JPH08295681A - スチレンオキサイドの製造方法 - Google Patents
スチレンオキサイドの製造方法Info
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- JPH08295681A JPH08295681A JP7134626A JP13462695A JPH08295681A JP H08295681 A JPH08295681 A JP H08295681A JP 7134626 A JP7134626 A JP 7134626A JP 13462695 A JP13462695 A JP 13462695A JP H08295681 A JPH08295681 A JP H08295681A
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- oxide
- hydrogen peroxide
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- styrene oxide
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Epoxy Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スチレンを過酸化水素で酸化してスチレンオ
キサイドを製造する方法において、スチレンオキサイド
の加水分解を抑制し、高収率且つ高選択率で目的とする
スチレンオキサイドを得る方法を提供する。 【構成】 モリブデン酸塩と共にポリアクリル酸塩樹脂
に吸蔵固定化させた過酸化水素を用い、酸化ジアルキル
錫の存在下に、不均一系で、スチレンを酸化する。
キサイドを製造する方法において、スチレンオキサイド
の加水分解を抑制し、高収率且つ高選択率で目的とする
スチレンオキサイドを得る方法を提供する。 【構成】 モリブデン酸塩と共にポリアクリル酸塩樹脂
に吸蔵固定化させた過酸化水素を用い、酸化ジアルキル
錫の存在下に、不均一系で、スチレンを酸化する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスチレンオキサイドの製
造方法に関し、特にスチレンを過酸化水素によって酸化
するスチレンオキサイドの製造方法に関するものであ
る。スチレンオキサイドは高分子の安定剤、紫外線吸収
剤、医薬等の合成原料、溶剤の安定剤、さらには合成香
料及び甘味料として有用なフェネチルアルコール及びフ
ェニルアルデヒドの出発原料等として、その用途分野は
広範囲にわたっている。
造方法に関し、特にスチレンを過酸化水素によって酸化
するスチレンオキサイドの製造方法に関するものであ
る。スチレンオキサイドは高分子の安定剤、紫外線吸収
剤、医薬等の合成原料、溶剤の安定剤、さらには合成香
料及び甘味料として有用なフェネチルアルコール及びフ
ェニルアルデヒドの出発原料等として、その用途分野は
広範囲にわたっている。
【０００２】
【従来の技術とその課題】スチレンをエポキシ化してス
チレンオキサイドを製造する方法としては、特開昭５５
−１４９２７１号公報に記載されているように有機過酸
を使用する方法が一般的であるが、この方法の欠点は、
有機過酸自体が高価であることと、反応終了後の有機酸
の回収または処理操作にコストが掛かることであった。
これに対して、過酸化水素による酸化反応では、反応副
生物が水だけであり、環境汚染に関わる後処理を必要と
しない上に、過酸化水素自体が安価で且つ工業的に入手
し易い等の優位性がある。しかしながら、ただ単にスチ
レンと過酸化水素を反応させても、エポキシ化反応の進
行は遅く、スチレンの転化率及びエポキシドへの選択率
が共に低いため、工業的な応用は不可能であった。この
様な問題点を解決するために、触媒の存在下にスチレン
と過酸化水素の反応を行い、スチレンの転化率及びエポ
キシドへの選択率を改善する方法が提案されている。
チレンオキサイドを製造する方法としては、特開昭５５
−１４９２７１号公報に記載されているように有機過酸
を使用する方法が一般的であるが、この方法の欠点は、
有機過酸自体が高価であることと、反応終了後の有機酸
の回収または処理操作にコストが掛かることであった。
これに対して、過酸化水素による酸化反応では、反応副
生物が水だけであり、環境汚染に関わる後処理を必要と
しない上に、過酸化水素自体が安価で且つ工業的に入手
し易い等の優位性がある。しかしながら、ただ単にスチ
