JPH08297256A - 走査光学装置及びマルチビーム走査光学装置 - Google Patents
走査光学装置及びマルチビーム走査光学装置Info
- Publication number
- JPH08297256A JPH08297256A JP4674196A JP4674196A JPH08297256A JP H08297256 A JPH08297256 A JP H08297256A JP 4674196 A JP4674196 A JP 4674196A JP 4674196 A JP4674196 A JP 4674196A JP H08297256 A JPH08297256 A JP H08297256A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- lens
- scanning
- axis
- sub
- scanning direction
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B26/00—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
- G02B26/08—Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
- G02B26/10—Scanning systems
- G02B26/12—Scanning systems using multifaceted mirrors
- G02B26/125—Details of the optical system between the polygonal mirror and the image plane
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41J—TYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
- B41J2/00—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
- B41J2/435—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material
- B41J2/47—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light
- B41J2/471—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror
- B41J2/473—Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by selective application of radiation to a printing material or impression-transfer material using the combination of scanning and modulation of light using dot sequential main scanning by means of a light deflector, e.g. a rotating polygonal mirror using multiple light beams, wavelengths or colours
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Lenses (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ｆθレンズのレンズ形状を適切に設定するこ
とによって、コンパクトで高精細な印字に適した走査光
学装置及びマルチビーム走査光学装置を得ること。 【解決手段】 光源手段から出射した光束を第１の光学
素子と第２の光学素子とを介して偏向素子の偏向面にお
いて主走査方向に長手の線状に結像させ、該偏向素子で
偏向された光束を第３の光学素子を介し被走査面上にス
ポット状に結像させて該被走査面上を走査する走査光学
装置において、該第３の光学素子は単レンズより成り、
該単レンズの両レンズ面は共に主走査面内で非球面形状
のトーリック面より成り、副走査面内の曲率をレンズの
有効部内において軸上から軸外に向かい連続的に変化さ
せることにより、該被走査面に入射する光束の像高によ
る副走査方向のＦナンバーの変化を抑えるようにしたこ
と。
とによって、コンパクトで高精細な印字に適した走査光
学装置及びマルチビーム走査光学装置を得ること。 【解決手段】 光源手段から出射した光束を第１の光学
素子と第２の光学素子とを介して偏向素子の偏向面にお
いて主走査方向に長手の線状に結像させ、該偏向素子で
偏向された光束を第３の光学素子を介し被走査面上にス
ポット状に結像させて該被走査面上を走査する走査光学
装置において、該第３の光学素子は単レンズより成り、
該単レンズの両レンズ面は共に主走査面内で非球面形状
のトーリック面より成り、副走査面内の曲率をレンズの
有効部内において軸上から軸外に向かい連続的に変化さ
せることにより、該被走査面に入射する光束の像高によ
る副走査方向のＦナンバーの変化を抑えるようにしたこ
と。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は走査光学装置及びマ
ルチビーム走査光学装置に関し、特に光源手段から光変
調され出射した光束を回転多面鏡等より成る光偏向器
（偏向素子）で偏向反射させた後、ｆθ特性を有する結
像光学系（ｆθレンズ）を介して被走査面上を光走査し
て画像情報を記録するようにした、例えば電子写真プロ
セスを有するレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジ
タル複写機等の装置に好適な走査光学装置及びマルチビ
ーム走査光学装置に関するものである。
ルチビーム走査光学装置に関し、特に光源手段から光変
調され出射した光束を回転多面鏡等より成る光偏向器
（偏向素子）で偏向反射させた後、ｆθ特性を有する結
像光学系（ｆθレンズ）を介して被走査面上を光走査し
て画像情報を記録するようにした、例えば電子写真プロ
セスを有するレーザービームプリンタ（ＬＢＰ）やデジ
タル複写機等の装置に好適な走査光学装置及びマルチビ
ーム走査光学装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来よりレーザービームプリンタ等の走
査光学装置においては画像信号に応じて光源手段から光
変調され出射した光束を、例えば回転多面鏡（ポリゴン
ミラー）より成る光偏向器により周期的に偏向させ、ｆ
θ特性を有する結像光学系によって感光性の記録媒体
（感光体ドラム）面上にスポット状に集束させ、その面
上を光走査して画像記録を行なっている。
査光学装置においては画像信号に応じて光源手段から光
変調され出射した光束を、例えば回転多面鏡（ポリゴン
ミラー）より成る光偏向器により周期的に偏向させ、ｆ
θ特性を有する結像光学系によって感光性の記録媒体
（感光体ドラム）面上にスポット状に集束させ、その面
上を光走査して画像記録を行なっている。
【０００３】図２５は従来の走査光学装置の要部概略図
である。
である。
【０００４】同図において光源手段６１から出射した発
散光束はコリメーターレンズ６２により略平行光束とさ
れ、絞り６３によって該光束（光量）を制限して副走査
方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ
６４に入射している。シリンドリカルレンズ６４に入射
した平行光束のうち主走査断面内においてはそのまま平
行光束の状態で射出する。又副走査断面内においては集
束して回転多面鏡（ポリゴンミラー）から成る光偏向器
６５の偏向面（反射面）６５ａにほぼ線像として結像し
ている。
散光束はコリメーターレンズ６２により略平行光束とさ
れ、絞り６３によって該光束（光量）を制限して副走査
方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリカルレンズ
６４に入射している。シリンドリカルレンズ６４に入射
した平行光束のうち主走査断面内においてはそのまま平
行光束の状態で射出する。又副走査断面内においては集
束して回転多面鏡（ポリゴンミラー）から成る光偏向器
６５の偏向面（反射面）６５ａにほぼ線像として結像し
ている。
【０００５】ここで、主走査断面とは、光偏向器の偏向
面で偏向反射された光束が経時的に形成する光束断面を
指す。また、副走査断面とはｆθレンズの光軸を含み主
走査断面に直交する断面を指す。
面で偏向反射された光束が経時的に形成する光束断面を
指す。また、副走査断面とはｆθレンズの光軸を含み主
走査断面に直交する断面を指す。
【０００６】そして光偏向器６５の偏向面６５ａで偏向
反射された光束をｆθ特性を有する結像光学系（ｆθレ
ンズ）６６を介して被走査面としての感光ドラム６８面
上に導光し、該光偏向器６５を矢印Ａ方向に回転させる
ことによって該感光ドラム６８面上を光走査して画像情
報の記録を行なっている。
反射された光束をｆθ特性を有する結像光学系（ｆθレ
ンズ）６６を介して被走査面としての感光ドラム６８面
上に導光し、該光偏向器６５を矢印Ａ方向に回転させる
ことによって該感光ドラム６８面上を光走査して画像情
報の記録を行なっている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】この種の走査光学装置
において高精度な画像情報の記録を行なうには被走査面
全域にわたって像面湾曲が良好に補正されスポット径が
揃っていること、そして入射光の角度と像高とが比例関
係となる歪曲収差（ｆθ特性）を有していることが必要
である。このような光学特性を満たす走査光学装置、若
しくはその補正光学系（ｆθレンズ）は従来より種々と
提案されている。
において高精度な画像情報の記録を行なうには被走査面
全域にわたって像面湾曲が良好に補正されスポット径が
揃っていること、そして入射光の角度と像高とが比例関
係となる歪曲収差（ｆθ特性）を有していることが必要
である。このような光学特性を満たす走査光学装置、若
しくはその補正光学系（ｆθレンズ）は従来より種々と
提案されている。
【０００８】又一方、レーザービームプリンタやデジタ
ル複写機等のコンパクト化及び低コスト化に伴ない、走
査光学装置にも同様のことが求められている。
ル複写機等のコンパクト化及び低コスト化に伴ない、走
査光学装置にも同様のことが求められている。
【０００９】これらの要望を両立させるものとしてｆθ
レンズを１枚から構成した走査光学装置が、例えば特公
昭６１−４８６８４号公報や特開昭６３−１５７１２２
号公報や特開平４−１０４２１３号公報や特開平４−５
０９０８号公報等で種々と提案されている。
レンズを１枚から構成した走査光学装置が、例えば特公
昭６１−４８６８４号公報や特開昭６３−１５７１２２
号公報や特開平４−１０４２１３号公報や特開平４−５
０９０８号公報等で種々と提案されている。
【００１０】これらの公報のうち特公昭６１−４８６８
４号公報や特開昭６３−１５７１２２号公報等ではｆθ
レンズとして光偏向器側に凹面の単レンズを用いてコリ
メーターレンズからの平行光束を記録媒体面上に集束さ
せている。又特開平４−１０４２１３号公報ではｆθレ
ンズとして光偏向器側に凹面、像面側にトロイダル面の
単レンズを用いてコリメーターレンズにより収束光に変
換された光束を該ｆθレンズに入射させている。又特開
平４−５０９０８号公報ではｆθレンズとしてレンズ面
に高次非球面を導入した単レンズを用いてコリメーター
レンズにより収束光に変換された光束を該ｆθレンズに
入射させている。
４号公報や特開昭６３−１５７１２２号公報等ではｆθ
レンズとして光偏向器側に凹面の単レンズを用いてコリ
メーターレンズからの平行光束を記録媒体面上に集束さ
せている。又特開平４−１０４２１３号公報ではｆθレ
ンズとして光偏向器側に凹面、像面側にトロイダル面の
単レンズを用いてコリメーターレンズにより収束光に変
換された光束を該ｆθレンズに入射させている。又特開
平４−５０９０８号公報ではｆθレンズとしてレンズ面
に高次非球面を導入した単レンズを用いてコリメーター
レンズにより収束光に変換された光束を該ｆθレンズに
入射させている。
【００１１】しかしながら上記に示した従来の走査光学
装置において特公昭６１−４８６８４号公報では副走査
方向の像面湾曲が残存しており、かつ平行光束を被走査
面に結像させている為、ｆθレンズから被走査面までの
距離が焦点距離ｆとなり長く、コンパクトな走査光学装
置を構成することが難しいという問題点があった。特開
昭６３−１５７１２２号公報ではｆθレンズの肉厚が厚
い為、モールド成型による製作が困難でありコストアッ
プの要因となるという問題点があった。特開平４−１０
４２１３号公報では歪曲収差が残存するという問題点が
あった。特開平４−５０９０８号公報では高次非球面の
ｆθレンズを用い収差は良好に補正されているものの光
偏向器であるポリゴンミラーの取付誤差によりポリゴン
面数周期のジッターが発生するという問題点があった。
装置において特公昭６１−４８６８４号公報では副走査
方向の像面湾曲が残存しており、かつ平行光束を被走査
面に結像させている為、ｆθレンズから被走査面までの
距離が焦点距離ｆとなり長く、コンパクトな走査光学装
置を構成することが難しいという問題点があった。特開
昭６３−１５７１２２号公報ではｆθレンズの肉厚が厚
い為、モールド成型による製作が困難でありコストアッ
プの要因となるという問題点があった。特開平４−１０
４２１３号公報では歪曲収差が残存するという問題点が
あった。特開平４−５０９０８号公報では高次非球面の
ｆθレンズを用い収差は良好に補正されているものの光
偏向器であるポリゴンミラーの取付誤差によりポリゴン
面数周期のジッターが発生するという問題点があった。
【００１２】更にこれら１枚で構成されたｆθレンズに
共通する問題点としては、光偏向器と被走査面間におけ
る副走査方向の横倍率の不均一性により、像高によって
副走査方向のスポット径が変化するという問題点があっ
た。
共通する問題点としては、光偏向器と被走査面間におけ
る副走査方向の横倍率の不均一性により、像高によって
副走査方向のスポット径が変化するという問題点があっ
た。
【００１３】図２６（Ａ），（Ｂ）は本発明者が特願平
６−２３９３８６号で提案した各々従来のシングルビー
ムの走査光学装置における主走査方向と副走査方向の要
部断面図であり、像高による副走査方向のスポット径
（Ｆナンバー）の変化を示している。同図において図２
５に示した要素と同一要素には同符番を付している。
６−２３９３８６号で提案した各々従来のシングルビー
ムの走査光学装置における主走査方向と副走査方向の要
部断面図であり、像高による副走査方向のスポット径
（Ｆナンバー）の変化を示している。同図において図２
５に示した要素と同一要素には同符番を付している。
【００１４】通常、面倒れ補正光学系では光偏向器の偏
向面の面倒れを光学的に補正する為に、該偏向面と被走
査面とを光学的に共役関係（結像関係）とする必要があ
る。従って、前述した従来例のような主走査面内で所定
のレンズ形状をもつｆθレンズでは軸上（軸上光束２
１）では図２６（Ｂ）内の（イ）に示すように横倍率が
高く、軸外（最軸外光束２２）では図２６（Ｂ）内の
（ロ）に示すように横倍率が低くなる（尚、主走査面内
でのレンズ形状により逆になる場合もある）。
向面の面倒れを光学的に補正する為に、該偏向面と被走
査面とを光学的に共役関係（結像関係）とする必要があ
る。従って、前述した従来例のような主走査面内で所定
のレンズ形状をもつｆθレンズでは軸上（軸上光束２
１）では図２６（Ｂ）内の（イ）に示すように横倍率が
高く、軸外（最軸外光束２２）では図２６（Ｂ）内の
（ロ）に示すように横倍率が低くなる（尚、主走査面内
でのレンズ形状により逆になる場合もある）。
【００１５】このようにｆθレンズの主走査面内でのレ
ンズ形状によって副走査方向の横倍率にバラツキがで
き、像高による副走査方向のスポット径の変化が生じ
る。
ンズ形状によって副走査方向の横倍率にバラツキがで
き、像高による副走査方向のスポット径の変化が生じ
る。
【００１６】又、一方ＬＢＰに用いられる走査光学装置
は、該ＬＢＰの高速化、高精細化によって、より高速走
査の可能なものが求められており、走査手段であるモー
ターの回転数、偏向手段であるポリゴンミラーの面数な
どの限界から、特に複数の光束を同時に走査できるマル
チビーム走査光学装置の要求が高まっている。
は、該ＬＢＰの高速化、高精細化によって、より高速走
査の可能なものが求められており、走査手段であるモー
ターの回転数、偏向手段であるポリゴンミラーの面数な
どの限界から、特に複数の光束を同時に走査できるマル
チビーム走査光学装置の要求が高まっている。
【００１７】上述した副走査方向の横倍率の不均一性
は、光源（光源部）の位置が光軸から図２に示すＺ方向
に外れている場合に走査線の曲がりを生じさせる為、例
えばマルチビーム走査光学系（マルチビーム走査光学装
置）のように光軸から外れた複数の光束を用いて被走査
面を同時に走査する光学系では、該被走査面上で走査線
が曲がり、その結果ピッチムラによる画像品位の劣化が
