JPH08290932A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents

光ファイバ母材の製造方法

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Abstract

(57)【要約】 【目的】 回折格子を作り込むことで所定波長の光を高
い反射率で反射する光ファイバの母材を製造する方法を
提供する。 【構成】 酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスか
らなるコアロッドを用意し、このコアロッドの外周面上
に酸化ゲルマニウムが添加された第1の石英ガラス微粒
子を堆積させ、次に、第1の石英ガラス微粒子を焼結し
て、コアロッドより低屈折率の第1のクラッドを形成
し、次いで、第1のクラッドの外周面上に第2の石英ガ
ラス微粒子を堆積させ、最後に、この第2石英ガラス微
粒子を焼結して、第2のクラッドを形成することによ
り、光ファイバ母材が製造される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、所定部位の屈折率を周
期的に変化させて回折格子を作り込むための光ファイバ
の母材製造技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】光学部品の一種である回折格子には種々
の態様のものがあるが、光通信システム等に利用する場
合には、特に、他の光ファイバとの接続が容易で、かつ
挿入損失の低い光ファイバ型回折格子が好適である。こ
の光ファイバ型回折格子は、光ファイバ内の所定部位に
形成された一領域であって、実効屈折率が軸方向に沿っ
て周期的に変化しているものである。
【0003】光ファイバ型回折格子の作製方法、すなわ
ち光ファイバ内に回折格子を形成する方法としては、例
えば特開昭62−500052号公報に記載のものが知
られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加してコア
を形成した石英系光ファイバに紫外光を照射することよ
り、コアに周期的な屈折率変化を生じさせ、回折格子を
形成する方法である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
方法では、得られる回折格子の反射率は必ずしも十分で
ない。すなわち、回折格子が作り込まれた光導波路で
は、その反射率が重要な特性であるが、この反射率は以
下の式(1)のように、回折格子長(コア内において、
屈折率が周期的に変化している領域の長さ)と光誘起屈
折率変化に依存する。
【0005】 R=tanh2(L・π・ΔnUV/λ) …(1) ここで、Rは反射率、Lはコア内に作り込まれた回折格
子長、ΔnUVは紫外光に対する屈折率変化(光誘起屈折
率変化)、λは反射波長である。
【0006】紫外光照射による屈折率変化はガラス中の
ゲルマニウムに関連したガラス欠陥に起因することが知
られているが、通常の通信用光ファイバを用いたのでは
クラッド部分でのガラス欠陥が少ないために、この部分
における紫外光による屈折率変化ΔnUVはコアでの屈折
率変化ΔnUVに比べて小さい。したがって、光ファイバ
全体として十分な反射率が得られないという課題があっ
た。
【0007】この発明は上記の課題を解決するためにな
されたもので、回折格子を作り込むことで所定波長の光
を高い反射率で反射する光ファイバの母材を製造する方
法を提供することを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の光ファイバ母材製造方法は、酸化ゲル
マニウムが添加された石英ガラスからなるコアロッドを
用意し、このコアロッドの外周面上に酸化ゲルマニウム
が添加された第1の石英ガラス微粒子を堆積させる第1
の工程と、第1の石英ガラス微粒子を焼結して、前記コ
アロッドより低屈折率の第1のクラッドを形成する第2
の工程と、第1のクラッドの外周面上に第2の石英ガラ
ス微粒子を堆積させる第3の工程と、この第2石英ガラ
ス微粒子を焼結して、第2のクラッドを形成する第4の
工程とを備えている。
【0009】上記の第1工程は、第1石英ガラス微粒子
を第1バーナの火炎中で生成し、コアロッドをその軸を
回転軸として回転させながら第1石英ガラス微粒子を吹
き付けて、この第1石英ガラス微粒子をコアロッドの軸
方向に成長させる工程である良い。
【0010】また、上記の第1工程は、第1石英ガラス
微粒子を第1バーナの火炎中で生成し、コアロッドをそ
の軸を回転軸として回転させながら、第1バーナをコア
