JPH08291116A - ４−（４−アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法 - Google Patents
４−（４−アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法Info
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- JPH08291116A JPH08291116A JP7092042A JP9204295A JPH08291116A JP H08291116 A JPH08291116 A JP H08291116A JP 7092042 A JP7092042 A JP 7092042A JP 9204295 A JP9204295 A JP 9204295A JP H08291116 A JPH08291116 A JP H08291116A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 化合物(I)(R はC1-4アルキル基）をアンモニ
アの存在下に接触還元する工程を含む化合物(II)の製造
方法；並びに、化合物(III)(A はアルカリ金属）で示さ
れる塩と化合物(IV)(Xはハロゲン原子）とを反応させて
化合物(I) を製造する工程と化合物(I) をアンモニアの
存在下に接触還元する工程とを含む化合物(II)の製造方
法。 【化１】 【効果】殺虫・殺ダニ剤等の有効成分として有用な化合
物の製造中間体である化合物(II)を効率的かつ簡便に製
造することができる。
アの存在下に接触還元する工程を含む化合物(II)の製造
方法；並びに、化合物(III)(A はアルカリ金属）で示さ
れる塩と化合物(IV)(Xはハロゲン原子）とを反応させて
化合物(I) を製造する工程と化合物(I) をアンモニアの
存在下に接触還元する工程とを含む化合物(II)の製造方
法。 【化１】 【効果】殺虫・殺ダニ剤等の有効成分として有用な化合
物の製造中間体である化合物(II)を効率的かつ簡便に製
造することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬や農薬など、特に
殺虫、殺ダニ剤の有効成分として有用な化合物の製造中
間体である 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミン
類の製造方法に関するものである。
殺虫、殺ダニ剤の有効成分として有用な化合物の製造中
間体である 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミン
類の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】4-(4-アルキルフェノキシ）ベンゾニト
リル類の製造方法として、従来、下記の方法：(a) 4-ア
ルキルフェノールのナトリウム塩と4-ハロゲノベンゾニ
トリルとをヘキサアルキルグアニジウム塩の存在下に反
応させる方法（カナダ特許第 2034435号, 第 2044470
号, 及び米国特許第5132423 号など）；並びに (b) 4,
4'-ジメチルジフェニルオキサイドのアンモ酸化反応(Iz
v. Akad. Nauk. Kaz. SSR,Ser. Khim., 23(4), pp. 66-
69, 1973; 及び Zh. Org. Khim., 8(7), pp.1486-1490,
1972)が知られている。
リル類の製造方法として、従来、下記の方法：(a) 4-ア
ルキルフェノールのナトリウム塩と4-ハロゲノベンゾニ
トリルとをヘキサアルキルグアニジウム塩の存在下に反
応させる方法（カナダ特許第 2034435号, 第 2044470
号, 及び米国特許第5132423 号など）；並びに (b) 4,
4'-ジメチルジフェニルオキサイドのアンモ酸化反応(Iz
v. Akad. Nauk. Kaz. SSR,Ser. Khim., 23(4), pp. 66-
69, 1973; 及び Zh. Org. Khim., 8(7), pp.1486-1490,
1972)が知られている。
【０００３】上記(a) の製造方法では、高価なヘキサア
ルキルグアニジウム塩を用いるのでその回収または処理
が必須であり、そのための新たな工程が必要となるとい
う問題があった。また、(b) の方法では、反応中に 4,
4'-ジシアノジフェニルオキサイドが多量に副生するた
めに、反応自体が低収率であるという問題がある。
ルキルグアニジウム塩を用いるのでその回収または処理
が必須であり、そのための新たな工程が必要となるとい
う問題があった。また、(b) の方法では、反応中に 4,
4'-ジシアノジフェニルオキサイドが多量に副生するた
めに、反応自体が低収率であるという問題がある。
【０００４】一方、 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンジ
ルアミン類の合成法としては、N-[4-(4-アルキルフェノ
キシ）ベンジル] フタルイミドをヒドラジンヒドラート
