JPH08294626A - 排ガス浄化用触媒 - Google Patents
排ガス浄化用触媒Info
- Publication number
- JPH08294626A JPH08294626A JP7102183A JP10218395A JPH08294626A JP H08294626 A JPH08294626 A JP H08294626A JP 7102183 A JP7102183 A JP 7102183A JP 10218395 A JP10218395 A JP 10218395A JP H08294626 A JPH08294626 A JP H08294626A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- exhaust gas
- catalyst
- carrier
- purifying catalyst
- alumina
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】高価なＰｔやＲｈを使用することなく、かつス
トイキ近傍における三元触媒性能を従来と同等に維持す
るとともに、リッチ領域におけるＮＨ3 の生成を抑制す
る。 【構成】多孔質担体と、その担体に担持されたＰｄ及び
Ｒｅとを含んでなり、ＰｄとＲｅとは互いに合金化され
た状態で担持されていることを特徴とする。Ｒｅが原子
レベルでＨ2 とＮＯの反応によるＮＨ3 の生成を抑制す
る。
トイキ近傍における三元触媒性能を従来と同等に維持す
るとともに、リッチ領域におけるＮＨ3 の生成を抑制す
る。 【構成】多孔質担体と、その担体に担持されたＰｄ及び
Ｒｅとを含んでなり、ＰｄとＲｅとは互いに合金化され
た状態で担持されていることを特徴とする。Ｒｅが原子
レベルでＨ2 とＮＯの反応によるＮＨ3 の生成を抑制す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は自動車などの内燃機関か
ら排出される排ガス中に含まれる窒素酸化物（Ｎ
Ｏx ）、炭化水素（ＨＣ）及び一酸化炭素（ＣＯ）の三
成分を同時に浄化する排ガス浄化用触媒に関する。さら
に詳しくは、排ガス中の酸素濃度が排ガス浄化用触媒ガ
ス中の被酸化成分を酸化するのに必要な化学量論点（ス
トイキ）未満の還元雰囲気（リッチ領域）においてアン
モニアの発生を抑制できる排ガス浄化用触媒に関する。
ら排出される排ガス中に含まれる窒素酸化物（Ｎ
Ｏx ）、炭化水素（ＨＣ）及び一酸化炭素（ＣＯ）の三
成分を同時に浄化する排ガス浄化用触媒に関する。さら
に詳しくは、排ガス中の酸素濃度が排ガス浄化用触媒ガ
ス中の被酸化成分を酸化するのに必要な化学量論点（ス
トイキ）未満の還元雰囲気（リッチ領域）においてアン
モニアの発生を抑制できる排ガス浄化用触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術】自動車などの内燃機関から排出される排
ガス中には、ＮＯx ，ＨＣ，ＣＯの有害成分が含まれて
いる。そのため、これらの有害成分を還元又は酸化して
無害な成分に変化させる必要があり、従来より排ガス浄
化用触媒が排ガス流路に配置されて用いられている。
ガス中には、ＮＯx ，ＨＣ，ＣＯの有害成分が含まれて
いる。そのため、これらの有害成分を還元又は酸化して
無害な成分に変化させる必要があり、従来より排ガス浄
化用触媒が排ガス流路に配置されて用いられている。
【０００３】ＮＯx ，ＨＣ，ＣＯを同時に浄化する排ガ
ス浄化用触媒は一般に三元触媒と称され、例えばコージ
ェライトなどからなる耐熱性モノリス基材にγ−アルミ
ナからなる多孔質担体層を形成し、その多孔質担体層に
白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）などの触媒貴金属を担
持させたものが広く知られている。例えば特開平２−１
０７３３４号公報には、アルミニウム、セリウム、ニッ
ケル及びバリウムの酸化物からなりニッケルとバリウム
とは複合酸化物として含まれる担持層と、その担持層に
担持されたＰｔ，Ｐｄ，Ｒｈの少なくとも一種とからな
る排ガス浄化用触媒が開示されている。そして実施例で
はＰｔとＲｈが必ず含まれ、上記構成とすることにより
排ガス中のＮＯx 、ＨＣ及びＣＯを浄化できるととも
に、硫化水素の排出も防止できることが記載されてい
る。
ス浄化用触媒は一般に三元触媒と称され、例えばコージ
ェライトなどからなる耐熱性モノリス基材にγ−アルミ
ナからなる多孔質担体層を形成し、その多孔質担体層に
白金（Ｐｔ）、ロジウム（Ｒｈ）などの触媒貴金属を担