ロッドの軸とほぼ平行に相対的に移動させて第1石英ガ
ラス微粒子を吹き付ける工程であっても良い。
【0011】上記の第2工程は、フッ素を含む雰囲気中
で焼結を行う工程であると良い。
【0012】上記の第3工程は、第2石英ガラス微粒子
を第2バーナの火炎中で生成し、コアロッドと第1クラ
ッドの複合体をその軸を回転軸として回転させながら第
2石英ガラス微粒子を吹き付けて、この第2石英ガラス
微粒子を上記複合体の軸方向に成長させる工程であると
良い。
【0013】また、上記の第3工程は、第2石英ガラス
微粒子を第2バーナの火炎中で生成し、コアロッドと第
1クラッドの複合体をその軸を回転軸として回転させな
がら、第2バーナを複合体の軸とほぼ平行に相対的に移
動させて第2石英ガラス微粒子を吹き付ける工程であっ
ても良い。
【0014】
【作用】本発明では、第1の工程で酸化ゲルマニウムが
添加された第1石英ガラス微粒子がコアロッド上に堆積
され、これが第2の工程で焼結されることで第1クラッ
ドが形成される。さらに、この第1クラッドの上に第2
クラッドが形成されることで光ファイバ母材が製造され
る。
【0015】この光ファイバ母材のうちコアロッドを密
着して覆う第1クラッドは、酸化ゲルマニウムが添加さ
れた石英ガラスから構成されている。また、この光ファ
イバ母材には、コアロッドにも酸化ゲルマニウムが添加
されている。このため、この光ファイバ母材を線引する
と、コア及びクラッドのそれぞれに酸化ゲルマニウムが
添加された石英系光ファイバが得られる。
【0016】この光ファイバの所定部位に対して紫外光
を照射すると、この所定部位に含まれるコア及びクラッ
ドの双方において紫外光が入射した部分の屈折率が変化
する。このため、例えば、この光ファイバに紫外光の干
渉縞を照射することで、コア及びクラッドの双方に回折
格子を形成することができる。
【0017】こうして所定部位のコア及びクラッドの双
方に回折格子が作り込まれた光ファイバでは、コアを伝
搬する導波光のみならず、導波光のうち導波中にクラッ
ドへ放射される光も上記部位において反射され、モード
フィールド全域にわたって導波光が反射される構造を有
している。それゆえ、この光ファイバは高い反射率を有
する。
【0018】なお、上記導波光のうちクラッドへ放射さ
れる光は、コアからわずかにクラッド側へ漏出している
だけなので、クラッドにおける回折格子がコアとクラッ
ドとの境界面付近のみに存在する場合でも、十分に高い
反射率を有する。
【0019】本発明のガラス母材製造方法のうち、第1
石英ガラス微粒子を第1バーナを用いてコアロッドの軸
方向に成長させる上記の方法によれば、第1石英ガラス
微粒子がコアロッドの外周面上にほぼ均一に堆積され、
均一な厚さの第1クラッドが形成される。
【0020】第1バーナをコアロッドの軸とほぼ平行に
相対的に移動させる上記の方法の場合も同様であり、第
1石英ガラス微粒子がコアロッドの外周面上にほぼ均一
に堆積され、均一な厚さの第1クラッドが形成される。
【0021】本発明のガラス母材製造方法のうち、フッ
素を含む雰囲気中で第1石英ガラス微粒子の焼結を行う
方法では、第1クラッドにフッ素が添加される。フッ素
は、酸化ゲルマニウムとは逆に石英ガラスの屈折率を低
下させる添加物であるから、酸化ゲルマニウムとともに
フッ素を第1クラッドに添加することで、コアロッドと
第1クラッドとの比屈折率差の制御が容易になる。
【0022】本発明のガラス母材製造方法のうち、第2
石英ガラス微粒子を第2バーナを用いてコアロッドと第
1クラッドの複合体の軸方向に成長させる上記の方法に
よれば、第2石英ガラス微粒子が複合体の外周面上にほ
ぼ均一に堆積され、均一な厚さの第2クラッドが形成さ
れる。
【0023】第2バーナをコアロッドと第1クラッドの
複合体の軸とほぼ平行に相対的に移動させる上記の方法
の場合も同様であり、第2石英ガラス微粒子が複合体の
外周面上にほぼ均一に堆積され、均一な厚さの第2クラ
ッドが形成される。
【0024】
【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明の実施
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
また、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致して
いない。
【0025】図1は、本実施例の光ファイバ母材製造方
法を説明するための図である。この図を参照しながら、
本実施例の母材製造方法を説明する。なお、本実施例で