で加水分解する方法（特開平3-81266 号公報参照）など
が知られている。しかしながら、この方法では、目的物
である 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミンとの
分離が困難なフタル酸ヒドラジドが多量に副生するの
で、目的物の精製が煩雑になるという問題があった。
ルアミン類の合成法としては、N-[4-(4-アルキルフェノ
キシ）ベンジル] フタルイミドをヒドラジンヒドラート
で加水分解する方法（特開平3-81266 号公報参照）など
が知られている。しかしながら、この方法では、目的物
である 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミンとの
分離が困難なフタル酸ヒドラジドが多量に副生するの
で、目的物の精製が煩雑になるという問題があった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、容易
に入手可能な化合物を原料化合物として用い、効率的か
つ安価に4-(4- アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類
を製造できる方法を提供することにある。また、本発明
の別の目的は、工業的な規模においても高収率かつ高純
度の4-(4- アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類を製
造できる方法を提供することにある。
に入手可能な化合物を原料化合物として用い、効率的か
つ安価に4-(4- アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類
を製造できる方法を提供することにある。また、本発明
の別の目的は、工業的な規模においても高収率かつ高純
度の4-(4- アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類を製
造できる方法を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記の課題
を解決すべく鋭意努力した結果、下記の一般式(I) で示
される化合物をアンモニアの存在下に接触還元すること
により、工業的な規模で効率的に目的化合物である式(I
I)の化合物（4-(4- アルキルフェノキシ）ベンジルアミ
ン類）を製造できることを見い出した。本発明は上記の
知見を基にして完成されたものである。
を解決すべく鋭意努力した結果、下記の一般式(I) で示
される化合物をアンモニアの存在下に接触還元すること
により、工業的な規模で効率的に目的化合物である式(I
I)の化合物（4-(4- アルキルフェノキシ）ベンジルアミ
ン類）を製造できることを見い出した。本発明は上記の
知見を基にして完成されたものである。
【０００７】すなわち本発明の第一の態様に従えば、一
般式(I) （式中、R はC1-4アルキル基を示す）で示され
る 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類をアン
モニアの存在下に接触還元する工程を含む一般式(II)
（式中、R は上記のとおりである）で示される 4-(4-ア
ルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法が提供
される。また、本発明の第二の態様によれば、下記の工
程：(A) 一般式(III) （式中、R はC1-4アルキル基を示
し、A はアルカリ金属を示す）で示されるフェノール類
金属塩と一般式(IV)（式中、X はハロゲン原子を示す）
で示されるベンゾニトリル類とを反応させて一般式(I)
の 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類を製造
する工程；及び(B) 上記工程(A) で得られた 4-(4-アル
キルフェノキシ）ベンゾニトリル類をアンモニアの存在
下に接触還元する工程を含む一般式(II)で示される 4-
(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法
が提供される。
般式(I) （式中、R はC1-4アルキル基を示す）で示され
る 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類をアン
モニアの存在下に接触還元する工程を含む一般式(II)
（式中、R は上記のとおりである）で示される 4-(4-ア
ルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法が提供
される。また、本発明の第二の態様によれば、下記の工
程：(A) 一般式(III) （式中、R はC1-4アルキル基を示
し、A はアルカリ金属を示す）で示されるフェノール類
金属塩と一般式(IV)（式中、X はハロゲン原子を示す）
で示されるベンゾニトリル類とを反応させて一般式(I)
の 4-(4-アルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類を製造