持させたものが広く知られている。例えば特開平２−１
０７３３４号公報には、アルミニウム、セリウム、ニッ
ケル及びバリウムの酸化物からなりニッケルとバリウム
とは複合酸化物として含まれる担持層と、その担持層に
担持されたＰｔ，Ｐｄ，Ｒｈの少なくとも一種とからな
る排ガス浄化用触媒が開示されている。そして実施例で
はＰｔとＲｈが必ず含まれ、上記構成とすることにより
排ガス中のＮＯx 、ＨＣ及びＣＯを浄化できるととも
に、硫化水素の排出も防止できることが記載されてい
る。
【０００４】しかしながらＲｈは高価な金属であり、白
金族元素の中ではＰｔもＲｈに次いで高価であるため、
ＰｔとＲｈを含む排ガス浄化用触媒はきわめて高価とな
るという問題があった。そのためＰｔやＲｈを含まず
に、ＰｔやＲｈを含むものと同等の浄化性能をもつ排ガ
ス浄化用触媒の開発が求められていた。そこで特開平６
−９９０６９号公報には、パラジウム（Ｐｄ）、活性ア
ルミナ、酸化セリウム及び酸化バリウムを担持した排ガ
ス浄化用触媒が開示されている。この排ガス浄化用触媒
によれば、活性アルミナ、酸化セリウム及び酸化バリウ
ムがＰｄの触媒作用を補助促進するため、ＰｔやＲｈを
含む三元触媒と同等の浄化性能を示す。しかもＰｄはＰ
ｔやＲｈに比べて安価であるので、安価な排ガス浄化用
触媒となる。
金族元素の中ではＰｔもＲｈに次いで高価であるため、
ＰｔとＲｈを含む排ガス浄化用触媒はきわめて高価とな
るという問題があった。そのためＰｔやＲｈを含まず
に、ＰｔやＲｈを含むものと同等の浄化性能をもつ排ガ
ス浄化用触媒の開発が求められていた。そこで特開平６
−９９０６９号公報には、パラジウム（Ｐｄ）、活性ア
ルミナ、酸化セリウム及び酸化バリウムを担持した排ガ
ス浄化用触媒が開示されている。この排ガス浄化用触媒
によれば、活性アルミナ、酸化セリウム及び酸化バリウ
ムがＰｄの触媒作用を補助促進するため、ＰｔやＲｈを
含む三元触媒と同等の浄化性能を示す。しかもＰｄはＰ
ｔやＲｈに比べて安価であるので、安価な排ガス浄化用
触媒となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ところで従来の三元触
媒の使用に際しては、エンジンと排ガス処理系に酸素セ
ンサを含んだシステムが構築され、空燃比（Ａ／Ｆ）を
化学量論点（ストイキ）近傍に制御している。すなわ
ち、酸素センサにより排ガス中の酸素濃度を検出し、そ
の検出値によりエンジンへ供給される燃料量をフィード
バック制御することで、空燃比を常にストイキ近傍に制
御できる仕組みとなっている。
媒の使用に際しては、エンジンと排ガス処理系に酸素セ
ンサを含んだシステムが構築され、空燃比（Ａ／Ｆ）を
化学量論点（ストイキ）近傍に制御している。すなわ
ち、酸素センサにより排ガス中の酸素濃度を検出し、そ
の検出値によりエンジンへ供給される燃料量をフィード
バック制御することで、空燃比を常にストイキ近傍に制
御できる仕組みとなっている。
【０００６】ところが、例えば市街地走行における頻繁
な加速・減速の繰り返し時などには、エンジンの運転条
件の変動により空燃比がストイキからずれる場合があ
る。そして空燃比がストイキより大きい場合（リーン領
域）には、酸素が充分存在するため排ガス組成は酸化性
雰囲気となり、空燃比がストイキより小さい場合（リッ
チ領域）には、ＨＣやＣＯが多くなって排ガス組成は還
元性雰囲気となる。
な加速・減速の繰り返し時などには、エンジンの運転条
件の変動により空燃比がストイキからずれる場合があ
る。そして空燃比がストイキより大きい場合（リーン領
域）には、酸素が充分存在するため排ガス組成は酸化性
雰囲気となり、空燃比がストイキより小さい場合（リッ
チ領域）には、ＨＣやＣＯが多くなって排ガス組成は還
元性雰囲気となる。
【０００７】そして特に還元性雰囲気の著しい排ガス
が、特開平２−１０７３３４号公報や特開平６−９９０
６９号公報などに開示の三元触媒に流入した場合には、
排ガス中のＮＯx は還元されるもののＮ2 とはならず、
アンモニア（ＮＨ3 ）が生成して排出される恐れがあっ
た。本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであ
り、高価なＰｔやＲｈを使用することなく、かつストイ
キ近傍におけるＮＯx ，ＨＣ，ＣＯの浄化率を従来の三
元触媒と同等に維持するとともに、ストイキ近傍のリッ
チ領域におけるアンモニアの発生を抑制することを目的
とする。
が、特開平２−１０７３３４号公報や特開平６−９９０
６９号公報などに開示の三元触媒に流入した場合には、