は、シングルモード光ファイバ用の母材を製造する。
【0026】まず、図1(a)のように、酸化ゲルマニ
ウム(GeO2 )が添加された石英ガラス(SiO2
からなるコアロッド20を用意する。このコアロッド2
0は、回転している円柱状の出発材10をターゲットと
し、その外周面上に火炎中で生成したSiO2 とGeO
2 のガラス微粒子を堆積させ、その後、このガラス微粒
子を焼結して透明ガラス化することにより作製すること
ができる。
【0027】具体的に説明すると、コア用のバーナーに
原料となる四塩化ケイ素(SiCl4 )及び四塩化ゲル
マニウム(GeCl4 )、並びに燃料となる水素及び酸
素(以上は、すべて気体である。)を同時に送り込みな
がら、水素の燃焼によるバーナー火炎を出発材10にあ
てる。このとき、出発材10は、自らの軸を回転軸とし
て回転させておく。これにより、バーナ火炎中の火炎加
水分解反応により生じたSiO2 とGeO2 のガラス微
粒子が出発材10に吹き付けられ、出発材10の外周面
上に均一に堆積する。
【0028】堆積が進むにつれてガラス微粒子は成長
し、軸方向に伸びてくるが、これに応じてガラス微粒子
の複合体を少しずつ引き上げてゆくことで、常にガラス
微粒子の先端にバーナ火炎があたるように制御する。こ
のようにして、必要な長さのガラス微粒子堆積体が得ら
れたら、これを焼結炉中で加熱し、焼結する。これによ
りガラス微粒子は透明ガラス化し、GeO2 が添加され
た石英ガラスの棒状体が得られる。これが、図1(a)
のコアロッド20である。GeO2 は、石英ガラスの屈
折率を上昇させる添加物であり、本実施例のコアロッド
20への添加量は6.5wt%である。
【0029】次に、図1(b)に示されるように、コア
ロッド20の外周面上に内層クラッドとなるべきガラス
微粒子(SiO2 −GeO2 )を堆積させる。このガラ
ス微粒子は、クラッド用のバーナにSiCl4 、GeC
4 、水素及び酸素を同時に送り込むことにより火炎中
で生成したものである。
【0030】具体的には、コアロッド20を自らの軸を
回転軸として回転させながらバーナ50の火炎をコアロ
ッド20の上端部にあててSiO2 とGeO2 のガラス
微粒子を堆積させる。コアロッド20を少しずつ引き上
げながらバーナ50の火炎をあて続けることで、ガラス
微粒子はコアロッド20の表面上においてコアロッド2
0の軸方向に成長していく。これにより、SiO2 とG
eO2 のガラス微粒子は、コアロッド20の外周面上に
均一に堆積する。このようにして、内層クラッドとなる
べきガラス微粒子の堆積体30が形成される。
【0031】なお、上記の方法の代わりに、次の方法を
採ることもできる。すなわち、コアロッド20を自らの
軸を回転軸として回転させながらバーナ50の火炎をあ
て、コアロッド20の軸方向に沿ってバーナ50をコア
ロッド20に対し相対的に繰り返し移動させていくこと
で、SiO2 とGeO2 のガラス微粒子をコアロッド2
0の外周面上に均一に堆積する。このような方法によっ
ても、内層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体3
0を形成することができる。
【0032】次いで、コアロッド20とガラス微粒子堆
積体30の複合体を焼結炉中で加熱し、ガラス微粒子を
焼結する。本実施例では、内層クラッドにFを添加すべ
く、SiF4 を焼結炉中に導入して形成したF雰囲気中
で焼結を行う。これにより、上記のガラス微粒子は透明
ガラス化し、内層クラッド31となる(図1(c))。
【0033】このようにして形成された内層クラッド3
1は、石英ガラスにGeO2 とFが添加されたものであ
る。GeO2 の添加量は、2wt%である。Fは石英ガ
ラスの屈折率を低下させる添加物であり、内層クラッド
31の屈折率を調節し、コア20と内層クラッド31と
の間の比屈折率差を制御するために添加したものであ
る。Fを添加しなくても比屈折率差の制御は可能であ
り、本発明の目的とする光ファイバ母材を製造すること
は十分に可能であるが、比屈折率差の制御が容易になる
という利点を考慮して、本実施例ではFを添加すること
にした。なお、本実施例では、コア20と内層クラッド
31との間の比屈折率差を、0.35%とした。
【0034】内層クラッド31は、コア20を密着して
覆いつつ、コア20との屈折率差によって導波光を閉じ
こめ、光ファイバによる光伝送に寄与するものである。
したがって、内層クラッド31は、光ファイバによる光
伝送において導波光エネルギーがしみ出しうる程度の厚
さにすれば良い。通常は、コアの約4倍以上の厚さがあ
れば良い。
【0035】次に、内層クラッド31の外周面上に、さ
