JPH08290932A - 光ファイバ母材の製造方法 - Google Patents
光ファイバ母材の製造方法Info
- Publication number
- JPH08290932A JPH08290932A JP7090872A JP9087295A JPH08290932A JP H08290932 A JPH08290932 A JP H08290932A JP 7090872 A JP7090872 A JP 7090872A JP 9087295 A JP9087295 A JP 9087295A JP H08290932 A JPH08290932 A JP H08290932A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- optical fiber
- fine particles
- core rod
- clad
- glass fine
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
- C03B37/01446—Thermal after-treatment of preforms, e.g. dehydrating, consolidating, sintering
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/012—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments
- C03B37/014—Manufacture of preforms for drawing fibres or filaments made entirely or partially by chemical means, e.g. vapour phase deposition of bulk porous glass either by outside vapour deposition [OVD], or by outside vapour phase oxidation [OVPO] or by vapour axial deposition [VAD]
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C13/00—Fibre or filament compositions
- C03C13/04—Fibre optics, e.g. core and clad fibre compositions
- C03C13/045—Silica-containing oxide glass compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C3/00—Glass compositions
- C03C3/04—Glass compositions containing silica
- C03C3/06—Glass compositions containing silica with more than 90% silica by weight, e.g. quartz
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2201/00—Type of glass produced
- C03B2201/06—Doped silica-based glasses
- C03B2201/30—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi
- C03B2201/31—Doped silica-based glasses doped with metals, e.g. Ga, Sn, Sb, Pb or Bi doped with germanium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2203/00—Fibre product details, e.g. structure, shape
- C03B2203/10—Internal structure or shape details
- C03B2203/22—Radial profile of refractive index, composition or softening point
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/08—Doped silica-based glasses containing boron or halide
- C03C2201/12—Doped silica-based glasses containing boron or halide containing fluorine
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2201/00—Glass compositions
- C03C2201/06—Doped silica-based glasses
- C03C2201/30—Doped silica-based glasses containing metals
- C03C2201/31—Doped silica-based glasses containing metals containing germanium
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Glass Compositions (AREA)
- Diffracting Gratings Or Hologram Optical Elements (AREA)
- Optical Fibers, Optical Fiber Cores, And Optical Fiber Bundles (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 回折格子を作り込むことで所定波長の光を高
い反射率で反射する光ファイバの母材を製造する方法を
提供する。 【構成】 酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスか
らなるコアロッドを用意し、このコアロッドの外周面上
に酸化ゲルマニウムが添加された第１の石英ガラス微粒
子を堆積させ、次に、第１の石英ガラス微粒子を焼結し
て、コアロッドより低屈折率の第１のクラッドを形成
し、次いで、第１のクラッドの外周面上に第２の石英ガ
ラス微粒子を堆積させ、最後に、この第２石英ガラス微
粒子を焼結して、第２のクラッドを形成することによ
り、光ファイバ母材が製造される。
い反射率で反射する光ファイバの母材を製造する方法を
提供する。 【構成】 酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラスか
らなるコアロッドを用意し、このコアロッドの外周面上
に酸化ゲルマニウムが添加された第１の石英ガラス微粒
子を堆積させ、次に、第１の石英ガラス微粒子を焼結し
て、コアロッドより低屈折率の第１のクラッドを形成
し、次いで、第１のクラッドの外周面上に第２の石英ガ
ラス微粒子を堆積させ、最後に、この第２石英ガラス微
粒子を焼結して、第２のクラッドを形成することによ
り、光ファイバ母材が製造される。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、所定部位の屈折率を周
期的に変化させて回折格子を作り込むための光ファイバ
の母材製造技術に関するものである。