排ガス中のＮＯx は還元されるもののＮ2 とはならず、
アンモニア（ＮＨ3 ）が生成して排出される恐れがあっ
た。本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであ
り、高価なＰｔやＲｈを使用することなく、かつストイ
キ近傍におけるＮＯx ，ＨＣ，ＣＯの浄化率を従来の三
元触媒と同等に維持するとともに、ストイキ近傍のリッ
チ領域におけるアンモニアの発生を抑制することを目的
とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決する本発
明の排ガス浄化用触媒は、多孔質担体と、その担体に担
持されたＰｄ及びＲｅとよりなり、ＰｄとＲｅとは互い
に合金化された状態で担持されていることを特徴とす
る。また第２発明の排気ガス浄化触媒は、第１発明の排
ガス浄化用触媒においてＲｅとＰｄの担持量はモル比で
０．１≦Ｒｅ／Ｐｄ≦１０であることを特徴とする。
明の排ガス浄化用触媒は、多孔質担体と、その担体に担
持されたＰｄ及びＲｅとよりなり、ＰｄとＲｅとは互い
に合金化された状態で担持されていることを特徴とす
る。また第２発明の排気ガス浄化触媒は、第１発明の排
ガス浄化用触媒においてＲｅとＰｄの担持量はモル比で
０．１≦Ｒｅ／Ｐｄ≦１０であることを特徴とする。
【０００９】
【作用】ストイキ近傍のリッチ領域においてＮＨ3 が発
生する反応機構は、排ガス中に含まれるＨ2 あるいは
（１）式の反応によって生成するＨ2 により、（２）式
及び（３）式のような還元反応が進行するものと考えら
れる。 ＣＯ＋Ｈ2 Ｏ → ＣＯ2 ＋Ｈ2 （１） ＮＯx ＋Ｈ2 → Ｎ2 ＋Ｈ2 Ｏ （２） ＮＯ＋5/2 Ｈ2 → ＮＨ3 ＋Ｈ2 Ｏ （３） 第１発明の排ガス浄化用触媒に担持されているＲｅはＮ
ＯからＮＨ3 を生成する上記（３）式記載の反応を抑制
する性質があると推定され、このためストイキ近傍のリ
ッチ領域でのＮＨ3 の生成が抑制されると考えられる。
さらにＰｄとＲｅとは互いに合金化された状態で担持さ
れている。つまりＲｅとＰｄとは原子レベルで近接配置
されているので、Ｐｄ表面における上記（３）式の反応
がＲｅによって効率よく抑制されると考えられる。そし
て担持されたＰｄ−Ｒｅ合金粒子表面における触媒反応
により、ＮＯは選択的にＮ2 に還元されるようになる。
生する反応機構は、排ガス中に含まれるＨ2 あるいは
（１）式の反応によって生成するＨ2 により、（２）式
及び（３）式のような還元反応が進行するものと考えら
れる。 ＣＯ＋Ｈ2 Ｏ → ＣＯ2 ＋Ｈ2 （１） ＮＯx ＋Ｈ2 → Ｎ2 ＋Ｈ2 Ｏ （２） ＮＯ＋5/2 Ｈ2 → ＮＨ3 ＋Ｈ2 Ｏ （３） 第１発明の排ガス浄化用触媒に担持されているＲｅはＮ
ＯからＮＨ3 を生成する上記（３）式記載の反応を抑制
する性質があると推定され、このためストイキ近傍のリ
ッチ領域でのＮＨ3 の生成が抑制されると考えられる。
さらにＰｄとＲｅとは互いに合金化された状態で担持さ
れている。つまりＲｅとＰｄとは原子レベルで近接配置
されているので、Ｐｄ表面における上記（３）式の反応
がＲｅによって効率よく抑制されると考えられる。そし
て担持されたＰｄ−Ｒｅ合金粒子表面における触媒反応
により、ＮＯは選択的にＮ2 に還元されるようになる。
【００１０】また第２発明の排ガス浄化用触媒では、第
１発明の排ガス浄化用触媒においてＲｅとＰｄの担持量
はモル比で０．１≦Ｒｅ／Ｐｄ≦１０となっている。こ
のモル比が０．１未満となると、Ｒｅが少な過ぎてＲｅ
の上記作用が顕れずＮＨ3 の生成を抑制するのが困難と
なる。またモル比が１０を超えると触媒活性そのものが
低下し、ＮＯx ，ＨＣ及びＣＯの浄化率が低下する。特
に好ましい範囲は０．５≦Ｒｅ／Ｐｄ≦１．５の範囲で
ある。
１発明の排ガス浄化用触媒においてＲｅとＰｄの担持量
はモル比で０．１≦Ｒｅ／Ｐｄ≦１０となっている。こ
のモル比が０．１未満となると、Ｒｅが少な過ぎてＲｅ
の上記作用が顕れずＮＨ3 の生成を抑制するのが困難と
なる。またモル比が１０を超えると触媒活性そのものが
低下し、ＮＯx ，ＨＣ及びＣＯの浄化率が低下する。特
に好ましい範囲は０．５≦Ｒｅ／Ｐｄ≦１．５の範囲で
ある。
【００１１】
〔発明の具体例〕多孔質担体としては、アルミナ、チタ
ニア、シリカ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、ゼオラ
イトなどの無機多孔質担体を用いることができる。中で
も耐熱性が高く活性が高いアルミナが特に好ましい。
ニア、シリカ、シリカ−アルミナ、ジルコニア、ゼオラ