らにクラッド層を形成する。このクラッド層は、内層ク
ラッド31を密着して覆っており、外層クラッドと呼ば
れる。この外層クラッドは、内層クラッドと組み合って
一つのクラッドを構成するもので、標準的なコア/クラ
ッドの外径比を有する光ファイバ母材を得るために形成
される。
【0036】外層クラッドは、図1(d)に示されるよ
うに、内層クラッド31の外周面上にSiO2 のみから
なるガラス微粒子を堆積させ、これを透明ガラス化する
ことにより形成する。
【0037】具体的には、コア20及び内層クラッド3
1の複合体を自らの軸を回転軸として回転させながら、
外層クラッド用のバーナ51にSiCl4 、水素及び酸
素を同時に送り込み、生成されたバーナ火炎を内層クラ
ッド31の上端部にあててSiO2 のガラス微粒子を堆
積させる。上記複合体を少しずつ引き上げながらバーナ
51の火炎をあて続けることで、ガラス微粒子は内層ク
ラッド31の表面上において複合体の軸方向に成長して
いく。これにより、SiO2 のガラス微粒子は、内層ク
ラッド31の外周面上に均一に堆積する。このようにし
て、外層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体40
が形成される。
【0038】なお、上記の方法の代わりに、次の方法を
採ることもできる。すなわち、コア20及び内層クラッ
ド31の複合体を自らの軸を回転軸として回転させなが
ら、外層クラッド用のバーナ51にSiCl4 、水素及
び酸素を同時に送り込み、生成されたバーナ火炎を内層
クラッド31にあて、軸方向に沿ってバーナ51を上記
の複合体に対し相対的に繰り返し移動させる。これによ
り、SiO2 のガラス微粒子が内層クラッド31の外周
面上に均一に堆積する。このような方法によっても、外
層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体40を形成
することができる。
【0039】次いで、コアロッド20、内層クラッド3
1及びガラス微粒子の堆積体40からなる複合体を焼結
炉中で加熱し、ガラス微粒子を焼結する。これにより、
ガラス微粒子の堆積体40は透明ガラス化し、外層クラ
ッド41となる。以上のようにして、本実施例の光ファ
イバ母材製造方法は完了し、本実施例の目的とする光フ
ァイバ母材100が得られる(図1(e))。
【0040】図2は、光ファイバ母材100の構造を示
す図である。コアはGeO2 が添加された石英ガラス、
内層クラッドはGeO2 とFが添加された石英ガラス、
外層クラッドは実質的に純粋な石英ガラスから構成され
ている。
【0041】本実施例の方法により製造された光ファイ
バ母材を通常の線引装置を用いて線引することで光ファ
イバが得られる。この光ファイバは、コアのみならずク
ラッドにもGeO2 が添加された石英系の光ファイバで
ある。
【0042】本実施例の方法により製造された光ファイ
バ母材から線引される光ファイバは、高反射率の回折格
子を作り込むことで所定波長の光を高い反射率で反射す
るようになり、光フィルタとして好適な使用が可能であ
る。本発明者らは、この点を確認すべく、実際にこの光
ファイバ内に回折格子を形成した。以下、この回折格子
形成方法について説明する。
【0043】一般に、GeO2 が添加された石英ガラス
に紫外光を照射すると屈折率が上昇する。紫外光の波長
は、通常、150nm〜300nmから選択されるが、
特に、240nm〜250nmの紫外光を照射する場合
が多い。本実施例の製造方法による光ファイバ母材から
得られる光ファイバは、コア及びクラッドが、ともにG
eO2 が添加された石英ガラスから構成されているた
め、この光ファイバの所定部位に紫外光を照射すること
で、所定部位に含まれるコア及びクラッドの双方に回折
格子を形成することができる。紫外光の照射は、上記光
ファイバを所望の長さに切り取った後に行ってもよい
し、線引された上記光ファイバを巻き取る途中に行うな
ど、上記光ファイバの製造工程に組み込んで行ってもよ
い。
【0044】本実施例では、一定周期(等ピッチ)の回
折格子を光ファイバ内に形成することとし、このため
に、一定周期(等間隔)の紫外光干渉縞を光ファイバに
照射した。以下では、紫外光干渉縞の照射方法について
詳しく説明する。
【0045】図3は、紫外光干渉縞の照射方法を説明す
るための図である。本実施例では、ホログラフィック干
渉法(二光束干渉法)により2本のコヒーレントな紫外
光を干渉させ、これによって生成された干渉縞を本実施
例の光ファイバ母材100から得られた光ファイバ80
に照射する。
