JPH08288203A

JPH08288203A - 走査型露光装置

Info

Publication number: JPH08288203A
Application number: JP7109968A
Authority: JP
Inventors: Tomohide Hamada; 智秀浜田; Hiroshi Shirasu; 廣白数
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1995-04-11
Filing date: 1995-04-11
Publication date: 1996-11-01

Abstract

(57)【要約】【目的】マスクのパターンを感光基板上の所定領域に
正確に転写すると同時にパターン転写と無関係な基板周
辺部の感光層を確実に感光させる。【構成】複数の部分領域の内のＹ方向の両端以外に位
置する部分領域Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４の形状を規定する第１
の視野絞りは、Ｘ方向の開口長が一定とされているのに
対し、Ｙ方向の両端に位置する部分領域Ｍ１、Ｍ５の形
状を規定する一対の第２の視野絞り３２は、パターンが
存在しない領域に対応する一部のＸ方向の開口長が第１
の視野絞りより長くされている。このため、マスクステ
ージ２０と基板ステージ１６とがＸ方向に同時に所定速
度で平行移動すると、マスク１２のパターンが投影光学
系１８Ａ〜１８Ｅを介して感光基板１６上に逐次転写さ
れると同時に、感光基板１６上のＹ方向両端の周辺領域
がパターン転写領域１６Ａより多い露光量で露光され
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、走査型露光装置に係
り、更に詳しくは、半導体素子又は液晶表示基板等の製
造のためのフォトリソグラフィ工程において、マスクの
パターンを大面積の感光基板上に露光するのに使用して
好適な走査型露光装置に関する。

【０００２】

【背景技術】従来より、半導体素子製造や液晶ディスプ
レイパネルの製造のためのフォトリソグラフィ工程で
は、マスク（又はレチクル）に形成されたパターンを投
影光学系を介して表面にフォトレジスト等の感光剤が塗
布された基板に転写する投影露光装置が使用されてい
る。この投影露光装置としては、レチクル上に形成され
たパターンを基板の所定領域に転写した後、基板を一定
距離だけステッピングさせて、再びレチクルのパターン
を転写することを繰り返す、いわゆるステップアンドリ
ピート方式の装置が知られている。

【０００３】しかしながら、かかるステップアンドリピ
ート方式の装置は、パターンを転写すべき感光基板の面
積が大きくなればなる程、ショット数が増加してステッ
プアンドリピートの繰り返し回数が多くなり、スループ
ットが必然的に低下することから、大型のガラス基板
（感光基板）にパターンを転写する大型の液晶ディスプ
レイパネルの製造等には、不向きである。

【０００４】このような背景の下、本願出願人は、先
に、特願平５−１６１５８８号、特願平６−２３２９６
３号等で、大型の液晶パネル（液晶表示基板）又は大面
積の半導体素子等を高いスループットで製造することが
できる走査型露光装置を提案した。図５には、この走査
型露光装置の一例が示されている。この走査型露光装置
１００は、マスク１０２上の部分領域Ｍ１〜Ｍ５を所定
形状（台形状）の光束でそれぞれ照明する複数の照明光
学系１０４Ａ〜１０４Ｅと、マスク１０２上の部分領域
Ｍ１〜Ｍ５の像を実質的に等倍且つ正立正像で感光基板
１０６上の投影領域Ｐ１〜Ｐ５にそれぞれ投影する複数
の投影光学系１０８Ａ〜１０８Ｅと、マスク１０２をス
テージ１１０を介して水平に保持すると共に、感光基板
１０６を水平に保持するコ字状のキャリッジ１１２とを
備えている。そして、キャリッジ１１２を介してマスク
１０２と感光基板１０６とを投影光学系１０８Ａ〜１０
８Ｅに対して所定の方向（同図におけるＸ方向）に同時
に走査することにより、マスク１０２上のパターン領域
ＰＡに形成されたパターンが逐次感光基板１０６上に露
光されるようになっていた。

