1 (ko) | 1995-05-10 | 1995-05-10 | 투명 도전성 코팅 조성물 |
| KR1995-11467 | 1995-05-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08302248A true JPH08302248A (ja) | 1996-11-19 |
Family
ID=19414119
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8068856A Pending JPH08302248A (ja) | 1995-05-10 | 1996-03-26 | 導電膜組成物 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08302248A (ja) |
| KR (1) | KR0149293B1 (ja) |
| CN (1) | CN1112415C (ja) |
| DE (1) | DE19603796A1 (ja) |
| GB (1) | GB2300641B (ja) |
Families Citing this family (4)
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|---|---|---|---|---|
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| DE102007013181B4 (de) * | 2007-03-20 | 2017-11-09 | Evonik Degussa Gmbh | Transparente, elektrisch leitfähige Schicht |
| DE102009009337A1 (de) * | 2009-02-17 | 2010-08-19 | Evonik Degussa Gmbh | Verfahren zur Herstellung halbleitender Indiumoxid-Schichten, nach dem Verfahren hergestellte Indiumoxid-Schichten und deren Verwendung |
| CN102418407A (zh) * | 2011-10-11 | 2012-04-18 | 信益陶瓷(中国)有限公司 | 一种防静电瓷砖 |
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| JPS5854089B2 (ja) * | 1979-06-22 | 1983-12-02 | 株式会社日立製作所 | 透明導電膜の形成方法 |
| JPS6019610B2 (ja) * | 1979-12-14 | 1985-05-17 | 株式会社日立製作所 | 透明導電膜形成法 |
| JPS63143706A (ja) * | 1986-12-05 | 1988-06-16 | 触媒化成工業株式会社 | 透明導電性塗布液組成物及び透明導電性被膜を有する基材 |
| KR920001836B1 (ko) * | 1989-09-08 | 1992-03-05 | 삼성전관 주식회사 | 음극선관 |
| JPH05166423A (ja) * | 1991-12-11 | 1993-07-02 | Asahi Glass Co Ltd | 導電膜及び低反射導電膜の製造方法 |
-
1995
- 1995-05-10 KR KR1019950011467A patent/KR0149293B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1996
- 1996-01-16 GB GB9600822A patent/GB2300641B/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-02 DE DE19603796A patent/DE19603796A1/de not_active Withdrawn
- 1996-03-26 JP JP8068856A patent/JPH08302248A/ja active Pending
- 1996-05-09 CN CN96105842A patent/CN1112415C/zh not_active Expired - Fee Related
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|---|---|
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| CN1141322A (zh) | 1997-01-29 |
| KR0149293B1 (ko) | 1998-10-01 |
| GB2300641B (en) | 1998-10-21 |
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| GB2300641A (en) | 1996-11-13 |
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| DE19603796A1 (de) | 1996-11-14 |
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