レンと過酸化水素を反応させても、エポキシ化反応の進
行は遅く、スチレンの転化率及びエポキシドへの選択率
が共に低いため、工業的な応用は不可能であった。この
様な問題点を解決するために、触媒の存在下にスチレン
と過酸化水素の反応を行い、スチレンの転化率及びエポ
キシドへの選択率を改善する方法が提案されている。
【０００３】例えば、Ｃ．ベントウレルロ等（Ｊ．Ｏｒ
ｇ．Ｃｈｅｍ．，５３，１５５３，１９８８）による
と、燐タングステン酸の第４級アンモニウム塩をエポキ
シ化触媒として使用すると、７４％の収率（対過酸化水
素）でスチレンオキサイドが得られると報告されてい
る。この方法は、従来の方法と比較して格段に収率が向
上しているが、触媒として使用する第４級アンモニウム
塩が非常に高価で工業的な採用は困難である。更に、過
酸化水素から副生した水によるスチレンオキサイドの加
水分解を極力抑える為、反応溶媒として水とは混和しな
いクロロホルムを使用した不均一系にて反応を行ってい
るが、加水分解を完全には阻止できていない。
ｇ．Ｃｈｅｍ．，５３，１５５３，１９８８）による
と、燐タングステン酸の第４級アンモニウム塩をエポキ
シ化触媒として使用すると、７４％の収率（対過酸化水
素）でスチレンオキサイドが得られると報告されてい
る。この方法は、従来の方法と比較して格段に収率が向
上しているが、触媒として使用する第４級アンモニウム
塩が非常に高価で工業的な採用は困難である。更に、過
酸化水素から副生した水によるスチレンオキサイドの加
水分解を極力抑える為、反応溶媒として水とは混和しな
いクロロホルムを使用した不均一系にて反応を行ってい
るが、加水分解を完全には阻止できていない。
【０００４】また特開昭５５−１２９２７６号公報で
は、砒素酸化物及び３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシトルエンの存在下でスチレンと過酸化水素を
反応させる方法を提案している。この場合も有機溶媒と
水の不均一系にてスチレンオキサイドの加水分解を極力
抑えているが、その効果は不十分である上に、触媒とし
て使用される砒素化合物の毒性を考慮すると、工業化は
極めて困難である。
は、砒素酸化物及び３，５−ジｔｅｒｔ−ブチル−４−
ヒドロキシトルエンの存在下でスチレンと過酸化水素を
反応させる方法を提案している。この場合も有機溶媒と
水の不均一系にてスチレンオキサイドの加水分解を極力
抑えているが、その効果は不十分である上に、触媒とし
て使用される砒素化合物の毒性を考慮すると、工業化は
極めて困難である。
【０００５】一方、特開平２−２０２８８２号公報又は
特開平４−１４５０７３号公報では、反応触媒としてア
ルキル錫オキシドモリブデン酸とアミン類の併用下、又
はアルキル錫オキシドモリブデン酸と無機アニオンの併
用下に、互いに混じり合わない有機溶媒と水の不均一系
にてスチレンと過酸化水素を反応させることにより、比
較的高収率でスチレンオキサイドが得られる上に、これ
らの反応触媒は工業的に安価で無毒であることが開示さ
れている。しかしながら、これらの発明においても、反
応副生水に起因するスチレンオキサイドの加水分解を完
全に抑えているとは言い難い。
特開平４−１４５０７３号公報では、反応触媒としてア
ルキル錫オキシドモリブデン酸とアミン類の併用下、又
はアルキル錫オキシドモリブデン酸と無機アニオンの併
用下に、互いに混じり合わない有機溶媒と水の不均一系
にてスチレンと過酸化水素を反応させることにより、比
較的高収率でスチレンオキサイドが得られる上に、これ
らの反応触媒は工業的に安価で無毒であることが開示さ
れている。しかしながら、これらの発明においても、反
応副生水に起因するスチレンオキサイドの加水分解を完
全に抑えているとは言い難い。
【０００６】上記の特開平２−２０２８８２号公報又は
特開平４−１４５０７３号公報に記載の方法である、ア
ルキル錫オキシドモリブデン酸とアミン類又は無機アニ
オンの併用下に、不均一系にてスチレンと過酸化水素を
反応させることによりスチレンオキサイドを製造する方
法は、工業的に極めて有望な方法ではあるが、反応中に
副生する水の影響を完全に回避するには至っていない。
本発明の目的はこれら従来技術の課題を解決することに
あり、特にスチレンと過酸化水素を反応させた時に副生
する水により、反応目的物であるスチレンオキサイドが
加水分解されるのを完全に回避し、高収率且つ高選択率
で目的とするスチレンオキサイドを製造する方法を提供
することにある。