【０００５】この走査型露光装置１００では、図５に示
されるような走査方向（Ｘ方向）の長さが一定の台形状
の投影領域Ｐ１〜Ｐ５が逐次露光され、感光基板１０６
上のパターン転写領域１０６Ａの全面がほぼ均一な露光
量で露光されていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】現在、液晶用のガラス
基板等には感光剤としてポジ型レジストが塗布される
が、この塗布の方法として、基板を回転させながらポジ
型レジストを塗布するスピンコートと呼ばれる手法が採
用されていることから、周辺部でレジストが盛り上がり
中央部に比べてその膜厚が厚くなる傾向にある。

【０００７】このため、上記の如く、パターン転写領域
内を均一に露光するため、台形状の投影領域Ｐ１〜Ｐ５
を逐次露光する方法では、周辺部の感光層（レジストの
層）を十分に露光することができなかった。しかし、パ
ターン転写領域と無関係な周辺に対する露光を確実に行
なうことは重要である。これは、ポジ型レジストの場合
は、現像後も基板周辺部にレジストが残り、後工程にお
いてレジストの剥離等でパーティクルが発生し、歩留ま
りを悪化させる様々な原因となるおそれがあるからであ
る。

【０００８】従って、周辺部の露光のために、専用の周
辺露光装置を装置内に組み込んだり、別置きで設置した
りする必要があったが、これは、装置の大型化、コスト
アップの要因となる。

【０００９】また、仮に、両端の投影領域Ｐ１、Ｐ５の
走査方向（Ｘ方向）と直交する方向（Ｙ方向）の長さを
延ばして周辺部までパターン転写領域と同時に露光でき
るようにしても、周辺部のレジストを確実に露光するこ
とはできない。これは、周辺部では、前記の如くレジス
トの膜厚が厚くなり、これを確実に露光するためには、
中央部のパターン転写領域の約２倍の露光量が必要とさ
れているからである。この場合、周辺部に合わせた露光
量にて露光することも考えられるが、パターン転写領域
ではオーバー露光となり、露光線幅異常の原因になると
いう不都合があった。

【００１０】本発明は、かかる事情の下になされたもの
で、その目的は、マスクのパターンを感光基板上の所定
領域に正確に転写すると同時に本来のパターン転写と無
関係な基板周辺部の感光層を確実に感光させることがで
きる走査型露光装置を提供することにある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、マスクと感光
基板とを所定の走査方向に所定速度で平行移動させつつ
前記マスク上のパターンを投影光学系を介して前記感光
基板上に逐次転写する走査型露光装置であって、前記マ
スクを保持して前記走査方向に移動するマスクステージ
と；前記マスク上の複数の部分領域のそれぞれを照明す
る複数の照明光学系と；前記感光基板を保持して前記走
査方向に移動する基板ステージと；前記各照明光学系に
対応して配置され、前記マスク上の前記各部分領域の像
を前記感光基板上に投影する複数の投影光学系と；前記
複数の部分領域の像の内の前記走査方向に直交する方向
の両端以外に位置する像の形状を規定すると共に、前記
走査方向の開口長が一定とされた複数の第１の視野絞り
と；前記複数の部分領域の像の内の前記走査方向に直交
する方向の両端に位置する形状を規定すると共に、当該
部像のうち、前記パターンの像が存在しない領域に対応
する一部の前記走査方向の開口長が前記第１の視野絞り
より長くされた一対の第２の視野絞りとを有する。

【００１２】この場合において、前記第２の視野絞り
は、前記一部以外の部分の前記走査方向に直交する方向
の長さが可変である可変視野絞りであってもよい。

【００１３】

【作用】本発明によれば、マスクを保持したマスクステ
ージと感光基板を保持した基板ステージとが走査方向に
同時に所定速度で平行移動すると、これに伴って各照明
光学系により照明されるマスク上の部分領域が走査方向
に連続して変化すると共にこれに対応して走査方向に連
続して変化するマスク上の部分領域の像が各投影光学系
により感光基板上に投影される。このようにしてマスク
上のパターンが複数の投影光学系を介して感光基板上に
逐次転写される。