する工程；及び(B) 上記工程(A) で得られた 4-(4-アル
キルフェノキシ）ベンゾニトリル類をアンモニアの存在
下に接触還元する工程を含む一般式(II)で示される 4-
(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法
が提供される。
【０００８】本発明の第一の態様及び第二の態様をスキ
ームで示すと、以下のとおりである（スキーム中、R,
A, 及びX は上記のとおりである）。スキーム中、下段
の反応が本発明の第一の態様であり、上段及び下段の反
応が本発明の第二の態様に相当する。
ームで示すと、以下のとおりである（スキーム中、R,
A, 及びX は上記のとおりである）。スキーム中、下段
の反応が本発明の第一の態様であり、上段及び下段の反
応が本発明の第二の態様に相当する。
【化７】
【０００９】上記一般式(I), (II), (III), 及び(IV)の
化合物において、R はメチル基、エチル基、n-プロピル
基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-
ブチル基、 tert-ブチル基等の炭素数 1〜4 個(C1-4)の
直鎖または分枝のアルキル基を示す。これらのうち、そ
れぞれR がメチル基である化合物が好ましい。式(III)
の化合物においてA が示すアルカリ金属としては、リチ
ウム、カリウム、ナトリウム等を用いることができる。
X はハロゲン原子を示すが、ハロゲン原子としてはフッ
素、塩素、臭素、又は沃素のいずれを用いてもよい。
化合物において、R はメチル基、エチル基、n-プロピル
基、イソプロピル基、n-ブチル基、イソブチル基、sec-
ブチル基、 tert-ブチル基等の炭素数 1〜4 個(C1-4)の
直鎖または分枝のアルキル基を示す。これらのうち、そ
れぞれR がメチル基である化合物が好ましい。式(III)
の化合物においてA が示すアルカリ金属としては、リチ
ウム、カリウム、ナトリウム等を用いることができる。
X はハロゲン原子を示すが、ハロゲン原子としてはフッ
素、塩素、臭素、又は沃素のいずれを用いてもよい。
【００１０】フェノール誘導体の金属塩(III) とベンゾ
ニトリル類(IV)とを反応させて4-(4- アルキルフェノキ
シ）ベンゾニトリル類(I) を製造する工程（上記スキー
ム中の上段：工程(A))は、溶媒の存在下または非存在下
に行うことができるが、一般的には溶媒の存在下で反応
を行うことが好ましい。化合物(III) の使用量は特に限
定されないが、化合物(IV) 1モルに対して0.9 〜1.5 モ
ル程度の範囲とすることが好ましい。溶媒を用いる場
合、反応において不活性であれば溶媒の種類は特に限定
されないが、一般的には、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素またはN,N-ジメチルホルムアミ
ド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の極
性溶媒を用いることが好適である。反応は、通常 0〜20
0 ℃、好ましくは20〜180 ℃の温度範囲で行うことがで
きる。
ニトリル類(IV)とを反応させて4-(4- アルキルフェノキ
シ）ベンゾニトリル類(I) を製造する工程（上記スキー
ム中の上段：工程(A))は、溶媒の存在下または非存在下
に行うことができるが、一般的には溶媒の存在下で反応
を行うことが好ましい。化合物(III) の使用量は特に限
定されないが、化合物(IV) 1モルに対して0.9 〜1.5 モ
ル程度の範囲とすることが好ましい。溶媒を用いる場
合、反応において不活性であれば溶媒の種類は特に限定
されないが、一般的には、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素またはN,N-ジメチルホルムアミ
ド、N-メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド等の極
性溶媒を用いることが好適である。反応は、通常 0〜20
0 ℃、好ましくは20〜180 ℃の温度範囲で行うことがで
きる。
【００１１】本発明の第一の態様は、上記のようにして
得られる4-(4- アルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類
(I) をアンモニアの存在下に接触還元して、4-(4- アル
キルフェノキシ）ベンジルアミン類(II)を製造すること
を特徴としている（上記スキーム中の下段：工程(B))。
この反応を行うにあたり、上記工程(A) の生成物である
化合物(I) を単離・精製して用いてもよいが、工程(A)
で得られた化合物(I)を精製することなく本反応に用い
てもよい。精製した化合物(I) を原料として用いる場合
には、例えば、工程(A) の反応混合物を水中に注いで酢
酸エチルなどの溶媒で抽出し、有機相を減圧濃縮するこ
とにより目的物を単離し、さらに再結晶や蒸溜などの当
業者に周知の手段で精製すればよい。
得られる4-(4- アルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類