特開平４−１４５０７３号公報に記載の方法である、ア
ルキル錫オキシドモリブデン酸とアミン類又は無機アニ
オンの併用下に、不均一系にてスチレンと過酸化水素を
反応させることによりスチレンオキサイドを製造する方
法は、工業的に極めて有望な方法ではあるが、反応中に
副生する水の影響を完全に回避するには至っていない。
本発明の目的はこれら従来技術の課題を解決することに
あり、特にスチレンと過酸化水素を反応させた時に副生
する水により、反応目的物であるスチレンオキサイドが
加水分解されるのを完全に回避し、高収率且つ高選択率
で目的とするスチレンオキサイドを製造する方法を提供
することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明はスチレンを過酸
化水素によって酸化してスチレンオキサイドを製造する
方法において、モリブデン酸塩と共にポリアクリル酸塩
樹脂に吸蔵固定化させた過酸化水素を用い、酸化ジアル
キル錫の存在下に、不均一系で、スチレンを酸化するこ
とを特徴とするスチレンオキサイドの製造方法である。
化水素によって酸化してスチレンオキサイドを製造する
方法において、モリブデン酸塩と共にポリアクリル酸塩
樹脂に吸蔵固定化させた過酸化水素を用い、酸化ジアル
キル錫の存在下に、不均一系で、スチレンを酸化するこ
とを特徴とするスチレンオキサイドの製造方法である。
【０００８】本発明により、ポリアクリル酸樹脂に吸蔵
されていたモリブデン酸塩と酸化ジアルキル錫が系内で
アルキル錫オキシドモリブデン酸を形成して、過酸化水
素によるスチレンのエポキシ化反応の反応触媒となると
ともに、エポキシ化反応の進行に伴って生成した水をポ
リアクリル酸塩樹脂内に吸蔵させることにより、スチレ
ンオキサイドの加水分解を抑制し、高収率且つ高選択率
で目的とするスチレンオキサイドを得ることが可能とな
る。本発明に使用する過酸化水素は慣用のものでよく、
通常その濃度が５〜９０重量％の水溶液のものを使用す
ることができるが、入手の容易な１０〜７０重量％のも
のを使用するのが好ましい。本発明に使用するポリアク
リル酸塩樹脂を構成する塩としては、ナトリウム塩、カ
リウム塩、リチウムのいずれでもよいが、入手の容易な
ナトリウム塩の使用が好ましい。又、液状品、粉状品の
いずれも使用可能であるが、取扱いが簡便な粉状品の使
用が好ましい。
されていたモリブデン酸塩と酸化ジアルキル錫が系内で
アルキル錫オキシドモリブデン酸を形成して、過酸化水
素によるスチレンのエポキシ化反応の反応触媒となると
ともに、エポキシ化反応の進行に伴って生成した水をポ
リアクリル酸塩樹脂内に吸蔵させることにより、スチレ
ンオキサイドの加水分解を抑制し、高収率且つ高選択率
で目的とするスチレンオキサイドを得ることが可能とな
る。本発明に使用する過酸化水素は慣用のものでよく、
通常その濃度が５〜９０重量％の水溶液のものを使用す
ることができるが、入手の容易な１０〜７０重量％のも
のを使用するのが好ましい。本発明に使用するポリアク
リル酸塩樹脂を構成する塩としては、ナトリウム塩、カ
リウム塩、リチウムのいずれでもよいが、入手の容易な
ナトリウム塩の使用が好ましい。又、液状品、粉状品の
いずれも使用可能であるが、取扱いが簡便な粉状品の使
用が好ましい。
【０００９】本発明では過酸化水素をポリアクリル酸塩
樹脂中に存在させて触媒として用いるが、その際モリブ
デン酸塩も共存させる。モリブデン酸塩としてはモリブ
デン酸アンモニウム、モリブデン酸バリウム、モリブデ
ン酸マンガン、モリブデン酸マグネシウム等が好ましく
用いられる。これらは単独で用いてもまた２種以上を併
用してもよい。またポリアクリル酸エステル樹脂中にさ
らに無機酸中性塩を共存させることにより、副反応を抑
制し目的物であるスチレンオキサイドをより高選択率で
製造することができる。
樹脂中に存在させて触媒として用いるが、その際モリブ
デン酸塩も共存させる。モリブデン酸塩としてはモリブ
デン酸アンモニウム、モリブデン酸バリウム、モリブデ
ン酸マンガン、モリブデン酸マグネシウム等が好ましく
用いられる。これらは単独で用いてもまた２種以上を併
用してもよい。またポリアクリル酸エステル樹脂中にさ
らに無機酸中性塩を共存させることにより、副反応を抑
制し目的物であるスチレンオキサイドをより高選択率で
製造することができる。
【００１０】無機酸中性塩としては硫酸ナトリウム、硫
酸カリウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カリウム等