【0046】図3を参照しながら具体的に説明すると、
まず、紫外光光源60から出力された紫外光は、干渉手
段70に入射する。紫外光光源60としては、アルゴン
レーザ光源を用いる。アルゴンレーザ光源は、244n
mのコヒーレントな紫外光を連続発振する。また、干渉
手段70は、ビームスプリッタ71a、並びに反射鏡7
1b及び71cから構成されている。
【0047】アルゴンレーザ光源60からの紫外光は、
ビームスプリッタ21aにより透過光と反射光の2光束
に分岐される。分岐された各光束は、それぞれ反射鏡2
1b及び21cによって反射され、光ファイバ80の軸
方向に対し互いに補角の関係にある角度をもって光ファ
イバ80に照射される。
【0048】分岐された各光束は干渉領域90にて干渉
し、所定周期の干渉縞を形成しつつ、光ファイバ80に
照射される。照射された紫外光は、コア81及びクラッ
ド82に入射して、伝搬モードに対する実効屈折率を変
化させる。これにより、コア81及びクラッド82の干
渉縞照射領域には、干渉縞の光強度分布に応じた屈折率
分布がそれぞれ形成される。これが、回折格子83及び
84である。
【0049】この回折格子83及び84は、コア81又
はクラッド82の一領域であって実効屈折率が軸方向に
沿って最小屈折率と最大屈折率の間で周期的に変化して
いるものである。なお、最小屈折率は、コア81又はク
ラッド82の当初の実効屈折率(紫外光照射前の実効屈
折率)にほぼ等しい。これらの回折格子83、84は、
ブラッグ反射波長λB を中心とした比較的狭い波長域に
わたって所定の反射率で光を反射する。ここで、 λB =2・n・Λ n:最小屈折率 Λ:回折格子の周期(屈折率変化の周期) である。なお、回折格子の周期Λは、照射した干渉縞の
周期にほぼ等しい。
【0050】クラッド82とコア81の屈折率は異なる
ので、上式によれば、クラッド82に形成された回折格
子84の反射波長は、コア81に形成された回折格子8
3の反射波長からずれることになる。しかし、一般に、
光ファイバのクラッドとコアの屈折率差は小さいので、
反射波長のずれ量も大きくない。そして、回折格子の反
射スペクトルは反射波長を中心に拡がりを持つので、回
折格子84は回折格子83の反射波長の光を十分に反射
することになる。
【0051】回折格子83及び84が形成された光ファ
イバ80は、コア81を伝搬する導波光のみならず、ク
ラッドへ放射される光をも反射し、モードフィールド全
域にわたって導波光を反射するため、コアのみに回折格
子の形成された光ファイバに比べて、高い反射率を有す
る。実際に、光ファイバ80の一端から回折格子83の
反射波長の光を入射させて、反射率を測定したところ、
反射率は約75%であり、良好な結果を得た。
【0052】このように、本実施例の方法によれば、回
折格子を作り込むことで所定波長の光を高い反射率で反
射する光ファイバの母材を製造することができ、極めて
有用である。
【0053】以上、本発明の実施例を詳細に説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、様
々な変形が可能である。例えば、実施例では、シングル
モード光ファイバ用の母材を製造したが、コアロッド、
内層クラッド及び外層クラッドの外径比を調節して形成
することで、マルチモード光ファイバ用の母材を製造す
ることも可能である。
【0054】
【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明の光
ファイバ母材製造方法によれば、酸化ゲルマニウムが添
加された第1クラッドが形成されるため、回折格子を作
り込むことで所定波長の光を高い反射率で反射する光フ
ァイバの母材を製造することができ、極めて有用であ
る。
【0055】本発明のガラス母材製造方法のうち、第1
石英ガラス微粒子を第1バーナを用いてコアロッドの軸
方向に成長させる方法によれば、均一な厚さの第1クラ
ッドが形成されるので、質の良い光ファイバ母材を製造
することができる。
【0056】また、本発明のガラス母材製造方法のう
ち、第1バーナをコアロッドの軸とほぼ平行に相対的に
移動させる方法によっても、均一な厚さの第1クラッド
が形成されるので、質の良い光ファイバ母材を製造する
ことができる。
【0057】本発明のガラス母材製造方法のうち、フッ
素を含む雰囲気中で第1石英ガラス微粒子の焼結を行う
方法では、酸化ゲルマニウムとともにフッ素を第1クラ
ッドに添加するので、コアロッドと第1クラッドとの比
屈折率差の制御が容易になり、一層好適である。
【0058】本発明のガラス母材製造方法のうち、第2