イトなどの無機多孔質担体を用いることができる。中で
も耐熱性が高く活性が高いアルミナが特に好ましい。
【００１２】多孔質担体に担持されたＰｄの担持量は、
担体がアルミナの場合、担体１００ｇあたり０．１〜１
０ｇの範囲が望ましい。０．１ｇ未満では所望の触媒活
性が得られず、１０ｇを超えて担持しても効果が飽和す
るばかりか材料コストが増大するため好ましくない。Ｐ
ｄとＲｅの合金形態は、それぞれが同一粒子内に存在す
ればよく、合金化の形態は制限されない。例えば合金の
組織状態として固溶体、共融混合物又は化合物、あるい
はそれらの混合物、もしくはアモルファス状態などが挙
げられるが、前述のようにＰｄとＲｅが原子レベルで互
いに近接配置されてなる形態であればどのような組織状
態であってもよい。
担体がアルミナの場合、担体１００ｇあたり０．１〜１
０ｇの範囲が望ましい。０．１ｇ未満では所望の触媒活
性が得られず、１０ｇを超えて担持しても効果が飽和す
るばかりか材料コストが増大するため好ましくない。Ｐ
ｄとＲｅの合金形態は、それぞれが同一粒子内に存在す
ればよく、合金化の形態は制限されない。例えば合金の
組織状態として固溶体、共融混合物又は化合物、あるい
はそれらの混合物、もしくはアモルファス状態などが挙
げられるが、前述のようにＰｄとＲｅが原子レベルで互
いに近接配置されてなる形態であればどのような組織状
態であってもよい。
【００１３】本発明の排ガス浄化用触媒は、その形状に
制限はなく、モノリス型及びペレット型などを用いるこ
とができる。例えばモノリス型の触媒を製造するには、
コージェライト製などのモノリス基材にアルミナなどの
多孔質担体からコート層を形成し、そのコート層にＰｄ
とＲｅを合金状態で担持することで製造できる。基材と
しては、金属箔から形成されたメタル担体基材を用いる
こともできる。
制限はなく、モノリス型及びペレット型などを用いるこ
とができる。例えばモノリス型の触媒を製造するには、
コージェライト製などのモノリス基材にアルミナなどの
多孔質担体からコート層を形成し、そのコート層にＰｄ
とＲｅを合金状態で担持することで製造できる。基材と
しては、金属箔から形成されたメタル担体基材を用いる
こともできる。
【００１４】また、多孔質担体のコート層中にセリアや
炭酸ランタン、酢酸バリウムなどを含んでもよい。セリ
アは酸素吸蔵・放出作用を有するので、雰囲気がストイ
キからずれた際に酸素を吸蔵・放出することで雰囲気を
ストイキに保持できる効果がある。セリアの含有量とし
ては、例えばアルミナ担体１００ｇに対して５０〜１５
０ｇが適当である。またバリウムやランタンは、Ｐｄと
の電子的な相互作用によりＰｄの触媒活性を高める作用
があり、それぞれアルミナ担体１００ｇ当たり０．２モ
ル又は３０ｇ程度の含有量が適当である。
炭酸ランタン、酢酸バリウムなどを含んでもよい。セリ
アは酸素吸蔵・放出作用を有するので、雰囲気がストイ
キからずれた際に酸素を吸蔵・放出することで雰囲気を
ストイキに保持できる効果がある。セリアの含有量とし
ては、例えばアルミナ担体１００ｇに対して５０〜１５
０ｇが適当である。またバリウムやランタンは、Ｐｄと
の電子的な相互作用によりＰｄの触媒活性を高める作用
があり、それぞれアルミナ担体１００ｇ当たり０．２モ
ル又は３０ｇ程度の含有量が適当である。
【００１５】本発明の排ガス浄化用触媒を形成するに
は、例えばコージェライト製のモノリス基材にアルミナ
などからなるスラリーをコートし、ＰｄとＲｅをそれぞ
れ含浸担持する。そして水素などを含む還元性雰囲気に
おいて３００℃以上の温度で加熱して還元処理を行うこ
とにより、ＰｄとＲｅを合金化することができる。 〔実施例〕以下、実施例により具体的に説明する。 （実施例１） （１）排ガス浄化用触媒粉末の調製 アルミナ担体粉末５．０ｇに濃度５０ｇ／ｌの硝酸パラ
ジウム水溶液２．５ｍｌを加え、さらに蒸留水を約５０
ｍｌ加えた後、室温で５時間攪拌した。得られた懸濁液
を１１０℃で一晩加熱して乾燥させ、大気中にて５００
℃で３時間焼成してＰｄ担持アルミナ粉末を調製した。
Ｐｄの担持量は、アルミナ担体１００ｇ当たり金属パラ
ジウムとして２．５ｇである。
は、例えばコージェライト製のモノリス基材にアルミナ
などからなるスラリーをコートし、ＰｄとＲｅをそれぞ
れ含浸担持する。そして水素などを含む還元性雰囲気に
おいて３００℃以上の温度で加熱して還元処理を行うこ
とにより、ＰｄとＲｅを合金化することができる。 〔実施例〕以下、実施例により具体的に説明する。 （実施例１） （１）排ガス浄化用触媒粉末の調製 アルミナ担体粉末５．０ｇに濃度５０ｇ／ｌの硝酸パラ