が好ましく用いられる。これらは単独で用いてもまた２
種以上を併用してもよい。過酸化水素等をポリアクリル
酸塩樹脂に吸蔵固定させる方法は特に制限されないが、
上記した過酸化水素水溶液に無機酸中性塩を１０〜８０
重量％、モリブデン酸塩を１０〜２０重量％溶解した
後、１０〜４０重量％のポリアクリル酸塩樹脂を混合し
て吸蔵固定することが好ましい。
酸カリウム、過塩素酸ナトリウム、過塩素酸カリウム等
が好ましく用いられる。これらは単独で用いてもまた２
種以上を併用してもよい。過酸化水素等をポリアクリル
酸塩樹脂に吸蔵固定させる方法は特に制限されないが、
上記した過酸化水素水溶液に無機酸中性塩を１０〜８０
重量％、モリブデン酸塩を１０〜２０重量％溶解した
後、１０〜４０重量％のポリアクリル酸塩樹脂を混合し
て吸蔵固定することが好ましい。
【００１１】酸化ジアルキル錫触媒としては適宜公知の
酸化ジアルキル錫触媒を用いうる。アルキル基としては
通常炭素数が１２以下のものが用いられる。特に好まし
い酸化ジアルキル錫触媒としては酸化ジオクチル錫、酸
化ジブチル錫がある。ポリアクリル酸塩樹脂に吸蔵固定
した過酸化水素とスチレンを反応させるにあたり、スチ
レンと過酸化水素との比率は等モル量でよいが、いずれ
か一方の原料を過少又は過大にすることもできる。例え
ばスチレン１モル当たり通常０．１〜３．０モル、好ま
しくは０．３〜２．０モルの過酸化水素を使用し得る。
酸化ジアルキル錫の使用量は、スチレン１モル当たり通
常０．０１〜０．２０モルが好ましい。
酸化ジアルキル錫触媒を用いうる。アルキル基としては
通常炭素数が１２以下のものが用いられる。特に好まし
い酸化ジアルキル錫触媒としては酸化ジオクチル錫、酸
化ジブチル錫がある。ポリアクリル酸塩樹脂に吸蔵固定
した過酸化水素とスチレンを反応させるにあたり、スチ
レンと過酸化水素との比率は等モル量でよいが、いずれ
か一方の原料を過少又は過大にすることもできる。例え
ばスチレン１モル当たり通常０．１〜３．０モル、好ま
しくは０．３〜２．０モルの過酸化水素を使用し得る。
酸化ジアルキル錫の使用量は、スチレン１モル当たり通
常０．０１〜０．２０モルが好ましい。
【００１２】本発明のエポキシ化反応は不均一系で行わ
れる。この不均一系は水と混和しない有機溶媒を用いて
形成される。具体的には、原料スチレン及び酸化生成物
であるスチレンオキサイドは水と混和しない有機溶媒に
溶解して存在し、過酸化水素及び反応で副生する水はポ
リアクリル酸塩樹脂相に内蔵され、有機溶媒相とポリア
クリル酸塩樹脂相の２相が形成される。水と混和しない
有機溶媒を用いることにより酸化生成物であるスチレン
オキサイドと水との接触及び加水分解を避けることがで
きる。本発明で使用される有機溶媒は、過酸化水素によ
る酸化反応に対して不活性であって水と混和しないもの
であれば特に制限されないが、その具体例としては、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエ
タン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、モノク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン等が挙げられる。反応温度は
使用される有機溶媒の沸騰温度以下であれば特に制限さ
れないが、好ましくは１０〜５０℃の範囲である。
れる。この不均一系は水と混和しない有機溶媒を用いて
形成される。具体的には、原料スチレン及び酸化生成物
であるスチレンオキサイドは水と混和しない有機溶媒に
溶解して存在し、過酸化水素及び反応で副生する水はポ
リアクリル酸塩樹脂相に内蔵され、有機溶媒相とポリア
クリル酸塩樹脂相の２相が形成される。水と混和しない
有機溶媒を用いることにより酸化生成物であるスチレン
オキサイドと水との接触及び加水分解を避けることがで
きる。本発明で使用される有機溶媒は、過酸化水素によ
る酸化反応に対して不活性であって水と混和しないもの
であれば特に制限されないが、その具体例としては、ジ
クロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、ジクロロエ
タン、トリクロロエタン、テトラクロロエタン、モノク
ロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン、メシチレン等が挙げられる。反応温度は
使用される有機溶媒の沸騰温度以下であれば特に制限さ