石英ガラス微粒子を第2バーナを用いてコアロッドと第
1クラッドの複合体の軸方向に成長させる方法によれ
ば、均一な厚さの第2クラッドが形成されるので、質の
良い光ファイバ母材を製造することができる。
【0059】また、本発明のガラス母材製造方法のう
ち、第2バーナをコアロッドと第1クラッドの複合体の
軸とほぼ平行に相対的に移動させる方法によっても、均
一な厚さの第2クラッドが形成されるので、質の良い光
ファイバ母材を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例のガラス母材製造方法を説明するための
図である。
【図2】実施例で製造されたガラス母材の構造を示す図
である。
【図3】紫外光干渉縞の照射方法を説明するための図で
ある。
【符号の説明】
10…出発材、20…コアロッド、30…内層クラッド
となるべきガラス微粒子の堆積体、31…内層クラッ
ド、40…外層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積
体、41…外層クラッド、50…内層クラッド用のバー
ナ、51…外層クラッド用のバーナ、100…ガラス母
材。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラ
    スからなるコアロッドを用意し、このコアロッドの外周
    面上に酸化ゲルマニウムが添加された第1の石英ガラス
    微粒子を堆積させる第1の工程と、 前記第1の石英ガラス微粒子を焼結して、前記コアロッ
    ドより低屈折率の第1のクラッドを形成する第2の工程
    と、 前記第1のクラッドの外周面上に第2の石英ガラス微粒
    子を堆積させる第3の工程と、 この第2石英ガラス微粒子を焼結して、第2のクラッド
    を形成する第4の工程と、 を備える光ファイバ母材の製造方法。
  2. 【請求項2】 前記第1の工程は、前記第1石英ガラス
    微粒子を第1バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
    をその軸を回転軸として回転させながら前記第1石英ガ
    ラス微粒子を吹き付けて、この第1石英ガラス微粒子を
    前記コアロッドの軸方向に成長させる工程であることを
    特徴とする請求項1記載の光ファイバ母材の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記第1の工程は、前記第1石英ガラス
    微粒子を第1バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
    をその軸を回転軸として回転させながら、前記第1バー
    ナを前記コアロッドの軸とほぼ平行に相対的に移動させ
    て前記第1石英ガラス微粒子を吹き付ける工程であるこ
    とを特徴とする請求項1記載の光ファイバ母材の製造方
    法。
  4. 【請求項4】 前記第2の工程は、フッ素を含む雰囲気
    中で前記焼結を行う工程であることを特徴とする請求項
    1記載の光ファイバ母材の製造方法。
  5. 【請求項5】 前記第3の工程は、前記第2石英ガラス
    微粒子を第2バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
    と前記第1クラッドの複合体をその軸を回転軸として回
    転させながら前記第2石英ガラス微粒子を吹き付けて、
    この第2石英ガラス微粒子を前記複合体の軸方向に成長
    させる工程であることを特徴とする請求項1記載の光フ
    ァイバ母材の製造方法。
  6. 【請求項6】 前記第3の工程は、前記第2石英ガラス
    微粒子を第2バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
    と前記第1クラッドの複合体をその軸を回転軸として回
    転させながら、前記第2バーナを前記複合体の軸とほぼ
    平行に相対的に移動させて前記第2石英ガラス微粒子を
    吹き付ける工程であることを特徴とする請求項1記載の
    光ファイバ母材の製造方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2004007383A1 (ja) * 2002-07-10 2004-01-22 Sumitomo Electric Industries, Ltd. 光ファイバ及びその製造方法
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