【００１４】ここで、複数の部分領域の内の走査方向に
直交する方向の両端以外に位置する部分領域の形状を規
定する複数の第１の視野絞りは、走査方向の開口長が一
定とされているのに対し、複数の部分領域の内の走査方
向に直交する方向の両端に位置する部分領域の形状を規
定する一対の第２の視野絞りは、当該部分領域のうち、
パターンが存在しない領域に対応する一部の走査方向の
開口長が第１の視野絞りより長くされていることから、
マスクを保持したマスクステージと感光基板を保持した
基板ステージとが走査方向に同時に所定速度で平行移動
すると、マスクのパターンが複数の投影光学系を介して
感光基板上に逐次転写されると同時に、感光基板上の走
査方向に直交する方向の両端の周辺領域がパターン転写
領域より多い露光量で露光される。この周辺領域の露光
量は、第１の視野絞りの走査方向の開口長と第２の視野
絞りの前記一部の走査方向の開口長との比に応じて定ま
る。

【００１５】この場合において、第２の視野絞りが、前
記一部以外の部分の走査方向に直交する方向の長さが可
変である可変視野絞りである場合は、感光基板の大き
さ、パターン転写領域の面積が変更されて、パターン転
写領域の走査方向に直交する方向の長さが変化しても、
これに合わせて第２の視野絞りのパターン転写領域内に
対応する部分の走査方向に直交する方向の長さを調整す
ることにより、パターン転写領域、周辺領域のそれぞれ
を適正な露光量で露光することができる。

【００１６】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１ないし図３に
基づいて説明する。図１には、一実施例の走査型露光装
置１０の構成が概略的に示されている。この走査型露光
装置１０は、それぞれ等倍で正立正像を投影する複数の
投影光学系を有するものである。

【００１７】この走査型露光装置１０は、マスク１２上
の所定形状の複数（ここでは５つ）の部分領域（各部分
領域の形状については後述する）Ｍ１〜Ｍ５をそれぞれ
照明する複数（ここでは５つ）の照明光学系１４Ａ〜１
４Ｅと、マスク１２上の前記部分領域の像を実質的に等
倍且つ正立正像で感光基板としての液晶用ガラスプレー
ト（以下、適宜「プレート」という）１６上に投影する
複数（ここでは５つ）の投影光学系１８Ａ〜１８Ｅと、
マスク１２を載置して投影光学系１８Ａ〜１８Ｅの光軸
方向であるＺ軸に直交するＸＹ面上をＸ軸及びＹ軸方向
に移動可能なマスクステージ２０と、前記プレート１６
を載置してマスクステージ２０の移動面と平行な面内を
Ｘ軸方向に沿って移動可能な基板ステージとしてのプレ
ートステージ２２とを備えている。

【００１８】前記照明光学系１４Ａは、超高圧水銀ラン
プ等の光源２４、楕円鏡２６、ダイクロイックミラー２
７、波長選択フィルタ２８、フライアイレンズ３０、第
２の視野絞り３２、コンデンサレンズ３４とを含んで構
成されている。さらに、ダイクロイックミラー２７と波
長選択フィルタ２８との間には、光軸ＡＸ１に対して進
退可能とされたシャッタ３６が設けられている。これに
よれば、光源２４から射出した光束は、楕円鏡２６で反
射された後にダイクロイックミラー２７に入射する。こ
のダイクロイックミラー２７は露光に必要な波長の光束
を反射し、その他の波長の光束を透過する。ダイクロイ
ックミラー２７で反射された光束は、シャッタ３６によ
って投影光学系側への照射を選択的に制限されるが、シ
ャッタ３６の開放時には、この光束は波長選択フィルタ
２８に入射し、投影光学系１８Ａが転写を行なうのに適
した波長（通常は、ｇ、ｈ、ｉ線のうち少なくとも１つ
の帯域）の光束となる。また、この光束の強度分布は光
軸近傍が最も高く、周辺になると低下するガウス分布状
になるため、少なくとも投影光学系１８Ａの投影領域Ｐ
１内で強度を均一にする必要がある。このため、フライ
アイレンズ３０及びコンデンサレンズ３４によって光束
の強度を均一化する。なお、第２の視野絞り３２は、マ
スク１２上の部分領域Ｍ１と、プレート１６上の投影領
域Ｐ１の形状を規定する後述する特殊形状の開口を有す
る。この第２の視野絞り３２は、マスク１２と共役にな
っている。