れないが、好ましくは１０〜５０℃の範囲である。
【００１３】
【実施例】以下に本発明の実施例及び比較例を挙げ、本
発明をより一層明瞭なものとするが、本発明はこれらの
実施例により何ら限定されるものではない。
発明をより一層明瞭なものとするが、本発明はこれらの
実施例により何ら限定されるものではない。
【００１４】比較例１ 容量５０ｍｌの三角フラスコにスチレン４４ミリモル、
クロロホルム１０ｍｌ、モリブデン酸マグネシウム０．
２ｇ、過塩素酸ナトリウム１．０ｇ、酸化ジオクチル
２．０ミリモル、及び６０％過酸化水素４４ミリモルを
添加し、２５℃の振盪型恒温槽に浸漬し、２４時間反応
させた。スチレン及びスチレンオキサイドはガスクロマ
トグラフィー法により、残存過酸化水素はヨードメトリ
ー容量分析法によりそれぞれ分析した。結果は表１に示
した。
クロロホルム１０ｍｌ、モリブデン酸マグネシウム０．
２ｇ、過塩素酸ナトリウム１．０ｇ、酸化ジオクチル
２．０ミリモル、及び６０％過酸化水素４４ミリモルを
添加し、２５℃の振盪型恒温槽に浸漬し、２４時間反応
させた。スチレン及びスチレンオキサイドはガスクロマ
トグラフィー法により、残存過酸化水素はヨードメトリ
ー容量分析法によりそれぞれ分析した。結果は表１に示
した。
【００１５】実施例１ 容量５０ｍｌの三角フラスコに６０％過酸化水素４４ミ
リモル、モリブデン酸マグネシウム０．２ｇを加え、室
温で攪拌溶解後、重合度１５０００〜２００００の粉末
状ポリアクリル酸ナトリウム０．４ｇを加えて溶液を吸
蔵させた。これにクロロホルム１０ｍｌ、スチレン４４
ミリモル、酸化ジオクチル錫２．０ミリモルを加えた
後、２５℃の振盪型恒温槽に浸漬し、２４時間反応させ
た。スチレン及びスチレンオキサイドはガスクロマトグ
ラフィー法により、残存過酸化水素はヨードメトリー容
量分析法によりそれぞれ分析した。結果は表１に示し
た。
リモル、モリブデン酸マグネシウム０．２ｇを加え、室
温で攪拌溶解後、重合度１５０００〜２００００の粉末
状ポリアクリル酸ナトリウム０．４ｇを加えて溶液を吸
蔵させた。これにクロロホルム１０ｍｌ、スチレン４４
ミリモル、酸化ジオクチル錫２．０ミリモルを加えた
後、２５℃の振盪型恒温槽に浸漬し、２４時間反応させ
た。スチレン及びスチレンオキサイドはガスクロマトグ
ラフィー法により、残存過酸化水素はヨードメトリー容
量分析法によりそれぞれ分析した。結果は表１に示し
た。
【００１６】実施例２ 容量５０ｍｌの三角フラスコに６０％過酸化水素４４ミ
リモル、過塩素酸ナトリウム１．０ｇ、モリブデン酸マ
グネシウム０．２ｇを加え、室温で攪拌溶解後、重合度
１５０００〜２００００の粉末状ポリアクリル酸ナトリ
ウム０．４ｇを加えて溶液を吸蔵させた。これにクロロ
ホルム１０ｍｌ、スチレン４４ミリモル、酸化ジオクチ
ル錫２．０ミリモルを加えた後、２５℃の振盪型恒温槽
に浸漬し、２４時間反応させた。実施例１に従って反応
液を分析し、結果を表１に示した。
リモル、過塩素酸ナトリウム１．０ｇ、モリブデン酸マ
グネシウム０．２ｇを加え、室温で攪拌溶解後、重合度
１５０００〜２００００の粉末状ポリアクリル酸ナトリ
ウム０．４ｇを加えて溶液を吸蔵させた。これにクロロ
ホルム１０ｍｌ、スチレン４４ミリモル、酸化ジオクチ
ル錫２．０ミリモルを加えた後、２５℃の振盪型恒温槽
に浸漬し、２４時間反応させた。実施例１に従って反応
液を分析し、結果を表１に示した。
【００１７】実施例３ 容量５０ｍｌの三角フラスコに６０％過酸化水素２２ミ
リモル、硫酸ナトリウム０．５ｇ、モリブデン酸アンモ
ニウム０．１ｇを加え、室温で攪拌溶解後、重合度１５
０００〜２００００の粉末状ポリアクリル酸ナトリウム
０．４ｇを加えて溶液を吸蔵させた。これに、ベンゼン
１０ｍｌ、スチレン４４ミリモル、酸化ジブチル２．０
ミリモルを加えた後、２５℃の振盪型恒温槽に浸漬し、
２４時間反応させた。実施例１に従って反応液を分析
し、結果を表１に示した。
リモル、硫酸ナトリウム０．５ｇ、モリブデン酸アンモ
ニウム０．１ｇを加え、室温で攪拌溶解後、重合度１５
０００〜２００００の粉末状ポリアクリル酸ナトリウム
０．４ｇを加えて溶液を吸蔵させた。これに、ベンゼン
１０ｍｌ、スチレン４４ミリモル、酸化ジブチル２．０
ミリモルを加えた後、２５℃の振盪型恒温槽に浸漬し、
２４時間反応させた。実施例１に従って反応液を分析
し、結果を表１に示した。
【００１８】実施例４ 容量５０ｍｌの三角フラスコに３５％過酸化水素４４ミ
リモル、過塩素酸ナトリウム１．０ｇ、モリブデン酸マ