ジウム水溶液２．５ｍｌを加え、さらに蒸留水を約５０
ｍｌ加えた後、室温で５時間攪拌した。得られた懸濁液
を１１０℃で一晩加熱して乾燥させ、大気中にて５００
℃で３時間焼成してＰｄ担持アルミナ粉末を調製した。
Ｐｄの担持量は、アルミナ担体１００ｇ当たり金属パラ
ジウムとして２．５ｇである。
【００１６】次に０．２７３ｇの酸化レニウムを５０ｍ
ｌの蒸留水に溶解し、上記Ｐｄ担持アルミナ粉末５．０
ｇを加えて室温で約５時間攪拌し、得られた懸濁液を１
１０℃で一晩加熱して乾燥させ、Ｒｅを担持した。Ｒｅ
はＰｄと等モル量で担持された。得られた粉末を、水素
ガスを１０体積％含む窒素ガス中にて５００℃で３時間
加熱して還元処理を行うことにより、ＰｄとＲｅをアル
ミナ担体上で合金化し、実施例１の排ガス浄化用触媒粉
末を得た。 （２）試験例 通常の常圧固定床流通式の反応装置を用い、モデルガス
にて触媒活性を試験・評価した。つまり触媒粉末０．５
ｇを反応装置内に配置し、表１に示すリッチ領域からリ
ーン領域までの２３種類の排気モデルガスを用い、４０
０℃にて３．３リットル／ｍｉｎの流量で流して、Ｈ
Ｃ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率と、ＮＨ3 の生成率を測定
した。ＮＨ3 の生成率は、反応装置に流入したモデルガ
ス中の消費されたＮＯの量（ＮＯ浄化率）に対する生成
したＮＨ3 の量の割合を算出した。各領域におけるＨ
Ｃ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率の測定結果とＮＨ3 の生成
率を図１に示す。
ｌの蒸留水に溶解し、上記Ｐｄ担持アルミナ粉末５．０
ｇを加えて室温で約５時間攪拌し、得られた懸濁液を１
１０℃で一晩加熱して乾燥させ、Ｒｅを担持した。Ｒｅ
はＰｄと等モル量で担持された。得られた粉末を、水素
ガスを１０体積％含む窒素ガス中にて５００℃で３時間
加熱して還元処理を行うことにより、ＰｄとＲｅをアル
ミナ担体上で合金化し、実施例１の排ガス浄化用触媒粉
末を得た。 （２）試験例 通常の常圧固定床流通式の反応装置を用い、モデルガス
にて触媒活性を試験・評価した。つまり触媒粉末０．５
ｇを反応装置内に配置し、表１に示すリッチ領域からリ
ーン領域までの２３種類の排気モデルガスを用い、４０
０℃にて３．３リットル／ｍｉｎの流量で流して、Ｈ
Ｃ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率と、ＮＨ3 の生成率を測定
した。ＮＨ3 の生成率は、反応装置に流入したモデルガ
ス中の消費されたＮＯの量（ＮＯ浄化率）に対する生成
したＮＨ3 の量の割合を算出した。各領域におけるＨ
Ｃ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率の測定結果とＮＨ3 の生成
率を図１に示す。
【００１７】なお、表１において、λはλ＝空燃比（Ａ
／Ｆ）／１４．６で算出される値であり、λ＜１．０が
リッチ領域、λ＝１．０がストイキ、λ＞１．０がリー
ン領域である。また試験Ｎｏ．１のリッチ領域（λ＝
０．９６）におけるモデルガス中のＮＯ量と生成したＮ
Ｈ3 量から、Ｈ2 が選択的にＮＯと結びついてＮ2 を生
成した割合（Ｎ2 選択性）を算出し、結果を表２に示
す。さらに試験Ｎｏ．１２のストイキ（λ＝１．０）に
おけるＨＣ，ＣＯ及びＮＯの浄化率を表３に示す。
／Ｆ）／１４．６で算出される値であり、λ＜１．０が
リッチ領域、λ＝１．０がストイキ、λ＞１．０がリー
ン領域である。また試験Ｎｏ．１のリッチ領域（λ＝
０．９６）におけるモデルガス中のＮＯ量と生成したＮ
Ｈ3 量から、Ｈ2 が選択的にＮＯと結びついてＮ2 を生
成した割合（Ｎ2 選択性）を算出し、結果を表２に示
す。さらに試験Ｎｏ．１２のストイキ（λ＝１．０）に
おけるＨＣ，ＣＯ及びＮＯの浄化率を表３に示す。
【００１８】
【表１】 （単位：ｖｏｌ％） （比較例１）Ｒｅを担持せず、したがって合金化処理も
行わなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例
１の排ガス浄化用触媒粉末を調製した。そして、実施例
１と同様にして各領域におけるＮＯ，ＨＣ及びＣＯの各
浄化率とＮＨ3 の生成率を測定し、結果を図２に示す。
また実施例１と同様にしてＮ2 選択性を測定し、結果を
表２に示す。さらに試験Ｎｏ．１２のストイキにおける
ＨＣ，ＣＯ及びＮＯの浄化率を表３に示す。 （比較例２）アルミナ担体粉末５．０ｇに濃度５０ｇ／
ｌの硝酸パラジウム水溶液５ｍｌを加え、さらに蒸留水