起こるという問題点があった。
は、光源（光源部）の位置が光軸から図２に示すＺ方向
に外れている場合に走査線の曲がりを生じさせる為、例
えばマルチビーム走査光学系（マルチビーム走査光学装
置）のように光軸から外れた複数の光束を用いて被走査
面を同時に走査する光学系では、該被走査面上で走査線
が曲がり、その結果ピッチムラによる画像品位の劣化が
起こるという問題点があった。
【００１８】本発明の第１の目的は、コリメーターレン
ズ等で変換された光源からの光束を光偏向器を介して１
枚のｆθレンズにより被走査面上に結像させる際、該ｆ
θレンズの主走査面内でのレンズ形状（主走査面形状）
を最適化にすることにより、像面湾曲や歪曲収差等を補
正し、かつ主走査面内でのレンズ形状とは独立に副走査
面内でのレンズ形状（副走査面形状）のみで光偏向器と
被走査面間における副走査方向の横倍率の不均一性を解
消することによって像高による副走査方向のＦナンバー
（ＦＮｏ）の変化、即ちスポット径の変化を抑えること
ができる、コンパクトでしかも高精細な印字に適した走
査光学装置の提供にある。
ズ等で変換された光源からの光束を光偏向器を介して１
枚のｆθレンズにより被走査面上に結像させる際、該ｆ
θレンズの主走査面内でのレンズ形状（主走査面形状）
を最適化にすることにより、像面湾曲や歪曲収差等を補
正し、かつ主走査面内でのレンズ形状とは独立に副走査
面内でのレンズ形状（副走査面形状）のみで光偏向器と
被走査面間における副走査方向の横倍率の不均一性を解
消することによって像高による副走査方向のＦナンバー
（ＦＮｏ）の変化、即ちスポット径の変化を抑えること
ができる、コンパクトでしかも高精細な印字に適した走
査光学装置の提供にある。
【００１９】本発明の第２の目的は、コリメーターレン
ズ等で変換された光源からの複数の光束を光偏向器を介
してｆθレンズにより被走査面上に結像させる際、該ｆ
θレンズの主走査面内でのレンズ形状（主走査面形状）
を最適化にすることにより、像面湾曲と歪曲収差等を補
正し、かつ主走査面内でのレンズ形状とは独立に副走査
面内でのレンズ形状（副走査面形状）のみで光偏向器と
被走査面間における副走査方向の横倍率の不均一性を解
消することによって、像高による副走査方向のＦナンバ
ー（ＦＮｏ）の変化、即ちスポット径の変化を抑え、光
軸から副走査方向に外れた光源からの光束に対しても走
査線曲がりを生じることなく高精度に走査することがで
きる、コンパクトでしかも高精細な印字に適したマルチ
ビーム走査光学装置の提供にある。
ズ等で変換された光源からの複数の光束を光偏向器を介
してｆθレンズにより被走査面上に結像させる際、該ｆ
θレンズの主走査面内でのレンズ形状（主走査面形状）
を最適化にすることにより、像面湾曲と歪曲収差等を補
正し、かつ主走査面内でのレンズ形状とは独立に副走査
面内でのレンズ形状（副走査面形状）のみで光偏向器と
被走査面間における副走査方向の横倍率の不均一性を解
消することによって、像高による副走査方向のＦナンバ
ー（ＦＮｏ）の変化、即ちスポット径の変化を抑え、光
軸から副走査方向に外れた光源からの光束に対しても走
査線曲がりを生じることなく高精度に走査することがで
きる、コンパクトでしかも高精細な印字に適したマルチ
ビーム走査光学装置の提供にある。
【００２０】
【課題を解決するための手段】本発明の走査光学装置
は、 （１−１）光源手段から出射した光束を第１の光学素子
と第２の光学素子とを介して偏向素子の偏向面において
主走査方向に長手の線状に結像させ、該偏向素子で偏向
された光束を第３の光学素子を介し被走査面上にスポッ
ト状に結像させて該被走査面上を走査する走査光学装置
において、該第３の光学素子は単レンズより成り、該単
レンズの両レンズ面は共に主走査面内で非球面形状のト
ーリック面より成り、副走査面内の曲率をレンズの有効
部内において軸上から軸外に向かい連続的に変化させる
ことにより、該被走査面に入射する光束の像高による副
走査方向のＦナンバーの変化を抑えるようにしたことを
特徴としている。
は、 （１−１）光源手段から出射した光束を第１の光学素子
と第２の光学素子とを介して偏向素子の偏向面において
主走査方向に長手の線状に結像させ、該偏向素子で偏向
された光束を第３の光学素子を介し被走査面上にスポッ
ト状に結像させて該被走査面上を走査する走査光学装置
において、該第３の光学素子は単レンズより成り、該単
レンズの両レンズ面は共に主走査面内で非球面形状のト
ーリック面より成り、副走査面内の曲率をレンズの有効
部内において軸上から軸外に向かい連続的に変化させる
ことにより、該被走査面に入射する光束の像高による副
走査方向のＦナンバーの変化を抑えるようにしたことを
特徴としている。
【００２１】特に（１−１−１）前記光源手段は独立的
に変調可能な複数の光源部を有していることや、（１−
１−２）前記第３の光学素子の副走査方向の前側主平面
と後側主平面の主走査面内における軌跡の湾曲量（最軸
外の主平面位置と軸上の主平面位置との光軸方向の差
分）を各々ｘｍ，ｘｕとしたとき、 ｘｍ≦ｄｘ≦ｘｕ 但し、
に変調可能な複数の光源部を有していることや、（１−
１−２）前記第３の光学素子の副走査方向の前側主平面
と後側主平面の主走査面内における軌跡の湾曲量（最軸
外の主平面位置と軸上の主平面位置との光軸方向の差
分）を各々ｘｍ，ｘｕとしたとき、 ｘｍ≦ｄｘ≦ｘｕ 但し、
【００２２】
【数２】 Ｉpri ‥軸上光束における偏向素子の偏向面から副走査
方向の前側主平面までの距離 Ｅpri ‥軸上光束における副走査方向の後側主平面から
被走査面までの距離 θpor ‥主走査面内において偏向素子で偏向する最軸外
光束が光軸となす角度 θimg ‥主走査面内において被走査面へ入射する最軸外
光束が光軸となす角度 なる条件を満足することや、（１−１−３）前記第３の
光学素子を構成する単レンズの両レンズ面のうち少なく
とも１つのレンズ面の副走査面内の曲率の符号が軸上か
ら軸外に向かい反転していることや、（１−１−４）前
記第３の光学素子はプラスチック成型により製作されて
いることや、（１−１−５）前記第３の光学素子はガラ
ス成型により製作されていること等を特徴としている。
方向の前側主平面までの距離 Ｅpri ‥軸上光束における副走査方向の後側主平面から
被走査面までの距離 θpor ‥主走査面内において偏向素子で偏向する最軸外
光束が光軸となす角度 θimg ‥主走査面内において被走査面へ入射する最軸外
光束が光軸となす角度 なる条件を満足することや、（１−１−３）前記第３の
光学素子を構成する単レンズの両レンズ面のうち少なく
とも１つのレンズ面の副走査面内の曲率の符号が軸上か
ら軸外に向かい反転していることや、（１−１−４）前
記第３の光学素子はプラスチック成型により製作されて
いることや、（１−１−５）前記第３の光学素子はガラ
ス成型により製作されていること等を特徴としている。
【００２３】本発明のマルチビーム走査光学装置は、 （２−１）光源手段から出射した独立変調された複数の
光束を第１の光学素子と第２の光学素子とを介して偏向
素子の偏向面において主走査方向に長手の線状に結像さ
せ、該偏向素子で偏向された複数の光束を第３の光学素
子を介し被走査面上にスポット状に結像させて該被走査
面上を走査するマルチビーム走査光学装置において、該
第３の光学素子は単レンズより成り、該単レンズの両レ
ンズ面の副走査方向における曲率を軸上から軸外に向か
い連続的に変化させることにより、該被走査面に入射す
る光束の像高による副走査方向のＦナンバーの変化を抑
えるようにしたことを特徴としている。
光束を第１の光学素子と第２の光学素子とを介して偏向
素子の偏向面において主走査方向に長手の線状に結像さ
せ、該偏向素子で偏向された複数の光束を第３の光学素
子を介し被走査面上にスポット状に結像させて該被走査
面上を走査するマルチビーム走査光学装置において、該
第３の光学素子は単レンズより成り、該単レンズの両レ
ンズ面の副走査方向における曲率を軸上から軸外に向か
い連続的に変化させることにより、該被走査面に入射す
る光束の像高による副走査方向のＦナンバーの変化を抑
えるようにしたことを特徴としている。
【００２４】特に（２−１−１）前記被走査面に入射す
る光束の副走査方向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、
最小値をＦｍｉｎとしたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ なる条件を満足するように前記第３の光学素子を構成す
る単レンズの両レンズ面の副走査方向における曲率を軸
上から軸外に向かい連続的に変化させたことや、（２−
１−２）前記第３の光学素子を構成する単レンズの両レ
ンズ面のうち少なくとも１つのレンズ面の副走査方向の
曲率の符号が軸上から軸外に向かい反転していること
や、（２−１−３）前記第３の光学素子を構成する単レ
ンズの両レンズ面の副走査方向の曲率が軸上から軸外に
向かい光軸に対して非対称に変化していることや、（２
−１−４）前記第３の光学素子はプラスチック成型によ
り製作されていることや、（２−１−５）前記第３の光
学素子はガラス成型により製作されていること等を特徴
としている。
る光束の副走査方向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、
最小値をＦｍｉｎとしたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ なる条件を満足するように前記第３の光学素子を構成す
る単レンズの両レンズ面の副走査方向における曲率を軸
上から軸外に向かい連続的に変化させたことや、（２−
１−２）前記第３の光学素子を構成する単レンズの両レ
ンズ面のうち少なくとも１つのレンズ面の副走査方向の
曲率の符号が軸上から軸外に向かい反転していること
や、（２−１−３）前記第３の光学素子を構成する単レ
ンズの両レンズ面の副走査方向の曲率が軸上から軸外に
向かい光軸に対して非対称に変化していることや、（２
−１−４）前記第３の光学素子はプラスチック成型によ
り製作されていることや、（２−１−５）前記第３の光
学素子はガラス成型により製作されていること等を特徴
としている。
【００２５】（２−２）光源手段から出射した独立変調
された複数の光束を第１の光学素子と第２の光学素子と
を介して偏向素子の偏向面において主走査方向に長手の
線状に結像させ、該偏向素子で偏向された複数の光束を
第３の光学素子を介し被走査面上にスポット状に結像さ
せて該被走査面上を走査するマルチビーム走査光学装置
において、該第３の光学素子は少なくとも２枚のレンズ
により構成され、該２枚のレンズのうち少なくとも２つ
のレンズ面の副走査方向における曲率を軸上から軸外に
向かい連続的に変化させることにより、該被走査面に入
射する光束の像高による副走査方向のＦナンバーの変化
を抑えるようにしたことを特徴としている。
された複数の光束を第１の光学素子と第２の光学素子と
を介して偏向素子の偏向面において主走査方向に長手の
線状に結像させ、該偏向素子で偏向された複数の光束を
第３の光学素子を介し被走査面上にスポット状に結像さ
せて該被走査面上を走査するマルチビーム走査光学装置
において、該第３の光学素子は少なくとも２枚のレンズ
により構成され、該２枚のレンズのうち少なくとも２つ
のレンズ面の副走査方向における曲率を軸上から軸外に
向かい連続的に変化させることにより、該被走査面に入
射する光束の像高による副走査方向のＦナンバーの変化
を抑えるようにしたことを特徴としている。
【００２６】特に（２−２−１）前記被走査面に入射す
る光束の副走査方向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、
最小値をＦｍｉｎとしたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ なる条件を満足をするように前記第３の光学素子を構成
する２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ面の副
走査方向における曲率を軸上から軸外に向かい連続的に
変化させたことや、（２−２−２）前記第３の光学素子
を構成する２枚のレンズのうち少なくとも１つのレンズ
面の副走査方向の曲率の符号が軸上から軸外に向かい反
転していることや、（２−２−３）前記第３の光学素子
を構成する２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ
面の副走査方向の曲率が軸上から軸外に向かい光軸に対
して非対称に変化していることや、（２−２−４）前記
第３の光学素子を構成する２枚のレンズのうち少なくと
も１枚のレンズはプラスチック成型により製作されてい
ることや、（２−２−５）前記第３の光学素子を構成す
る２枚のレンズのうち少なくとも１枚のレンズはガラス
成型により製作されていること等を特徴としている。
る光束の副走査方向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、
最小値をＦｍｉｎとしたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ なる条件を満足をするように前記第３の光学素子を構成
する２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ面の副
走査方向における曲率を軸上から軸外に向かい連続的に
変化させたことや、（２−２−２）前記第３の光学素子
を構成する２枚のレンズのうち少なくとも１つのレンズ
面の副走査方向の曲率の符号が軸上から軸外に向かい反
転していることや、（２−２−３）前記第３の光学素子
を構成する２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ
面の副走査方向の曲率が軸上から軸外に向かい光軸に対
して非対称に変化していることや、（２−２−４）前記
第３の光学素子を構成する２枚のレンズのうち少なくと
も１枚のレンズはプラスチック成型により製作されてい
ることや、（２−２−５）前記第３の光学素子を構成す
る２枚のレンズのうち少なくとも１枚のレンズはガラス
成型により製作されていること等を特徴としている。
【００２７】
【発明の実施の形態】まず本発明の走査光学装置の実施
形態を説明する前に本発明の目的を達成する為の手段に
ついて説明する。本走査光学装置において上述した目的
を達成する為にはｆθレンズのレンズ形状を最適化にす
ると共に軸上と軸外における副走査方向の横倍率を揃え
ることが必要である。図２７は走査光学装置の光偏向器
（偏向素子）と被走査面間の主走査方向の要部断面図で
ある。ここで軸上と軸外において副走査方向の横倍率を
揃える為には、該軸上と軸外における光路長の比が等し
くなるよう主平面位置を決定する必要がある。
形態を説明する前に本発明の目的を達成する為の手段に
ついて説明する。本走査光学装置において上述した目的
を達成する為にはｆθレンズのレンズ形状を最適化にす
ると共に軸上と軸外における副走査方向の横倍率を揃え
ることが必要である。図２７は走査光学装置の光偏向器
（偏向素子）と被走査面間の主走査方向の要部断面図で
ある。ここで軸上と軸外において副走査方向の横倍率を
揃える為には、該軸上と軸外における光路長の比が等し
くなるよう主平面位置を決定する必要がある。
【００２８】従って、 Ｉpri ：Ｅpri ＝Ｉmar ：Ｅmar Ｉpri・Ｅmar ＝Ｅpri・Ｉmar ‥‥‥‥（ａ） 但し、 Ｉpri ‥軸上光束における光偏向器の偏向面から副走査
方向の前側主平面までの距離 Ｅpri ‥軸上光束における副走査方向の後側主平面から
被走査面までの距離 Ｉmar ‥最軸外光束における光偏向器の偏向面から副走
査方向の前側主平面までの距離 Ｅmar ‥最軸外光束における副走査方向の後側主平面か
ら被走査面までの距離 なる条件を満足させるようｆθレンズの副走査方向の主
平面位置を決定する。
方向の前側主平面までの距離 Ｅpri ‥軸上光束における副走査方向の後側主平面から
被走査面までの距離 Ｉmar ‥最軸外光束における光偏向器の偏向面から副走
査方向の前側主平面までの距離 Ｅmar ‥最軸外光束における副走査方向の後側主平面か
ら被走査面までの距離 なる条件を満足させるようｆθレンズの副走査方向の主
平面位置を決定する。
【００２９】一般的に軸外光束はｆθ特性を満たす為に
主走査面内において光軸方向に屈折している為、上式
（ａ）を満足させる為の副走査方向の主平面の主走査面
内における軌跡７１は図２７に示すように軸外で光偏向
器５側に湾曲した面になる。ここで最軸外における湾曲
量をｄｘとすると Ｅmar ＝（Ｅpri ＋ｄｘ）／ｃｏｓθimg Ｉmar ＝（Ｉpri −ｄｘ）／ｃｏｓθpor よって、 Ｉpri （Ｅpri ＋ｄｘ）／ｃｏｓθimg ＝Ｅpri （Ｉpri −ｄｘ）／ｃｏｓθimg ｄｘ（Ｉpri・ｃｏｓθpor ＋Ｅpri・ｃｏｓθimg ） ＝Ｉpri・Ｅpri （ｃｏｓθimg −ｃｏｓθpor ）
主走査面内において光軸方向に屈折している為、上式
（ａ）を満足させる為の副走査方向の主平面の主走査面
内における軌跡７１は図２７に示すように軸外で光偏向
器５側に湾曲した面になる。ここで最軸外における湾曲