グネシウム０．２ｇを加え、室温で攪拌溶解後、重合度
１５０００〜２００００の粉末状ポリアクリル酸ナトリ
ウム０．６ｇを加えて溶液を吸蔵させた。これに、モノ
クロロベンゼン２０ｍｌ、スチレン４４ミリモル、酸化
ジオクチル２．０ミリモルを加えた後、２５℃の振盪型
恒温槽に浸漬し、２４時間反応させた。実施例１に従っ
て反応液を分析し、結果を表１に示した。
リモル、過塩素酸ナトリウム１．０ｇ、モリブデン酸マ
グネシウム０．２ｇを加え、室温で攪拌溶解後、重合度
１５０００〜２００００の粉末状ポリアクリル酸ナトリ
ウム０．６ｇを加えて溶液を吸蔵させた。これに、モノ
クロロベンゼン２０ｍｌ、スチレン４４ミリモル、酸化
ジオクチル２．０ミリモルを加えた後、２５℃の振盪型
恒温槽に浸漬し、２４時間反応させた。実施例１に従っ
て反応液を分析し、結果を表１に示した。
【００１９】
【表１】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 仁藤 浩久 静岡県富士市富士岡580番地 東海電化工 業株式会社吉原工場内
Claims (5)
- 【請求項１】 スチレンを過酸化水素によって酸化して
スチレンオキサイドを製造する方法において、モリブデ
ン酸塩と共にポリアクリル酸塩樹脂に吸蔵固定化させた
過酸化水素を用い、酸化ジアルキル錫の存在下に、不均
一系で、スチレンを酸化することを特徴とするスチレン
オキサイドの製造方法。 - 【請求項２】 ポリアクリル酸塩樹脂にさらに無機酸中
性塩を存在させる請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 モリブデン酸塩がモリブデン酸アンモニ
ウム、モリブデン酸バリウム、モリブデン酸マンガン又
はモリブデン酸マグネシウムである請求項１又は２記載
の方法。 - 【請求項４】 酸化ジアルキル錫が酸化ジオクチル錫又
は酸化ジブチル錫である請求項１〜３のいずれか１項記
載の方法。 - 【請求項５】 無機酸中性塩が硫酸ナトリウム、硫酸カ
リウム、過塩素酸ナトリウム又は過塩素酸カルシウムで
ある請求項２〜４のいずれか１項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7134626A JP3052046B2 (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | スチレンオキサイドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7134626A JP3052046B2 (ja) | 1995-04-25 | 1995-04-25 | スチレンオキサイドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08295681A true JPH08295681A (ja) | 1996-11-12 |
| JP3052046B2 JP3052046B2 (ja) | 2000-06-12 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
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Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP3052046B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100730318B1 (ko) * | 2006-04-25 | 2007-06-20 | 안대준 | 할로겐 치환 또는 비치환 스타이렌 옥사이드의 제조방법 |
-
1995
- 1995-04-25 JP JP7134626A patent/JP3052046B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100730318B1 (ko) * | 2006-04-25 | 2007-06-20 | 안대준 | 할로겐 치환 또는 비치환 스타이렌 옥사이드의 제조방법 |
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| Publication number | Publication date |
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