(I) をアンモニアの存在下に接触還元して、4-(4- アル
キルフェノキシ）ベンジルアミン類(II)を製造すること
を特徴としている（上記スキーム中の下段：工程(B))。
この反応を行うにあたり、上記工程(A) の生成物である
化合物(I) を単離・精製して用いてもよいが、工程(A)
で得られた化合物(I)を精製することなく本反応に用い
てもよい。精製した化合物(I) を原料として用いる場合
には、例えば、工程(A) の反応混合物を水中に注いで酢
酸エチルなどの溶媒で抽出し、有機相を減圧濃縮するこ
とにより目的物を単離し、さらに再結晶や蒸溜などの当
業者に周知の手段で精製すればよい。
【００１２】上記の工程(B) の反応は、一般的には溶媒
の存在下で行うことが好ましいが、大過剰の液体アンモ
ニアを溶媒として用いることにより溶媒の非存在下で反
応を行うことも可能である。溶媒を用いる場合、反応に
おいて不活性な溶媒ならばいかなるものを用いてもよ
い。例えば、メタノール、エタノール等の低級アルコー
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル系溶媒が使用できるが、これらのうち、
メタノールまたはエタノールを好適に用いることができ
る。アンモニアとしては気体状アンモニアを水素気流と
ともに反応系内に導入してもよいが、上記の溶媒に溶解
した状態のアンモニアを用いてもよい。また、溶媒とし
て水と混合可能な水性溶媒を用いる場合には、アンモニ
アの供給源としてアンモニア水を添加してもよい。アン
モニアの添加量は特に限定されないが、二級及び三級ア
ミンの副生を防ぐために、原料化合物(I) に対して 2〜
10当量が好ましい。
の存在下で行うことが好ましいが、大過剰の液体アンモ
ニアを溶媒として用いることにより溶媒の非存在下で反
応を行うことも可能である。溶媒を用いる場合、反応に
おいて不活性な溶媒ならばいかなるものを用いてもよ
い。例えば、メタノール、エタノール等の低級アルコー
ル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン等のエーテル系溶媒が使用できるが、これらのうち、
メタノールまたはエタノールを好適に用いることができ
る。アンモニアとしては気体状アンモニアを水素気流と
ともに反応系内に導入してもよいが、上記の溶媒に溶解
した状態のアンモニアを用いてもよい。また、溶媒とし
て水と混合可能な水性溶媒を用いる場合には、アンモニ
アの供給源としてアンモニア水を添加してもよい。アン
モニアの添加量は特に限定されないが、二級及び三級ア
ミンの副生を防ぐために、原料化合物(I) に対して 2〜
10当量が好ましい。
【００１３】触媒としては、通常の水素添加触媒ならば
いかなるものを用いてもよいが、好ましくは、ラネーニ
ッケルや還元ニッケルなどのニッケル触媒；ラネーコバ
ルトなどのコバルト触媒；炭素、ケイソウ土、アルミナ
等の不活性担体に担持させたルテニウムや酸化ルテニウ
ム等のルテニウム触媒；炭素、ケイソウ土、アルミナ等
の不活性担体に担持させたパラジウムや酸化パラジウム
等のパラジウム触媒；酸化白金などの白金触媒等が使用
できる。接触還元における水素初圧は、一般には常圧〜
150 Kg/cm2程度であり、常圧〜100 Kg/cm2の範囲の圧力
が好ましい。反応温度は通常20〜200 ℃程度であり、好
ましくは 20 〜150 ℃程度の範囲とすればよい。
いかなるものを用いてもよいが、好ましくは、ラネーニ
ッケルや還元ニッケルなどのニッケル触媒；ラネーコバ
ルトなどのコバルト触媒；炭素、ケイソウ土、アルミナ
等の不活性担体に担持させたルテニウムや酸化ルテニウ
ム等のルテニウム触媒；炭素、ケイソウ土、アルミナ等
の不活性担体に担持させたパラジウムや酸化パラジウム
等のパラジウム触媒；酸化白金などの白金触媒等が使用
できる。接触還元における水素初圧は、一般には常圧〜
150 Kg/cm2程度であり、常圧〜100 Kg/cm2の範囲の圧力
が好ましい。反応温度は通常20〜200 ℃程度であり、好
ましくは 20 〜150 ℃程度の範囲とすればよい。
【００１４】上記のような接触還元の方法自体は当業者
に周知であり、当業者には、原料化合物の種類や触媒の
種類などに応じて、接触還元の条件を適宜選択すること
が可能である。従って、上記に説明した接触還元の方法
は好ましい一例を示したものであること、及び、これら
の説明を基にして適宜の修飾や改変が可能であることを
理解すべきである。なお、上記工程における生成物は、
当業者に周知の方法に従って、例えば、抽出、蒸溜、再
結晶などの方法により単離・精製することが可能であ
る。
に周知であり、当業者には、原料化合物の種類や触媒の
種類などに応じて、接触還元の条件を適宜選択すること
が可能である。従って、上記に説明した接触還元の方法
は好ましい一例を示したものであること、及び、これら
の説明を基にして適宜の修飾や改変が可能であることを
理解すべきである。なお、上記工程における生成物は、
当業者に周知の方法に従って、例えば、抽出、蒸溜、再
結晶などの方法により単離・精製することが可能であ
る。