量をｄｘとすると Ｅmar ＝（Ｅpri ＋ｄｘ）／ｃｏｓθimg Ｉmar ＝（Ｉpri −ｄｘ）／ｃｏｓθpor よって、 Ｉpri （Ｅpri ＋ｄｘ）／ｃｏｓθimg ＝Ｅpri （Ｉpri −ｄｘ）／ｃｏｓθimg ｄｘ（Ｉpri・ｃｏｓθpor ＋Ｅpri・ｃｏｓθimg ） ＝Ｉpri・Ｅpri （ｃｏｓθimg −ｃｏｓθpor ）
【００３０】
【数３】 但し、 θpor ‥主走査面内において光偏向器で偏向する最軸外
光束がｆθレンズの光軸となす角度 θimg ‥主走査面内において被走査面へ入射する最軸外
光束がｆθレンズの光軸となす角度 となる。
光束がｆθレンズの光軸となす角度 θimg ‥主走査面内において被走査面へ入射する最軸外
光束がｆθレンズの光軸となす角度 となる。
【００３１】従って副走査方向の横倍率を揃えるには副
走査方向の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘを上式（ｂ）によ
り導かれる値に設定することが必要である。
走査方向の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘを上式（ｂ）によ
り導かれる値に設定することが必要である。
【００３２】即ち、実際の走査光学装置においてｆθレ
ンズの副走査方向の前側主平面と後側主平面の主走査面
内における軌跡の湾曲量（最軸外の主平面位置と軸上の
主平面位置との光軸方向の差分）を各々ｘｍ，ｘｕとし
たとき ｘｍ ≦ ｄｘ ≦ ｘｕ ‥‥‥‥（１） なる条件を満足するよう主平面位置を決定することが望
ましい。
ンズの副走査方向の前側主平面と後側主平面の主走査面
内における軌跡の湾曲量（最軸外の主平面位置と軸上の
主平面位置との光軸方向の差分）を各々ｘｍ，ｘｕとし
たとき ｘｍ ≦ ｄｘ ≦ ｘｕ ‥‥‥‥（１） なる条件を満足するよう主平面位置を決定することが望
ましい。
【００３３】上記の条件式（１）を外れると副走査方向
の横倍率にバラツキができ、像高によるスポット径の変
化が大きくなり実用上問題となってくるので良くない。
の横倍率にバラツキができ、像高によるスポット径の変
化が大きくなり実用上問題となってくるので良くない。
【００３４】次に副走査方向の主平面位置を変化させる
方法であるが、これは前述したようにｆθレンズの副走
査方向は光偏向器の偏向面と被走査面とを光学的に共役
関係にすることによって面倒れ補正を行なっている為、
該ｆθレンズの屈折力自体を変化させることはできな
い。
方法であるが、これは前述したようにｆθレンズの副走
査方向は光偏向器の偏向面と被走査面とを光学的に共役
関係にすることによって面倒れ補正を行なっている為、
該ｆθレンズの屈折力自体を変化させることはできな
い。
【００３５】従ってｆθレンズの副走査方向の第１レン
ズ面（Ｒ１面）と第２レンズ面（Ｒ２面）をベンディン
グさせることによって主平面位置の移動を行なう。ベン
ディングによりレンズの主平面は該レンズ自体の屈折力
を変えずに移動させることができる為、軸上から軸外に
向かい子線ｒを連続的に変化させ、場所により最適なレ
ンズ形状にすることにより副走査方向の横倍率を揃える
ことができる。
ズ面（Ｒ１面）と第２レンズ面（Ｒ２面）をベンディン
グさせることによって主平面位置の移動を行なう。ベン
ディングによりレンズの主平面は該レンズ自体の屈折力
を変えずに移動させることができる為、軸上から軸外に
向かい子線ｒを連続的に変化させ、場所により最適なレ
ンズ形状にすることにより副走査方向の横倍率を揃える
ことができる。
【００３６】このようにしてｆθレンズのレンズ形状を
最適化にすることにより、被走査面に入射する光束の副
走査方向のＦナンバー（ＦＮｏ）を揃えることができ、
従来、単玉ｆθレンズで問題となっていた像高による副
走査方向のスポット径の変化を小さく抑えることができ
る。
最適化にすることにより、被走査面に入射する光束の副
走査方向のＦナンバー（ＦＮｏ）を揃えることができ、
従来、単玉ｆθレンズで問題となっていた像高による副
走査方向のスポット径の変化を小さく抑えることができ
る。
【００３７】又、光軸から外れた光源（光源部）から出
射した光束に対しても走査線曲がりが生じることなく被
走査面上を高精度に走査することができ、これによりマ
ルチビーム走査にも好適な走査光学装置を得ることがで
きる。
射した光束に対しても走査線曲がりが生じることなく被
走査面上を高精度に走査することができ、これによりマ
ルチビーム走査にも好適な走査光学装置を得ることがで
きる。
【００３８】次に本発明の各実施形態について順に説明
する。
する。
【００３９】図１（Ａ），（Ｂ）は各々本発明の実施形
態１の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
態１の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
【００４０】図中１は光源手段（光源部）であり、例え
ば半導体レーザより成っている。
ば半導体レーザより成っている。
【００４１】２は第１の光学素子としてのコリメーター
レンズであり、光源手段１から出射された発散光束（光
ビーム）を収束光束に変換している。３は開口絞りであ
り、通過光束径を整えている。
レンズであり、光源手段１から出射された発散光束（光
ビーム）を収束光束に変換している。３は開口絞りであ
り、通過光束径を整えている。
【００４２】４は第２の光学素子としてのシリンドリカ
ルレンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有し
ており、開口絞り３を通過した光束を副走査断面内で後
述する光偏向器（偏向素子）５の偏向面５ａにほぼ線像
として結像させている。
ルレンズであり、副走査方向にのみ所定の屈折力を有し
ており、開口絞り３を通過した光束を副走査断面内で後
述する光偏向器（偏向素子）５の偏向面５ａにほぼ線像
として結像させている。
【００４３】５は偏向素子としての例えばポリゴンミラ
ー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モータ等の
駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で
回転している。
ー（回転多面鏡）より成る光偏向器であり、モータ等の
駆動手段（不図示）により図中矢印Ａ方向に一定速度で
回転している。
【００４４】６は第３の光学素子としてのｆθ特性を有
する１枚のレンズより成るｆθレンズ（結像光学系）で
あり、光偏向器５と被走査面としての感光ドラム面８と
の中間より該光偏向器５側に配置している。本実施形態
におけるｆθレンズ６の両レンズ面は共に主走査面内で
非球面形状のトーリック面より成り、副走査面（第３の
光学素子の光軸を含み主走査面と直交する面）内の曲率
をレンズの有効部内において軸上から軸外に向かい連続
的に変化させている。これにより本実施形態では被走査
面８に入射する光束の像高による副走査方向のＦナンバ
ー（ＦＮｏ）の変化、即ちスポット径の変化を小さく抑
えている。ｆθレンズ６は光偏向器５によって偏向反射
された画像情報に基づく光束を感光ドラム８面上に結像
させ、かつ該光偏向器５の偏向面の面倒れを補正してい
る。
する１枚のレンズより成るｆθレンズ（結像光学系）で
あり、光偏向器５と被走査面としての感光ドラム面８と
の中間より該光偏向器５側に配置している。本実施形態
におけるｆθレンズ６の両レンズ面は共に主走査面内で
非球面形状のトーリック面より成り、副走査面（第３の
光学素子の光軸を含み主走査面と直交する面）内の曲率
をレンズの有効部内において軸上から軸外に向かい連続
的に変化させている。これにより本実施形態では被走査
面８に入射する光束の像高による副走査方向のＦナンバ
ー（ＦＮｏ）の変化、即ちスポット径の変化を小さく抑
えている。ｆθレンズ６は光偏向器５によって偏向反射
された画像情報に基づく光束を感光ドラム８面上に結像
させ、かつ該光偏向器５の偏向面の面倒れを補正してい
る。
【００４５】尚、本実施形態においてはｆθレンズ６を
プラスチック成型により製作しても良く、あるいはガラ
ス成型（ガラスモールド）により製作しても良い。
プラスチック成型により製作しても良く、あるいはガラ
ス成型（ガラスモールド）により製作しても良い。
【００４６】本実施形態において半導体レーザ１より出
射した発散光束はコリメータレンズ２により収束光に変
換され、開口絞り３によって該光束（光量）を制限して
シリンドリカルレンズ４に入射している。シリンドリカ
ルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面においては
そのままの状態で射出する。又副走査断面においては集
束して光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向
に長手の線像）として結像している。そして光偏向器５
の偏向面５ａで偏向反射された光束は主走査方向と副走
査方向とで互いに異なる屈折力を有するｆθレンズ６を
介して感光ドラム８面上に導光され、該光偏向器５を矢
印Ａ方向に回転させることによって該感光ドラム８面上
を矢印Ｂ方向に走査している。これにより記録媒体であ
る感光ドラム８上に画像記録を行なっている。
射した発散光束はコリメータレンズ２により収束光に変
換され、開口絞り３によって該光束（光量）を制限して
シリンドリカルレンズ４に入射している。シリンドリカ
ルレンズ４に入射した光束のうち主走査断面においては
そのままの状態で射出する。又副走査断面においては集
束して光偏向器５の偏向面５ａにほぼ線像（主走査方向
に長手の線像）として結像している。そして光偏向器５
の偏向面５ａで偏向反射された光束は主走査方向と副走
査方向とで互いに異なる屈折力を有するｆθレンズ６を
介して感光ドラム８面上に導光され、該光偏向器５を矢
印Ａ方向に回転させることによって該感光ドラム８面上
を矢印Ｂ方向に走査している。これにより記録媒体であ
る感光ドラム８上に画像記録を行なっている。
【００４７】本実施形態ではｆθレンズ６のレンズ形状
を主走査方向は１０次までの関数で表わせる非球面形状
とし、副走査方向は像高方向に連続的に変化する球面よ
り構成している。そのレンズ形状は、例えばｆθレンズ
６と光軸との交点を原点とし、光軸方向をＸ軸、主走査
面内において光軸と直交する軸をＹ軸、副走査面内にお
いて光軸と直交する軸をＺ軸としたとき、主走査方向と
対応する母線方向が
を主走査方向は１０次までの関数で表わせる非球面形状
とし、副走査方向は像高方向に連続的に変化する球面よ
り構成している。そのレンズ形状は、例えばｆθレンズ
６と光軸との交点を原点とし、光軸方向をＸ軸、主走査
面内において光軸と直交する軸をＹ軸、副走査面内にお
いて光軸と直交する軸をＺ軸としたとき、主走査方向と
対応する母線方向が
【００４８】
【数４】 （但し、Ｒは曲率半径、Ｋ，Ｂ4 ，Ｂ6 ，Ｂ8 ，Ｂ10は
非球面係数）なる式で表わせるものであり、又副走査方
向（光軸を含む主走査方向に対して直交する方向）と対
応する子線方向が、
非球面係数）なる式で表わせるものであり、又副走査方
向（光軸を含む主走査方向に対して直交する方向）と対
応する子線方向が、
【００４９】
【数５】 （ここでｒ´＝ｒ（１＋Ｄ2 Ｙ2 ＋Ｄ4 Ｙ4 ＋Ｄ6 Ｙ6
＋Ｄ8 Ｙ8 ＋Ｄ10Ｙ10）なる式で表わせるものである。
＋Ｄ8 Ｙ8 ＋Ｄ10Ｙ10）なる式で表わせるものである。
【００５０】表１に本実施形態における光学配置とｆθ
レンズ６の非球面係数を示す。
レンズ６の非球面係数を示す。
【００５１】
【表１】 図４はｆθレンズ６の長手方向の位置に対する副走査方
向の曲率の変化を示す説明図であり、同図に示すように
軸上でメニスカス形状の曲率がきつく、軸上から軸外に
向かうに従って平凸になっていくことがわかる。図７は
ｆθレンズ６の非球面形状を示す説明図であり、太い実
線は主走査方向のレンズ面形状、細い実線は副走査方向
の主平面の軌跡であり、前側主平面と後側主平面を示し
ている。
向の曲率の変化を示す説明図であり、同図に示すように
軸上でメニスカス形状の曲率がきつく、軸上から軸外に
向かうに従って平凸になっていくことがわかる。図７は
ｆθレンズ６の非球面形状を示す説明図であり、太い実
線は主走査方向のレンズ面形状、細い実線は副走査方向
の主平面の軌跡であり、前側主平面と後側主平面を示し
ている。
【００５２】本実施形態において像高による副走査方向
の横倍率の変化を抑える為の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘ
は Ｉpri ＝４８．７３ Ｅpri ＝１０８．７７ θpor ＝４４．４° θimg ＝２９．１０° より ｄｘ＝６．５０ となる。又ｆθレンズ６の副走査方向の前側主平面の軌
跡の湾曲量ｘｍと後側主平面の軌跡の湾曲量ｘｕは ｘｍ＝３．２４ ｘｕ＝７．４８ となり、これら上記の値は前述の条件式（１）（ｘｍ≦
ｄｘ≦ｘｕ）を満足させている。
の横倍率の変化を抑える為の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘ
は Ｉpri ＝４８．７３ Ｅpri ＝１０８．７７ θpor ＝４４．４° θimg ＝２９．１０° より ｄｘ＝６．５０ となる。又ｆθレンズ６の副走査方向の前側主平面の軌
跡の湾曲量ｘｍと後側主平面の軌跡の湾曲量ｘｕは ｘｍ＝３．２４ ｘｕ＝７．４８ となり、これら上記の値は前述の条件式（１）（ｘｍ≦
ｄｘ≦ｘｕ）を満足させている。
【００５３】これにより本実施形態においては光偏向器
５と被走査面８間における副走査方向の横倍率を軸上と
軸外において実用上問題のないレベルまで揃えることが
でき、図１０に示すように像高による副走査方向のスポ
ット径の変化を小さく抑えることができる。これにより
安価で高精細な印字に適した走査光学装置を達成してい
る。
５と被走査面８間における副走査方向の横倍率を軸上と
軸外において実用上問題のないレベルまで揃えることが
でき、図１０に示すように像高による副走査方向のスポ
ット径の変化を小さく抑えることができる。これにより
安価で高精細な印字に適した走査光学装置を達成してい
る。
【００５４】図２（Ａ），（Ｂ）は各々本発明の実施形
態２の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。同
図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
態２の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。同
図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
【００５５】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は半導体レーザ（光源部）から出射する発散光束
をコリメーターレンズにより収束光束ではなく平行光束
に変換している点と、これに伴なってｆθレンズのレン
ズ形状を異ならせたことである。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
なる点は半導体レーザ（光源部）から出射する発散光束
をコリメーターレンズにより収束光束ではなく平行光束
に変換している点と、これに伴なってｆθレンズのレン
ズ形状を異ならせたことである。その他の構成及び光学
的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これにより
同様な効果を得ている。
【００５６】表２に本実施形態における光学配置とｆθ
レンズ２６の非球面係数を示す。
レンズ２６の非球面係数を示す。
【００５７】
【表２】 図５はｆθレンズ２６の長手方向の位置に対する副走査
方向の曲率の変化を示す説明図であり、同図に示すよう
に軸上から軸外に向かうに従ってメニスカス形状の曲率
がきつくなっていくことがわかる。図８はｆθレンズ２
６の非球面形状を示す説明図であり、太い実線は主走査
方向のレンズ面形状、細い実線は副走査方向の主平面の
軌跡であり、前側主平面と後側主平面を示している。
方向の曲率の変化を示す説明図であり、同図に示すよう
に軸上から軸外に向かうに従ってメニスカス形状の曲率
がきつくなっていくことがわかる。図８はｆθレンズ２
６の非球面形状を示す説明図であり、太い実線は主走査
方向のレンズ面形状、細い実線は副走査方向の主平面の
軌跡であり、前側主平面と後側主平面を示している。
【００５８】本実施形態において像高による副走査方向
の横倍率の変化を抑える為の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘ
は Ｉpri ＝５３．９４ Ｅpri ＝１４７．５１ θpor ＝４２．０° θimg ＝２４．５７° より ｄｘ＝７．６０ となる。又ｆθレンズ２６の副走査方向の前側主平面の
軌跡の湾曲量ｘｍと後側主平面の軌跡の湾曲量ｘｕは ｘｍ＝７．３４ ｘｕ＝１２．３１ となり、これら上記の値は前述の条件式（１）（ｘｍ≦
ｄｘ≦ｘｕ）を満足させている。
の横倍率の変化を抑える為の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘ
は Ｉpri ＝５３．９４ Ｅpri ＝１４７．５１ θpor ＝４２．０° θimg ＝２４．５７° より ｄｘ＝７．６０ となる。又ｆθレンズ２６の副走査方向の前側主平面の