期的に変化させて回折格子を作り込むための光ファイバ
の母材製造技術に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】光学部品の一種である回折格子には種々
の態様のものがあるが、光通信システム等に利用する場
合には、特に、他の光ファイバとの接続が容易で、かつ
挿入損失の低い光ファイバ型回折格子が好適である。こ
の光ファイバ型回折格子は、光ファイバ内の所定部位に
形成された一領域であって、実効屈折率が軸方向に沿っ
て周期的に変化しているものである。
の態様のものがあるが、光通信システム等に利用する場
合には、特に、他の光ファイバとの接続が容易で、かつ
挿入損失の低い光ファイバ型回折格子が好適である。こ
の光ファイバ型回折格子は、光ファイバ内の所定部位に
形成された一領域であって、実効屈折率が軸方向に沿っ
て周期的に変化しているものである。
【０００３】光ファイバ型回折格子の作製方法、すなわ
ち光ファイバ内に回折格子を形成する方法としては、例
えば特開昭６２−５０００５２号公報に記載のものが知
られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加してコア
を形成した石英系光ファイバに紫外光を照射することよ
り、コアに周期的な屈折率変化を生じさせ、回折格子を
形成する方法である。
ち光ファイバ内に回折格子を形成する方法としては、例
えば特開昭６２−５０００５２号公報に記載のものが知
られている。これは、酸化ゲルマニウムを添加してコア
を形成した石英系光ファイバに紫外光を照射することよ
り、コアに周期的な屈折率変化を生じさせ、回折格子を
形成する方法である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
方法では、得られる回折格子の反射率は必ずしも十分で
ない。すなわち、回折格子が作り込まれた光導波路で
は、その反射率が重要な特性であるが、この反射率は以
下の式（１）のように、回折格子長（コア内において、
屈折率が周期的に変化している領域の長さ）と光誘起屈
折率変化に依存する。
方法では、得られる回折格子の反射率は必ずしも十分で
ない。すなわち、回折格子が作り込まれた光導波路で
は、その反射率が重要な特性であるが、この反射率は以
下の式（１）のように、回折格子長（コア内において、
屈折率が周期的に変化している領域の長さ）と光誘起屈
折率変化に依存する。
【０００５】 Ｒ＝ｔａｎｈ２（Ｌ・π・ΔｎUV／λ） …（１） ここで、Ｒは反射率、Ｌはコア内に作り込まれた回折格
子長、ΔｎUVは紫外光に対する屈折率変化（光誘起屈折
率変化）、λは反射波長である。
子長、ΔｎUVは紫外光に対する屈折率変化（光誘起屈折
率変化）、λは反射波長である。
【０００６】紫外光照射による屈折率変化はガラス中の
ゲルマニウムに関連したガラス欠陥に起因することが知
られているが、通常の通信用光ファイバを用いたのでは
クラッド部分でのガラス欠陥が少ないために、この部分
における紫外光による屈折率変化ΔｎUVはコアでの屈折
率変化ΔｎUVに比べて小さい。したがって、光ファイバ
全体として十分な反射率が得られないという課題があっ
た。
ゲルマニウムに関連したガラス欠陥に起因することが知
られているが、通常の通信用光ファイバを用いたのでは
クラッド部分でのガラス欠陥が少ないために、この部分
における紫外光による屈折率変化ΔｎUVはコアでの屈折
率変化ΔｎUVに比べて小さい。したがって、光ファイバ
全体として十分な反射率が得られないという課題があっ
た。
【０００７】この発明は上記の課題を解決するためにな
されたもので、回折格子を作り込むことで所定波長の光
を高い反射率で反射する光ファイバの母材を製造する方
法を提供することを目的とする。
されたもので、回折格子を作り込むことで所定波長の光
を高い反射率で反射する光ファイバの母材を製造する方
法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記の問題点を解決する
ために、本発明の光ファイバ母材製造方法は、酸化ゲル
マニウムが添加された石英ガラスからなるコアロッドを
用意し、このコアロッドの外周面上に酸化ゲルマニウム
が添加された第１の石英ガラス微粒子を堆積させる第１
の工程と、第１の石英ガラス微粒子を焼結して、前記コ
アロッドより低屈折率の第１のクラッドを形成する第２
の工程と、第１のクラッドの外周面上に第２の石英ガラ
ス微粒子を堆積させる第３の工程と、この第２石英ガラ
ス微粒子を焼結して、第２のクラッドを形成する第４の
工程とを備えている。
ために、本発明の光ファイバ母材製造方法は、酸化ゲル
マニウムが添加された石英ガラスからなるコアロッドを
用意し、このコアロッドの外周面上に酸化ゲルマニウム
が添加された第１の石英ガラス微粒子を堆積させる第１
の工程と、第１の石英ガラス微粒子を焼結して、前記コ
アロッドより低屈折率の第１のクラッドを形成する第２
の工程と、第１のクラッドの外周面上に第２の石英ガラ
ス微粒子を堆積させる第３の工程と、この第２石英ガラ
ス微粒子を焼結して、第２のクラッドを形成する第４の
工程とを備えている。
【０００９】上記の第１工程は、第１石英ガラス微粒子
を第１バーナの火炎中で生成し、コアロッドをその軸を
回転軸として回転させながら第１石英ガラス微粒子を吹
き付けて、この第１石英ガラス微粒子をコアロッドの軸
方向に成長させる工程である良い。
を第１バーナの火炎中で生成し、コアロッドをその軸を
回転軸として回転させながら第１石英ガラス微粒子を吹
き付けて、この第１石英ガラス微粒子をコアロッドの軸
方向に成長させる工程である良い。
【００１０】また、上記の第１工程は、第１石英ガラス
微粒子を第１バーナの火炎中で生成し、コアロッドをそ
の軸を回転軸として回転させながら、第１バーナをコア
ロッドの軸とほぼ平行に相対的に移動させて第１石英ガ
ラス微粒子を吹き付ける工程であっても良い。
微粒子を第１バーナの火炎中で生成し、コアロッドをそ
の軸を回転軸として回転させながら、第１バーナをコア
ロッドの軸とほぼ平行に相対的に移動させて第１石英ガ
ラス微粒子を吹き付ける工程であっても良い。
【００１１】上記の第２工程は、フッ素を含む雰囲気中
で焼結を行う工程であると良い。
で焼結を行う工程であると良い。
【００１２】上記の第３工程は、第２石英ガラス微粒子
を第２バーナの火炎中で生成し、コアロッドと第１クラ
ッドの複合体をその軸を回転軸として回転させながら第
２石英ガラス微粒子を吹き付けて、この第２石英ガラス
微粒子を上記複合体の軸方向に成長させる工程であると
良い。
を第２バーナの火炎中で生成し、コアロッドと第１クラ
ッドの複合体をその軸を回転軸として回転させながら第
２石英ガラス微粒子を吹き付けて、この第２石英ガラス
微粒子を上記複合体の軸方向に成長させる工程であると
良い。
【００１３】また、上記の第３工程は、第２石英ガラス
微粒子を第２バーナの火炎中で生成し、コアロッドと第
１クラッドの複合体をその軸を回転軸として回転させな
がら、第２バーナを複合体の軸とほぼ平行に相対的に移
動させて第２石英ガラス微粒子を吹き付ける工程であっ
ても良い。
微粒子を第２バーナの火炎中で生成し、コアロッドと第
１クラッドの複合体をその軸を回転軸として回転させな
がら、第２バーナを複合体の軸とほぼ平行に相対的に移
動させて第２石英ガラス微粒子を吹き付ける工程であっ
ても良い。
【００１４】
【作用】本発明では、第１の工程で酸化ゲルマニウムが
添加された第１石英ガラス微粒子がコアロッド上に堆積
され、これが第２の工程で焼結されることで第１クラッ