を約５０ｍｌ加えた後、室温で約５時間攪拌した。得ら
れた懸濁液を１１０℃で一晩加熱して乾燥させ、大気中
にて５００℃で３時間焼成してＰｄ担持アルミナ粉末を
調製した。Ｐｄの担持量は、アルミナ担体１００ｇ当た
り金属パラジウムとして５．０ｇである。
行わなかったこと以外は実施例１と同様にして、比較例
１の排ガス浄化用触媒粉末を調製した。そして、実施例
１と同様にして各領域におけるＮＯ，ＨＣ及びＣＯの各
浄化率とＮＨ3 の生成率を測定し、結果を図２に示す。
また実施例１と同様にしてＮ2 選択性を測定し、結果を
表２に示す。さらに試験Ｎｏ．１２のストイキにおける
ＨＣ，ＣＯ及びＮＯの浄化率を表３に示す。 （比較例２）アルミナ担体粉末５．０ｇに濃度５０ｇ／
ｌの硝酸パラジウム水溶液５ｍｌを加え、さらに蒸留水
を約５０ｍｌ加えた後、室温で約５時間攪拌した。得ら
れた懸濁液を１１０℃で一晩加熱して乾燥させ、大気中
にて５００℃で３時間焼成してＰｄ担持アルミナ粉末を
調製した。Ｐｄの担持量は、アルミナ担体１００ｇ当た
り金属パラジウムとして５．０ｇである。
【００１９】また別のアルミナ担体粉末５．０ｇに、金
属レニウム換算濃度で８８ｇ／ｌの酸化レニウム水溶液
５０ｍｌを加え、さらに蒸留水を約５０ｍｌ加えた後、
室温で５時間攪拌した。得られた懸濁液を１１０℃で一
晩加熱して乾燥させ、大気中にて５００℃で３時間焼成
してＲｅ担持アルミナ粉末を調製した。Ｒｅの担持量
は、アルミナ担体１００ｇ当たり金属レニウムとして
８．８ｇである。
属レニウム換算濃度で８８ｇ／ｌの酸化レニウム水溶液
５０ｍｌを加え、さらに蒸留水を約５０ｍｌ加えた後、
室温で５時間攪拌した。得られた懸濁液を１１０℃で一
晩加熱して乾燥させ、大気中にて５００℃で３時間焼成
してＲｅ担持アルミナ粉末を調製した。Ｒｅの担持量
は、アルミナ担体１００ｇ当たり金属レニウムとして
８．８ｇである。
【００２０】そしてＰｄ担持アルミナ粉末５０重量部に
対して、Ｒｅ担持アルミナ粉末５０重量部を混合し、比
較例２の排ガス浄化用触媒粉末を調製した。得られた触
媒粉末について、実施例１と同様にして各領域における
ＮＯの浄化率とＮＨ3 の生成率を測定し、結果を図３に
示す。また実施例１と同様にしてＮ 2 選択性を測定し、
結果を表２に示す。
対して、Ｒｅ担持アルミナ粉末５０重量部を混合し、比
較例２の排ガス浄化用触媒粉末を調製した。得られた触
媒粉末について、実施例１と同様にして各領域における
ＮＯの浄化率とＮＨ3 の生成率を測定し、結果を図３に
示す。また実施例１と同様にしてＮ 2 選択性を測定し、
結果を表２に示す。
【００２１】また試験Ｎｏ．１２のストイキにおけるＨ
Ｃ，ＣＯ及びＮＯの浄化率を表３に示す。
Ｃ，ＣＯ及びＮＯの浄化率を表３に示す。
【００２２】
【表２】
【００２３】
【表３】 （評価）図１〜図３の比較より、実施例１の触媒粉末は
リッチ領域においても比較例に比べて低いＮＨ3 生成率
を示していることがわかる。また表２からも、実施例１
の触媒粉末はλ＝０．９６のリッチ領域にて高いＮ2 選
択性を示し、比較例に比べてＮＨ3 の生成が抑制されて
いることが明らかであり、それはＰｄとＲｅを合金化し
た状態で担持したことに起因することが明らかである。
リッチ領域においても比較例に比べて低いＮＨ3 生成率
を示していることがわかる。また表２からも、実施例１
の触媒粉末はλ＝０．９６のリッチ領域にて高いＮ2 選
択性を示し、比較例に比べてＮＨ3 の生成が抑制されて
いることが明らかであり、それはＰｄとＲｅを合金化し
た状態で担持したことに起因することが明らかである。
【００２４】そして図１〜図３及び表３より実施例１の
触媒粉末はストイキにおいて高い三元活性を示し、高価
なＰｔやＲｈを用いずとも従来と同等の三元触媒性能を
有していることがわかる。 （実施例２）硝酸パラジウム水溶液及び酸化レニウム水
溶液の濃度と含浸量を変更したこと以外は実施例１と同
様にして、ＲｅとＰｄのモル比（Ｒｅ／Ｐｄ）が０（Ｐ
ｄのみ）、１及び１０の３水準の触媒粉末を調製した。
そしてλ＝０．９６のリッチ領域におけるＮ2 選択性を
実施例１と同様に測定・算出した。結果を表４に示す。
触媒粉末はストイキにおいて高い三元活性を示し、高価
なＰｔやＲｈを用いずとも従来と同等の三元触媒性能を
有していることがわかる。 （実施例２）硝酸パラジウム水溶液及び酸化レニウム水
溶液の濃度と含浸量を変更したこと以外は実施例１と同
様にして、ＲｅとＰｄのモル比（Ｒｅ／Ｐｄ）が０（Ｐ
ｄのみ）、１及び１０の３水準の触媒粉末を調製した。
そしてλ＝０．９６のリッチ領域におけるＮ2 選択性を
実施例１と同様に測定・算出した。結果を表４に示す。