軌跡の湾曲量ｘｍと後側主平面の軌跡の湾曲量ｘｕは ｘｍ＝７．３４ ｘｕ＝１２．３１ となり、これら上記の値は前述の条件式（１）（ｘｍ≦
ｄｘ≦ｘｕ）を満足させている。
【００５９】これにより本実施形態においては前述の実
施形態１と同様に光偏向器５と被走査面８間における副
走査方向の横倍率を軸上と軸外において実用上問題のな
いレベルまで揃えることができ、図１１に示すように像
高による副走査方向のスポット径の変化を小さく抑える
ことができる。これにより安価で高精細な印字に適した
走査光学装置を達成している。
施形態１と同様に光偏向器５と被走査面８間における副
走査方向の横倍率を軸上と軸外において実用上問題のな
いレベルまで揃えることができ、図１１に示すように像
高による副走査方向のスポット径の変化を小さく抑える
ことができる。これにより安価で高精細な印字に適した
走査光学装置を達成している。
【００６０】本実施形態では前述の如く半導体レーザ１
から出射した発散光束をコリメーターレンズ２により平
行光束に変換しているので、光偏向器によるジッターが
なく、又副走査方向のパワーを重点的に発生するレンズ
面Ｒ２の主走査方向のレンズ形状が横倍率を揃える為の
主平面の軌跡の形状と類似している為、像高による子線
方向の曲率の変化が少なくても横倍率を揃えることがで
き、これにより更なる高精細な印字に適した走査光学装
置を達成することができる。
から出射した発散光束をコリメーターレンズ２により平
行光束に変換しているので、光偏向器によるジッターが
なく、又副走査方向のパワーを重点的に発生するレンズ
面Ｒ２の主走査方向のレンズ形状が横倍率を揃える為の
主平面の軌跡の形状と類似している為、像高による子線
方向の曲率の変化が少なくても横倍率を揃えることがで
き、これにより更なる高精細な印字に適した走査光学装
置を達成することができる。
【００６１】図３（Ａ），（Ｂ）は各々本発明の実施形
態３の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。同
図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
態３の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。同
図において図１に示した要素と同一要素には同符番を付
している。
【００６２】本実施形態において前述の実施形態１と異
なる点は独立的に変調可能な複数（本実施形態では２
つ）の光源部を有する光源手段１１から出射する複数の
光ビームを被走査面上において一定の間隔となるよう同
時に走査するマルチビーム走査光学系より構成した点
と、これに伴ないｆθレンズの子線方向（副走査方向）
のレンズ形状を異ならせたことである。その他の構成及
び光学的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これ
により同様な効果を得ている。上記複数の光源部は副走
査方向に所定の間隔で配置されている。
なる点は独立的に変調可能な複数（本実施形態では２
つ）の光源部を有する光源手段１１から出射する複数の
光ビームを被走査面上において一定の間隔となるよう同
時に走査するマルチビーム走査光学系より構成した点
と、これに伴ないｆθレンズの子線方向（副走査方向）
のレンズ形状を異ならせたことである。その他の構成及
び光学的作用は前述の実施形態１と略同様であり、これ
により同様な効果を得ている。上記複数の光源部は副走
査方向に所定の間隔で配置されている。
【００６３】表３に本実施形態における光学配置とｆθ
レンズ３６の非球面係数を示す。
レンズ３６の非球面係数を示す。
【００６４】
【表３】 本実施形態ではｆθレンズ３６のレンズ面のうち少なく
とも１つのレンズ面の子線方向のレンズ形状を曲率の符
号が軸上から軸外に向かって反転するように設定してい
る。この為ｆθレンズ３６の副走査方向と対応する子線
方向は
とも１つのレンズ面の子線方向のレンズ形状を曲率の符
号が軸上から軸外に向かって反転するように設定してい
る。この為ｆθレンズ３６の副走査方向と対応する子線
方向は
【００６５】
【数６】 ここでｒ´＝ｒ＋ｄ2 Ｙ2 ＋ｄ4 Ｙ4 ＋ｄ6 Ｙ6 ＋ｄ8
Ｙ8 ＋ｄ10Ｙ10なる式で表わされる。又主走査方向と対
応する母線方向は前述の実施形態１と同様の（ｃ）式に
て表わされる。
Ｙ8 ＋ｄ10Ｙ10なる式で表わされる。又主走査方向と対
応する母線方向は前述の実施形態１と同様の（ｃ）式に
て表わされる。
【００６６】図６は本実施形態におけるｆθレンズ３６
の長手方向の位置に対する副走査方向の曲率の変化を示
す説明図であり、同図に示すようにレンズ面Ｒ１では軸
上から軸外に向かうに従って副走査方向の曲率の符号が
反転し、軸上のメニスカス形状が軸外では両凸形状に変
化していることが分かる。図９はｆθレンズ３６の非球
面形状を示す説明図であり、太い実線は主走査方向のレ
ンズ面形状、細い実線は副走査方向の主平面の軌跡であ
り、前側主平面と後側主平面を示している。
の長手方向の位置に対する副走査方向の曲率の変化を示
す説明図であり、同図に示すようにレンズ面Ｒ１では軸
上から軸外に向かうに従って副走査方向の曲率の符号が
反転し、軸上のメニスカス形状が軸外では両凸形状に変
化していることが分かる。図９はｆθレンズ３６の非球
面形状を示す説明図であり、太い実線は主走査方向のレ
ンズ面形状、細い実線は副走査方向の主平面の軌跡であ
り、前側主平面と後側主平面を示している。
【００６７】本実施形態において像高による副走査方向
の横倍率の変化を抑える為の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘ
は Ｐpri ＝４８．７３ Ｅpri ＝１０８．７７ θpor ＝４４．４° θimg ＝２９．１０° より ｄｘ＝６．５０ となる。又ｆθレンズ３６の副走査方向の前側主平面の
軌跡の湾曲量ｘｍと後側主平面の軌跡の湾曲量ｘｕは ｘｍ＝４．９３ ｘｕ＝９．１０ となり、これら上記の値は前述の条件式（１）（ｘｍ≦
ｄｘ≦ｘｕ）を満足させている。
の横倍率の変化を抑える為の主平面の軌跡の湾曲量ｄｘ
は Ｐpri ＝４８．７３ Ｅpri ＝１０８．７７ θpor ＝４４．４° θimg ＝２９．１０° より ｄｘ＝６．５０ となる。又ｆθレンズ３６の副走査方向の前側主平面の
軌跡の湾曲量ｘｍと後側主平面の軌跡の湾曲量ｘｕは ｘｍ＝４．９３ ｘｕ＝９．１０ となり、これら上記の値は前述の条件式（１）（ｘｍ≦
ｄｘ≦ｘｕ）を満足させている。
【００６８】これにより本実施形態においては前述の実
施形態１，２と同様に光偏向器５と被走査面８間におけ
る副走査方向の横倍率は軸上と軸外において実用上問題
のないレベルまで揃えることができ、像高による副走査
方向のスポット径の変化を小さく抑えることができる。
これにより安価で高精細な印字に適した走査光学装置を
達成している。
施形態１，２と同様に光偏向器５と被走査面８間におけ
る副走査方向の横倍率は軸上と軸外において実用上問題
のないレベルまで揃えることができ、像高による副走査
方向のスポット径の変化を小さく抑えることができる。
これにより安価で高精細な印字に適した走査光学装置を
達成している。
【００６９】又、本実施形態では複数の光ビームを用い
て被走査面上を同時に走査するマルチビーム走査光学装
置である為、該被走査面上における走査線の曲がりは画
像上でピッチムラとなるので良くない。
て被走査面上を同時に走査するマルチビーム走査光学装
置である為、該被走査面上における走査線の曲がりは画
像上でピッチムラとなるので良くない。
【００７０】そこで本実施形態では副走査方向の曲率半
径をレンズの有効部内において像高により連続的に変化
させることによって図１２に示すように被走査面上にお
ける走査線の曲がりをなくすことができ、これによりピ
ッチムラのない高画質の走査光学装置（マルチビーム走
査光学装置）を達成している。
径をレンズの有効部内において像高により連続的に変化
させることによって図１２に示すように被走査面上にお
ける走査線の曲がりをなくすことができ、これによりピ
ッチムラのない高画質の走査光学装置（マルチビーム走
査光学装置）を達成している。
【００７１】図１３（Ａ），（Ｂ）は各々本発明の実施
形態４の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
同図において図３に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
形態４の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
同図において図３に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
【００７２】同図において４６は第３の光学素子として
のｆθ特性を有する１枚のレンズより成るｆθレンズ
（結像光学系）であり、光偏向器５と被走査面としての
感光ドラム面８との中間より該光偏向器５側に配置して
いる。
のｆθ特性を有する１枚のレンズより成るｆθレンズ
（結像光学系）であり、光偏向器５と被走査面としての
感光ドラム面８との中間より該光偏向器５側に配置して
いる。
【００７３】本実施形態におけるｆθレンズ４６の両レ
ンズ面は共に副走査方向における曲率を軸上から軸外に
向かい連続的に変化させている。これにより本実施形態
では被走査面に入射する光束の像高による副走査方向の
Ｆナンバーの変化、即ちスポット径の変化を小さく抑え
ている。又ｆθレンズ４６の両レンズ面のうち少なくと
も１つのレンズ面（第１面）Ｒ１の副走査方向の曲率の
符号を軸上から軸外に向かい反転させている。更にｆθ
レンズ４６の両レンズ面の副走査方向の曲率を軸上から
軸外に向かい光軸に対して非対称になるように変化させ
ている。ｆθレンズ４６は光偏向器５によって偏向反射
された画像情報に基づく複数の光束を感光ドラム８面上
に結像させ、かつ該光偏向器５の偏向面の面倒れを補正
している。
ンズ面は共に副走査方向における曲率を軸上から軸外に
向かい連続的に変化させている。これにより本実施形態
では被走査面に入射する光束の像高による副走査方向の
Ｆナンバーの変化、即ちスポット径の変化を小さく抑え
ている。又ｆθレンズ４６の両レンズ面のうち少なくと
も１つのレンズ面（第１面）Ｒ１の副走査方向の曲率の
符号を軸上から軸外に向かい反転させている。更にｆθ
レンズ４６の両レンズ面の副走査方向の曲率を軸上から
軸外に向かい光軸に対して非対称になるように変化させ
ている。ｆθレンズ４６は光偏向器５によって偏向反射
された画像情報に基づく複数の光束を感光ドラム８面上
に結像させ、かつ該光偏向器５の偏向面の面倒れを補正
している。
【００７４】尚、本実施形態においてはｆθレンズ４６
をプラスチック成型により製作しても良く、あるいはガ
ラス成型（ガラスモールド）により製作しても良い。
をプラスチック成型により製作しても良く、あるいはガ
ラス成型（ガラスモールド）により製作しても良い。
【００７５】本実施形態において半導体レーザー１１よ
り出射した独立変調された２本の発散光束はコリメータ
ーレンズ２により収束光束に変換され、開口絞り３によ
って該光束（光量）を制限してシリンドリカルレンズ４
に入射している。シリンドリカルレンズ４に入射した光
束のうち主走査断面においてはそのままの状態で射出す
る。又副走査断面においては収束して光偏向器５の偏向
面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結
像している。そして光偏向器５の偏向面５ａで偏向反射
された２本の光束は主走査方向と副走査方向とで互いに
異なる屈折力を有するｆθレンズ４６を介して感光ドラ
ム８面上に２つのスポットを形成し、該光偏向器５を矢
印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム８面
上を矢印Ｂ方向に走査している。これにより画像記録を
行なっている。
り出射した独立変調された２本の発散光束はコリメータ
ーレンズ２により収束光束に変換され、開口絞り３によ
って該光束（光量）を制限してシリンドリカルレンズ４
に入射している。シリンドリカルレンズ４に入射した光
束のうち主走査断面においてはそのままの状態で射出す
る。又副走査断面においては収束して光偏向器５の偏向
面５ａにほぼ線像（主走査方向に長手の線像）として結
像している。そして光偏向器５の偏向面５ａで偏向反射
された２本の光束は主走査方向と副走査方向とで互いに
異なる屈折力を有するｆθレンズ４６を介して感光ドラ
ム８面上に２つのスポットを形成し、該光偏向器５を矢
印Ａ方向に回転させることによって、該感光ドラム８面
上を矢印Ｂ方向に走査している。これにより画像記録を
行なっている。
【００７６】本実施形態ではｆθレンズ４６のレンズ形
状を主走査方向は１０次までの関数で表わせる非球面形
状とし、副走査方向は像高方向に連続的に変化する球面
より構成している。そのレンズ形状は、主走査方向と対
応する母線方向が、前記（ｃ）式に示されるものであ
り、又副走査方向（ｆθレンズの光軸を含む主走査方向
に対して直交する方向）と対応する子線方向が、
状を主走査方向は１０次までの関数で表わせる非球面形
状とし、副走査方向は像高方向に連続的に変化する球面
より構成している。そのレンズ形状は、主走査方向と対
応する母線方向が、前記（ｃ）式に示されるものであ
り、又副走査方向（ｆθレンズの光軸を含む主走査方向
に対して直交する方向）と対応する子線方向が、
【００７７】
【数７】 なる式で表わせるものである。
【００７８】一般にマルチビーム走査光学装置において
視覚的にピッチムラを目立たなくさせる為には、走査線
曲がりによるピッチムラを副走査方向のビームピッチの
１／１０以下にすることが望ましい。例えば副走査方向
の解像度が６００ｄｐｉの走査光学装置の場合、副走査
方向におけるビームピッチは４２μｍとなるため、許容
できるピッチムラは約４μｍ以下となる。
視覚的にピッチムラを目立たなくさせる為には、走査線
曲がりによるピッチムラを副走査方向のビームピッチの
１／１０以下にすることが望ましい。例えば副走査方向
の解像度が６００ｄｐｉの走査光学装置の場合、副走査
方向におけるビームピッチは４２μｍとなるため、許容
できるピッチムラは約４μｍ以下となる。
【００７９】そこで本実施形態では被走査面に入射する
光束の副走査方向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、最
小値をＦｍｉｎとしたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ ‥‥‥（２） なる条件を満足するようにｆθレンズ４６の両レンズ面
の副走査方向における曲率を軸上から軸外に向かい連続
的に変化させることによって、被走査面上における走査
線曲がりをなくすことができ、これによりピッチムラの
少ない、高画質でコンパクトなマルチビーム走査光学装
置を達成している。
光束の副走査方向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、最
小値をＦｍｉｎとしたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ ‥‥‥（２） なる条件を満足するようにｆθレンズ４６の両レンズ面
の副走査方向における曲率を軸上から軸外に向かい連続
的に変化させることによって、被走査面上における走査
線曲がりをなくすことができ、これによりピッチムラの
少ない、高画質でコンパクトなマルチビーム走査光学装
置を達成している。
【００８０】上記の条件式（２）を外れると走査線曲が
りによってピッチムラが視覚的に目立ち実用上問題とな
ってくるので良くない。
りによってピッチムラが視覚的に目立ち実用上問題とな
ってくるので良くない。
【００８１】表４に実施形態４における光学配置とｆθ
レンズ４６の非球面係数を示す。
レンズ４６の非球面係数を示す。
【００８２】
【表４】 図１６は実施形態４の被走査面上における副走査方向の
Ｆナンバーの変化を示す説明図である。本実施形態では
ｆθレンズ４６の副走査方向の曲率を両レンズ面におい
て図１９に示すように軸上から軸外に向かい連続的に変
化させることによって、像高によるＦナンバーの変化率
を、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ＝６４．５２／６６．３１＝０．９７３ ０．９以上になるよう抑えている。
Ｆナンバーの変化を示す説明図である。本実施形態では
ｆθレンズ４６の副走査方向の曲率を両レンズ面におい
て図１９に示すように軸上から軸外に向かい連続的に変
化させることによって、像高によるＦナンバーの変化率
を、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ＝６４．５２／６６．３１＝０．９７３ ０．９以上になるよう抑えている。
【００８３】図２２は本実施形態のマルチビーム走査光
学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用したときの走査線曲がりを示す説明図であ
る。上記のとおり像高によるＦナンバーの変化を抑える
ことによって、走査線曲がりは０．２μｍ程度（ピッチ