【００１５】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに具体的に
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。なお、実施例で製造した化合物は、いず
れも元素分析、IRスペクトル、NMR スペクトル等により
その構造を確認した。
説明するが、本発明の範囲はこれらの実施例に限定され
ることはない。なお、実施例で製造した化合物は、いず
れも元素分析、IRスペクトル、NMR スペクトル等により
その構造を確認した。
【００１６】例１： 4-(4-メチルフェノキシ）ベンゾニ
トリル p-クレゾール 10.0 g, 50%水酸化カリウム 10.3 g とト
ルエン 100 ml の混合物を窒素気流下に浴温 140℃で加
熱攪拌した。次いでトルエンと生じた水を蒸留して除
き、50℃まで冷却した。この混合物に4-クロロベンゾニ
トリル 12.7 g のN,N-ジメチルホルムアミド溶液 100 m
l を添加し、さらに浴温 160℃に加熱して残存するトル
エンを留去しながら１時間攪拌した。反応混合物を冷却
後氷水に注ぎ１時間放置した。析出物を濾取して水、ヘ
キサンで洗浄した後、酢酸エチルに溶解した。この溶液
を 1N 水酸化ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧留去して結晶を得た。この結晶にヘキサンを加えて洗
浄し、濾取して乾燥することにより 4-(4-メチルフェノ
キシ）ベンゾニトリル 15.6 g を得た。 融点 72-73℃; 沸点 142-148℃/2.5 mmHg;1 H-NMR(CDCl3) δ ppm；2.37(3H,s),6.95(2H,d,J=6Hz),
6.98(2H,d,J=3Hz),7.21(2H,d,J=3Hz),7.57(2H,d,J=6H
z)。
トリル p-クレゾール 10.0 g, 50%水酸化カリウム 10.3 g とト
ルエン 100 ml の混合物を窒素気流下に浴温 140℃で加
熱攪拌した。次いでトルエンと生じた水を蒸留して除
き、50℃まで冷却した。この混合物に4-クロロベンゾニ
トリル 12.7 g のN,N-ジメチルホルムアミド溶液 100 m
l を添加し、さらに浴温 160℃に加熱して残存するトル
エンを留去しながら１時間攪拌した。反応混合物を冷却
後氷水に注ぎ１時間放置した。析出物を濾取して水、ヘ
キサンで洗浄した後、酢酸エチルに溶解した。この溶液
を 1N 水酸化ナトリウム水溶液、飽和食塩水で順次洗浄
し、有機相を無水硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減
圧留去して結晶を得た。この結晶にヘキサンを加えて洗
浄し、濾取して乾燥することにより 4-(4-メチルフェノ
キシ）ベンゾニトリル 15.6 g を得た。 融点 72-73℃; 沸点 142-148℃/2.5 mmHg;1 H-NMR(CDCl3) δ ppm；2.37(3H,s),6.95(2H,d,J=6Hz),
6.98(2H,d,J=3Hz),7.21(2H,d,J=3Hz),7.57(2H,d,J=6H
z)。
【００１７】例２： 4-(4-メチルフェノキシ）ベンゾニ
トリル 4-フルオロベンゾニトリル 686 gのジメチルスルホキシ
ド溶液 3リットルに室温でp-クレゾールのナトリウム塩
774.1 gを少量ずつ加えた。45-50 ℃で１日攪拌後冷却
し、氷水10リットルに注いだ。１時間放置した後、析出
物を濾取して4リットルの水、1.3 リットルのヘキサン
で洗浄した。得られた濾上物を２分してそれぞれ3 リッ
トルの酢酸エチルに溶解し、1 N 水酸化ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して結晶を得た。この結
晶にヘキサンを加えて洗浄し、濾取して乾燥することに
より 4-(4-メチルフェノキシ）ベンゾニトリル 972.4 g
を得た。
トリル 4-フルオロベンゾニトリル 686 gのジメチルスルホキシ
ド溶液 3リットルに室温でp-クレゾールのナトリウム塩
774.1 gを少量ずつ加えた。45-50 ℃で１日攪拌後冷却
し、氷水10リットルに注いだ。１時間放置した後、析出
物を濾取して4リットルの水、1.3 リットルのヘキサン
で洗浄した。得られた濾上物を２分してそれぞれ3 リッ
トルの酢酸エチルに溶解し、1 N 水酸化ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で洗浄した。有機相を無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、溶媒を減圧留去して結晶を得た。この結
晶にヘキサンを加えて洗浄し、濾取して乾燥することに
より 4-(4-メチルフェノキシ）ベンゾニトリル 972.4 g
を得た。
【００１８】例３： 4-(4-メチルフェノキシ）ベンジル
アミン 4-(4-メチルフェノキシ）ベンゾニトリル 209 gのエチ
ルアルコール溶液 1.5リットルに 28%アンモニア水溶液
375 gを加えた。窒素気流下でラネーニッケル200 gを