【００２５】
【表４】 表４より、ＲｅとＰｄは等モル量程度で極大値を示して
いることがわかる。 （実施例の態様）上記実施例では便宜上触媒粉末を用い
て試験したが、この触媒粉末からスラリーを形成し、モ
ノリス担体基材、メタル担体基材あるいはペレット担体
基材にコートすることで実用の排ガス浄化用触媒を調製
しても、同様の効果が得られる。
いることがわかる。 （実施例の態様）上記実施例では便宜上触媒粉末を用い
て試験したが、この触媒粉末からスラリーを形成し、モ
ノリス担体基材、メタル担体基材あるいはペレット担体
基材にコートすることで実用の排ガス浄化用触媒を調製
しても、同様の効果が得られる。
【００２６】また、上記担体基材にアルミナなどの多孔
質担体のコート層を形成し、そのコート層にＰｄとＲｅ
を含浸担持した後に合金化することもできる。
質担体のコート層を形成し、そのコート層にＰｄとＲｅ
を含浸担持した後に合金化することもできる。
【００２７】
【発明の効果】すなわち本発明の排ガス浄化用触媒によ
れば、高価なＰｔやＲｈを用いずとも、従来の三元触媒
と同程度以上に優れた浄化性能が得られ、なおかつ、リ
ッチ領域におけるアンモニアの生成を抑制することがで
きる。
れば、高価なＰｔやＲｈを用いずとも、従来の三元触媒
と同程度以上に優れた浄化性能が得られ、なおかつ、リ
ッチ領域におけるアンモニアの生成を抑制することがで
きる。
【図１】実施例１の排ガス浄化用触媒の各空燃比におけ
るＨＣ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率とＮＨ3 の生成率の変
化を示すグラフである。
るＨＣ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率とＮＨ3 の生成率の変
化を示すグラフである。
【図２】比較例１の排ガス浄化用触媒の各空燃比におけ
るＨＣ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率とＮＨ3 の生成率の変
化を示すグラフである。
るＨＣ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率とＮＨ3 の生成率の変
化を示すグラフである。
【図３】比較例２の排ガス浄化用触媒の各空燃比におけ
るＨＣ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率とＮＨ3 の生成率の変
化を示すグラフである。
るＨＣ，ＣＯ及びＮＯの各浄化率とＮＨ3 の生成率の変
化を示すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項１】 多孔質担体と、該担体に担持されたパラ
ジウム及びレニウムとを含んでなり、パラジウムとレニ
ウムとは互いに合金化された状態で担持されていること
を特徴とする排ガス浄化用触媒。 - 【請求項２】 レニウムとパラジウムの担持量はモル比
で０．１≦Ｒｅ／Ｐｄ≦１０であることを特徴とする請
求項１記載の排ガス浄化用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7102183A JPH08294626A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 排ガス浄化用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7102183A JPH08294626A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 排ガス浄化用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08294626A true JPH08294626A (ja) | 1996-11-12 |
Family
ID=14320565
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7102183A Pending JPH08294626A (ja) | 1995-04-26 | 1995-04-26 | 排ガス浄化用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08294626A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009041028A1 (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-02 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | 鞍乗り型車両 |