ムラは０．４μｍ程度）と実用上全く問題のないレベル
にすることができる。
学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用したときの走査線曲がりを示す説明図であ
る。上記のとおり像高によるＦナンバーの変化を抑える
ことによって、走査線曲がりは０．２μｍ程度（ピッチ
ムラは０．４μｍ程度）と実用上全く問題のないレベル
にすることができる。
【００８４】このように本実施形態では上述の如く条件
式（２）を満足させつつｆθレンズ４６の副走査方向
（子線方向）の曲率を両レンズ面とも軸上から軸外に向
けて連続的に変化させることによって、像高による副走
査方向のＦナンバーの変化，即ちスポット径の変化を所
定量以下（本装置の許容値内）に抑え、マルチビーム走
査光学装置において問題となる走査線曲がりによるピッ
チムラをなくしている。又、本実施形態では第３の光学
素子（ｆθレンズ）４６を単レンズで構成している為、
コンパクトで低コストなマルチビーム走査光学装置を達
成することができる。
式（２）を満足させつつｆθレンズ４６の副走査方向
（子線方向）の曲率を両レンズ面とも軸上から軸外に向
けて連続的に変化させることによって、像高による副走
査方向のＦナンバーの変化，即ちスポット径の変化を所
定量以下（本装置の許容値内）に抑え、マルチビーム走
査光学装置において問題となる走査線曲がりによるピッ
チムラをなくしている。又、本実施形態では第３の光学
素子（ｆθレンズ）４６を単レンズで構成している為、
コンパクトで低コストなマルチビーム走査光学装置を達
成することができる。
【００８５】図１４（Ａ），（Ｂ）は各々本発明の実施
形態５の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
同図において図３に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
形態５の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
同図において図３に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
【００８６】本実施形態において前述の実施形態４と異
なる点は、さらなる高精細印字に対応できるよう主走査
方向の像面湾曲を小さくする為、ｆθレンズ５６の両レ
ンズ面の母線方向の曲率を光軸に対して非対称となるよ
うに設定した点、ポリゴンミラー１５のポリゴン面数を
４面から６面とし高速印字に対応した点である。その他
の構成及び光学的作用は前述の実施形態４と略同様であ
り、これにより同様な効果を得ている。
なる点は、さらなる高精細印字に対応できるよう主走査
方向の像面湾曲を小さくする為、ｆθレンズ５６の両レ
ンズ面の母線方向の曲率を光軸に対して非対称となるよ
うに設定した点、ポリゴンミラー１５のポリゴン面数を
４面から６面とし高速印字に対応した点である。その他
の構成及び光学的作用は前述の実施形態４と略同様であ
り、これにより同様な効果を得ている。
【００８７】表５に実施形態５における光学配置とｆθ
レンズ５６の非球面係数を示す。
レンズ５６の非球面係数を示す。
【００８８】
【表５】 図１７は実施形態５の被走査面上における副走査方向の
Ｆナンバーの変化を示す説明図である。本実施形態では
ｆθレンズ５６の副走査方向の曲率を両レンズ面におい
て図２０に示すように軸上から軸外に向かい連続的に変
化させることによって、像高によるＦナンバーの変化率
を、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ＝４９．７５／５３．０８＝０．９３７ ０．９以上になるよう抑えている。
Ｆナンバーの変化を示す説明図である。本実施形態では
ｆθレンズ５６の副走査方向の曲率を両レンズ面におい
て図２０に示すように軸上から軸外に向かい連続的に変
化させることによって、像高によるＦナンバーの変化率
を、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ＝４９．７５／５３．０８＝０．９３７ ０．９以上になるよう抑えている。
【００８９】図２３は本実施形態のマルチビーム走査光
学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用したときの走査線曲がりを示す説明図であ
る。上記のとおり像高によるＦナンバーの変化を抑える
ことによって、走査線曲がりは１．２μｍ程度（ピッチ
ムラは２．４μｍ程度）と実用上全く問題のないレベル
にすることができる。
学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用したときの走査線曲がりを示す説明図であ
る。上記のとおり像高によるＦナンバーの変化を抑える
ことによって、走査線曲がりは１．２μｍ程度（ピッチ
ムラは２．４μｍ程度）と実用上全く問題のないレベル
にすることができる。
【００９０】このように本実施形態においても前述の実
施形態４と同様に条件式（２）を満足させつつｆθレン
ズ５６の副走査方向（子線方向）の曲率を両レンズ面と
も軸上から軸外に向けて連続的に変化させることによっ
て、像高による副走査方向のＦナンバーの変化、即ちス
ポット径の変化を所定量以下に抑え、マルチビーム走査
光学装置において問題となる走査線曲がりによるピッチ
ムラをなくしている。又本実施形態ではｆθレンズ（第
３の光学素子）５６の両レンズ面の母線方向の曲率を光
軸に対して非対称となるように設定することにより、主
走査方向の像面湾曲を抑え、さらなる高精細印字に適し
たマルチビーム走査光学装置を達成している。
施形態４と同様に条件式（２）を満足させつつｆθレン
ズ５６の副走査方向（子線方向）の曲率を両レンズ面と
も軸上から軸外に向けて連続的に変化させることによっ
て、像高による副走査方向のＦナンバーの変化、即ちス
ポット径の変化を所定量以下に抑え、マルチビーム走査
光学装置において問題となる走査線曲がりによるピッチ
ムラをなくしている。又本実施形態ではｆθレンズ（第
３の光学素子）５６の両レンズ面の母線方向の曲率を光
軸に対して非対称となるように設定することにより、主
走査方向の像面湾曲を抑え、さらなる高精細印字に適し
たマルチビーム走査光学装置を達成している。
【００９１】図１５（Ａ），（Ｂ）は各々本発明の実施
形態６の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
同図において図３に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
形態６の主走査方向と副走査方向の要部断面図である。
同図において図３に示した要素と同一要素には同符番を
付している。
【００９２】本実施形態において前述の実施形態４と異
なる点は、ｆθレンズ（第３の光学素子）７６を２枚の
レンズより構成し、さらなる精度で走査線曲がりによる
ピッチムラを低減している点、独立的に変調可能な複数
の発光部を有する半導体レーザ１１からの光束をコリメ
ーターレンズ２で略平行光束に変換している点、そして
ポリゴンミラー１５のポリゴン面数を４面から６面とし
高速印字に対応した点である。その他の構成及び光学的
作用は前述の実施形態４と略同様であり、これにより同
様な効果を得ている。
なる点は、ｆθレンズ（第３の光学素子）７６を２枚の
レンズより構成し、さらなる精度で走査線曲がりによる
ピッチムラを低減している点、独立的に変調可能な複数
の発光部を有する半導体レーザ１１からの光束をコリメ
ーターレンズ２で略平行光束に変換している点、そして
ポリゴンミラー１５のポリゴン面数を４面から６面とし
高速印字に対応した点である。その他の構成及び光学的
作用は前述の実施形態４と略同様であり、これにより同
様な効果を得ている。
【００９３】即ち、同図において７６は第３の光学素子
としてのｆθレンズであり、ガラス材より成る第１ｆθ
レンズとしての球面レンズ（ガラス球面レンズ）７６ａ
と、プラスチック材より成る非球面形状の第２ｆθレン
ズとしてのトーリックレンズ（非球面プラスチックトー
リックレンズ）７６ｂとの２枚のレンズより成ってい
る。ガラス球面レンズ７６ａは光偏向器１５と感光ドラ
ム面８との中間より該光偏向器１５側に配され、主にｆ
θ特性を補正する役割を持っている。非球面プラスチッ
クトーリックレンズ７６ｂは主に像面湾曲の補正及び副
走査方向の横倍率の補正を行っている。
としてのｆθレンズであり、ガラス材より成る第１ｆθ
レンズとしての球面レンズ（ガラス球面レンズ）７６ａ
と、プラスチック材より成る非球面形状の第２ｆθレン
ズとしてのトーリックレンズ（非球面プラスチックトー
リックレンズ）７６ｂとの２枚のレンズより成ってい
る。ガラス球面レンズ７６ａは光偏向器１５と感光ドラ
ム面８との中間より該光偏向器１５側に配され、主にｆ
θ特性を補正する役割を持っている。非球面プラスチッ
クトーリックレンズ７６ｂは主に像面湾曲の補正及び副
走査方向の横倍率の補正を行っている。
【００９４】本実施形態では副走査方向の屈折力のほと
んどの部分を担っている非球面プラスチックトーリック
レンズ７６ｂの両レンズ面の子線方向（副走査方向）に
おける曲率を軸上から軸外に向かい連続的に変化させる
ことによって、被走査面上における副走査方向のＦナン
バーの変化、即ちスポット径の変化を抑えている。
んどの部分を担っている非球面プラスチックトーリック
レンズ７６ｂの両レンズ面の子線方向（副走査方向）に
おける曲率を軸上から軸外に向かい連続的に変化させる
ことによって、被走査面上における副走査方向のＦナン
バーの変化、即ちスポット径の変化を抑えている。
【００９５】表６に実施形態６における光学配置とｆθ
レンズ（球面レンズ７６ａ及びトーリックレンズ７６
ｂ）７６の非球面係数を示す。
レンズ（球面レンズ７６ａ及びトーリックレンズ７６
ｂ）７６の非球面係数を示す。
【００９６】
【表６】 図１８は実施形態６の被走査面上における副走査方向の
Ｆナンバーの変化を示す説明図である。本実施形態では
トーリックレンズ７６ｂの副走査方向の曲率を両レンズ
面において図２１に示すように軸上から軸外に向かい連
続的に変化させることによって、像高によるＦナンバー
の変化率を、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ＝７２．６７／７３．７５＝０．９８５ ０．９以上になるよう抑えている。
Ｆナンバーの変化を示す説明図である。本実施形態では
トーリックレンズ７６ｂの副走査方向の曲率を両レンズ
面において図２１に示すように軸上から軸外に向かい連
続的に変化させることによって、像高によるＦナンバー
の変化率を、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ＝７２．６７／７３．７５＝０．９８５ ０．９以上になるよう抑えている。
【００９７】図２４は本実施形態のマルチビーム走査光
学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用したときの走査線曲がりを示す説明図であ
る。上記のとおり像高によるＦナンバーの変化を抑える
ことによって、走査線曲がりは０．１μｍ程度（ピッチ
ムラは０．２μｍ程度）と実用上問題のないレベルにす
ることができる。
学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用したときの走査線曲がりを示す説明図であ
る。上記のとおり像高によるＦナンバーの変化を抑える
ことによって、走査線曲がりは０．１μｍ程度（ピッチ
ムラは０．２μｍ程度）と実用上問題のないレベルにす
ることができる。
【００９８】このように本実施形態においても前述の実
施形態４と同様に条件式（２）を満足させつつｆθレン
ズ７６を構成するトーリックレンズ７６ｂの副走査方向
（子線方向）の曲率を両レンズ面とも軸上から軸外に向
けて連続的に変化させることによって、像高による副走
査方向のＦナンバーの変化、即ちスポット径の変化を所
定量以下に抑え、マルチビーム走査光学装置において問
題となる走査線曲がりによるピッチムラをなくしてい
る。又本実施形態ではｆθレンズ（第３の光学素子）７
６を２枚のレンズで構成することによって、より高精度
に走査線曲がりを補正することができ、さらなる高精細
印字に適したマルチビーム走査光学装置を達成してい
る。
施形態４と同様に条件式（２）を満足させつつｆθレン
ズ７６を構成するトーリックレンズ７６ｂの副走査方向
（子線方向）の曲率を両レンズ面とも軸上から軸外に向
けて連続的に変化させることによって、像高による副走
査方向のＦナンバーの変化、即ちスポット径の変化を所
定量以下に抑え、マルチビーム走査光学装置において問
題となる走査線曲がりによるピッチムラをなくしてい
る。又本実施形態ではｆθレンズ（第３の光学素子）７
６を２枚のレンズで構成することによって、より高精度
に走査線曲がりを補正することができ、さらなる高精細
印字に適したマルチビーム走査光学装置を達成してい
る。
【００９９】尚、第３の光学素子を構成する２枚のレン
ズのうち少なくとも１つのレンズ面の副走査方向の曲率
の符号を軸上から軸外に向かい反転させて形成しても良
く、又２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ面の
副走査方向の曲率を軸上から軸外に向かい光軸に対して
非対称に変化させて形成しても良い。これにより更に高
精細印字に適したマルチビーム走査光学装置を達成する
ことができる。
ズのうち少なくとも１つのレンズ面の副走査方向の曲率
の符号を軸上から軸外に向かい反転させて形成しても良
く、又２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ面の
副走査方向の曲率を軸上から軸外に向かい光軸に対して
非対称に変化させて形成しても良い。これにより更に高
精細印字に適したマルチビーム走査光学装置を達成する
ことができる。
【０１００】最後に本発明の走査光学装置との比較のた
めに、先の図２６（Ａ），（Ｂ）で示した従来のシング
ルビームの走査光学装置でマルチビームの走査を行なっ
たときの様子について説明する。
めに、先の図２６（Ａ），（Ｂ）で示した従来のシング
ルビームの走査光学装置でマルチビームの走査を行なっ
たときの様子について説明する。
【０１０１】図２８（Ａ），（Ｂ）は各々図２６
（Ａ），（Ｂ）で示した従来のシングルビームの走査光
学装置を用いてマルチビーム走査を行なった場合の主走
査方向と副走査方向の要部断面図であり、像高による副
走査方向の角倍率及び被走査面における副走査方向のス
ポット径（Ｆナンバー）の変化を示している。表７は図
２８（Ａ），（Ｂ）に示した光学配置とｆθレンズ８６
の非球面係数である。
（Ａ），（Ｂ）で示した従来のシングルビームの走査光
学装置を用いてマルチビーム走査を行なった場合の主走
査方向と副走査方向の要部断面図であり、像高による副
走査方向の角倍率及び被走査面における副走査方向のス
ポット径（Ｆナンバー）の変化を示している。表７は図
２８（Ａ），（Ｂ）に示した光学配置とｆθレンズ８６
の非球面係数である。
【０１０２】
【表７】 同図において副走査方向に所定の間隔で配置された２つ
の発光部を有する光源手段８１から出射した独立変調さ
れた２本の発散光束はコリメーターレンズ８２により収
束光束となり、絞り８３によって該光束（光量）を制限
して副走査方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリ
カルレンズ８４に入射している。シリンドリカルレンズ
８４に入射した光束のうち主走査面内においてはそのま
まの状態で射出する。又副走査断面内においては集束し
て回転多面鏡（ポリゴンミラー）から成る光偏向器８５
の偏向面（反射面）にほぼ線像として結像している。そ
して光偏向器８５の偏向面８５ａで偏向反射された２本
の光束をｆθ特性を有する結像光学系（ｆθレンズ）８
６を介して被走査面８８としての感光ドラム面上に導光
し、該光偏向器８５を矢印Ａ方向に回転させることによ
って該感光ドラム８８面上を光走査して画像情報の記録
を行なっている。
の発光部を有する光源手段８１から出射した独立変調さ
れた２本の発散光束はコリメーターレンズ８２により収
束光束となり、絞り８３によって該光束（光量）を制限
して副走査方向にのみ所定の屈折力を有するシリンドリ
カルレンズ８４に入射している。シリンドリカルレンズ
８４に入射した光束のうち主走査面内においてはそのま
まの状態で射出する。又副走査断面内においては集束し
て回転多面鏡（ポリゴンミラー）から成る光偏向器８５
の偏向面（反射面）にほぼ線像として結像している。そ
して光偏向器８５の偏向面８５ａで偏向反射された２本
の光束をｆθ特性を有する結像光学系（ｆθレンズ）８
６を介して被走査面８８としての感光ドラム面上に導光
し、該光偏向器８５を矢印Ａ方向に回転させることによ
って該感光ドラム８８面上を光走査して画像情報の記録
を行なっている。
【０１０３】通常、面倒れ補正光学系では前述したよう
に光偏向器の偏向面の面倒れを光学的に補正する為に、
該偏向面と被走査面とを光学的に共役関係（結像関係）
とする必要がある。上記の図２８に示した比較例ではｆ
θレンズ８６の光偏向器８５側のレンズ面（第１面）Ｒ
１の副走査方向の曲率（子線曲率）を一定に、被走査面