加え、室温で10時間水素添加した。反応終了後、ニッケ
ル触媒を濾別し、濾液を減圧下で留去した。析出した結
晶をn-ヘキサンで洗浄して乾燥し、 4-(4-メチルフェノ
キシ）ベンジルアミン 202 gを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ ppm； 2.33(3H,s),3.84(2H,s),6.91
(2H,d,J=6Hz),6.93(2H,d,J=6Hz),7.13(2H,d,J=9Hz),7.2
5(2H,d,J=9Hz)。
アミン 4-(4-メチルフェノキシ）ベンゾニトリル 209 gのエチ
ルアルコール溶液 1.5リットルに 28%アンモニア水溶液
375 gを加えた。窒素気流下でラネーニッケル200 gを
加え、室温で10時間水素添加した。反応終了後、ニッケ
ル触媒を濾別し、濾液を減圧下で留去した。析出した結
晶をn-ヘキサンで洗浄して乾燥し、 4-(4-メチルフェノ
キシ）ベンジルアミン 202 gを得た。1 H-NMR(CDCl3) δ ppm； 2.33(3H,s),3.84(2H,s),6.91
(2H,d,J=6Hz),6.93(2H,d,J=6Hz),7.13(2H,d,J=9Hz),7.2
5(2H,d,J=9Hz)。
【００１９】
【発明の効果】本発明の方法によれば、殺虫、殺ダニ剤
の有効成分として有用な化合物の製造中間体である 4-
(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミンを効率的かつ
簡便に製造することができる。
の有効成分として有用な化合物の製造中間体である 4-
(4-アルキルフェノキシ）ベンジルアミンを効率的かつ
簡便に製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項１】 下記一般式(I): 【化１】 （式中、R はC1-4アルキル基を示す）で示される 4-(4-
アルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類をアンモニアの
存在下に接触還元する工程を含む下記一般式(II): 【化２】 （式中、R は上記のとおりである）で示される 4-(4-ア
ルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法。 - 【請求項２】 下記の工程： (A) 下記一般式(III): 【化３】 （式中、R はC1-4アルキル基を示し、A はアルカリ金属
を示す）で示されるフェノール類金属塩と下記一般式(I
V): 【化４】 （式中、X はハロゲン原子を示す）で示されるベンゾニ
トリル類とを反応させて下記一般式(I): 【化５】 （式中、R は上記のとおりである）で示される 4-(4-ア
ルキルフェノキシ）ベンゾニトリル類を製造する工程；
及び (B) 上記工程(A) で得られた 4-(4-アルキルフェノキ
シ）ベンゾニトリル類をアンモニアの存在下に接触還元
する工程を含む、下記一般式(II): 【化６】 （式中、R は上記のとおりである）で示される 4-(4-ア
ルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7092042A JPH08291116A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | ４−（４−アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7092042A JPH08291116A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | ４−（４−アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08291116A true JPH08291116A (ja) | 1996-11-05 |
Family
ID=14043475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7092042A Pending JPH08291116A (ja) | 1995-04-18 | 1995-04-18 | ４−（４−アルキルフェノキシ）ベンジルアミン類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08291116A (ja) |
-
1995
- 1995-04-18 JP JP7092042A patent/JPH08291116A/ja active Pending
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|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20050510 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050518 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20051005 |