【００１９】図１では簡略化して図示されているが、残
りの照明光学系１４Ｂ〜１４Ｅの内、部分領域Ｍ１と反
対側のＹ方向（走査方向に直交する方向）の端部に位置
する部分領域Ｍ５を照明する照明光学系１４Ｅは、照明
光学系１４Ａと全く同様に構成され、その他の照明光学
系１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄは、全体的な構成は照明光学
系１４Ａと同様であるが、これらを構成する視野絞りが
第２の視野絞りと異なる第１の視野絞り（これについて
は後述する）である点が相違する。

【００２０】ここで、各照明光学系を構成する視野絞り
について、更に詳述する。図２（Ａ）には、照明光学系
１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄを構成する第１の視野絞り３１
が示されている。この第１の視野絞り３１は、両底角θ
が４５度で高さがａの台形の開口部３１Ａを有する円板
状部材から成る。この第１の視野絞り３１は、照明光学
系１４Ｂ、１４Ｃ、１４Ｄの内部ではマスク１２と共役
になる位置に所定の向きでそれぞれ配置され、それぞれ
の開口部３１Ａを透過した光束は折曲げミラー３８Ｂ、
３８Ｃ、３８Ｄをそれぞれ介してマスク１２上の走査方
向（Ｘ方向）の長さが一定の部分領域Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４
をそれぞれ照明する。

【００２１】図２（Ｂ）には照明光学系１４Ａ、１４Ｅ
を構成する第２の視野絞り３２が示されている。この第
２の視野絞り３２は、同図における上半部が長方形で下
半部が台形の開口部３２Ａを有する円板状部材から成
る。開口部３２Ａの台形部の高さはａで、長方形部の高
さｂは台形部の高さａの約２倍とされている。この第２
の視野絞り３２は、照明光学系１４Ａ、１４Ｅの内部で
は、マスク１２と共役になる位置にそれぞれ配置され、
それぞれの開口部３２Ａの台形部分を透過した光束は折
曲げミラー３８Ａ、３８Ｂをそれぞれ介してマスク１２
上の部分領域Ｍ１、Ｍ５のパターン領域１２Ａに含まれ
るＸ方向の長さがＹ方向に一定で部分領域Ｍ２、Ｍ３等
と同じ台形部分を照明し、それぞれの開口部３２Ａの長
方形部分を透過した光束が折曲げミラー３８Ａ、３８Ｂ
をそれぞれ介して部分領域Ｍ１、Ｍ５のパターン領域１
２Ａに含まれない部分であってＸ方向の長さがＹ方向に
一定で部分領域Ｍ２、Ｍ３等の約２倍である長方形部分
を照明する。

【００２２】前記プレートステージ２２上には、その表
面に感光剤としてのフォトレジストが塗布されたプレー
ト１６が載置され、図示しないバキュームチャック等の
真空吸着手段によって吸着保持されている。このプレー
トステージ２２は、１次元の走査露光を行うべく、走査
方向（Ｘ方向）に長いストロークを持った第１の駆動系
４０（例えば、送りねじ機構とモータ等から構成され
る）によってＸ軸方向に駆動されるようになっている。
さらに、このプレートステージ２２の走査方向の位置
は、高分解能及び高精度の第１のレーザ干渉計４４によ
って計測されるようになっている。

【００２３】前記マスクステージ２０上には、マスク１
２が載置されており、このマスクステージ２０もプレー
トステージ２２と同様に、走査方向（Ｘ方向）に長いス
トロークを持った第２の駆動系４６（例えば、送りねじ
機構とモータ等から構成される）によってＸ軸方向に駆
動されるようになっている。更に、このマスクステージ
２０には、当該マスクステージ２０をＸ方向に直交する
Ｙ方向に駆動（微動）する第３の駆動系４８と、当該マ
スクステージ２０をＺ軸回りに所定の角度範囲内で回転
させる第４の駆動系５０とが併設されている。

【００２４】マスクステージ２０のＸ方向の一端面に
は、移動鏡５２がＹ方向に延設されており、この移動鏡
５２表面のＹ方向に所定間隔隔てた２点のＸ方向の位置
が高分解能及び高精度の第２のレーザ干渉計５４によっ
て計測されるようになっている。また、このマスクステ
ージ２０のＹ方向の一端面には、移動鏡５６がＸ方向に
沿って延設されており、この移動鏡５６表面の所定の点
のＹ方向の位置が高分解能及び高精度の第３のレーザ干
渉計５８によって計測されるようになっている。即ち、
本実施例では、レーザ干渉計５４、５８で計測される３
点の位置データに基づいてマスクステージ２０のＸ、Ｙ
座標位置の他、Ｚ軸回りの回転もわかるようになってい
る。