側のレンズ面（第２面）Ｒ２の副走査方向の曲率（子線
曲率）を軸上から軸外に向けて連続的に変化させること
により、どの像高においても共役関係となるように設定
している。
に光偏向器の偏向面の面倒れを光学的に補正する為に、
該偏向面と被走査面とを光学的に共役関係（結像関係）
とする必要がある。上記の図２８に示した比較例ではｆ
θレンズ８６の光偏向器８５側のレンズ面（第１面）Ｒ
１の副走査方向の曲率（子線曲率）を一定に、被走査面
側のレンズ面（第２面）Ｒ２の副走査方向の曲率（子線
曲率）を軸上から軸外に向けて連続的に変化させること
により、どの像高においても共役関係となるように設定
している。
【０１０４】しかしながら上記の比較例のｆθレンズ８
６は図３０に示すように片面（Ｒ１面）の子線曲率を一
定にしている為、図２９に示すようにその母線形状によ
り像高によってＦナンバー（ＦＮｏ）がばらつく。つま
り軸上（軸上光束）では図２８（Ｂ）内の（イ）に示す
ように被走査面上における副走査方向のＦナンバーが大
きい為、副走査方向の角倍率が小さく、軸外（軸外光
束）では図２８（Ｂ）内の（ロ）に示すように副走査方
向のＦナンバーが小さいため角倍率が大きい（主走査面
形状により逆になる場合もある）。
６は図３０に示すように片面（Ｒ１面）の子線曲率を一
定にしている為、図２９に示すようにその母線形状によ
り像高によってＦナンバー（ＦＮｏ）がばらつく。つま
り軸上（軸上光束）では図２８（Ｂ）内の（イ）に示す
ように被走査面上における副走査方向のＦナンバーが大
きい為、副走査方向の角倍率が小さく、軸外（軸外光
束）では図２８（Ｂ）内の（ロ）に示すように副走査方
向のＦナンバーが小さいため角倍率が大きい（主走査面
形状により逆になる場合もある）。
【０１０５】一般に角倍率γと横倍率βは、 βγ＝−１ という関係が成り立つため、上記の比較例では軸上にお
いて横倍率が大きく、軸外において横倍率が小さくな
る。このため像高によって副走査方向の横倍率にばらつ
きができ、マルチビーム走査光学装置のように光軸から
外れた複数のレーザー光束を用いて走査する光学系で
は、被走査面上で走査線が曲がりを生じる。
いて横倍率が大きく、軸外において横倍率が小さくな
る。このため像高によって副走査方向の横倍率にばらつ
きができ、マルチビーム走査光学装置のように光軸から
外れた複数のレーザー光束を用いて走査する光学系で
は、被走査面上で走査線が曲がりを生じる。
【０１０６】図３１は上記の比較例のマルチビーム走査
光学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用した場合の走査線曲がりを示す説明図であ
る。同図において周辺部の走査線は中心部に対して２．
４μｍ曲がっている為、４．８μｍのピッチムラとなり
画像品位を劣化させるという問題点がある。
光学装置を解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μ
ｍ）で使用した場合の走査線曲がりを示す説明図であ
る。同図において周辺部の走査線は中心部に対して２．
４μｍ曲がっている為、４．８μｍのピッチムラとなり
画像品位を劣化させるという問題点がある。
【０１０７】
【発明の効果】本発明の走査光学装置では上述した問題
点は生じず、第１の発明によれば、前述の如くコリメー
ターレンズ等で変換された光源からの光束を光偏向器を
介して１枚のｆθレンズにより被走査面上に結像させる
際、該ｆθレンズのレンズ形状を最適化にすることによ
り、像面湾曲や歪曲収差等を良好に補正し、かつ光偏向
器と被走査面間における副走査方向の横倍率の不均一性
を解消することによって像高による副走査方向のＦナン
バーの変化、即ちスポット径の変化を抑えることができ
る、コンパクトで高精細な印字に適した走査光学装置を
達成することができる。
点は生じず、第１の発明によれば、前述の如くコリメー
ターレンズ等で変換された光源からの光束を光偏向器を
介して１枚のｆθレンズにより被走査面上に結像させる
際、該ｆθレンズのレンズ形状を最適化にすることによ
り、像面湾曲や歪曲収差等を良好に補正し、かつ光偏向
器と被走査面間における副走査方向の横倍率の不均一性
を解消することによって像高による副走査方向のＦナン
バーの変化、即ちスポット径の変化を抑えることができ
る、コンパクトで高精細な印字に適した走査光学装置を
達成することができる。
【０１０８】また第２の発明によれば、前述の如くコリ
メーターレンズ等で変換された光源からの複数の光束を
光偏向器を介してｆθレンズにより被走査面上に結像さ
せる際、該ｆθレンズのレンズ形状を最適化にすること
により、像面湾曲や歪曲収差等を良好に補正し、かつ光
偏向器と被走査面間における副走査方向の横倍率の不均
一性を解消することによって像高による副走査方向のＦ
ナンバーの変化、即ちスポット径の変化を抑え、走査線
曲がりによるピッチムラを低減させることができるマル
チビーム走査光学装置を達成することができる。
メーターレンズ等で変換された光源からの複数の光束を
光偏向器を介してｆθレンズにより被走査面上に結像さ
せる際、該ｆθレンズのレンズ形状を最適化にすること
により、像面湾曲や歪曲収差等を良好に補正し、かつ光
偏向器と被走査面間における副走査方向の横倍率の不均
一性を解消することによって像高による副走査方向のＦ
ナンバーの変化、即ちスポット径の変化を抑え、走査線
曲がりによるピッチムラを低減させることができるマル
チビーム走査光学装置を達成することができる。
【０１０９】更に前記条件式（２）を満足するようにｆ
θレンズの副走査方向の曲率を決定することにより、視
覚上問題のないレベルにまでピッチムラを低減させるこ
とができるマルチビーム走査光学装置を達成することが
できる。
θレンズの副走査方向の曲率を決定することにより、視
覚上問題のないレベルにまでピッチムラを低減させるこ
とができるマルチビーム走査光学装置を達成することが
できる。
【図１】 本発明の実施形態１の主走査方向と副走査方
向の要部断面図
向の要部断面図
【図２】 本発明の実施形態２の主走査方向と副走査方
向の要部断面図
向の要部断面図
【図３】 本発明の実施形態３の主走査方向と副走査方
向の要部断面図
向の要部断面図
【図４】 本発明の実施形態１におけるｆθレンズの非
球面形状を示す説明図
球面形状を示す説明図
【図５】 本発明の実施形態２におけるｆθレンズの非
球面形状を示す説明図
球面形状を示す説明図
【図６】 本発明の実施形態３におけるｆθレンズの非
球面形状を示す説明図
球面形状を示す説明図
【図７】 本発明の実施形態１におけるｆθレンズの主
走査方向の形状を示す説明図
走査方向の形状を示す説明図
【図８】 本発明の実施形態２におけるｆθレンズの主
走査方向の形状を示す説明図
走査方向の形状を示す説明図
【図９】 本発明の実施形態３におけるｆθレンズの主
走査方向の形状を示す説明図
走査方向の形状を示す説明図
【図１０】 本発明の実施形態１における被走査面にお
ける副走査方向のスポット径のデフォーカス特性を示す
説明図
ける副走査方向のスポット径のデフォーカス特性を示す
説明図
【図１１】 本発明の実施形態２における被走査面にお
ける副走査方向のスポット径のデフォーカス特性を示す
説明図
ける副走査方向のスポット径のデフォーカス特性を示す
説明図
【図１２】 本発明の実施形態３における走査線の曲が
りを示す説明図
りを示す説明図
【図１３】 本発明の実施形態４の主走査方向と副走査
方向の要部断面図
方向の要部断面図
【図１４】 本発明の実施形態５の主走査方向と副走査
方向の要部断面図
方向の要部断面図
【図１５】 本発明の実施形態６の主走査方向と副走査
方向の要部断面図
方向の要部断面図
【図１６】 本発明の実施形態４における像高に対する
被走査面上における副走査方向のＦナンバーの変化を示
す説明図
被走査面上における副走査方向のＦナンバーの変化を示
す説明図
【図１７】 本発明の実施形態５における像高に対する
被走査面上における副走査方向のＦナンバーの変化を示
す説明図
被走査面上における副走査方向のＦナンバーの変化を示
す説明図
【図１８】 本発明の実施形態６における像高に対する
被走査面上における副走査方向のＦナンバーの変化を示
す説明図
被走査面上における副走査方向のＦナンバーの変化を示
す説明図
【図１９】 本発明の実施形態４における像高に対する
ｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明図
ｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明図
【図２０】 本発明の実施形態５における像高に対する
ｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明図
ｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明図
【図２１】 本発明の実施形態６における像高に対する
ｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明図
ｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明図
【図２２】 本発明の実施形態４における解像度６００
ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）でのマルチビーム走
査時における走査線の曲がりを示す説明図
ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）でのマルチビーム走
査時における走査線の曲がりを示す説明図
【図２３】 本発明の実施形態５における解像度６００
ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）でのマルチビーム走
査時における走査線の曲がりを示す説明図
ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）でのマルチビーム走
査時における走査線の曲がりを示す説明図
【図２４】 本発明の実施形態６における解像度６００
ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）でのマルチビーム走
査時における走査線の曲がりを示す説明図
ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）でのマルチビーム走
査時における走査線の曲がりを示す説明図
【図２５】 従来の走査光学装置の光学系の要部概略図
【図２６】 従来の走査光学装置の主走査方向と副走査
方向の要部断面図
方向の要部断面図
【図２７】 走査光学装置の偏向素子と被走査面間の主
走査方向の要部断面図
走査方向の要部断面図
【図２８】 図２６で示した従来のシングルビーム走査
光学装置を用いてマルチビーム走査を行った場合の主走
査方向と副走査方向の要部断面図
光学装置を用いてマルチビーム走査を行った場合の主走
査方向と副走査方向の要部断面図
【図２９】 図２８で示したマルチビーム走査光学装置
の像高に対する被走査面上における副走査方向のＦナン
バーの変化を示す説明図
の像高に対する被走査面上における副走査方向のＦナン
バーの変化を示す説明図
【図３０】 図２８で示したマルチビーム走査光学装置
の像高に対するｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明
図
の像高に対するｆθレンズの子線方向の曲率を示す説明
図
【図３１】 図２８で示したマルチビーム走査光学装置
の解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）での
マルチビーム走査時における走査線の曲がりを示す説明
図
の解像度６００ｄｐｉ（走査線間隔４２．３μｍ）での
マルチビーム走査時における走査線の曲がりを示す説明
図
１，１１ 光源手段 ２ 第１の光学素子（コリメーターレンズ） ３ 絞り ４ 第２の光学素子（シリンドリカルレンズ） ５，１５ 偏向素子（光偏向器） ６，２６，３６ 第３の光学素子（ｆθレンズ） ４６，５６，７６ 第３の光学素子（ｆθレンズ） ７６ａ 球面レンズ ７６ｂ トーリックレンズ ８ 被走査面（感光体ドラム） ２１ 軸上光束 ２２ 最軸外光束
Claims (18)
- 【請求項１】 光源手段から出射した光束を第１の光学
素子と第２の光学素子とを介して偏向素子の偏向面にお
いて主走査方向に長手の線状に結像させ、該偏向素子で
偏向された光束を第３の光学素子を介し被走査面上にス
ポット状に結像させて該被走査面上を走査する走査光学
装置において、 該第３の光学素子は単レンズより成り、該単レンズの両
レンズ面は共に主走査面内で非球面形状のトーリック面
より成り、副走査面内の曲率をレンズの有効部内におい
て軸上から軸外に向かい連続的に変化させることによ
り、該被走査面に入射する光束の像高による副走査方向
のＦナンバーの変化を抑えるようにしたことを特徴とす
る走査光学装置。 - 【請求項２】 前記光源手段は独立的に変調可能な複数
の光源部を有していることを特徴とする請求項１の走査
光学装置。 - 【請求項３】 前記第３の光学素子の副走査方向の前側
主平面と後側主平面の主走査面内における軌跡の湾曲量
（最軸外の主平面位置と軸上の主平面位置との光軸方向
の差分）を各々ｘｍ，ｘｕとしたとき、 ｘｍ≦ｄｘ≦ｘｕ 但し、 【数１】 Ｉpri ‥軸上光束における偏向素子の偏向面から副走査
方向の前側主平面までの距離 Ｅpri ‥軸上光束における副走査方向の後側主平面から
被走査面までの距離 θpor ‥主走査面内において偏向素子で偏向する最軸外
光束が光軸となす角度 θimg ‥主走査面内において被走査面へ入射する最軸外
光束が光軸となす角度 なる条件を満足することを特徴とする請求項１又は２の
走査光学装置。 - 【請求項４】 前記第３の光学素子を構成する単レンズ
の両レンズ面のうち少なくとも１つのレンズ面の副走査
面内の曲率の符号が軸上から軸外に向かい反転している
ことを特徴とする請求項１又は２の走査光学装置。 - 【請求項５】 前記第３の光学素子はプラスチック成型
により製作されていることを特徴とする請求項１又は２
の走査光学装置。 - 【請求項６】 前記第３の光学素子はガラス成型により
製作されていることを特徴とする請求項１又は２の走査
光学装置。 - 【請求項７】 光源手段から出射した独立変調された複
数の光束を第１の光学素子と第２の光学素子とを介して
偏向素子の偏向面において主走査方向に長手の線状に結
像させ、該偏向素子で偏向された複数の光束を第３の光
学素子を介し被走査面上にスポット状に結像させて該被
走査面上を走査するマルチビーム走査光学装置におい
て、 該第３の光学素子は単レンズより成り、該単レンズの両
レンズ面の副走査方向における曲率を軸上から軸外に向
かい連続的に変化させることにより、該被走査面に入射
する光束の像高による副走査方向のＦナンバーの変化を
抑えるようにしたことを特徴とするマルチビーム走査光
学装置。 - 【請求項８】 前記被走査面に入射する光束の副走査方
向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、最小値をＦｍｉｎ
としたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ なる条件を満足するように前記第３の光学素子を構成す
る単レンズの両レンズ面の副走査方向における曲率を軸
上から軸外に向かい連続的に変化させたことを特徴とす
る請求項７のマルチビーム走査光学装置。 - 【請求項９】 前記第３の光学素子を構成する単レンズ
の両レンズ面のうち少なくとも１つのレンズ面の副走査
方向の曲率の符号が軸上から軸外に向かい反転している
ことを特徴とする請求項７のマルチビーム走査光学装
置。 - 【請求項１０】 前記第３の光学素子を構成する単レン
ズの両レンズ面の副走査方向の曲率が軸上から軸外に向
かい光軸に対して非対称に変化していることを特徴とす
る請求項７のマルチビーム走査光学装置。 - 【請求項１１】 前記第３の光学素子はプラスチック成
型により製作されていることを特徴とする請求項７のマ
ルチビーム走査光学装置。 - 【請求項１２】 前記第３の光学素子はガラス成型によ
り製作されていることを特徴とする請求項７のマルチビ
ーム走査光学装置。 - 【請求項１３】 光源手段から出射した独立変調された
複数の光束を第１の光学素子と第２の光学素子とを介し
て偏向素子の偏向面において主走査方向に長手の線状に
結像させ、該偏向素子で偏向された複数の光束を第３の
光学素子を介し被走査面上にスポット状に結像させて該
被走査面上を走査するマルチビーム走査光学装置におい
て、 該第３の光学素子は少なくとも２枚のレンズにより構成
され、該２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ面
の副走査方向における曲率を軸上から軸外に向かい連続
的に変化させることにより、該被走査面に入射する光束
の像高による副走査方向のＦナンバーの変化を抑えるよ
うにしたことを特徴とするマルチビーム走査光学装置。 - 【請求項１４】 前記被走査面に入射する光束の副走査
方向のＦナンバーの最大値をＦｍａｘ、最小値をＦｍｉ
ｎとしたとき、 Ｆｍｉｎ／Ｆｍａｘ≧０．９ なる条件を満足をするように前記第３の光学素子を構成