| EP2008713A3 (en) * | 2007-06-19 | 2009-04-29 | Afton Chemical Corporation | Nanoalloys in emissions control after-treatment system |
-
1995
- 1995-04-26 JP JP7102183A patent/JPH08294626A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2008713A3 (en) * | 2007-06-19 | 2009-04-29 | Afton Chemical Corporation | Nanoalloys in emissions control after-treatment system |
| WO2009041028A1 (ja) * | 2007-09-27 | 2009-04-02 | Yamaha Hatsudoki Kabushiki Kaisha | 鞍乗り型車両 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4957896A (en) | Catalyst for purification of exhaust gases | |
| JP2979809B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒及びその製造方法 | |
| JP3311012B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒および排気ガス浄化方法 | |
| JPH0788371A (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 | |
| WO2007145152A1 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP3965676B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化システム | |
| JPH09215922A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| KR20100016049A (ko) | 배기 가스 정화용 촉매, 이를 이용한 배기 가스 정화 장치 및 배기 가스 정화 방법 | |
| JPH08117601A (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 | |
| JP2002326033A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP3789231B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP2003290629A (ja) | 排ガス浄化システム | |
| JP3800200B2 (ja) | 排ガス浄化方法及び排ガス浄化用触媒 | |
| JPH08294626A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP2002168117A (ja) | 排気ガス浄化システム | |
| JPH08281071A (ja) | 排ガス浄化方法及び排ガス浄化用触媒 | |
| JP3741297B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JPH0871424A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JPH08294624A (ja) | 排ガス浄化用触媒 | |
| JP3379125B2 (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JPH02191548A (ja) | 排気ガス浄化用触媒 | |
| JPH11244663A (ja) | 排ガス浄化装置 | |
| JPH08294625A (ja) | 排ガス浄化用触媒及び排ガス浄化方法 | |
| JP4441845B2 (ja) | Ｃｏシフト反応用触媒及び水素生成方法 | |
| JP4556084B2 (ja) | 排ガス浄化用触媒 |