【００２５】図示しない主制御装置では、レーザ干渉計
５４、５８の出力に基づいて３つの駆動系４６、４８、
５０を制御することにより、マスク１２とプレート１６
のアライメントの際等にマスクステージ２０をＸ、Ｙ、
θ（Ｚ軸回りの回転）方向へ駆動するようになってい
る。

【００２６】マスク１２の上方にＹ方向に所定間隔で一
対のアライメント検出系６０Ａ及び６０Ｂが配置されて
いる。これに対応してマスク１２のパターン領域１２Ａ
の近傍の４角（コーナー）の部分にアライメントマーク
１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｄが形成され、プレート
１６のパターン転写領域１６Ａの近傍の４角の部分にも
マーク１３Ａ、１３Ｂ、１３Ｃ、１３Ｄにそれぞれ対応
してアライメントマーク１７Ａ、１７Ｂ、１７Ｃ、１７
Ｄが形成されている。

【００２７】ここで、アライメント検出系６０Ａ、６０
Ｂとしては、顕微鏡光学系とＩＴＶカメラ若しくはＣＣ
Ｄカメラを備え、アライメントマークを含む所定の検出
範囲の画像を撮像し、画像処理によってアライメントマ
ークの位置を求める構成のものが使用されている。これ
らのアライメント検出系６０Ａ、６０Ｂの出力も図示し
ない主制御装置に入力されるようになっている。

【００２８】例えば走査露光を開始する前に、図示しな
い主制御装置では、アライメント検出系６０Ａによりマ
スク１２上のアライメントマーク１３Ａとプレート１６
上のアライメントマーク１７Ａとの位置ずれ量を検出
し、同時にアライメント検出系６０Ｂによりマスク１２
上のアライメントマーク１３Ｂとプレート１６上のアラ
イメントマーク１７Ｂとの位置ずれ量を検出し、それら
の位置ずれ量が所定の許容範囲内に収まるように例えば
マスク１２のＸ方向、Ｙ方向、及び回転方向（θ方向）
の位置を調整する。これによりプレート１６上に既に形
成されているパターンと、これから露光するパターンと
の初期の重ね合わせ精度が高くなる。

【００２９】更に、前記投影光学系１８Ａ〜１８Ｅは、
マスク１２とプレート１６との間に、部分領域Ｍ１〜Ｍ
５と同じ配列で設けられ、図示しない本体コラムに固定
されている。投影光学系１８Ａ〜１８Ｅとしては、等倍
で正立正像を投影するもの、例えば凹面鏡及び凸面鏡等
を組み合わせたミラープロジェクション方式の投影光学
系が使用されている。なお、マスク１２とプレート１６
とは、投影光学系１８Ａ〜１８Ｅに関して共役となって
いる。

【００３０】このため、マスク１２の部分領域Ｍ１〜Ｍ
５を透過した複数の光束は、それぞれ異なる投影光学系
１８Ａ〜１８Ｅを介してプレート１６上の異なる投影領
域（露光フィールド）Ｐ１〜Ｐ５にマスク１２上の部分
領域Ｍ１〜Ｍ５の像を等倍の正立正像（正立等倍実結
像）として結像する。

【００３１】ここで、マスク１２上の部分領域Ｍ１〜Ｍ
５は、走査方向であるＸ方向に所定間隔で設定された２
列に分かれ、１列目に３個の部分領域Ｍ１、Ｍ３及びＭ
５が配列され、２列目に２個の部分領域Ｍ２及びＭ４が
配列され、且つ部分領域Ｍ１〜Ｍ５の台形部分の斜辺部
の位置がＹ方向に重なるように配列されている。また、
Ｘ方向の両端に位置する部分領域Ｍ１、Ｍ５は、この領
域の形状を規定する視野絞りとして前述した第２の視野
絞り３２が使用されていることから、Ｙ方向外側のＸ方
向の長さが長くされた部分（視野絞り３２の開口部３２
の長方形部分に対応する部分）によりパターン領域１２
Ａの外側の周辺領域が照明される。