する２枚のレンズのうち少なくとも２つのレンズ面の副
走査方向における曲率を軸上から軸外に向かい連続的に
変化させたことを特徴とする請求項１３のマルチビーム
走査光学装置。 - 【請求項１５】 前記第３の光学素子を構成する２枚の
レンズのうち少なくとも１つのレンズ面の副走査方向の
曲率の符号が軸上から軸外に向かい反転していることを
特徴とする請求項１３のマルチビーム走査光学装置。 - 【請求項１６】 前記第３の光学素子を構成する２枚の
レンズのうち少なくとも２つのレンズ面の副走査方向の
曲率が軸上から軸外に向かい光軸に対して非対称に変化
していることを特徴とする請求項１３のマルチビーム走
査光学装置。 - 【請求項１７】 前記第３の光学素子を構成する２枚の
レンズのうち少なくとも１枚のレンズはプラスチック成
型により製作されていることを特徴とする請求項１３の
マルチビーム走査光学装置。 - 【請求項１８】 前記第３の光学素子を構成する２枚の
レンズのうち少なくとも１枚のレンズはガラス成型によ
り製作されていることを特徴とする請求項１３のマルチ
ビーム走査光学装置。
Priority Applications (14)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4674196A JP3445050B2 (ja) | 1995-02-28 | 1996-02-08 | 走査光学装置及びマルチビーム走査光学装置 |
| EP10152653A EP2182400A1 (en) | 1995-02-28 | 1996-02-26 | Scanning optical apparatus |
| EP19960301275 EP0730182B1 (en) | 1995-02-28 | 1996-02-26 | Scanning optical apparatus |
| DE69638185T DE69638185D1 (de) | 1995-02-28 | 1996-02-26 | Optisches Abtastgerät |
| DE1996634883 DE69634883T2 (de) | 1995-02-28 | 1996-02-26 | Optisches Abtastgerät |
| EP01204171A EP1199592B1 (en) | 1995-02-28 | 1996-02-26 | Scanning optical apparatus |
| KR1019960005065A KR100266095B1 (ko) | 1995-02-28 | 1996-02-28 | 주사 광학 장치(Scanning Optical Apparatus) |
| US08/951,635 US8213068B1 (en) | 1994-09-06 | 1997-10-17 | Scanning optical apparatus |
| US11/980,543 US7898711B2 (en) | 1994-09-06 | 2007-10-31 | Scanning optical apparatus |
| US12/696,247 US7817321B2 (en) | 1994-09-06 | 2010-01-29 | Scanning optical apparatus |
| US13/009,953 US8115981B2 (en) | 1994-09-06 | 2011-01-20 | Scanning optical apparatus |
| US13/109,415 US8681406B2 (en) | 1994-09-06 | 2011-05-17 | Scanning optical apparatus |
| US13/109,333 US8068265B2 (en) | 1994-09-06 | 2011-05-17 | Scanning optical apparatus |
| US13/408,339 US8610984B2 (en) | 1994-09-06 | 2012-02-29 | Scanning optical apparatus |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7-66991 | 1995-02-28 | ||
| JP6699195 | 1995-02-28 | ||
| JP4674196A JP3445050B2 (ja) | 1995-02-28 | 1996-02-08 | 走査光学装置及びマルチビーム走査光学装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2003026466A Division JP3706858B2 (ja) | 1995-02-28 | 2003-02-03 | ｆθレンズ及びそれを有する走査光学装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08297256A true JPH08297256A (ja) | 1996-11-12 |
| JP3445050B2 JP3445050B2 (ja) | 2003-09-08 |
Family
ID=26386858
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4674196A Expired - Fee Related JP3445050B2 (ja) | 1994-09-06 | 1996-02-08 | 走査光学装置及びマルチビーム走査光学装置 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| EP (3) | EP0730182B1 (ja) |
| JP (1) | JP3445050B2 (ja) |
| KR (1) | KR100266095B1 (ja) |
| DE (2) | DE69638185D1 (ja) |
Cited By (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5883732A (en) * | 1995-05-12 | 1999-03-16 | Seiko Epson Corporation | Optical scanner |
| JPH11237569A (ja) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Toshiba Corp | 露光装置 |
| US6069724A (en) * | 1997-02-17 | 2000-05-30 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning lens and optical scanning apparatus |
| US6130768A (en) * | 1997-08-18 | 2000-10-10 | Ricoh Company, Ltd. | Scanning image forming lens and optical scanning apparatus |
| US6256133B1 (en) | 1998-07-03 | 2001-07-03 | Ricoh Co., Ltd. | Optical scanning apparatus |
| JP2001215430A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-08-10 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US6359717B2 (en) | 1998-08-31 | 2002-03-19 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus and scanning image forming lens |
| JP2002221681A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US6473216B1 (en) | 1999-07-27 | 2002-10-29 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Optical scanner |
| US6535317B2 (en) | 2000-03-29 | 2003-03-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Light-scanning optical system and image-forming apparatus using it |
| US6833939B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-12-21 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light scanning method and light scanning device |
| US6943927B1 (en) | 1999-10-29 | 2005-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus, multi-beam optical scanning apparatus, and image-forming apparatus |
| JP2006184914A (ja) * | 1998-07-03 | 2006-07-13 | Ricoh Co Ltd | 走査結像レンズ・光走査装置および画像形成装置 |
| US7215354B1 (en) | 1999-10-05 | 2007-05-08 | Ricoh Company, Ltd. | Scanning optical system, optical scanning device and image forming apparatus |
| US7248279B2 (en) | 2002-08-08 | 2007-07-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning device and image forming apparatus using the same |
| US7710446B2 (en) | 2006-11-07 | 2010-05-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Light scanning unit and image forming apparatus using the same |
| US7817321B2 (en) | 1994-09-06 | 2010-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| JP2011013289A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| US7876486B2 (en) | 2006-03-08 | 2011-01-25 | Ricoh Company, Limited | Optical scanning apparatus, optical writing apparatus, and image forming apparatus |
| JP2012013867A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Brother Ind Ltd | 走査光学装置 |
| US8520281B2 (en) | 2010-03-31 | 2013-08-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US9372431B2 (en) | 2014-02-28 | 2016-06-21 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus, image forming apparatus and method for manufacturing a scanning lens |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009145897A (ja) * | 1995-02-28 | 2009-07-02 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを有するレーザービームプリンタ |
| JP3466863B2 (ja) * | 1996-12-19 | 2003-11-17 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及びそれを用いた画像記録装置 |
| JP3397624B2 (ja) * | 1996-12-19 | 2003-04-21 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及びそれを具備するレーザビームプリンター |
| US6038053A (en) * | 1998-02-04 | 2000-03-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Color image forming apparatus |
| JP4438025B2 (ja) * | 1998-06-23 | 2010-03-24 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置 |
| DE10058761B4 (de) * | 2000-11-27 | 2008-01-31 | Maschinenfabrik Wifag | Abbildungsvorrichtung |
| JP4684470B2 (ja) * | 2001-06-08 | 2011-05-18 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP4659277B2 (ja) | 2001-06-12 | 2011-03-30 | キヤノン株式会社 | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP2004070107A (ja) * | 2002-08-08 | 2004-03-04 | Canon Inc | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| JP2006330688A (ja) | 2005-04-25 | 2006-12-07 | Canon Inc | 光走査装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| KR100631220B1 (ko) * | 2005-09-12 | 2006-10-04 | 삼성전자주식회사 | 광주사장치 |
| JP2008096957A (ja) | 2006-09-14 | 2008-04-24 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| US7738007B2 (en) | 2007-09-04 | 2010-06-15 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning device and method for adjusting errors |
| JP5316759B2 (ja) | 2008-10-16 | 2013-10-16 | 株式会社リコー | 光走査装置、調整方法及び画像形成装置 |
| EP4040210A4 (en) * | 2019-09-30 | 2022-12-07 | Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. | LENS SYSTEM, IMAGING DEVICE AND IMAGING SYSTEM |
Family Cites Families (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6148684A (ja) | 1984-08-15 | 1986-03-10 | Saginomiya Seisakusho Inc | ロ−タリ−式多位置弁 |
| JPH0727123B2 (ja) * | 1986-08-21 | 1995-03-29 | ミノルタ株式会社 | 面倒れ補正走査光学系 |
| JPS63157122A (ja) | 1986-12-20 | 1988-06-30 | Fujitsu Ltd | 走査光学系 |
| JPH0769521B2 (ja) * | 1988-07-13 | 1995-07-31 | 株式会社日立製作所 | 光走査装置及び走査レンズ |
| US5148639A (en) * | 1988-07-29 | 1992-09-22 | Canon Kabushiki Kaisha | Surface roughening method for organic electrophotographic photosensitive member |