ドが形成される。さらに、この第１クラッドの上に第２
クラッドが形成されることで光ファイバ母材が製造され
る。
添加された第１石英ガラス微粒子がコアロッド上に堆積
され、これが第２の工程で焼結されることで第１クラッ
ドが形成される。さらに、この第１クラッドの上に第２
クラッドが形成されることで光ファイバ母材が製造され
る。
【００１５】この光ファイバ母材のうちコアロッドを密
着して覆う第１クラッドは、酸化ゲルマニウムが添加さ
れた石英ガラスから構成されている。また、この光ファ
イバ母材には、コアロッドにも酸化ゲルマニウムが添加
されている。このため、この光ファイバ母材を線引する
と、コア及びクラッドのそれぞれに酸化ゲルマニウムが
添加された石英系光ファイバが得られる。
着して覆う第１クラッドは、酸化ゲルマニウムが添加さ
れた石英ガラスから構成されている。また、この光ファ
イバ母材には、コアロッドにも酸化ゲルマニウムが添加
されている。このため、この光ファイバ母材を線引する
と、コア及びクラッドのそれぞれに酸化ゲルマニウムが
添加された石英系光ファイバが得られる。
【００１６】この光ファイバの所定部位に対して紫外光
を照射すると、この所定部位に含まれるコア及びクラッ
ドの双方において紫外光が入射した部分の屈折率が変化
する。このため、例えば、この光ファイバに紫外光の干
渉縞を照射することで、コア及びクラッドの双方に回折
格子を形成することができる。
を照射すると、この所定部位に含まれるコア及びクラッ
ドの双方において紫外光が入射した部分の屈折率が変化
する。このため、例えば、この光ファイバに紫外光の干
渉縞を照射することで、コア及びクラッドの双方に回折
格子を形成することができる。
【００１７】こうして所定部位のコア及びクラッドの双
方に回折格子が作り込まれた光ファイバでは、コアを伝
搬する導波光のみならず、導波光のうち導波中にクラッ
ドへ放射される光も上記部位において反射され、モード
フィールド全域にわたって導波光が反射される構造を有
している。それゆえ、この光ファイバは高い反射率を有
する。
方に回折格子が作り込まれた光ファイバでは、コアを伝
搬する導波光のみならず、導波光のうち導波中にクラッ
ドへ放射される光も上記部位において反射され、モード
フィールド全域にわたって導波光が反射される構造を有
している。それゆえ、この光ファイバは高い反射率を有
する。
【００１８】なお、上記導波光のうちクラッドへ放射さ
れる光は、コアからわずかにクラッド側へ漏出している
だけなので、クラッドにおける回折格子がコアとクラッ
ドとの境界面付近のみに存在する場合でも、十分に高い
反射率を有する。
れる光は、コアからわずかにクラッド側へ漏出している
だけなので、クラッドにおける回折格子がコアとクラッ
ドとの境界面付近のみに存在する場合でも、十分に高い
反射率を有する。
【００１９】本発明のガラス母材製造方法のうち、第１
石英ガラス微粒子を第１バーナを用いてコアロッドの軸
方向に成長させる上記の方法によれば、第１石英ガラス
微粒子がコアロッドの外周面上にほぼ均一に堆積され、
均一な厚さの第１クラッドが形成される。
石英ガラス微粒子を第１バーナを用いてコアロッドの軸
方向に成長させる上記の方法によれば、第１石英ガラス
微粒子がコアロッドの外周面上にほぼ均一に堆積され、
均一な厚さの第１クラッドが形成される。
【００２０】第１バーナをコアロッドの軸とほぼ平行に
相対的に移動させる上記の方法の場合も同様であり、第
１石英ガラス微粒子がコアロッドの外周面上にほぼ均一
に堆積され、均一な厚さの第１クラッドが形成される。
相対的に移動させる上記の方法の場合も同様であり、第
１石英ガラス微粒子がコアロッドの外周面上にほぼ均一
に堆積され、均一な厚さの第１クラッドが形成される。
【００２１】本発明のガラス母材製造方法のうち、フッ
素を含む雰囲気中で第１石英ガラス微粒子の焼結を行う
方法では、第１クラッドにフッ素が添加される。フッ素
は、酸化ゲルマニウムとは逆に石英ガラスの屈折率を低
下させる添加物であるから、酸化ゲルマニウムとともに
フッ素を第１クラッドに添加することで、コアロッドと
第１クラッドとの比屈折率差の制御が容易になる。
素を含む雰囲気中で第１石英ガラス微粒子の焼結を行う
方法では、第１クラッドにフッ素が添加される。フッ素
は、酸化ゲルマニウムとは逆に石英ガラスの屈折率を低
下させる添加物であるから、酸化ゲルマニウムとともに
フッ素を第１クラッドに添加することで、コアロッドと
第１クラッドとの比屈折率差の制御が容易になる。
【００２２】本発明のガラス母材製造方法のうち、第２
石英ガラス微粒子を第２バーナを用いてコアロッドと第
１クラッドの複合体の軸方向に成長させる上記の方法に
よれば、第２石英ガラス微粒子が複合体の外周面上にほ
ぼ均一に堆積され、均一な厚さの第２クラッドが形成さ
れる。
石英ガラス微粒子を第２バーナを用いてコアロッドと第
１クラッドの複合体の軸方向に成長させる上記の方法に
よれば、第２石英ガラス微粒子が複合体の外周面上にほ
ぼ均一に堆積され、均一な厚さの第２クラッドが形成さ
れる。
【００２３】第２バーナをコアロッドと第１クラッドの
複合体の軸とほぼ平行に相対的に移動させる上記の方法
の場合も同様であり、第２石英ガラス微粒子が複合体の
外周面上にほぼ均一に堆積され、均一な厚さの第２クラ
ッドが形成される。
複合体の軸とほぼ平行に相対的に移動させる上記の方法
の場合も同様であり、第２石英ガラス微粒子が複合体の
外周面上にほぼ均一に堆積され、均一な厚さの第２クラ
ッドが形成される。
【００２４】
【実施例】以下、添付図面を参照しながら本発明の実施
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
また、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致して
いない。
例を詳細に説明する。なお、図面の説明において同一の
要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
また、図面の寸法比率は説明のものと必ずしも一致して
いない。
【００２５】図１は、本実施例の光ファイバ母材製造方
法を説明するための図である。この図を参照しながら、
本実施例の母材製造方法を説明する。なお、本実施例で
は、シングルモード光ファイバ用の母材を製造する。
法を説明するための図である。この図を参照しながら、
本実施例の母材製造方法を説明する。なお、本実施例で
は、シングルモード光ファイバ用の母材を製造する。
【００２６】まず、図１（ａ）のように、酸化ゲルマニ
ウム（ＧｅＯ2 ）が添加された石英ガラス（ＳｉＯ2 ）
からなるコアロッド２０を用意する。このコアロッド２
０は、回転している円柱状の出発材１０をターゲットと
し、その外周面上に火炎中で生成したＳｉＯ2 とＧｅＯ
2 のガラス微粒子を堆積させ、その後、このガラス微粒
子を焼結して透明ガラス化することにより作製すること
ができる。
ウム（ＧｅＯ2 ）が添加された石英ガラス（ＳｉＯ2 ）
からなるコアロッド２０を用意する。このコアロッド２
０は、回転している円柱状の出発材１０をターゲットと
し、その外周面上に火炎中で生成したＳｉＯ2 とＧｅＯ
2 のガラス微粒子を堆積させ、その後、このガラス微粒
子を焼結して透明ガラス化することにより作製すること
ができる。
【００２７】具体的に説明すると、コア用のバーナーに
原料となる四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4 ）及び四塩化ゲル
マニウム（ＧｅＣｌ4 ）、並びに燃料となる水素及び酸
素（以上は、すべて気体である。）を同時に送り込みな
がら、水素の燃焼によるバーナー火炎を出発材１０にあ
てる。このとき、出発材１０は、自らの軸を回転軸とし
て回転させておく。これにより、バーナ火炎中の火炎加
水分解反応により生じたＳｉＯ2 とＧｅＯ2 のガラス微
粒子が出発材１０に吹き付けられ、出発材１０の外周面
上に均一に堆積する。
原料となる四塩化ケイ素（ＳｉＣｌ4 ）及び四塩化ゲル
マニウム（ＧｅＣｌ4 ）、並びに燃料となる水素及び酸
素（以上は、すべて気体である。）を同時に送り込みな
がら、水素の燃焼によるバーナー火炎を出発材１０にあ
てる。このとき、出発材１０は、自らの軸を回転軸とし
て回転させておく。これにより、バーナ火炎中の火炎加
水分解反応により生じたＳｉＯ2 とＧｅＯ2 のガラス微
粒子が出発材１０に吹き付けられ、出発材１０の外周面
上に均一に堆積する。
【００２８】堆積が進むにつれてガラス微粒子は成長
し、軸方向に伸びてくるが、これに応じてガラス微粒子
の複合体を少しずつ引き上げてゆくことで、常にガラス
微粒子の先端にバーナ火炎があたるように制御する。こ
のようにして、必要な長さのガラス微粒子堆積体が得ら
れたら、これを焼結炉中で加熱し、焼結する。これによ
りガラス微粒子は透明ガラス化し、ＧｅＯ2 が添加され
た石英ガラスの棒状体が得られる。これが、図１（ａ）
のコアロッド２０である。ＧｅＯ2 は、石英ガラスの屈
折率を上昇させる添加物であり、本実施例のコアロッド
２０への添加量は６．５ｗｔ％である。
し、軸方向に伸びてくるが、これに応じてガラス微粒子
の複合体を少しずつ引き上げてゆくことで、常にガラス
微粒子の先端にバーナ火炎があたるように制御する。こ
のようにして、必要な長さのガラス微粒子堆積体が得ら
れたら、これを焼結炉中で加熱し、焼結する。これによ
りガラス微粒子は透明ガラス化し、ＧｅＯ2 が添加され
た石英ガラスの棒状体が得られる。これが、図１（ａ）
のコアロッド２０である。ＧｅＯ2 は、石英ガラスの屈
折率を上昇させる添加物であり、本実施例のコアロッド
２０への添加量は６．５ｗｔ％である。
【００２９】次に、図１（ｂ）に示されるように、コア
ロッド２０の外周面上に内層クラッドとなるべきガラス
微粒子（ＳｉＯ2 −ＧｅＯ2 ）を堆積させる。このガラ
ス微粒子は、クラッド用のバーナにＳｉＣｌ4 、ＧｅＣ
ｌ4 、水素及び酸素を同時に送り込むことにより火炎中
で生成したものである。
ロッド２０の外周面上に内層クラッドとなるべきガラス
微粒子（ＳｉＯ2 −ＧｅＯ2 ）を堆積させる。このガラ
ス微粒子は、クラッド用のバーナにＳｉＣｌ4 、ＧｅＣ
ｌ4 、水素及び酸素を同時に送り込むことにより火炎中
で生成したものである。
【００３０】具体的には、コアロッド２０を自らの軸を
回転軸として回転させながらバーナ５０の火炎をコアロ
ッド２０の上端部にあててＳｉＯ2 とＧｅＯ2 のガラス
微粒子を堆積させる。コアロッド２０を少しずつ引き上
げながらバーナ５０の火炎をあて続けることで、ガラス
微粒子はコアロッド２０の表面上においてコアロッド２
０の軸方向に成長していく。これにより、ＳｉＯ2 とＧ
ｅＯ2 のガラス微粒子は、コアロッド２０の外周面上に
均一に堆積する。このようにして、内層クラッドとなる
べきガラス微粒子の堆積体３０が形成される。
回転軸として回転させながらバーナ５０の火炎をコアロ
ッド２０の上端部にあててＳｉＯ2 とＧｅＯ2 のガラス
微粒子を堆積させる。コアロッド２０を少しずつ引き上
げながらバーナ５０の火炎をあて続けることで、ガラス
微粒子はコアロッド２０の表面上においてコアロッド２
０の軸方向に成長していく。これにより、ＳｉＯ2 とＧ
ｅＯ2 のガラス微粒子は、コアロッド２０の外周面上に
均一に堆積する。このようにして、内層クラッドとなる
べきガラス微粒子の堆積体３０が形成される。
【００３１】なお、上記の方法の代わりに、次の方法を
採ることもできる。すなわち、コアロッド２０を自らの
軸を回転軸として回転させながらバーナ５０の火炎をあ
て、コアロッド２０の軸方向に沿ってバーナ５０をコア
ロッド２０に対し相対的に繰り返し移動させていくこと
で、ＳｉＯ2 とＧｅＯ2 のガラス微粒子をコアロッド２
０の外周面上に均一に堆積する。このような方法によっ
ても、内層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体３
０を形成することができる。
採ることもできる。すなわち、コアロッド２０を自らの
軸を回転軸として回転させながらバーナ５０の火炎をあ
て、コアロッド２０の軸方向に沿ってバーナ５０をコア
ロッド２０に対し相対的に繰り返し移動させていくこと
で、ＳｉＯ2 とＧｅＯ2 のガラス微粒子をコアロッド２
０の外周面上に均一に堆積する。このような方法によっ
ても、内層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体３
０を形成することができる。
【００３２】次いで、コアロッド２０とガラス微粒子堆
積体３０の複合体を焼結炉中で加熱し、ガラス微粒子を
焼結する。本実施例では、内層クラッドにＦを添加すべ
く、ＳｉＦ4 を焼結炉中に導入して形成したＦ雰囲気中
で焼結を行う。これにより、上記のガラス微粒子は透明
ガラス化し、内層クラッド３１となる（図１（ｃ））。
積体３０の複合体を焼結炉中で加熱し、ガラス微粒子を
焼結する。本実施例では、内層クラッドにＦを添加すべ
く、ＳｉＦ4 を焼結炉中に導入して形成したＦ雰囲気中
で焼結を行う。これにより、上記のガラス微粒子は透明
ガラス化し、内層クラッド３１となる（図１（ｃ））。
【００３３】このようにして形成された内層クラッド３
１は、石英ガラスにＧｅＯ2 とＦが添加されたものであ
る。ＧｅＯ2 の添加量は、２ｗｔ％である。Ｆは石英ガ
ラスの屈折率を低下させる添加物であり、内層クラッド
３１の屈折率を調節し、コア２０と内層クラッド３１と
の間の比屈折率差を制御するために添加したものであ
る。Ｆを添加しなくても比屈折率差の制御は可能であ
り、本発明の目的とする光ファイバ母材を製造すること
は十分に可能であるが、比屈折率差の制御が容易になる
という利点を考慮して、本実施例ではＦを添加すること
にした。なお、本実施例では、コア２０と内層クラッド
３１との間の比屈折率差を、０．３５％とした。
１は、石英ガラスにＧｅＯ2 とＦが添加されたものであ
る。ＧｅＯ2 の添加量は、２ｗｔ％である。Ｆは石英ガ
ラスの屈折率を低下させる添加物であり、内層クラッド
３１の屈折率を調節し、コア２０と内層クラッド３１と
の間の比屈折率差を制御するために添加したものであ
る。Ｆを添加しなくても比屈折率差の制御は可能であ
り、本発明の目的とする光ファイバ母材を製造すること
は十分に可能であるが、比屈折率差の制御が容易になる
という利点を考慮して、本実施例ではＦを添加すること
にした。なお、本実施例では、コア２０と内層クラッド
３１との間の比屈折率差を、０．３５％とした。
【００３４】内層クラッド３１は、コア２０を密着して
覆いつつ、コア２０との屈折率差によって導波光を閉じ
こめ、光ファイバによる光伝送に寄与するものである。
したがって、内層クラッド３１は、光ファイバによる光
伝送において導波光エネルギーがしみ出しうる程度の厚
さにすれば良い。通常は、コアの約４倍以上の厚さがあ
れば良い。
覆いつつ、コア２０との屈折率差によって導波光を閉じ
こめ、光ファイバによる光伝送に寄与するものである。
したがって、内層クラッド３１は、光ファイバによる光
伝送において導波光エネルギーがしみ出しうる程度の厚
さにすれば良い。通常は、コアの約４倍以上の厚さがあ
れば良い。
【００３５】次に、内層クラッド３１の外周面上に、さ
らにクラッド層を形成する。このクラッド層は、内層ク
ラッド３１を密着して覆っており、外層クラッドと呼ば
れる。この外層クラッドは、内層クラッドと組み合って
一つのクラッドを構成するもので、標準的なコア／クラ
ッドの外径比を有する光ファイバ母材を得るために形成
される。
らにクラッド層を形成する。このクラッド層は、内層ク
ラッド３１を密着して覆っており、外層クラッドと呼ば
れる。この外層クラッドは、内層クラッドと組み合って
一つのクラッドを構成するもので、標準的なコア／クラ
ッドの外径比を有する光ファイバ母材を得るために形成
される。
【００３６】外層クラッドは、図１（ｄ）に示されるよ
うに、内層クラッド３１の外周面上にＳｉＯ2 のみから
なるガラス微粒子を堆積させ、これを透明ガラス化する
ことにより形成する。
うに、内層クラッド３１の外周面上にＳｉＯ2 のみから
なるガラス微粒子を堆積させ、これを透明ガラス化する
ことにより形成する。
【００３７】具体的には、コア２０及び内層クラッド３
１の複合体を自らの軸を回転軸として回転させながら、
外層クラッド用のバーナ５１にＳｉＣｌ4 、水素及び酸
素を同時に送り込み、生成されたバーナ火炎を内層クラ
ッド３１の上端部にあててＳｉＯ2 のガラス微粒子を堆
積させる。上記複合体を少しずつ引き上げながらバーナ
５１の火炎をあて続けることで、ガラス微粒子は内層ク
ラッド３１の表面上において複合体の軸方向に成長して
いく。これにより、ＳｉＯ2 のガラス微粒子は、内層ク
ラッド３１の外周面上に均一に堆積する。このようにし
て、外層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体４０
が形成される。
１の複合体を自らの軸を回転軸として回転させながら、
外層クラッド用のバーナ５１にＳｉＣｌ4 、水素及び酸
素を同時に送り込み、生成されたバーナ火炎を内層クラ
ッド３１の上端部にあててＳｉＯ2 のガラス微粒子を堆
積させる。上記複合体を少しずつ引き上げながらバーナ
５１の火炎をあて続けることで、ガラス微粒子は内層ク
ラッド３１の表面上において複合体の軸方向に成長して
いく。これにより、ＳｉＯ2 のガラス微粒子は、内層ク
ラッド３１の外周面上に均一に堆積する。このようにし
て、外層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体４０
が形成される。
【００３８】なお、上記の方法の代わりに、次の方法を
採ることもできる。すなわち、コア２０及び内層クラッ
ド３１の複合体を自らの軸を回転軸として回転させなが
ら、外層クラッド用のバーナ５１にＳｉＣｌ4 、水素及
び酸素を同時に送り込み、生成されたバーナ火炎を内層
クラッド３１にあて、軸方向に沿ってバーナ５１を上記
の複合体に対し相対的に繰り返し移動させる。これによ
り、ＳｉＯ2 のガラス微粒子が内層クラッド３１の外周
面上に均一に堆積する。このような方法によっても、外
層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体４０を形成
することができる。
採ることもできる。すなわち、コア２０及び内層クラッ
ド３１の複合体を自らの軸を回転軸として回転させなが
ら、外層クラッド用のバーナ５１にＳｉＣｌ4 、水素及
び酸素を同時に送り込み、生成されたバーナ火炎を内層
クラッド３１にあて、軸方向に沿ってバーナ５１を上記
の複合体に対し相対的に繰り返し移動させる。これによ
り、ＳｉＯ2 のガラス微粒子が内層クラッド３１の外周
面上に均一に堆積する。このような方法によっても、外
層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積体４０を形成
することができる。
【００３９】次いで、コアロッド２０、内層クラッド３
１及びガラス微粒子の堆積体４０からなる複合体を焼結
炉中で加熱し、ガラス微粒子を焼結する。これにより、
ガラス微粒子の堆積体４０は透明ガラス化し、外層クラ
ッド４１となる。以上のようにして、本実施例の光ファ
イバ母材製造方法は完了し、本実施例の目的とする光フ
ァイバ母材１００が得られる（図１（ｅ））。
１及びガラス微粒子の堆積体４０からなる複合体を焼結
炉中で加熱し、ガラス微粒子を焼結する。これにより、
ガラス微粒子の堆積体４０は透明ガラス化し、外層クラ
ッド４１となる。以上のようにして、本実施例の光ファ
イバ母材製造方法は完了し、本実施例の目的とする光フ
ァイバ母材１００が得られる（図１（ｅ））。
【００４０】図２は、光ファイバ母材１００の構造を示
す図である。コアはＧｅＯ2 が添加された石英ガラス、
内層クラッドはＧｅＯ2 とＦが添加された石英ガラス、
外層クラッドは実質的に純粋な石英ガラスから構成され
ている。
す図である。コアはＧｅＯ2 が添加された石英ガラス、
内層クラッドはＧｅＯ2 とＦが添加された石英ガラス、
外層クラッドは実質的に純粋な石英ガラスから構成され
ている。
【００４１】本実施例の方法により製造された光ファイ
バ母材を通常の線引装置を用いて線引することで光ファ
イバが得られる。この光ファイバは、コアのみならずク
ラッドにもＧｅＯ2 が添加された石英系の光ファイバで
ある。
バ母材を通常の線引装置を用いて線引することで光ファ
イバが得られる。この光ファイバは、コアのみならずク
ラッドにもＧｅＯ2 が添加された石英系の光ファイバで
ある。
【００４２】本実施例の方法により製造された光ファイ
バ母材から線引される光ファイバは、高反射率の回折格
子を作り込むことで所定波長の光を高い反射率で反射す
るようになり、光フィルタとして好適な使用が可能であ
る。本発明者らは、この点を確認すべく、実際にこの光
ファイバ内に回折格子を形成した。以下、この回折格子
形成方法について説明する。
バ母材から線引される光ファイバは、高反射率の回折格
子を作り込むことで所定波長の光を高い反射率で反射す
るようになり、光フィルタとして好適な使用が可能であ
る。本発明者らは、この点を確認すべく、実際にこの光
ファイバ内に回折格子を形成した。以下、この回折格子
形成方法について説明する。
【００４３】一般に、ＧｅＯ2 が添加された石英ガラス
に紫外光を照射すると屈折率が上昇する。紫外光の波長
は、通常、１５０ｎｍ〜３００ｎｍから選択されるが、
特に、２４０ｎｍ〜２５０ｎｍの紫外光を照射する場合
が多い。本実施例の製造方法による光ファイバ母材から
得られる光ファイバは、コア及びクラッドが、ともにＧ
ｅＯ2 が添加された石英ガラスから構成されているた
め、この光ファイバの所定部位に紫外光を照射すること
で、所定部位に含まれるコア及びクラッドの双方に回折
格子を形成することができる。紫外光の照射は、上記光
ファイバを所望の長さに切り取った後に行ってもよい
し、線引された上記光ファイバを巻き取る途中に行うな
ど、上記光ファイバの製造工程に組み込んで行ってもよ
い。
に紫外光を照射すると屈折率が上昇する。紫外光の波長
は、通常、１５０ｎｍ〜３００ｎｍから選択されるが、
特に、２４０ｎｍ〜２５０ｎｍの紫外光を照射する場合
が多い。本実施例の製造方法による光ファイバ母材から
得られる光ファイバは、コア及びクラッドが、ともにＧ
ｅＯ2 が添加された石英ガラスから構成されているた
め、この光ファイバの所定部位に紫外光を照射すること
で、所定部位に含まれるコア及びクラッドの双方に回折
格子を形成することができる。紫外光の照射は、上記光
ファイバを所望の長さに切り取った後に行ってもよい
し、線引された上記光ファイバを巻き取る途中に行うな
ど、上記光ファイバの製造工程に組み込んで行ってもよ
い。
【００４４】本実施例では、一定周期（等ピッチ）の回
折格子を光ファイバ内に形成することとし、このため
に、一定周期（等間隔）の紫外光干渉縞を光ファイバに
照射した。以下では、紫外光干渉縞の照射方法について
詳しく説明する。
折格子を光ファイバ内に形成することとし、このため
に、一定周期（等間隔）の紫外光干渉縞を光ファイバに
照射した。以下では、紫外光干渉縞の照射方法について
詳しく説明する。
【００４５】図３は、紫外光干渉縞の照射方法を説明す
るための図である。本実施例では、ホログラフィック干
渉法（二光束干渉法）により２本のコヒーレントな紫外
光を干渉させ、これによって生成された干渉縞を本実施
例の光ファイバ母材１００から得られた光ファイバ８０
に照射する。
るための図である。本実施例では、ホログラフィック干
渉法（二光束干渉法）により２本のコヒーレントな紫外
光を干渉させ、これによって生成された干渉縞を本実施
例の光ファイバ母材１００から得られた光ファイバ８０
に照射する。
【００４６】図３を参照しながら具体的に説明すると、
まず、紫外光光源６０から出力された紫外光は、干渉手
段７０に入射する。紫外光光源６０としては、アルゴン
レーザ光源を用いる。アルゴンレーザ光源は、２４４ｎ
ｍのコヒーレントな紫外光を連続発振する。また、干渉
手段７０は、ビームスプリッタ７１ａ、並びに反射鏡７
１ｂ及び７１ｃから構成されている。
まず、紫外光光源６０から出力された紫外光は、干渉手
段７０に入射する。紫外光光源６０としては、アルゴン
レーザ光源を用いる。アルゴンレーザ光源は、２４４ｎ
ｍのコヒーレントな紫外光を連続発振する。また、干渉
手段７０は、ビームスプリッタ７１ａ、並びに反射鏡７
１ｂ及び７１ｃから構成されている。
【００４７】アルゴンレーザ光源６０からの紫外光は、
ビームスプリッタ２１ａにより透過光と反射光の２光束
に分岐される。分岐された各光束は、それぞれ反射鏡２
１ｂ及び２１ｃによって反射され、光ファイバ８０の軸
方向に対し互いに補角の関係にある角度をもって光ファ
イバ８０に照射される。
ビームスプリッタ２１ａにより透過光と反射光の２光束
に分岐される。分岐された各光束は、それぞれ反射鏡２
１ｂ及び２１ｃによって反射され、光ファイバ８０の軸
方向に対し互いに補角の関係にある角度をもって光ファ
イバ８０に照射される。
【００４８】分岐された各光束は干渉領域９０にて干渉
し、所定周期の干渉縞を形成しつつ、光ファイバ８０に
照射される。照射された紫外光は、コア８１及びクラッ
ド８２に入射して、伝搬モードに対する実効屈折率を変
化させる。これにより、コア８１及びクラッド８２の干
渉縞照射領域には、干渉縞の光強度分布に応じた屈折率
分布がそれぞれ形成される。これが、回折格子８３及び
８４である。
し、所定周期の干渉縞を形成しつつ、光ファイバ８０に
照射される。照射された紫外光は、コア８１及びクラッ
ド８２に入射して、伝搬モードに対する実効屈折率を変
化させる。これにより、コア８１及びクラッド８２の干
渉縞照射領域には、干渉縞の光強度分布に応じた屈折率
分布がそれぞれ形成される。これが、回折格子８３及び
８４である。
【００４９】この回折格子８３及び８４は、コア８１又
はクラッド８２の一領域であって実効屈折率が軸方向に
沿って最小屈折率と最大屈折率の間で周期的に変化して
いるものである。なお、最小屈折率は、コア８１又はク
ラッド８２の当初の実効屈折率（紫外光照射前の実効屈
折率）にほぼ等しい。これらの回折格子８３、８４は、
ブラッグ反射波長λB を中心とした比較的狭い波長域に
わたって所定の反射率で光を反射する。ここで、 λB ＝２・ｎ・Λ ｎ：最小屈折率 Λ：回折格子の周期（屈折率変化の周期） である。なお、回折格子の周期Λは、照射した干渉縞の
周期にほぼ等しい。
はクラッド８２の一領域であって実効屈折率が軸方向に
沿って最小屈折率と最大屈折率の間で周期的に変化して
いるものである。なお、最小屈折率は、コア８１又はク
ラッド８２の当初の実効屈折率（紫外光照射前の実効屈
折率）にほぼ等しい。これらの回折格子８３、８４は、
ブラッグ反射波長λB を中心とした比較的狭い波長域に
わたって所定の反射率で光を反射する。ここで、 λB ＝２・ｎ・Λ ｎ：最小屈折率 Λ：回折格子の周期（屈折率変化の周期） である。なお、回折格子の周期Λは、照射した干渉縞の
周期にほぼ等しい。
【００５０】クラッド８２とコア８１の屈折率は異なる
ので、上式によれば、クラッド８２に形成された回折格
子８４の反射波長は、コア８１に形成された回折格子８
３の反射波長からずれることになる。しかし、一般に、
光ファイバのクラッドとコアの屈折率差は小さいので、
反射波長のずれ量も大きくない。そして、回折格子の反
射スペクトルは反射波長を中心に拡がりを持つので、回
折格子８４は回折格子８３の反射波長の光を十分に反射
することになる。
ので、上式によれば、クラッド８２に形成された回折格
子８４の反射波長は、コア８１に形成された回折格子８
３の反射波長からずれることになる。しかし、一般に、
光ファイバのクラッドとコアの屈折率差は小さいので、
反射波長のずれ量も大きくない。そして、回折格子の反
射スペクトルは反射波長を中心に拡がりを持つので、回
折格子８４は回折格子８３の反射波長の光を十分に反射
することになる。
【００５１】回折格子８３及び８４が形成された光ファ
イバ８０は、コア８１を伝搬する導波光のみならず、ク
ラッドへ放射される光をも反射し、モードフィールド全
域にわたって導波光を反射するため、コアのみに回折格
子の形成された光ファイバに比べて、高い反射率を有す
る。実際に、光ファイバ８０の一端から回折格子８３の
反射波長の光を入射させて、反射率を測定したところ、
反射率は約７５％であり、良好な結果を得た。
イバ８０は、コア８１を伝搬する導波光のみならず、ク
ラッドへ放射される光をも反射し、モードフィールド全
域にわたって導波光を反射するため、コアのみに回折格
子の形成された光ファイバに比べて、高い反射率を有す
る。実際に、光ファイバ８０の一端から回折格子８３の
反射波長の光を入射させて、反射率を測定したところ、
反射率は約７５％であり、良好な結果を得た。
【００５２】このように、本実施例の方法によれば、回
折格子を作り込むことで所定波長の光を高い反射率で反
射する光ファイバの母材を製造することができ、極めて
有用である。
折格子を作り込むことで所定波長の光を高い反射率で反
射する光ファイバの母材を製造することができ、極めて
有用である。
【００５３】以上、本発明の実施例を詳細に説明した
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、様
々な変形が可能である。例えば、実施例では、シングル
モード光ファイバ用の母材を製造したが、コアロッド、
内層クラッド及び外層クラッドの外径比を調節して形成
することで、マルチモード光ファイバ用の母材を製造す
ることも可能である。
が、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、様
々な変形が可能である。例えば、実施例では、シングル
モード光ファイバ用の母材を製造したが、コアロッド、
内層クラッド及び外層クラッドの外径比を調節して形成
することで、マルチモード光ファイバ用の母材を製造す
ることも可能である。
【００５４】
【発明の効果】以上、詳細に説明した通り、本発明の光
ファイバ母材製造方法によれば、酸化ゲルマニウムが添
加された第１クラッドが形成されるため、回折格子を作
り込むことで所定波長の光を高い反射率で反射する光フ
ァイバの母材を製造することができ、極めて有用であ
る。
ファイバ母材製造方法によれば、酸化ゲルマニウムが添
加された第１クラッドが形成されるため、回折格子を作
り込むことで所定波長の光を高い反射率で反射する光フ
ァイバの母材を製造することができ、極めて有用であ
る。
【００５５】本発明のガラス母材製造方法のうち、第１
石英ガラス微粒子を第１バーナを用いてコアロッドの軸
方向に成長させる方法によれば、均一な厚さの第１クラ
ッドが形成されるので、質の良い光ファイバ母材を製造
することができる。
石英ガラス微粒子を第１バーナを用いてコアロッドの軸
方向に成長させる方法によれば、均一な厚さの第１クラ
ッドが形成されるので、質の良い光ファイバ母材を製造
することができる。
【００５６】また、本発明のガラス母材製造方法のう
ち、第１バーナをコアロッドの軸とほぼ平行に相対的に
移動させる方法によっても、均一な厚さの第１クラッド
が形成されるので、質の良い光ファイバ母材を製造する
ことができる。
ち、第１バーナをコアロッドの軸とほぼ平行に相対的に
移動させる方法によっても、均一な厚さの第１クラッド
が形成されるので、質の良い光ファイバ母材を製造する
ことができる。
【００５７】本発明のガラス母材製造方法のうち、フッ
素を含む雰囲気中で第１石英ガラス微粒子の焼結を行う
方法では、酸化ゲルマニウムとともにフッ素を第１クラ
ッドに添加するので、コアロッドと第１クラッドとの比
屈折率差の制御が容易になり、一層好適である。
素を含む雰囲気中で第１石英ガラス微粒子の焼結を行う
方法では、酸化ゲルマニウムとともにフッ素を第１クラ
ッドに添加するので、コアロッドと第１クラッドとの比
屈折率差の制御が容易になり、一層好適である。
【００５８】本発明のガラス母材製造方法のうち、第２
石英ガラス微粒子を第２バーナを用いてコアロッドと第
１クラッドの複合体の軸方向に成長させる方法によれ
ば、均一な厚さの第２クラッドが形成されるので、質の
良い光ファイバ母材を製造することができる。
石英ガラス微粒子を第２バーナを用いてコアロッドと第
１クラッドの複合体の軸方向に成長させる方法によれ
ば、均一な厚さの第２クラッドが形成されるので、質の
良い光ファイバ母材を製造することができる。
【００５９】また、本発明のガラス母材製造方法のう
ち、第２バーナをコアロッドと第１クラッドの複合体の
軸とほぼ平行に相対的に移動させる方法によっても、均
一な厚さの第２クラッドが形成されるので、質の良い光
ファイバ母材を製造することができる。
ち、第２バーナをコアロッドと第１クラッドの複合体の
軸とほぼ平行に相対的に移動させる方法によっても、均
一な厚さの第２クラッドが形成されるので、質の良い光
ファイバ母材を製造することができる。
【図１】実施例のガラス母材製造方法を説明するための
図である。
図である。
【図２】実施例で製造されたガラス母材の構造を示す図
である。
である。
【図３】紫外光干渉縞の照射方法を説明するための図で
ある。
ある。
１０…出発材、２０…コアロッド、３０…内層クラッド
となるべきガラス微粒子の堆積体、３１…内層クラッ
ド、４０…外層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積
体、４１…外層クラッド、５０…内層クラッド用のバー
ナ、５１…外層クラッド用のバーナ、１００…ガラス母
材。
となるべきガラス微粒子の堆積体、３１…内層クラッ
ド、４０…外層クラッドとなるべきガラス微粒子の堆積
体、４１…外層クラッド、５０…内層クラッド用のバー
ナ、５１…外層クラッド用のバーナ、１００…ガラス母
材。
Claims (6)
- 【請求項１】 酸化ゲルマニウムが添加された石英ガラ
スからなるコアロッドを用意し、このコアロッドの外周
面上に酸化ゲルマニウムが添加された第１の石英ガラス
微粒子を堆積させる第１の工程と、 前記第１の石英ガラス微粒子を焼結して、前記コアロッ
ドより低屈折率の第１のクラッドを形成する第２の工程
と、 前記第１のクラッドの外周面上に第２の石英ガラス微粒
子を堆積させる第３の工程と、 この第２石英ガラス微粒子を焼結して、第２のクラッド
を形成する第４の工程と、 を備える光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項２】 前記第１の工程は、前記第１石英ガラス
微粒子を第１バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
をその軸を回転軸として回転させながら前記第１石英ガ
ラス微粒子を吹き付けて、この第１石英ガラス微粒子を
前記コアロッドの軸方向に成長させる工程であることを
特徴とする請求項１記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項３】 前記第１の工程は、前記第１石英ガラス
微粒子を第１バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
をその軸を回転軸として回転させながら、前記第１バー
ナを前記コアロッドの軸とほぼ平行に相対的に移動させ
て前記第１石英ガラス微粒子を吹き付ける工程であるこ
とを特徴とする請求項１記載の光ファイバ母材の製造方
法。 - 【請求項４】 前記第２の工程は、フッ素を含む雰囲気
中で前記焼結を行う工程であることを特徴とする請求項
１記載の光ファイバ母材の製造方法。 - 【請求項５】 前記第３の工程は、前記第２石英ガラス
微粒子を第２バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
と前記第１クラッドの複合体をその軸を回転軸として回
転させながら前記第２石英ガラス微粒子を吹き付けて、
この第２石英ガラス微粒子を前記複合体の軸方向に成長
させる工程であることを特徴とする請求項１記載の光フ
ァイバ母材の製造方法。 - 【請求項６】 前記第３の工程は、前記第２石英ガラス
微粒子を第２バーナの火炎中で生成し、前記コアロッド
と前記第１クラッドの複合体をその軸を回転軸として回
転させながら、前記第２バーナを前記複合体の軸とほぼ
平行に相対的に移動させて前記第２石英ガラス微粒子を
吹き付ける工程であることを特徴とする請求項１記載の
光ファイバ母材の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9087295A JP3596079B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 光ファイバ型回折格子作製用光ファイバ母材の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9087295A JP3596079B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 光ファイバ型回折格子作製用光ファイバ母材の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08290932A true JPH08290932A (ja) | 1996-11-05 |
| JP3596079B2 JP3596079B2 (ja) | 2004-12-02 |
Family
ID=14010603
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9087295A Expired - Lifetime JP3596079B2 (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 光ファイバ型回折格子作製用光ファイバ母材の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3596079B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004007383A1 (ja) * | 2002-07-10 | 2004-01-22 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 光ファイバ及びその製造方法 |
| US6728458B2 (en) | 2001-02-28 | 2004-04-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber and fiber grating device |
-
1995
- 1995-04-17 JP JP9087295A patent/JP3596079B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6728458B2 (en) | 2001-02-28 | 2004-04-27 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber and fiber grating device |
| WO2004007383A1 (ja) * | 2002-07-10 | 2004-01-22 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | 光ファイバ及びその製造方法 |
| EP1533284A1 (en) * | 2002-07-10 | 2005-05-25 | Sumitomo Electric Industries, Ltd. | Optical fiber and a method for manufactuirng same |
| CN1318337C (zh) * | 2002-07-10 | 2007-05-30 | 住友电气工业株式会社 | 光纤的制造方法 |
| EP1533284A4 (en) * | 2002-07-10 | 2011-04-27 | Sumitomo Electric Industries | OPTICAL FIBER AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3596079B2 (ja) | 2004-12-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5790726A (en) | Optical waveguide and process for producing it | |
| US6075625A (en) | Photoinduced grating in B2 O3 containing glass | |
| JP3325901B2 (ja) | 光ウェーブガイドの屈折率を局所的に変更するための方法 | |
| US4224046A (en) | Method for manufacturing an optical fiber preform | |
| US7680375B2 (en) | Production device and production method for an optical device component having a grating structure | |
| KR100487888B1 (ko) | 광학수단을 제공하는 방법 및 광학수단을 형성하는 프로세스 | |
| WO1993018420A1 (en) | Silica germania glass compositions | |
| JP3596079B2 (ja) | 光ファイバ型回折格子作製用光ファイバ母材の製造方法 | |
| US6229945B1 (en) | Photo induced grating in B2O3 containing glass | |
| JP3601103B2 (ja) | 光ファイバ型回折格子作製用光ファイバ母材の製造方法 | |
| CA2373153A1 (en) | Chalcogenide doping of oxide glasses | |
| JP3431046B2 (ja) | 光導波路、その導波路部材、及びその製造方法 | |
| JP3562545B2 (ja) | 光ファイバ用ガラス母材の製造方法 | |
| JPH08286050A (ja) | 光導波路型回折格子及びその作製方法 | |
| JP3596080B2 (ja) | 光ファイバ型回折格子作製用光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPH08201609A (ja) | チャープトファイバグレーティング | |
| JPH09203816A (ja) | 光ファイバ母材の製造方法 | |
| JPH07218712A (ja) | 光導波路型回折格子の作製方法 | |
| JPH07248430A (ja) | 光導波路型回折格子及びその作製方法 | |
| JPH08286065A (ja) | 平面光導波路の作製方法 | |
| JPH07253506A (ja) | 光ファイバ型回折格子の作製方法 | |
| JPH07270606A (ja) | 光導波路型回折格子の作製方法 | |
| JP4543551B2 (ja) | 光導波路デバイス | |
| WO1993002018A1 (en) | Light transmitting device having regions of differing refractive index | |
| JP2003215380A (ja) | 光導波路、光導波路型回折格子および光導波路型回折格子製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040513 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040519 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040720 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040817 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040830 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070917 Year of fee payment: 3 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080917 Year of fee payment: 4 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090917 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090917 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100917 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110917 Year of fee payment: 7 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120917 Year of fee payment: 8 |