【００３２】また、図３に示されるように、プレート１
６上で１列目の投影領域Ｐ１，Ｐ３及びＰ５と２列目の
投影領域Ｐ２及びＰ４とは、台形部分（この部分では、
走査方向（Ｘ方向の長さが一定である）の斜辺部のＹ方
向の位置が重なるように配置されている。従って、例え
ば投影領域Ｐ１の斜辺部、及び投影領域Ｐ３の一方の斜
辺部で露光される領域は、それぞれ投影領域Ｐ２の斜辺
部で重複して走査されるようになっている。これによ
り、プレート１６のパターン転写領域１６Ａ内ではその
全面で走査露光後の積算露光量が均一化される。しかし
ながら、部分領域Ｍ１，Ｍ５の像が投影される投影領域
Ｐ１、Ｐ２では、部分領域Ｍ１，Ｍ５に対応してＹ方向
外側のＸ方向の長さが長くされた部分（長方形部分）は
パターンが転写されない周辺露光領域ＣＡ1 となってお
り、投影領域Ｐ１、Ｐ２のこの周辺露光領域ＣＡ1 を露
光する部分の走査方向の長さが他の部分より長く、本実
施例の場合は約２倍となっているので、走査露光後の積
算露光量はパターン転写領域１６Ａの２倍となる。

【００３３】従って、上述した如くして、マスク１２と
プレート１６との位置合わせを行なった後、マスクステ
ージ２０とプレートステージ２２とをＸ方向に同一速度
で平行移動することにより、マスク１２及びプレート１
６が同期してＸ方向に走査され、１回の走査で、マスク
１２上のパターン領域１２Ａ内のパターンがプレート１
６上のパターン転写領域１６Ａ上に逐次露光されて良好
な重ね合わせ露光が行なわれると共に、プレート１６上
のパターン転写領域１６ＡのＹ方向両側の周辺領域ＣＡ
1 がパターン転写領域１６Ａの２倍の露光量で露光され
る。

【００３４】以上説明したように、本実施例によれば、
専用の周辺露光装置を組み込んだり、別置きで設置する
必要がないことから、省スペース及びコスト低減の効果
が大きい。

【００３５】また、パターン転写領域の露光と同時に周
辺部の露光が確実に行なわれるので、スループットアッ
プの効果も期待できる。

【００３６】なお、図３に示される周辺領域ＣＡ2 の露
光を行なう場合は、投影領域Ｐ１〜Ｐ５の走査方向にそ
の領域が存在するため、投影領域Ｐ１〜Ｐ５が当該領域
ＣＡ2 を通過する瞬間に、光源２４を構成する超高圧水
銀ランプをフラッシュアップして露光量を高めること
で、比較的容易にこの領域の露光は実現できる。

【００３７】なお、上記実施例では、照明光学系内に視
野絞りを設ける場合を例示したが、結像光学系側で、一
旦中間像を形成する等して、結像光学系内に視野絞りを
設けるようにしても良く、このようにしても上記実施例
の場合と同等の効果を得ることができる。

【００３８】また、上記実施例では、走査方向に直交す
る方向の両端に位置する部分領域の形状を規定する一対
の第２の視野絞り３２が固定絞りである場合を例示した
が、この第２の視野絞りは可変視野絞りであっても構わ
ない。

【００３９】図４には、部分領域Ｍ５の形状を規定する
ための開口部を可変とした第２の視野絞り７０の一例が
示されている。この可変視野絞り７０は、図４（Ａ）に
示されるように、固定絞り７２と矢印Ａ、Ｂ方向に移動
する可動絞り７４とから構成されている。固定絞り７２
の斜辺部７２ａは、部分領域Ｍ５の台形部分の斜辺部を
規定するもので、この斜辺部７２ａが部分領域Ｍ４のＹ
方向外側の斜辺部を規定する第１の視野絞り３１の斜辺
部の位置に正確に一致するように、固定絞り７２は位置
決めされている。

【００４０】可動絞り７４の開口部７４Ａは、一定幅ａ
の幅狭部７４ｂと一定幅ｂの幅広部７４ｃとから成り、
これらの幅狭部７４ｂと幅広部７４ｃは、前記斜辺部７
２ａと４５度を成す各２本の直線部ｏ、ｐ及びｑ、ｒを
それぞれ有している。そして、可動絞り７４が、図４
（Ａ）に示される位置から矢印Ａ方向に移動することに
より、図４（Ｂ）に示されるように、上記実施例で説明
した第２の視野絞り３２の開口部３２Ａと同様の形状の
開口部７０Ａが形成されると共に、可動絞り７４Ａが矢
印Ａ、Ｂ方向に移動することにより、開口部７０Ａの台
形部分の前記幅狭部７４ｂと幅広部７４ｃの境界位置Ｓ
からの突出長が可変となるようになっている。従って、
これによれば、境界位置Ｓがマスク１２上のパターン領
域１２Ａと周辺領域の境界に一致するように可動絞り７
４の位置を調整することにより、パターン領域の面積の
変更により、パターン転写領域の走査方向に直交する方
向の長さが変更された場合であっても、パターン転写領
域、周辺領域のそれぞれを適正露光量で露光することが
できる。

【００４１】なお、上記実施例では、マスクステージと
プレートステージを別々の駆動系により、同時に駆動す
る場合を例示したが、前述した図５の走査型露光装置１
００のようにコ字状のキャリッジによりマスクとプレー
トとを同時に走査してもよい。

【００４２】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
感光基板上の走査方向に直交する方向の両端の周辺領域
が、第１の視野絞りの走査方向の開口長と第２の視野絞
りの一部の走査方向の開口長との比に応じて定まる、パ
ターン転写領域より多い露光量で露光されることから、
マスクのパターンを感光基板上の所定領域に正確に転写
すると同時に本来のパターン転写と無関係な基板周辺部
の感光層を確実に感光させることができるという従来に
ない優れた効果がある。従って、これによれば、専用の
周辺露光装置が不要となり、その分、省スペース化、コ
ストの低減を図ることが可能になる。

【００４３】特に、請求項２記載の発明にあっては、感
光基板の大きさ、パターン転写領域の面積が変更され
て、パターン転写領域の走査方向に直交する方向の長さ
が変化しても、パターン転写領域、周辺領域のそれぞれ
を適正な露光量で露光することができるという効果もあ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】一実施例に係る走査型露光装置の概略構成を示
す斜視図である。

【図２】（Ａ）は第１の視野絞りを示す正面図、（Ｂ）
は第２の視野絞りを示す正面図である。

【図３】プレート上の投影領域の配置を示す説明図であ
る。

【図４】変形例の可変視野絞りの一例を示す図である。

【図５】背景技術を説明するための図であって、走査型
露光装置の概略構成を示す斜視図である。

【符号の説明】

１０走査型露光装置１２マスク１４Ａ〜１４Ｅ照明光学系１６プレート（感光基板）１８Ａ〜１８Ｅ（投影光学系）２０マスクステージ２２プレートステージ（基板ステージ）３１第１の視野絞り３２第２の視野絞りＭ１〜Ｍ５部分領域Ｐ１〜Ｐ５投影領域

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】マスクと感光基板とを所定の走査方向に
所定速度で平行移動させつつ前記マスク上のパターンを
投影光学系を介して前記感光基板上に逐次転写する走査
型露光装置であって、前記マスクを保持して前記走査方向に移動するマスクス
テージと；前記マスク上の複数の部分領域のそれぞれを
照明する複数の照明光学系と；前記感光基板を保持して
前記走査方向に移動する基板ステージと；前記各照明光
学系に対応して配置され、前記マスク上の前記各部分領
域の像を前記感光基板上に投影する複数の投影光学系
と；前記複数の部分領域の像の内の前記走査方向に直交
する方向の両端以外に位置する像の形状を規定すると共
に、前記走査方向の開口長が一定とされた複数の第１の
視野絞りと；前記複数の部分領域の像の内の前記走査方
向に直交する方向の両端に位置する像の形状を規定する
と共に、当該像のうち、前記パターンの像が存在しない
領域に対応する一部の前記走査方向の開口長が前記第１
の視野絞りより長くされた一対の第２の視野絞りとを有
する走査型露光装置。
【請求項２】前記第２の視野絞りは、前記一部以外の
部分の前記走査方向に直交する方向の長さが可変である
ことを特徴とする請求項１記載の走査型露光装置。