| JP2623147B2 (ja) * | 1990-02-07 | 1997-06-25 | キヤノン株式会社 | 光ビーム走査用光学系 |
| JPH07111501B2 (ja) | 1990-06-15 | 1995-11-29 | キヤノン株式会社 | ｆθレンズ及びそれを用いた画像形成装置 |
| JPH04104213A (ja) | 1990-08-24 | 1992-04-06 | Ricoh Co Ltd | 光走査用レンズ及び光走査光学系 |
| JPH0627404A (ja) * | 1992-07-08 | 1994-02-04 | Hitachi Ltd | 走査光学装置及びそれに用いるハイブリッド走査レンズの製造方法 |
| JP2969407B2 (ja) * | 1992-03-02 | 1999-11-02 | 松下電器産業株式会社 | ポストオブジェクティブ型走査光学系と画像形成装置 |
| US5432535A (en) * | 1992-12-18 | 1995-07-11 | Xerox Corporation | Method and apparatus for fabrication of multibeam lasers |
| JPH06239386A (ja) | 1993-02-12 | 1994-08-30 | Mitsui & Co Ltd | コンテナおよびコンテナ内への貨物積み付け方法 |
| JP2773593B2 (ja) * | 1993-03-11 | 1998-07-09 | 松下電器産業株式会社 | 光ビーム走査光学系 |
-
1996
- 1996-02-08 JP JP4674196A patent/JP3445050B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1996-02-26 DE DE69638185T patent/DE69638185D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-26 DE DE1996634883 patent/DE69634883T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-26 EP EP19960301275 patent/EP0730182B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-26 EP EP01204171A patent/EP1199592B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1996-02-26 EP EP10152653A patent/EP2182400A1/en not_active Withdrawn
- 1996-02-28 KR KR1019960005065A patent/KR100266095B1/ko not_active IP Right Cessation
Cited By (36)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7898711B2 (en) | 1994-09-06 | 2011-03-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US8610984B2 (en) | 1994-09-06 | 2013-12-17 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US8213068B1 (en) | 1994-09-06 | 2012-07-03 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US7817321B2 (en) | 1994-09-06 | 2010-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US8115981B2 (en) | 1994-09-06 | 2012-02-14 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US8681406B2 (en) | 1994-09-06 | 2014-03-25 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US8068265B2 (en) | 1994-09-06 | 2011-11-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US5883732A (en) * | 1995-05-12 | 1999-03-16 | Seiko Epson Corporation | Optical scanner |
| US6069724A (en) * | 1997-02-17 | 2000-05-30 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning lens and optical scanning apparatus |
| US6130768A (en) * | 1997-08-18 | 2000-10-10 | Ricoh Company, Ltd. | Scanning image forming lens and optical scanning apparatus |
| JPH11237569A (ja) * | 1998-02-23 | 1999-08-31 | Toshiba Corp | 露光装置 |
| JP4584827B2 (ja) * | 1998-07-03 | 2010-11-24 | 株式会社リコー | 走査結像レンズ・光走査装置および画像形成装置 |
| US6256133B1 (en) | 1998-07-03 | 2001-07-03 | Ricoh Co., Ltd. | Optical scanning apparatus |
| JP2006184914A (ja) * | 1998-07-03 | 2006-07-13 | Ricoh Co Ltd | 走査結像レンズ・光走査装置および画像形成装置 |
| US6359717B2 (en) | 1998-08-31 | 2002-03-19 | Ricoh Company, Ltd. | Optical scanning apparatus and scanning image forming lens |
| US6473216B1 (en) | 1999-07-27 | 2002-10-29 | Samsung Electro-Mechanics Co., Ltd. | Optical scanner |
| US7215354B1 (en) | 1999-10-05 | 2007-05-08 | Ricoh Company, Ltd. | Scanning optical system, optical scanning device and image forming apparatus |
| US7072088B2 (en) | 1999-10-29 | 2006-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus, multi-beam optical scanning apparatus, and image-forming apparatus |
| US6943927B1 (en) | 1999-10-29 | 2005-09-13 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning apparatus, multi-beam optical scanning apparatus, and image-forming apparatus |
| JP4564620B2 (ja) * | 2000-02-01 | 2010-10-20 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US6542278B2 (en) | 2000-02-01 | 2003-04-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus and image-forming apparatus using it |
| JP2001215430A (ja) * | 2000-02-01 | 2001-08-10 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US6833939B1 (en) | 2000-02-04 | 2004-12-21 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Light scanning method and light scanning device |
| US6535317B2 (en) | 2000-03-29 | 2003-03-18 | Canon Kabushiki Kaisha | Light-scanning optical system and image-forming apparatus using it |
| JP4617004B2 (ja) * | 2001-01-29 | 2011-01-19 | キヤノン株式会社 | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US6757004B2 (en) | 2001-01-29 | 2004-06-29 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning optical device and image forming apparatus using the same |
| JP2002221681A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-09 | Canon Inc | 走査光学装置及びそれを用いた画像形成装置 |
| US7248279B2 (en) | 2002-08-08 | 2007-07-24 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical scanning device and image forming apparatus using the same |
| USRE45918E1 (en) | 2006-03-08 | 2016-03-08 | Ricoh Company, Limited | Optical scanning apparatus, optical writing apparatus, and image forming apparatus |
| US7876486B2 (en) | 2006-03-08 | 2011-01-25 | Ricoh Company, Limited | Optical scanning apparatus, optical writing apparatus, and image forming apparatus |
| US7710446B2 (en) | 2006-11-07 | 2010-05-04 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Light scanning unit and image forming apparatus using the same |
| JP2011013289A (ja) * | 2009-06-30 | 2011-01-20 | Ricoh Co Ltd | 光走査装置及び画像形成装置 |
| US8520281B2 (en) | 2010-03-31 | 2013-08-27 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| US8223416B2 (en) | 2010-06-30 | 2012-07-17 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus |
| JP2012013867A (ja) * | 2010-06-30 | 2012-01-19 | Brother Ind Ltd | 走査光学装置 |
| US9372431B2 (en) | 2014-02-28 | 2016-06-21 | Brother Kogyo Kabushiki Kaisha | Scanning optical apparatus, image forming apparatus and method for manufacturing a scanning lens |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100266095B1 (ko) | 2000-09-15 |
| EP0730182A3 (ja) | 1996-09-25 |
| EP0730182B1 (en) | 2005-06-29 |
| EP1199592A3 (en) | 2005-09-21 |
| EP0730182A2 (en) | 1996-09-04 |
| EP1199592A2 (en) | 2002-04-24 |
| DE69634883D1 (de) | 2005-08-04 |
| EP1199592B1 (en) | 2010-05-05 |
| JP3445050B2 (ja) | 2003-09-08 |
| DE69638185D1 (de) | 2010-06-17 |
| EP2182400A1 (en) | 2010-05-05 |
| DE69634883T2 (de) | 2006-04-27 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3445050B2 (ja) | 走査光学装置及びマルチビーム走査光学装置 | |
| US7817321B2 (en) | Scanning optical apparatus | |
| JP3466863B2 (ja) | 走査光学装置及びそれを用いた画像記録装置 | |
| EP0853253A2 (en) | Optical scanning apparatus | |
| JP3303558B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| US6512623B1 (en) | Scanning optical device | |
| EP1267196A2 (en) | Light scanning device and image forming apparatus using single-lens imaging system | |
| JP3445092B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| US6542278B2 (en) | Scanning optical apparatus and image-forming apparatus using it | |
| JP5269169B2 (ja) | 走査光学装置及びそれを有するレーザービームプリンタ | |
| JP2005338865A (ja) | 走査光学装置及びそれを有するレーザービームプリンタ | |
| JP3706858B2 (ja) | ｆθレンズ及びそれを有する走査光学装置 | |
| JP3320239B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2004046202A (ja) | 走査光学装置 | |
| JPH09281422A (ja) | 走査光学装置 | |
| JP3728256B2 (ja) | 走査光学装置 | |
| JP2007199730A (ja) | 走査光学装置及びそれを有するレーザービームプリンタ | |
| JPH08334715A (ja) | 光走査光学系 | |
| JPH09269451A (ja) | 走査光学装置 | |
| JPH0483220A (ja) | 面倒れ補正走査光学系 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080627 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090627 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100627 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110627 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120627 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130627 Year of fee payment: 10 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |