JPH08287440A - 記録装置、ヘッドスライダ及びその製造方法 - Google Patents
記録装置、ヘッドスライダ及びその製造方法Info
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- JPH08287440A JPH08287440A JP9119695A JP9119695A JPH08287440A JP H08287440 A JPH08287440 A JP H08287440A JP 9119695 A JP9119695 A JP 9119695A JP 9119695 A JP9119695 A JP 9119695A JP H08287440 A JPH08287440 A JP H08287440A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】コンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）方
式の磁気ヘッドスライダに関し、浮上の開始、停止の際
の動作をより安定化すること。 【構成】磁気媒体１３の回転による浮力発生のためのレ
ール面３ｂ，３ｃと、前記レール面３ｂ，３ｃのうち空
気流の流入端寄りに形成された第１の突起６ｂと、前記
レール面３ｂ，３ｃのうち空気流の流出端寄りに形成さ
れた第２及び第３の突起６ａとを含む。
式の磁気ヘッドスライダに関し、浮上の開始、停止の際
の動作をより安定化すること。 【構成】磁気媒体１３の回転による浮力発生のためのレ
ール面３ｂ，３ｃと、前記レール面３ｂ，３ｃのうち空
気流の流入端寄りに形成された第１の突起６ｂと、前記
レール面３ｂ，３ｃのうち空気流の流出端寄りに形成さ
れた第２及び第３の突起６ａとを含む。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、記録装置、ヘッドスラ
イダ及びその製造方法に関し、より詳しくは磁気記録装
置や光記録装置のような記録装置と、この装置に使用さ
れるコンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式の
ヘッドスライダ及びその製造方法に関する。
イダ及びその製造方法に関し、より詳しくは磁気記録装
置や光記録装置のような記録装置と、この装置に使用さ
れるコンタクト・スタート・ストップ（ＣＳＳ）方式の
ヘッドスライダ及びその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気ディスク装置においては、浮動型ヘ
ッドを用いるＣＳＳ方式が採用されることが多い。ＣＳ
Ｓ方式は、磁気ディスク装置の停止時及び起動時に磁気
ヘッドを磁気ディスクの面に接触させ、情報の記録又は
再生の時には磁気ディスク表面から磁気ヘッドのスライ
ダを浮上させるものである。浮上した磁気ヘッドのスラ
イダは、サスペンションによって支持されながら磁気デ
ィスク面の上方を移動される。そのスライダには、一般
に読出し用及び書込み用の磁気ヘッド素子が取付けられ
る。
ッドを用いるＣＳＳ方式が採用されることが多い。ＣＳ
Ｓ方式は、磁気ディスク装置の停止時及び起動時に磁気
ヘッドを磁気ディスクの面に接触させ、情報の記録又は
再生の時には磁気ディスク表面から磁気ヘッドのスライ
ダを浮上させるものである。浮上した磁気ヘッドのスラ
イダは、サスペンションによって支持されながら磁気デ
ィスク面の上方を移動される。そのスライダには、一般
に読出し用及び書込み用の磁気ヘッド素子が取付けられ
る。
【０００３】磁気ヘッドのスライダが浮上するのは、磁
気ディスクの回転によって磁気ディスク表面に生じる空
気流の作用、即ち磁気ディスク表面での動圧空気軸受け
の原理によるものである。スライダを浮上させるため
に、スライダのうち磁気ディスクに対向する側の面に空
気流により浮上力を発生する凸部が形成してあり、空気
流の流入端にテーパを形成する構造を有している。その
凸部は、一般にレール面（浮上面）と呼ばれる。
気ディスクの回転によって磁気ディスク表面に生じる空
気流の作用、即ち磁気ディスク表面での動圧空気軸受け
の原理によるものである。スライダを浮上させるため
に、スライダのうち磁気ディスクに対向する側の面に空
気流により浮上力を発生する凸部が形成してあり、空気
流の流入端にテーパを形成する構造を有している。その
凸部は、一般にレール面（浮上面）と呼ばれる。
【０００４】そのスライダのレール面は、磁気ディスク
の起動時（立ち上がり時）と停止時（立ち下がり時）に
磁気ディスクに摺接する。そこで、磁気ディスク面の磨
耗や損傷を防止するために、磁気ディスクの記録層の上
にはカーボン等の硬い材料からなる保護膜を形成してい
る。また、その保護膜上に潤滑層を形成して保護膜の摩
擦及び磨耗を低減し、保護膜の耐久性を向上している。
の起動時（立ち上がり時）と停止時（立ち下がり時）に
磁気ディスクに摺接する。そこで、磁気ディスク面の磨
耗や損傷を防止するために、磁気ディスクの記録層の上
にはカーボン等の硬い材料からなる保護膜を形成してい
る。また、その保護膜上に潤滑層を形成して保護膜の摩
擦及び磨耗を低減し、保護膜の耐久性を向上している。
【０００５】また、磁気ディスク装置の高記録密度化及
び小型化に伴って、磁気ヘッドと磁気ディスクとの浮上
量（スペーシング量）を小さくする傾向にある。浮上量
を小さくしようとする場合には、浮上状態の磁気ヘッド
と磁気ディスクとの接触を回避するために磁気ディスク
の表面の粗さをできるだけ小さくする必要がある。しか
し、磁気ディスクの停止状態においては、磁気ディスク
の表面が平滑になるほど磁気ディスクとスライダとの接
触面積が大きくなってスライダと磁気ディスクの吸着が
生じ易くなってしまう。
び小型化に伴って、磁気ヘッドと磁気ディスクとの浮上
量（スペーシング量）を小さくする傾向にある。浮上量
を小さくしようとする場合には、浮上状態の磁気ヘッド
と磁気ディスクとの接触を回避するために磁気ディスク
の表面の粗さをできるだけ小さくする必要がある。しか
し、磁気ディスクの停止状態においては、磁気ディスク
の表面が平滑になるほど磁気ディスクとスライダとの接
触面積が大きくなってスライダと磁気ディスクの吸着が
生じ易くなってしまう。
【０００６】そのような吸着の力が大きければ、磁気デ
ィスクを回転させるスピンドルモータの始動時の負荷が
大きくなったり、また、磁気ディスクの回転起動の際に
スライダ支持用のサスペンションや磁気ヘッド素子や磁
気ディスク記録層が破損し易くなる。そのような吸着力
を小さくするために、磁気ヘッドのスライダのうちの磁
気ディスクと対向するレール面（空気軸受面）に突起を
設けて磁気ディスクとの接触面積を小さくすることが、
例えば特開昭６３−３７８７４号公報に記載されてい
る。
ィスクを回転させるスピンドルモータの始動時の負荷が
大きくなったり、また、磁気ディスクの回転起動の際に
スライダ支持用のサスペンションや磁気ヘッド素子や磁
気ディスク記録層が破損し易くなる。そのような吸着力
を小さくするために、磁気ヘッドのスライダのうちの磁
気ディスクと対向するレール面（空気軸受面）に突起を
設けて磁気ディスクとの接触面積を小さくすることが、
例えば特開昭６３−３７８７４号公報に記載されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】磁気ディスク装置の小
型化に伴ってスライダの平面サイズは２mm四方又はそれ
以下と小さくなっているので、突起が形成されるレール
面の幅も数百μｍ程度となる。また、浮上量は１００nm
以下となっている。このため、レール面のエッチング時
間の制御によって突起の高さを精度良く調整することは
難しくなり、歩留りが低下するといった問題がある。ま
た、スライダの浮上開始又は浮上停止の際の安定動作を
さらに向上するために、突起の高さを精度良く形成する
とともに突起の配置等の適正化を図る必要がある。
型化に伴ってスライダの平面サイズは２mm四方又はそれ
以下と小さくなっているので、突起が形成されるレール
面の幅も数百μｍ程度となる。また、浮上量は１００nm
以下となっている。このため、レール面のエッチング時
間の制御によって突起の高さを精度良く調整することは
難しくなり、歩留りが低下するといった問題がある。ま
た、スライダの浮上開始又は浮上停止の際の安定動作を
さらに向上するために、突起の高さを精度良く形成する
とともに突起の配置等の適正化を図る必要がある。
【０００８】スライダに関しては、光ディスク装置で
も、磁気ディスク装置と同じような状況下にある。本発
明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、浮
上の開始、停止の際の動作をより安定化するとともに、
突起を歩留り良く形成できるヘッドスライダ及びその製
造方法と、そのようなヘッドスライダを備えた記録装置
を提供することを目的とする。
も、磁気ディスク装置と同じような状況下にある。本発
明はこのような問題に鑑みてなされたものであって、浮
上の開始、停止の際の動作をより安定化するとともに、
突起を歩留り良く形成できるヘッドスライダ及びその製
造方法と、そのようなヘッドスライダを備えた記録装置
を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記した課題は、図４に
例示するように、浮力発生のためのレール面３ｂ，３ｃ
と、前記レール面３ｂ，３ｃのうち空気流の流入端寄り
に形成された第１の突起６ｂと、前記レール面３ｂ，３
ｃのうち空気流の流出端寄りに形成された第２及び第３
の突起６ａとを有することを特徴とするヘッドスライダ
によって解決する。
例示するように、浮力発生のためのレール面３ｂ，３ｃ
と、前記レール面３ｂ，３ｃのうち空気流の流入端寄り
に形成された第１の突起６ｂと、前記レール面３ｂ，３
ｃのうち空気流の流出端寄りに形成された第２及び第３
の突起６ａとを有することを特徴とするヘッドスライダ
によって解決する。
【００１０】または、前記第１の突起６ｂは中央、前記
第２及び第３の突起６ａは両側寄りに形成されているこ
とを特徴とするヘッドスライダによって解決する。また
は、前記レール面３ｂ，３ｃは、前記第１の突起が形成
されたセンターレール面３ｃと、前記第２及び第３の突
起が形成された２つのサイドレール面３ｂを有すること
を特徴とするヘッドスライダにより解決する。
第２及び第３の突起６ａは両側寄りに形成されているこ
とを特徴とするヘッドスライダによって解決する。また
は、前記レール面３ｂ，３ｃは、前記第１の突起が形成
されたセンターレール面３ｃと、前記第２及び第３の突
起が形成された２つのサイドレール面３ｂを有すること
を特徴とするヘッドスライダにより解決する。
【００１１】または、前記センターレール面３ｂ，３ｃ
は前記流入端寄りに存在し、前記サイドレール面３ｂ，
３ｃは前記流入端から前記流出端に向かって延在してい
ることを特徴とするヘッドスライダにより解決する。ま
たは、図４に例示するように、浮力発生のためのレール
面３ｂ，３ｃと、前記レール面３ｂ，３ｃのうち空気流
の流入端寄りに形成された第１の突起６ｂと、前記レー
ル面３ｂ，３ｃのうち空気流の流出端寄りに形成された
第２及び第３の突起６ａとを有するヘッドスライダ１２
と、前記ヘッドスライダ１２に取付けられたトランスジ
ューサ２とを有することを特徴とする記録装置によって
解決する。
は前記流入端寄りに存在し、前記サイドレール面３ｂ，
３ｃは前記流入端から前記流出端に向かって延在してい
ることを特徴とするヘッドスライダにより解決する。ま
たは、図４に例示するように、浮力発生のためのレール
面３ｂ，３ｃと、前記レール面３ｂ，３ｃのうち空気流
の流入端寄りに形成された第１の突起６ｂと、前記レー
ル面３ｂ，３ｃのうち空気流の流出端寄りに形成された
第２及び第３の突起６ａとを有するヘッドスライダ１２
と、前記ヘッドスライダ１２に取付けられたトランスジ
ューサ２とを有することを特徴とする記録装置によって
解決する。
【００１２】上記した課題は、図２、図３に例示するよ
うに、浮力発生のためのレール面３となる基板面３ａの
上に中間層５を介して突起形成用膜６を形成する工程
と、前記突起形成用膜６のうち突起形成部を第一のマス
ク７により覆う工程と、前記中間層５よりも前記突起形
成用膜６のエッチングレートを高くする第１のエッチン
グガスを供給して、前記第一のマスク７に覆われない前
記突起形成用膜６を除去し、前記第一のマスク７の下の
前記突起形成用膜６から突起６ａを形成する工程とを有
することを特徴とするヘッドスライダの製造方法によっ
て解決する。
うに、浮力発生のためのレール面３となる基板面３ａの
上に中間層５を介して突起形成用膜６を形成する工程
と、前記突起形成用膜６のうち突起形成部を第一のマス
ク７により覆う工程と、前記中間層５よりも前記突起形
成用膜６のエッチングレートを高くする第１のエッチン
グガスを供給して、前記第一のマスク７に覆われない前
記突起形成用膜６を除去し、前記第一のマスク７の下の
前記突起形成用膜６から突起６ａを形成する工程とを有
することを特徴とするヘッドスライダの製造方法によっ
て解決する。
【００１３】または、前記突起６ａを形成した後に、空
気流の流れに沿った凹部１０を形成する位置に相当する
領域に窓９ａを有する浮上面形状の第二のマスク９を前
記基板面３ａと前記第一のマスク７の上に形成する工程
と、前記窓９ａを通して前記中間層５及び前記基板面３
ａをエッチングして、前記基板面３ａに凹部１０を形成
してレール面３ｂを形成する工程と、前記第一のマスク
７と前記第二のマスク９を同時に除去する工程とを有す
ることを特徴とするヘッドスライダの製造方法によって
解決する。
気流の流れに沿った凹部１０を形成する位置に相当する
領域に窓９ａを有する浮上面形状の第二のマスク９を前
記基板面３ａと前記第一のマスク７の上に形成する工程
と、前記窓９ａを通して前記中間層５及び前記基板面３
ａをエッチングして、前記基板面３ａに凹部１０を形成
してレール面３ｂを形成する工程と、前記第一のマスク
７と前記第二のマスク９を同時に除去する工程とを有す
ることを特徴とするヘッドスライダの製造方法によって
解決する。
【００１４】または、前記第一のマスク７と前記第二の
マスク９を同時に除去した後に、レール面３ｂの最表面
となる前記中間層５を保護する保護膜１１を形成する工
程を有することを特徴とするヘッドスライダの製造方法
によって解決する。上記した課題は、図６、図７に例示
するように、浮力発生のためのレール面となる基板面３
ａの上に、該レール面を保護する保護膜１５を形成する
工程と、前記保護膜１５の上に中間層５を介して突起形
成用膜６を形成する工程と、前記突起形成用膜６のうち
突起形成部を第一のマスク７により覆う工程と、前記中
間層５よりも前記突起形成用膜６のエッチングレートを
高くする第１のエッチングガスを供給して、前記第一の
マスク７に覆われない前記突起形成用膜６を除去し、前
記第一のマスク７の下の前記突起形成用膜６から突起６
ａを形成する工程と、前記保護膜１５よりも前記中間層
５のエッチングレートを高くする第２のエッチングガス
を供給して、前記突起６ａに覆われない領域にある前記
中間層５をエッチングして除去する工程とを有すること
を特徴とするヘッドスライダの製造方法によって達成す
る。
マスク９を同時に除去した後に、レール面３ｂの最表面
となる前記中間層５を保護する保護膜１１を形成する工
程を有することを特徴とするヘッドスライダの製造方法
によって解決する。上記した課題は、図６、図７に例示
するように、浮力発生のためのレール面となる基板面３
ａの上に、該レール面を保護する保護膜１５を形成する
工程と、前記保護膜１５の上に中間層５を介して突起形
成用膜６を形成する工程と、前記突起形成用膜６のうち
突起形成部を第一のマスク７により覆う工程と、前記中
間層５よりも前記突起形成用膜６のエッチングレートを
高くする第１のエッチングガスを供給して、前記第一の
マスク７に覆われない前記突起形成用膜６を除去し、前
記第一のマスク７の下の前記突起形成用膜６から突起６
ａを形成する工程と、前記保護膜１５よりも前記中間層
５のエッチングレートを高くする第２のエッチングガス
を供給して、前記突起６ａに覆われない領域にある前記
中間層５をエッチングして除去する工程とを有すること
を特徴とするヘッドスライダの製造方法によって達成す
る。
【００１５】または、前記中間層５をエッチングした後
に、空気流の流れに沿った凹部１０を形成する位置に相
当する領域に窓９ａを有するレール面形状の第二のマス
ク９を前記基板面３ａと前記第一のマスク７の上に形成
する工程と、前記窓９ａを通して前記保護膜１５及び前
記基板面３ａをエッチングして、前記基板面３ａに凹部
１０を形成する工程と、前記第一のマスク７と前記第二
のマスク９を同時に除去する工程とを有することを特徴
とするヘッドスライダの製造方法によって達成する。
に、空気流の流れに沿った凹部１０を形成する位置に相
当する領域に窓９ａを有するレール面形状の第二のマス
ク９を前記基板面３ａと前記第一のマスク７の上に形成
する工程と、前記窓９ａを通して前記保護膜１５及び前
記基板面３ａをエッチングして、前記基板面３ａに凹部
１０を形成する工程と、前記第一のマスク７と前記第二
のマスク９を同時に除去する工程とを有することを特徴
とするヘッドスライダの製造方法によって達成する。
【００１６】または、前記保護膜１５はダイアモンドラ
イクカーボン、酸化アルミニウム、酸化シリコンのいず
れかの膜であり、前記中間層５はシリコン層であり、前
記第２のエッチングガスはCF4 プラズマであることを特
徴とするヘッドスライダの製造方法によって達成する。
上記したヘッドスライダの製造方法において、前記保護
膜１１，１５は、ダイアモンドライクカーボン、酸化ア
ルミニウム、酸化シリコンのいずれかの膜であることを
特徴とする。
イクカーボン、酸化アルミニウム、酸化シリコンのいず
れかの膜であり、前記中間層５はシリコン層であり、前
記第２のエッチングガスはCF4 プラズマであることを特
徴とするヘッドスライダの製造方法によって達成する。
上記したヘッドスライダの製造方法において、前記保護
膜１１，１５は、ダイアモンドライクカーボン、酸化ア
ルミニウム、酸化シリコンのいずれかの膜であることを
特徴とする。
【００１７】上記したヘッドスライダの製造方法におい
て、前記第一のマスク７は、フィルム状のレジストを露
光、現像することにより形成されていることを特徴とす
る。上記したヘッドスライダの製造方法において、前記
第二のマスク９は、フィルム状のレジストを露光、現像
することにより形成され、該フィルム状のレジストを積
層する前に前記第一のマスク７をエッチングして１０μ
ｍ以下の厚さにする工程を有することを特徴とする。
て、前記第一のマスク７は、フィルム状のレジストを露
光、現像することにより形成されていることを特徴とす
る。上記したヘッドスライダの製造方法において、前記
第二のマスク９は、フィルム状のレジストを露光、現像
することにより形成され、該フィルム状のレジストを積
層する前に前記第一のマスク７をエッチングして１０μ
ｍ以下の厚さにする工程を有することを特徴とする。
【００１８】上記したヘッドスライダの製造方法におい
て、前記第二のマスク９は、液状のレジストをベーク、
露光、現像することによって形成されることを特徴とす
る。上記したヘッドスライダの製造方法において、前記
中間層５はシリコン層、前記突起形成用膜６はダイアモ
ンドライクカーボン膜であり、前記第１のエッチングガ
スは酸素プラズマであることを特徴とする。
て、前記第二のマスク９は、液状のレジストをベーク、
露光、現像することによって形成されることを特徴とす
る。上記したヘッドスライダの製造方法において、前記
中間層５はシリコン層、前記突起形成用膜６はダイアモ
ンドライクカーボン膜であり、前記第１のエッチングガ
スは酸素プラズマであることを特徴とする。
【００１９】または、図５に示すように、浮力発生のた
めのレール面３ｂと該レール面３ｂに形成された突起６
ａ，６ｂを有するスライダと、前記スライダの空気流流
出端に取付けられたトランスジューサ２と、前記レール
面３ｂ及び前記トランスジューサ２に対向して配置され
る記録媒体１３とを有する記録装置において、前記スラ
イダが前記記録媒体１３から浮上している状態で、前記
空気流出端寄りの前記突起６ａ，６ｂの浮上量が前記ト
ランスジューサ２の浮上量よりも大きなっていることを
特徴とする記録装置によって解決する。
めのレール面３ｂと該レール面３ｂに形成された突起６
ａ，６ｂを有するスライダと、前記スライダの空気流流
出端に取付けられたトランスジューサ２と、前記レール
面３ｂ及び前記トランスジューサ２に対向して配置され
る記録媒体１３とを有する記録装置において、前記スラ
イダが前記記録媒体１３から浮上している状態で、前記
空気流出端寄りの前記突起６ａ，６ｂの浮上量が前記ト
ランスジューサ２の浮上量よりも大きなっていることを
特徴とする記録装置によって解決する。
【００２０】または、浮力発生のためのレール面３ｂと
該レール面３ｂに形成された突起６ａ，６ｂを有するス
ライダ１２と、該スライダ１２を支持する支持バネ２０
とを有する記録装置において、前記支持バネによって与
えられる押しつけ荷重が２ｇｆ以下であることを特徴と
する記録装置によって解決する。または、浮力発生のた
めのレール面３ｂと該レール面３ｂに形成された突起と
トランスジューサ２を含む質量が６ｍｇ以下であること
を特徴とするヘッドスライダによって解決する。
該レール面３ｂに形成された突起６ａ，６ｂを有するス
ライダ１２と、該スライダ１２を支持する支持バネ２０
とを有する記録装置において、前記支持バネによって与
えられる押しつけ荷重が２ｇｆ以下であることを特徴と
する記録装置によって解決する。または、浮力発生のた
めのレール面３ｂと該レール面３ｂに形成された突起と
トランスジューサ２を含む質量が６ｍｇ以下であること
を特徴とするヘッドスライダによって解決する。
【００２１】または、浮力発生のためのレール面３ｂと
該レール面３ｂに形成された突起６ａ，６ｂを有するス
ライダ１２において、負圧を発生させる領域を有するこ
とを特徴とするヘッドスライダにより解決する。
該レール面３ｂに形成された突起６ａ，６ｂを有するス
ライダ１２において、負圧を発生させる領域を有するこ
とを特徴とするヘッドスライダにより解決する。
【００２２】
【作 用】本発明のヘッドスライダによれば、記録媒体
から浮上するレール面上に形成される突起を空気流流入
端寄りに１つ、空気流流出端寄りに２つ形成している。
これにより、突起を結ぶ線は三角形状になるので、記録
媒体の回転が停止している状態では、スライダは記録媒
体上に安定に載置されることになる。また、スライダが
記録媒体から浮上する際には、空気流の流入端側の突起
が流出端側の突起よりも早く浮上するので、浮上初期に
おいて流出端側の複数の突起によってスライダは記録媒
体上で安定に載置される。しかも、空気流の流入端側の
突起は１個なので、その流入端側での突起と記録媒体と
のトータルな接触面積は小さくなり、その流入端側のス
ライダと記録媒体との吸着力が小さくなって浮上し易く
なる。
から浮上するレール面上に形成される突起を空気流流入
端寄りに１つ、空気流流出端寄りに２つ形成している。
これにより、突起を結ぶ線は三角形状になるので、記録
媒体の回転が停止している状態では、スライダは記録媒
体上に安定に載置されることになる。また、スライダが
記録媒体から浮上する際には、空気流の流入端側の突起
が流出端側の突起よりも早く浮上するので、浮上初期に
おいて流出端側の複数の突起によってスライダは記録媒
体上で安定に載置される。しかも、空気流の流入端側の
突起は１個なので、その流入端側での突起と記録媒体と
のトータルな接触面積は小さくなり、その流入端側のス
ライダと記録媒体との吸着力が小さくなって浮上し易く
なる。
【００２３】また、本発明のヘッドスライダの製造方法
によれば、レール面上の突起形成用膜をフォトリソグラ
フィーによりパターニングして突起を形成する場合に、
突起形成用の膜とレール面の間にエッチングストップ層
となる中間層を介在させている。このため、突起の高さ
は突起形成用膜の厚さによって決まることになり、突起
の高さを精度良く形成できる。
によれば、レール面上の突起形成用膜をフォトリソグラ
フィーによりパターニングして突起を形成する場合に、
突起形成用の膜とレール面の間にエッチングストップ層
となる中間層を介在させている。このため、突起の高さ
は突起形成用膜の厚さによって決まることになり、突起
の高さを精度良く形成できる。
【００２４】そのような中間層が汚染され易い材料から
形成される場合には、突起に覆われない中間層を選択的
にエッチングして除去するか、或いは突起を形成した後
に保護膜によって覆うことにより、中間層が汚染されな
くなる。また、突起形成用の第一のマスクをフィルム状
のレジストから形成すると、そのマスクの厚さが均一に
なるため、突起を精度良く形成できる。
形成される場合には、突起に覆われない中間層を選択的
にエッチングして除去するか、或いは突起を形成した後
に保護膜によって覆うことにより、中間層が汚染されな
くなる。また、突起形成用の第一のマスクをフィルム状
のレジストから形成すると、そのマスクの厚さが均一に
なるため、突起を精度良く形成できる。
【００２５】さらに、レール面が形成される基板面の間
に凹部を形成して凸状のレール面を形成する際に突起形
成用の第一のマスクを除去せずに、突起を含む領域を第
二のマスクで覆ってレール面の周囲の基板面をエッチン
グするようにしている。これにより、エッチング終了後
に第一及び第二のマスクを一括して除去でき、フォトリ
ソグラフィーの工程は短縮化される。この場合に、凸状
のレール面を形成するための第二のマスクをフィルム状
のレジストから形成する場合には、突起形成用の第一の
マスクを１０μｍ以下にする。これにより、第一のマス
クと第二のマスクの間に気泡が入ることが阻止され、エ
ッチング時のレール面形状不良の発生を防止できる。
に凹部を形成して凸状のレール面を形成する際に突起形
成用の第一のマスクを除去せずに、突起を含む領域を第
二のマスクで覆ってレール面の周囲の基板面をエッチン
グするようにしている。これにより、エッチング終了後
に第一及び第二のマスクを一括して除去でき、フォトリ
ソグラフィーの工程は短縮化される。この場合に、凸状
のレール面を形成するための第二のマスクをフィルム状
のレジストから形成する場合には、突起形成用の第一の
マスクを１０μｍ以下にする。これにより、第一のマス
クと第二のマスクの間に気泡が入ることが阻止され、エ
ッチング時のレール面形状不良の発生を防止できる。
【００２６】
【実施例】そこで、以下に本発明の実施例を図面に基づ
いて説明する。 （第１実施例）本発明の第１実施例に係る磁気ヘッドの
製造工程を図１、図２に基づいて説明する。
いて説明する。 （第１実施例）本発明の第１実施例に係る磁気ヘッドの
製造工程を図１、図２に基づいて説明する。
【００２７】まず、図１(a) に示すように、アルミナチ
タンカーバイド（Al2O3TiC）、フェライト或いはチタン
酸カルシウムなどの材料からなるウェハ１の主面に磁気
トランスジューサ２を縦横に複数個形成する。磁気トラ
ンスジューサ２は、例えば磁気抵抗効果素子、インダク
タンス素子などからなり、１対の端子に接続されてい
る。
タンカーバイド（Al2O3TiC）、フェライト或いはチタン
酸カルシウムなどの材料からなるウェハ１の主面に磁気
トランスジューサ２を縦横に複数個形成する。磁気トラ
ンスジューサ２は、例えば磁気抵抗効果素子、インダク
タンス素子などからなり、１対の端子に接続されてい
る。
【００２８】次に、ダイシングソーを用いてウェハ１を
図１(a) の破線に沿って切断することにより、磁気トラ
ンスジューサ２を複数の列に分割する。これにより、図
１(b) に示すように、磁気トランスジューサ２が一列に
並んだ棒状体３が１枚のウェハ１から複数個得られる。
この棒状体３は、複数に分割されて磁気ヘッドのスライ
ダとなるので、予め空気流の流入端側にテーパを予め形
成しておく。
図１(a) の破線に沿って切断することにより、磁気トラ
ンスジューサ２を複数の列に分割する。これにより、図
１(b) に示すように、磁気トランスジューサ２が一列に
並んだ棒状体３が１枚のウェハ１から複数個得られる。
この棒状体３は、複数に分割されて磁気ヘッドのスライ
ダとなるので、予め空気流の流入端側にテーパを予め形
成しておく。
【００２９】続いて、図１(c) に示すように、ホルダー
４の上に複数の棒状体３を載置、固定する。この場合、
磁気トランスジューサ２が形成された面を横向きにし、
磁気トランスジューサ２の書込み及び読出し側の端部を
上側にする。これにより、棒状体３の磁気トランスジュ
ーサ２が形成されてない面（以下、基板面という）３ａ
が上向きになる。なお、ホルダー４の周囲は段状になっ
ていて棒状体３の移動を規制している。
４の上に複数の棒状体３を載置、固定する。この場合、
磁気トランスジューサ２が形成された面を横向きにし、
磁気トランスジューサ２の書込み及び読出し側の端部を
上側にする。これにより、棒状体３の磁気トランスジュ
ーサ２が形成されてない面（以下、基板面という）３ａ
が上向きになる。なお、ホルダー４の周囲は段状になっ
ていて棒状体３の移動を規制している。
【００３０】次に、図２(a) に示すように、棒状体３の
基板面３ａ上にシリコン膜（中間層）５を５nmの厚さに
形成し、さらにシリコン膜５の上にダイアモンドライク
カーボン（以下、ＤＬＣという）膜６を３０nmの厚さに
形成する。シリコン膜５は、ＤＬＣ膜６と棒状体３との
密着性を向上するために介在されている。なお、これら
の膜は、スパッタ法又はＣＶＤ法によって形成する。
基板面３ａ上にシリコン膜（中間層）５を５nmの厚さに
形成し、さらにシリコン膜５の上にダイアモンドライク
カーボン（以下、ＤＬＣという）膜６を３０nmの厚さに
形成する。シリコン膜５は、ＤＬＣ膜６と棒状体３との
密着性を向上するために介在されている。なお、これら
の膜は、スパッタ法又はＣＶＤ法によって形成する。
【００３１】続いて、ラミネータを用いて第一のフィル
ムレジスト７をＤＬＣ膜６の上に積層する。この後に、
第一のフィルムレジスト７を露光、現像することによ
り、図２(b) に示すように、第一のフィルムレジスト７
を磁気ディスクと磁気ヘッドの接触部分となる突起形成
部分に円形状に残す。パターニングの形状は、ここで円
形としたが、浮上時の空気流を乱さない形状であれば楕
円形や放物線形など、他の形状でもかわまない。パター
ニングされた第一のフィルムレジスト７は第一のマスク
として使用される。
ムレジスト７をＤＬＣ膜６の上に積層する。この後に、
第一のフィルムレジスト７を露光、現像することによ
り、図２(b) に示すように、第一のフィルムレジスト７
を磁気ディスクと磁気ヘッドの接触部分となる突起形成
部分に円形状に残す。パターニングの形状は、ここで円
形としたが、浮上時の空気流を乱さない形状であれば楕
円形や放物線形など、他の形状でもかわまない。パター
ニングされた第一のフィルムレジスト７は第一のマスク
として使用される。
【００３２】なお、図中符号８は、ラミネータのローラ
を示している。次に、図２(c) に示すように、第一のマ
スク７から露出したＤＬＣ膜６を酸素プラズマによりエ
ッチングし、パターニングされたＤＬＣ膜６をスライダ
上の突起６ａとして使用する。ＤＬＣ膜６の厚さは突起
６ａの高さとなる。このパターニング工程において、酸
素プラズマによるシリコン膜５のエッチングレートは極
めて小さいか零であるために、シリコン膜５は棒状体３
上にそのまま残存する。これによりＤＬＣ膜６のエッチ
ング深さの管理が容易になる。
を示している。次に、図２(c) に示すように、第一のマ
スク７から露出したＤＬＣ膜６を酸素プラズマによりエ
ッチングし、パターニングされたＤＬＣ膜６をスライダ
上の突起６ａとして使用する。ＤＬＣ膜６の厚さは突起
６ａの高さとなる。このパターニング工程において、酸
素プラズマによるシリコン膜５のエッチングレートは極
めて小さいか零であるために、シリコン膜５は棒状体３
上にそのまま残存する。これによりＤＬＣ膜６のエッチ
ング深さの管理が容易になる。
【００３３】この後に、図２(d) に示すように、再びラ
ミネータを使用して第二のフィルムレジスト９を棒状体
３上に積層し、これにより第一のフィルムレジスト７、
シリコン膜５及び突起６ａを覆う。ついで、第二のフィ
ルムレジスト９を露光、現像し、これにより少なくとも
棒状体３の幅方向に延びる略ストライプ状の窓９ａを磁
気トランスジューサ２の両側に形成する。これにより、
図３(a) に示すように、第二のフィルムレジスト９は、
磁気トランスジューサ２から延びる領域と磁気トランス
ジューサ２の間の中央を通る領域とに残される。第二の
フィルムレジスト９が残される領域には突起６ａが存在
する。
ミネータを使用して第二のフィルムレジスト９を棒状体
３上に積層し、これにより第一のフィルムレジスト７、
シリコン膜５及び突起６ａを覆う。ついで、第二のフィ
ルムレジスト９を露光、現像し、これにより少なくとも
棒状体３の幅方向に延びる略ストライプ状の窓９ａを磁
気トランスジューサ２の両側に形成する。これにより、
図３(a) に示すように、第二のフィルムレジスト９は、
磁気トランスジューサ２から延びる領域と磁気トランス
ジューサ２の間の中央を通る領域とに残される。第二の
フィルムレジスト９が残される領域には突起６ａが存在
する。
【００３４】次に、ストライプ状の第二のフィルムレジ
スト９を第二のマスクとして使用し、この第二のマスク
の窓９ａを通してシリコン膜５と基板面３ａをイオンミ
リングによりエッチングして凹部１０を形成する。これ
により、図３(b) に示すように、少なくとも磁気トラン
スジューサ２から延びる領域と、２つの磁気トランスジ
ューサ２の間の領域とに残された基板面３ａは、凹部１
０によって仕切られることになる。凹部１０の両側の凸
状の基板面３ａ又はその上のシリコン膜５が、レール面
３ｂとなる。
スト９を第二のマスクとして使用し、この第二のマスク
の窓９ａを通してシリコン膜５と基板面３ａをイオンミ
リングによりエッチングして凹部１０を形成する。これ
により、図３(b) に示すように、少なくとも磁気トラン
スジューサ２から延びる領域と、２つの磁気トランスジ
ューサ２の間の領域とに残された基板面３ａは、凹部１
０によって仕切られることになる。凹部１０の両側の凸
状の基板面３ａ又はその上のシリコン膜５が、レール面
３ｂとなる。
【００３５】次に、図３(c) に示すように、第一及び第
二のフィルムレジスト７，９を除去した後に、ＤＬＣ、
SiO2、Al2O3 などからなる保護膜１１をスパッタ又はＣ
ＶＤにより形成し、棒状体３の突起６ａが形成されてい
る側の面を保護膜１１により覆う。保護膜１１の下層に
は、保護膜１１の密着性を向上させるためのシリコン膜
又はシリコンカーバイド膜などからなる密着層を形成し
てもよい。
二のフィルムレジスト７，９を除去した後に、ＤＬＣ、
SiO2、Al2O3 などからなる保護膜１１をスパッタ又はＣ
ＶＤにより形成し、棒状体３の突起６ａが形成されてい
る側の面を保護膜１１により覆う。保護膜１１の下層に
は、保護膜１１の密着性を向上させるためのシリコン膜
又はシリコンカーバイド膜などからなる密着層を形成し
てもよい。
【００３６】保護膜１１は、トランスジューサ２のレー
ル面３ｂ側への露出部を保護するとともに、レール面３
ｂの最表面となるシリコン膜５の汚染を防止する機能を
有する。汚染物としては、磁気ディスクから飛散する潤
滑剤、突起から発生した炭素などがある。この後に、１
つおきに凹部１０にダイシングソーを入れて棒状体３を
複数に分割して、図３(d) に示すような磁気ヘッドのス
ライダ１２の形状にする。
ル面３ｂ側への露出部を保護するとともに、レール面３
ｂの最表面となるシリコン膜５の汚染を防止する機能を
有する。汚染物としては、磁気ディスクから飛散する潤
滑剤、突起から発生した炭素などがある。この後に、１
つおきに凹部１０にダイシングソーを入れて棒状体３を
複数に分割して、図３(d) に示すような磁気ヘッドのス
ライダ１２の形状にする。
【００３７】以上のように、本実施例では、ＤＬＣ膜６
をフォトリソグラフィー法によりパターニングして、こ
れをレール面３ｂ上の突起６ａとして適用しているの
で、突起６ａとしての加工が容易になり、大きさや位置
の精度が向上する。また、突起６ａを形成する際にマス
クとして膜厚のバラツキが少ないフィルムレジスト７を
使用しているので、突起６ａの寸法精度が良く、しかも
量産性が向上する。フィルムレジストの代わりに液状の
レジストを使用すると、棒状体３上でのレジストの膜厚
のバラツキが大きくなり、露光、現像後のパターン精度
が悪くなり、ひいては突起６ａの寸法の精度も低下す
る。
をフォトリソグラフィー法によりパターニングして、こ
れをレール面３ｂ上の突起６ａとして適用しているの
で、突起６ａとしての加工が容易になり、大きさや位置
の精度が向上する。また、突起６ａを形成する際にマス
クとして膜厚のバラツキが少ないフィルムレジスト７を
使用しているので、突起６ａの寸法精度が良く、しかも
量産性が向上する。フィルムレジストの代わりに液状の
レジストを使用すると、棒状体３上でのレジストの膜厚
のバラツキが大きくなり、露光、現像後のパターン精度
が悪くなり、ひいては突起６ａの寸法の精度も低下す
る。
【００３８】さらに、本実施例では、レール面３ｂ上に
突起６ａを形成した後に、突起６ａから離れた領域にに
凹部１０を形成しているので、第一のフィルムレジスト
７を除去せずにその上に第二のフィルムレジスト９を積
層することができ、フィルムレジストの除去工程が１回
で済むために工程が短くなる。これによって形成された
磁気ヘッドのスライダ１２の具体的例を示すと図４のよ
うになる。図４において、レール面３ｂ，３上の保護膜
１１は省略している。
突起６ａを形成した後に、突起６ａから離れた領域にに
凹部１０を形成しているので、第一のフィルムレジスト
７を除去せずにその上に第二のフィルムレジスト９を積
層することができ、フィルムレジストの除去工程が１回
で済むために工程が短くなる。これによって形成された
磁気ヘッドのスライダ１２の具体的例を示すと図４のよ
うになる。図４において、レール面３ｂ，３上の保護膜
１１は省略している。
【００３９】このスライダ１２において、磁気ディスク
（磁気記録媒体）１３に対向する側のスライダ１２の面
には、その両側の縁部に沿って２つの略ストライプ状の
レール面３ｂが突出し、また、それらのストライプ状の
レール面３ｂの間の凹部１０のうち空気流の流入端側に
は島状のレール面３ｂが存在する。ストライプ状のレー
ル面３ｂのうち空気流の流出端寄りには、上記した工程
によって突起６ａが１つずつ形成されている。また、島
状のレール面３ｃには１つの突起６ｂが形成されてい
る。これにより、突起６ａを結ぶ線は三角形状になるの
で、磁気ディスクの回転が停止している状態では、スラ
イダ１２は磁気ディスク１３上に安定に載置されること
になる。なお、３つの突起６ａ，６ｂは同一工程におい
て形成される。
（磁気記録媒体）１３に対向する側のスライダ１２の面
には、その両側の縁部に沿って２つの略ストライプ状の
レール面３ｂが突出し、また、それらのストライプ状の
レール面３ｂの間の凹部１０のうち空気流の流入端側に
は島状のレール面３ｂが存在する。ストライプ状のレー
ル面３ｂのうち空気流の流出端寄りには、上記した工程
によって突起６ａが１つずつ形成されている。また、島
状のレール面３ｃには１つの突起６ｂが形成されてい
る。これにより、突起６ａを結ぶ線は三角形状になるの
で、磁気ディスクの回転が停止している状態では、スラ
イダ１２は磁気ディスク１３上に安定に載置されること
になる。なお、３つの突起６ａ，６ｂは同一工程におい
て形成される。
【００４０】また、スライダ１２が磁気ディスク１３か
ら浮上する際には、空気流の流入端側の突起６ｂが流出
端側の突起６ａよりも早く浮上するので、浮上初期にお
いて流出端側の２つの突起６ａによってスライダ１２は
磁気ディスク１３上で安定である。しかも、空気流の流
入端側の突起６ｂが１つであるので、停止状態での磁気
ディスク１３と突起６ａ，６ｂのトータルな接触面積、
即ち吸着力は小さくなり、円滑な起動が行われる。
ら浮上する際には、空気流の流入端側の突起６ｂが流出
端側の突起６ａよりも早く浮上するので、浮上初期にお
いて流出端側の２つの突起６ａによってスライダ１２は
磁気ディスク１３上で安定である。しかも、空気流の流
入端側の突起６ｂが１つであるので、停止状態での磁気
ディスク１３と突起６ａ，６ｂのトータルな接触面積、
即ち吸着力は小さくなり、円滑な起動が行われる。
【００４１】ところで、空気流の流入端側では、島状の
レール面３ｃとストライプ状のレール面３ｂの間に狭い
スリット１０ａが存在している。これにより、スライダ
１２の凹部１０における圧力は、空気流の流入端側より
も流出端側の方が小さくなるので、浮上状態にあるスラ
イダ１２は流出端側が磁気ディスク１３に最も近くな
る。この結果、流出端に形成された磁気トランスジュー
サ２と磁気ディスク１２の間隙が小さくなる。
レール面３ｃとストライプ状のレール面３ｂの間に狭い
スリット１０ａが存在している。これにより、スライダ
１２の凹部１０における圧力は、空気流の流入端側より
も流出端側の方が小さくなるので、浮上状態にあるスラ
イダ１２は流出端側が磁気ディスク１３に最も近くな
る。この結果、流出端に形成された磁気トランスジュー
サ２と磁気ディスク１２の間隙が小さくなる。
【００４２】スライダ１２の凹部１０の空気流の流出端
寄りには幅の狭い島状の突出部１４が形成され、その大
きさを変えることにより空気流の流出端側の圧力を調整
することが可能となる。なお、図４において、符号３ｄ
は、テーパ面を示している。ところで、浮上状態のスラ
イダ１２の傾きなどの一例を次に説明する。
寄りには幅の狭い島状の突出部１４が形成され、その大
きさを変えることにより空気流の流出端側の圧力を調整
することが可能となる。なお、図４において、符号３ｄ
は、テーパ面を示している。ところで、浮上状態のスラ
イダ１２の傾きなどの一例を次に説明する。
【００４３】スライダ１２が浮上している状態におい
て、空気流流出端寄りの突起６ａの浮上量は、磁気トラ
ンスジューサ２の浮上量又はスライダ１２の空気流流出
端の浮上量よりも大きくなるのが好ましい。このような
浮上量は、図５に示すように、スライダ１２の傾斜角θ
と、空気流流出端からその近傍の突起６ａ中心までの距
離Ｌと、突起６ａの高さｈを調整することによって得ら
れる。
て、空気流流出端寄りの突起６ａの浮上量は、磁気トラ
ンスジューサ２の浮上量又はスライダ１２の空気流流出
端の浮上量よりも大きくなるのが好ましい。このような
浮上量は、図５に示すように、スライダ１２の傾斜角θ
と、空気流流出端からその近傍の突起６ａ中心までの距
離Ｌと、突起６ａの高さｈを調整することによって得ら
れる。
【００４４】これは、スライダ浮上状態において、レー
ル面３ｂに形成された突起６ａを磁気トランスジューサ
２よりも磁気ディスク１３側に突出させると、スライダ
１２と磁気ディスク１３の距離は突起６ａの浮上量によ
って決まるので、磁気トランスジューサ２と磁気ディス
ク１３との距離を十分に小さくできなくなるからであ
る。
ル面３ｂに形成された突起６ａを磁気トランスジューサ
２よりも磁気ディスク１３側に突出させると、スライダ
１２と磁気ディスク１３の距離は突起６ａの浮上量によ
って決まるので、磁気トランスジューサ２と磁気ディス
ク１３との距離を十分に小さくできなくなるからであ
る。
【００４５】一方、レール面３ｂ上に突起６ａを形成す
ると、スライダ２と磁気ディスク１３との接触面積は減
るが、その反対に接触面の圧力が増加して接触部分の磨
耗が激しくなる。このために、スライダ１２と磁気ディ
スク１３の接触状態で、支持バネ２０によるスライダ１
２の磁気ディスク１３への押しつけ荷重を２ｇｆ、望ま
しくは１ｇｆ以下に小さくする必要がある。押しつけ荷
重を小さくするためには、また、磁気トランスジューサ
２を含むスライダ１２の質量を６ｍｇ以下、好ましくは
２ｍｇ以下にする必要がある。また、押しつけ荷重を小
さくするためには、負圧部分を設けるのが有利である。
負圧部分としては、例えば図４に示すようなスリット１
０ａの空気流流出端側の領域や、レール面内に形成され
る凹部領域のようなものがある。
ると、スライダ２と磁気ディスク１３との接触面積は減
るが、その反対に接触面の圧力が増加して接触部分の磨
耗が激しくなる。このために、スライダ１２と磁気ディ
スク１３の接触状態で、支持バネ２０によるスライダ１
２の磁気ディスク１３への押しつけ荷重を２ｇｆ、望ま
しくは１ｇｆ以下に小さくする必要がある。押しつけ荷
重を小さくするためには、また、磁気トランスジューサ
２を含むスライダ１２の質量を６ｍｇ以下、好ましくは
２ｍｇ以下にする必要がある。また、押しつけ荷重を小
さくするためには、負圧部分を設けるのが有利である。
負圧部分としては、例えば図４に示すようなスリット１
０ａの空気流流出端側の領域や、レール面内に形成され
る凹部領域のようなものがある。
【００４６】磁気トランスジューサ２の浮上量を可能な
限り小さくすることにより、記録再生に有利になり、磁
気記録装置の高記録密度が可能になる。例えば、図５に
おいて、直径６６μｍの突起６ａを有し且つサイズ１．
２５×１×０．３mm、質量１．５ｍｇのスライダにおい
ては、傾斜角θを０．００６°、距離Ｌを３５０μｍ、
突起高さｈを３０nmとすると突起６ａよりも磁気トラン
スジューサ２の浮上量が小さくなる。この場合、磁気ト
ランスジューサ２の浮上量Ｇを５０nmとする。
限り小さくすることにより、記録再生に有利になり、磁
気記録装置の高記録密度が可能になる。例えば、図５に
おいて、直径６６μｍの突起６ａを有し且つサイズ１．
２５×１×０．３mm、質量１．５ｍｇのスライダにおい
ては、傾斜角θを０．００６°、距離Ｌを３５０μｍ、
突起高さｈを３０nmとすると突起６ａよりも磁気トラン
スジューサ２の浮上量が小さくなる。この場合、磁気ト
ランスジューサ２の浮上量Ｇを５０nmとする。
【００４７】このようなスライダ１２の傾き、突起高さ
などの条件は、図４に示すように突起が３つ形成された
ものに限るものではない。 （第２実施例）本発明の第２実施例に係る磁気ヘッドの
製造工程を図６、図７に基づいて説明する。
などの条件は、図４に示すように突起が３つ形成された
ものに限るものではない。 （第２実施例）本発明の第２実施例に係る磁気ヘッドの
製造工程を図６、図７に基づいて説明する。
【００４８】まず、第１実施例と同様に、図１(c) のよ
うに磁気トランスジューサ２が形成された棒状体３をホ
ルダー４の上に載置、固定する。ここまでの工程は、第
１実施例と同じであるので省略する。次に、図６(a) に
示すように、棒状体３のレール面が形成される側の面
（以下、基板面という）３ａ上にＤＬＣ、SiO2、Al2O3
などからなる保護膜１５を１０nm以下の厚さに形成し、
保護膜１５の上にシリコン膜５を５nmの厚さに形成し、
さらにシリコン膜５の上にＤＬＣ膜６を３０nmの厚さに
形成する。これらの膜は、スパッタ法、ＣＶＤ法により
形成する。
うに磁気トランスジューサ２が形成された棒状体３をホ
ルダー４の上に載置、固定する。ここまでの工程は、第
１実施例と同じであるので省略する。次に、図６(a) に
示すように、棒状体３のレール面が形成される側の面
（以下、基板面という）３ａ上にＤＬＣ、SiO2、Al2O3
などからなる保護膜１５を１０nm以下の厚さに形成し、
保護膜１５の上にシリコン膜５を５nmの厚さに形成し、
さらにシリコン膜５の上にＤＬＣ膜６を３０nmの厚さに
形成する。これらの膜は、スパッタ法、ＣＶＤ法により
形成する。
【００４９】保護膜１５は、磁気トランスジューサ２の
基板面３ａ側への露出部と後述するレール面３ｂとを覆
い保護するために形成されるものである。続いて、ラミ
ネータを用いて第一のフィルムレジスト７をＤＬＣ膜５
の上に積層する。この後に、第一のフィルムレジスト７
を露光、現像し、図６(b) に示すように、第一のフィル
ムレジスト７を磁気ディスクと磁気ヘッドの接触部分と
なる突起形成部分に円形状に残す。パターニングされた
第一のフィルムレジスト７は第一のマスクとして使用さ
れる。
基板面３ａ側への露出部と後述するレール面３ｂとを覆
い保護するために形成されるものである。続いて、ラミ
ネータを用いて第一のフィルムレジスト７をＤＬＣ膜５
の上に積層する。この後に、第一のフィルムレジスト７
を露光、現像し、図６(b) に示すように、第一のフィル
ムレジスト７を磁気ディスクと磁気ヘッドの接触部分と
なる突起形成部分に円形状に残す。パターニングされた
第一のフィルムレジスト７は第一のマスクとして使用さ
れる。
【００５０】次に、図６(c) に示すように、第一のマス
ク７から露出したＤＬＣ膜６を酸素プラズマによりエッ
チングし、パターニングされたＤＬＣ膜６を突起６ａと
して使用する。ＤＬＣ膜６の厚さは突起６ａの高さとな
る。酸素プラズマによるＤＬＣ膜６のエッチング深さの
誤差は±１０nm程度であるので、エッチング時間により
突起６ａの高さを制御することは困難である。しかし、
シリコン膜５は酸素プラズマによりエッチングされない
ので、エッチングストパーとして機能し、エッチングの
管理が容易になる。
ク７から露出したＤＬＣ膜６を酸素プラズマによりエッ
チングし、パターニングされたＤＬＣ膜６を突起６ａと
して使用する。ＤＬＣ膜６の厚さは突起６ａの高さとな
る。酸素プラズマによるＤＬＣ膜６のエッチング深さの
誤差は±１０nm程度であるので、エッチング時間により
突起６ａの高さを制御することは困難である。しかし、
シリコン膜５は酸素プラズマによりエッチングされない
ので、エッチングストパーとして機能し、エッチングの
管理が容易になる。
【００５１】なお、保護膜１５がＤＬＣにより形成され
ている場合でも、シリコン膜５の存在により酸素プラズ
マによる保護膜１５のエッチングが防止される。突起６
ａの周囲に露出したシリコン膜５は、潤滑剤、炭素など
により汚染され易いので、除去する必要がある。そこ
で、突起６ａを形成した後に、図６(d) に示すように、
CF4 プラズマによりマスク７から露出したシリコン膜５
を除去する。CF4 プラズマでは保護膜１５は殆どエッチ
ングされないので、シリコン膜５のエッチング深さの制
御を時間で行う必要はなく、プロセスを簡略化できる。
ている場合でも、シリコン膜５の存在により酸素プラズ
マによる保護膜１５のエッチングが防止される。突起６
ａの周囲に露出したシリコン膜５は、潤滑剤、炭素など
により汚染され易いので、除去する必要がある。そこ
で、突起６ａを形成した後に、図６(d) に示すように、
CF4 プラズマによりマスク７から露出したシリコン膜５
を除去する。CF4 プラズマでは保護膜１５は殆どエッチ
ングされないので、シリコン膜５のエッチング深さの制
御を時間で行う必要はなく、プロセスを簡略化できる。
【００５２】この後に、図７(a) に示すように、再びラ
ミネータを使用して第二のフィルムレジスト９を棒状体
３の上に積層し、これにより第一のフィルムレジスト
７、保護膜１５、突起６ａなどを覆う。ついで、第二の
フィルムレジスト９を露光、現像し、これにより少なく
とも棒状体３の幅方向に延びる略ストライプ状の窓９ａ
を磁気トランスジューサ２の両側に形成する。これによ
り、図７(b) に示すように、第二のフィルムレジスト９
は、磁気トランスジューサ２から延びる領域と磁気トラ
ンスジューサ２の間の中央を通る領域に残される。第二
のフィルムレジスト９が残される領域には突起６ａが存
在する。
ミネータを使用して第二のフィルムレジスト９を棒状体
３の上に積層し、これにより第一のフィルムレジスト
７、保護膜１５、突起６ａなどを覆う。ついで、第二の
フィルムレジスト９を露光、現像し、これにより少なく
とも棒状体３の幅方向に延びる略ストライプ状の窓９ａ
を磁気トランスジューサ２の両側に形成する。これによ
り、図７(b) に示すように、第二のフィルムレジスト９
は、磁気トランスジューサ２から延びる領域と磁気トラ
ンスジューサ２の間の中央を通る領域に残される。第二
のフィルムレジスト９が残される領域には突起６ａが存
在する。
【００５３】次に、ストライプ状の第二のフィルムレジ
スト９から第二のマスクを形成し、この第二のマスクの
窓９ａを通してＤＬＣ膜１５と基板面３ａをイオンミリ
ングによりエッチングして凹部１０を形成する。これに
より、図７(c) に示すように、少なくとも磁気トランス
ジューサ２から延びる領域と、磁気トランスジューサ２
の間から延びる領域に凸状に残された基板面３ａ又はＤ
ＬＣ膜１５が浮上面（レール面）３ｂとなる。
スト９から第二のマスクを形成し、この第二のマスクの
窓９ａを通してＤＬＣ膜１５と基板面３ａをイオンミリ
ングによりエッチングして凹部１０を形成する。これに
より、図７(c) に示すように、少なくとも磁気トランス
ジューサ２から延びる領域と、磁気トランスジューサ２
の間から延びる領域に凸状に残された基板面３ａ又はＤ
ＬＣ膜１５が浮上面（レール面）３ｂとなる。
【００５４】図７(d) に示すように、第一及び第二のフ
ィルムレジスト７，９を除去した後に、１つおきに凹部
１０にダイシングソーを入れて棒状体３を複数に分割
し、これにより磁気ヘッドのスライダ１６の形状にす
る。以上のように、本実施例でも、フォトリソグラフィ
ー法によりＬＤＣ膜６をパターニングすることによりレ
ール面３ｂに突起６ａを形成しているので、突起６ａの
大きさや形成位置の精度が向上する。
ィルムレジスト７，９を除去した後に、１つおきに凹部
１０にダイシングソーを入れて棒状体３を複数に分割
し、これにより磁気ヘッドのスライダ１６の形状にす
る。以上のように、本実施例でも、フォトリソグラフィ
ー法によりＬＤＣ膜６をパターニングすることによりレ
ール面３ｂに突起６ａを形成しているので、突起６ａの
大きさや形成位置の精度が向上する。
【００５５】また、突起６ａを形成する際に膜厚のバラ
ツキが少ないフィルムレジスト７を使用しているので、
突起６ａの寸法精度が良く、しかも量産性が向上する。
さらに、本実施例でも、レール面３ａ上に突起６ａを形
成した後で、突起６ａから離れた領域に凹部１０を形成
しているので、第一のフィルムレジスト７を除去せずに
その上に第二のフィルムレジスト９を積層しても支障が
なく、フィルムレジストの除去工程が１回で済むために
工程が短くなる。
ツキが少ないフィルムレジスト７を使用しているので、
突起６ａの寸法精度が良く、しかも量産性が向上する。
さらに、本実施例でも、レール面３ａ上に突起６ａを形
成した後で、突起６ａから離れた領域に凹部１０を形成
しているので、第一のフィルムレジスト７を除去せずに
その上に第二のフィルムレジスト９を積層しても支障が
なく、フィルムレジストの除去工程が１回で済むために
工程が短くなる。
【００５６】本実施例では、第１実施例と異なり、レー
ル面３ｂ側での磁気トランスジューサ２の露出部とレー
ル面３ｂとを覆う保護膜１５を、シリコン膜５を形成す
る前に形成しているので、１つのスパッタ成膜装置によ
って連続して保護膜１５が形成でき、第１実施例に比べ
て膜形成の手間がかからなくなる。なお、保護膜と棒状
体との間に炭化シリコン（SiC ）膜又はシリコン（Si）
膜を介在させると、保護膜と棒状体との密着性が高くな
る。 （その他の実施例）上記した実施例では、突起６ａ，６
ｂを形成する際に使用した第一のフィルムレジスト７か
らなる円形状又は楕円形状などのパターンを除去せず
に、その上に第二のフィルムレジスト９を積層してい
る。その第一のパターンが厚くその径が６０μｍ以上と
なる場合には、第二のフィルムレジスト９を形成した後
に円形状の第一のフルムレジスト７の回りには環状の気
泡が発生する。この気泡が、凹部１０を形成しようとす
る領域にかかると、ドライエッチングによる凹部１０の
形状（残そうとするレール面３ａのパターンの形状）が
不良となり、歩留り低下の原因になる。
ル面３ｂ側での磁気トランスジューサ２の露出部とレー
ル面３ｂとを覆う保護膜１５を、シリコン膜５を形成す
る前に形成しているので、１つのスパッタ成膜装置によ
って連続して保護膜１５が形成でき、第１実施例に比べ
て膜形成の手間がかからなくなる。なお、保護膜と棒状
体との間に炭化シリコン（SiC ）膜又はシリコン（Si）
膜を介在させると、保護膜と棒状体との密着性が高くな
る。 （その他の実施例）上記した実施例では、突起６ａ，６
ｂを形成する際に使用した第一のフィルムレジスト７か
らなる円形状又は楕円形状などのパターンを除去せず
に、その上に第二のフィルムレジスト９を積層してい
る。その第一のパターンが厚くその径が６０μｍ以上と
なる場合には、第二のフィルムレジスト９を形成した後
に円形状の第一のフルムレジスト７の回りには環状の気
泡が発生する。この気泡が、凹部１０を形成しようとす
る領域にかかると、ドライエッチングによる凹部１０の
形状（残そうとするレール面３ａのパターンの形状）が
不良となり、歩留り低下の原因になる。
【００５７】このような気泡は、第一のフィルムレジス
ト７の厚さが１０μｍ以下の場合にはほとんど発生しな
い。突起６ａを形成した後に第一のフィルムレジスト７
が１０μｍ以上となる場合には、突起６ａを形成した後
にさらに酸素プラズマを供給し続けて第一のフィルムレ
ジスト７を薄層化すればよい。また、上記した実施例で
は、磁気ヘッドのスライダに凹部１０を形成する際にフ
ィルムレジストを使用しているが、その代わりに液状の
レジストを塗布、ベークしたものを使用してもよい。こ
れは、寸法の許容誤差が、突起６ａ，６ｂよりも凹部１
０の方が大きいからである。
ト７の厚さが１０μｍ以下の場合にはほとんど発生しな
い。突起６ａを形成した後に第一のフィルムレジスト７
が１０μｍ以上となる場合には、突起６ａを形成した後
にさらに酸素プラズマを供給し続けて第一のフィルムレ
ジスト７を薄層化すればよい。また、上記した実施例で
は、磁気ヘッドのスライダに凹部１０を形成する際にフ
ィルムレジストを使用しているが、その代わりに液状の
レジストを塗布、ベークしたものを使用してもよい。こ
れは、寸法の許容誤差が、突起６ａ，６ｂよりも凹部１
０の方が大きいからである。
【００５８】上記した突起を形成するための材料として
は、磁気ディスクとの摺動に耐えうる硬さのものであれ
ばよく、ＤＬＣに限定されるものではない。上記した実
施例では突起６ａを形成した後に凹部１０を形成してい
るが、凹部１０を形成した後に突起６ａを形成してもよ
い。この場合、突起６ａを形成する前に、凹部１０の形
成に使用するレジストを除去する必要がある。なお、上
記した浮上型のスライダは、光情報の読出し又は書込み
のための素子を取付けて光記録装置に用いてもよい。こ
の場合、スライダの空気流の流出端又はその近傍に光情
報の読出し又は書込み用のトランスジューサを取り付け
ることになる。
は、磁気ディスクとの摺動に耐えうる硬さのものであれ
ばよく、ＤＬＣに限定されるものではない。上記した実
施例では突起６ａを形成した後に凹部１０を形成してい
るが、凹部１０を形成した後に突起６ａを形成してもよ
い。この場合、突起６ａを形成する前に、凹部１０の形
成に使用するレジストを除去する必要がある。なお、上
記した浮上型のスライダは、光情報の読出し又は書込み
のための素子を取付けて光記録装置に用いてもよい。こ
の場合、スライダの空気流の流出端又はその近傍に光情
報の読出し又は書込み用のトランスジューサを取り付け
ることになる。
【００５９】
【発明の効果】以上述べたように本発明のヘッドスライ
ダによれば、記録媒体から浮上するレール面上に形成さ
れる突起を空気流流入端寄りに１つ、空気流流出端寄り
に２つ形成しているので、突起を結ぶ線は三角形状にな
り、記録媒体の回転が停止している状態で、スライダを
記録媒体上に安定に載置できる。しかも、スライダが記
録媒体から浮上する際には、空気流の流入端側の突起が
流出端側の突起よりも早く浮上するので、浮上初期にお
いて流出端側の２つの突起によってスライダを記録媒体
上で安定に支持できる。さらに、空気流の流入端側の突
起が１つなので、その流入端側での突起と記録媒体との
接触面積は小さくなり、その流入端側のスライダと記録
媒体との吸着力を小さくして浮上し易くできる。
ダによれば、記録媒体から浮上するレール面上に形成さ
れる突起を空気流流入端寄りに１つ、空気流流出端寄り
に２つ形成しているので、突起を結ぶ線は三角形状にな
り、記録媒体の回転が停止している状態で、スライダを
記録媒体上に安定に載置できる。しかも、スライダが記
録媒体から浮上する際には、空気流の流入端側の突起が
流出端側の突起よりも早く浮上するので、浮上初期にお
いて流出端側の２つの突起によってスライダを記録媒体
上で安定に支持できる。さらに、空気流の流入端側の突
起が１つなので、その流入端側での突起と記録媒体との
接触面積は小さくなり、その流入端側のスライダと記録
媒体との吸着力を小さくして浮上し易くできる。
【００６０】また、本発明のヘッドスライダの製造方法
によれば、中間層を介してレール面の上に突起形成用膜
を形成し、中間層をエッチングストップ層として使用し
て突起形成用膜をフォトリソグラフィーによりパターニ
ングして突起を形成しているので、突起の高さを突起形
成用膜の厚さによって決めることができ、突起の高さの
精度を高めることができる。
によれば、中間層を介してレール面の上に突起形成用膜
を形成し、中間層をエッチングストップ層として使用し
て突起形成用膜をフォトリソグラフィーによりパターニ
ングして突起を形成しているので、突起の高さを突起形
成用膜の厚さによって決めることができ、突起の高さの
精度を高めることができる。
【００６１】また、レール面に凹部を形成する際に、突
起形成用のマスクを除去せずに、突起を含む領域をマス
クで覆ってレール面をエッチングするようにしているの
で、２つのマスクを一括して除去でき、フォトリソグラ
フィーの工程を短縮化することができる。この場合、凹
部を形成するためのマスクをフィルム状のレジストから
形成する場合には、突起形成用のマスクを１０μｍ以下
にする。これにより、マスクとマスクの間に気泡が入る
ことを防止できる。
起形成用のマスクを除去せずに、突起を含む領域をマス
クで覆ってレール面をエッチングするようにしているの
で、２つのマスクを一括して除去でき、フォトリソグラ
フィーの工程を短縮化することができる。この場合、凹
部を形成するためのマスクをフィルム状のレジストから
形成する場合には、突起形成用のマスクを１０μｍ以下
にする。これにより、マスクとマスクの間に気泡が入る
ことを防止できる。
【００６２】そのような中間層が汚染され易い材料から
形成される場合には、突起に覆われない中間層を選択的
にエッチングして除去するか、或いは突起を形成した後
に保護膜によって覆っているので、中間層を汚染でき
る。また、突起を形成する際のマスクをフィルム状のレ
ジストから形成するようにしているので、そのマスクの
厚さが均一になり、ひいては突起を精度良く形成でき
る。
形成される場合には、突起に覆われない中間層を選択的
にエッチングして除去するか、或いは突起を形成した後
に保護膜によって覆っているので、中間層を汚染でき
る。また、突起を形成する際のマスクをフィルム状のレ
ジストから形成するようにしているので、そのマスクの
厚さが均一になり、ひいては突起を精度良く形成でき
る。
【図１】図１(a) は、トランスジューサが形成されたウ
ェハを示す斜視図、図１(b) は、ウェハを分割した棒状
体を示す斜視図、図１(c) は、棒状体をホルダーに収納
した状態を示す斜視図である。
ェハを示す斜視図、図１(b) は、ウェハを分割した棒状
体を示す斜視図、図１(c) は、棒状体をホルダーに収納
した状態を示す斜視図である。
【図２】図２(a) 〜(d) は、本発明の第１実施例のヘッ
ドスライダの形成工程を示す側面図（その１）である。
ドスライダの形成工程を示す側面図（その１）である。
【図３】図３(a) 〜(d) は、本発明の第１実施例のヘッ
ドスライダの形成工程を示す側面図（その２）である。
ドスライダの形成工程を示す側面図（その２）である。
【図４】図４(a) は、本発明の第１実施例のヘッドスラ
イダの一例を示す上面図、図４(b) は、そのＩ−Ｉ線断
面図である。
イダの一例を示す上面図、図４(b) は、そのＩ−Ｉ線断
面図である。
【図５】図５は、本発明の第１実施例のヘッドスライダ
ーの浮上状態を示す側面図である。
ーの浮上状態を示す側面図である。
【図６】図６(a) 〜(d) は、本発明の第２実施例のヘッ
ドスライダの形成工程を示す側面図（その１）である。
ドスライダの形成工程を示す側面図（その１）である。
【図７】図７(a) 〜(d) は、本発明の第２実施例のヘッ
ドスライダの形成工程を示す側面図（その２）である。
ドスライダの形成工程を示す側面図（その２）である。
１ ウェハ ２ 磁気トランスジューサ ３ 棒状体 ３ａ 基板面 ３ｂ，３ｃ レール面 ４ ホルダー ５ シリコン層（中間層） ６ ＤＬＣ膜（突起形成用膜） ６ａ，６ｂ 突起 ７、９ フィルムレジスト １０ 凹部 １１、１５ 保護膜 １２、１６ スライダ １３ 磁気ディスク（記録媒体） １４ 突出部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成７年８月２５日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１０
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１３
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１４
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１５
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正内容】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 笠松 祥治 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内 (72)発明者 横畑 徹 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (20)
- 【請求項１】浮力発生のためのレール面と、 前記レール面のうち空気流の流入端寄りに形成された第
１の突起と、 前記レール面のうち空気流の流出端寄りに形成された第
２及び第３の突起とを有することを特徴とするヘッドス
ライダ。 - 【請求項２】前記第１の突起は中央、前記第２及び第３
の突起は両側寄りに形成されていることを特徴とする請
求項１記載のヘッドスライダ。 - 【請求項３】前記レール面は、前記第１の突起が形成さ
れたセンターレール面と、前記第２及び第３の突起が形
成された２つのサイドレール面を有することを特徴とす
る請求項１記載のヘッドスライダ。 - 【請求項４】前記センターレール面は前記流入端寄りに
存在し、前記サイドレール面は前記流入端から前記流出
端に向かって延在していることを特徴とする請求項３記
載のヘッドスライダ。 - 【請求項５】浮力発生のためのレール面と、前記レール
面のうち空気流の流入端寄りに形成された第１の突起
と、前記レール面のうち空気流の流出端寄りに形成され
た第２及び第３の突起とを有するヘッドスライダと、 前記ヘッドスライダに取付けられたトランスジューサ
と、 前記トランスジューサに対向して配置される記録媒体と
を有することを特徴とする記録装置。 - 【請求項６】浮力発生のためのレール面となる基板面の
上に、中間層を介して突起形成用膜を形成する工程と、 前記突起形成用膜のうち突起形成部を第一のマスクによ
り覆う工程と、 前記中間層よりも前記突起形成用膜のエッチングレート
を高くする第１のエッチングガスを供給して、前記第一
のマスクに覆われない前記突起形成用膜を除去し、前記
第一のマスクの下の前記突起形成用膜から突起を形成す
る工程とを有することを特徴とするヘッドスライダの製
造方法。 - 【請求項７】前記突起を形成した後に、空気流の流れに
沿った凹部を形成する位置に相当する領域に窓を有する
浮上面形状の第二のマスクを前記基板面と前記第一のマ
スクの上に形成する工程と、 前記窓を通して前記中間層及び前記基板面をエッチング
して、前記基板面に凹部を形成してレール面を形成する
工程と、 前記第一のマスクと前記第二のマスクを同時に除去する
工程とを有することを特徴とする請求項３記載のヘッド
スライダの製造方法。 - 【請求項８】前記第一のマスクと前記第二のマスクを同
時に除去した後に、レール面の最表面である前記中間層
を保護する保護膜を形成する工程を有することを特徴と
する請求項４記載のヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項９】浮力発生のためのレール面となる基板面の
上に、該レール面を保護する保護膜を形成する工程と、 前記保護膜の上に中間層を介して突起形成用膜を形成す
る工程と、 前記突起形成用膜のうち突起形成部を第一のマスクによ
り覆う工程と、 前記中間層よりも前記突起形成用膜のエッチングレート
を高くする第１のエッチングガスを供給して、前記第一
のマスクに覆われない前記突起形成用膜を除去し、前記
第一のマスクの下の前記突起形成用膜に突起を形成する
工程と、 前記保護膜よりも前記中間層のエッチングレートを高く
する第２のエッチングガスを供給して、前記突起に覆わ
れない領域にある前記中間層をエッチングして除去する
工程とを有することを特徴とするヘッドスライダの製造
方法。 - 【請求項１０】前記中間層をエッチングした後に、空気
流の流れに沿った凹部を形成する位置に相当する領域に
窓を有するレール面形状の第二のマスクを前記基板面と
前記第一のマスクの上に形成する工程と、 前記窓を通して前記保護膜及び前記基板面をエッチング
して、前記基板面に凹部を形成する工程と、 前記第一のマスクと前記第二のマスクを同時に除去する
工程とを有することを特徴とする請求項６記載のヘッド
スライダの製造方法。 - 【請求項１１】前記保護膜は、ダイアモンドライクカー
ボン、酸化アルミニウム、酸化シリコンのいずれかの膜
であることを特徴とする請求項５又は６記載のヘッドス
ライダの製造方法。 - 【請求項１２】前記第一のマスクは、フィルム状のレジ
ストを露光、現像することにより形成されていることを
特徴とする請求項３又は６記載のヘッドスライダの製造
方法。 - 【請求項１３】前記第二のマスクは、フィルム状のレジ
ストを露光、現像することにより形成され、該フィルム
状のレジストを積層する前に前記第一のマスクをエッチ
ングして１０μｍ以下の厚さにする工程を有することを
特徴とする請求項３間６記載のヘッドスライダの製造方
法。 - 【請求項１４】前記第二のマスクは、液状のレジストを
ベーク、露光、現像することにより形成されることを特
徴とする請求項３間６記載のヘッドスライダの製造方
法。 - 【請求項１５】前記中間層はシリコン層、前記突起形成
用膜はダイアモンドライクカーボン膜であり、前記第１
のエッチングガスは酸素プラズマであることを特徴とす
る請求項３又は６記載のヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項１６】前記保護膜はダイアモンドライクカーボ
ン、酸化アルミニウム、酸化シリコンのいずれかの膜で
あり、前記中間層はシリコン層であり、前記第２のエッ
チングガスはCF4 プラズマであることを特徴とする請求
項６記載のヘッドスライダの製造方法。 - 【請求項１７】浮力発生のためのレール面と該レール面
に形成された突起を有するスライダと、前記スライダの
空気流流出端に取付けられたトランスジューサと、前記
トランスジューサ及び前記トランスジューサに対向して
配置される記録媒体とを有する記録装置において、 前記スライダが前記記録媒体から浮上している状態にお
いて、前記空気流出端寄りの前記突起の浮上量が前記ト
ランスジューサの浮上量よりも大きなっていることを特
徴とする記録装置。 - 【請求項１８】浮力発生のためのレール面と該レール面
に形成された突起を有するスライダと、該スライダを支
持する支持バネとを有する記録装置において、 前記支持バネによって与えられる押しつけ荷重が２ｇｆ
以下であることを特徴とする記録装置。 - 【請求項１９】浮力発生のためのレール面と該レール面
に形成された突起とトランスジューサを含む質量が６ｍ
ｇ以下であることを特徴とするヘッドスライダ。 - 【請求項２０】浮力発生のためのレール面と該レール面
に形成された突起を有するスライダにおいて、 負圧を発生させる領域を有することを特徴とするヘッド
スライダ。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9119695A JPH08287440A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 記録装置、ヘッドスライダ及びその製造方法 |
| DE19549538A DE19549538C2 (de) | 1994-08-30 | 1995-08-29 | Herstellungsverfahren eines Kopfschiebers und Kopfschieber |
| DE19531746A DE19531746C2 (de) | 1994-08-30 | 1995-08-29 | Kopfschieber für ein Magnetplattenlaufwerk |
| US08/521,265 US5841608A (en) | 1994-08-30 | 1995-08-30 | Head slider with projections arranged on rails thereof |
| US08/949,765 US6246538B1 (en) | 1994-08-30 | 1997-10-14 | Magnetic disk drive with a floating head slider having projections arranged to float at a greater distance from magnetic disk than slider trailing end |
| US09/157,050 US6120694A (en) | 1994-08-30 | 1998-09-18 | Head slider with projecting arranged on rails thereof |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9119695A JPH08287440A (ja) | 1995-04-17 | 1995-04-17 | 記録装置、ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Related Child Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2004137134A Division JP3967335B2 (ja) | 2004-05-06 | 2004-05-06 | 記録装置 |
| JP2004137133A Division JP4040599B2 (ja) | 2004-05-06 | 2004-05-06 | ヘッドスライダの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08287440A true JPH08287440A (ja) | 1996-11-01 |
Family
ID=14019699
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9119695A Pending JPH08287440A (ja) | 1994-08-30 | 1995-04-17 | 記録装置、ヘッドスライダ及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08287440A (ja) |
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5870251A (en) * | 1997-04-14 | 1999-02-09 | Seagate Technology, Inc. | Taperless/crown free/air bearing design |
| US6003364A (en) * | 1998-03-19 | 1999-12-21 | Seagate Technology, Inc. | Glide head for testing a disc surface |
| US6160683A (en) * | 1997-08-15 | 2000-12-12 | Seagate Technology Llc | Slider for disc storage system |
| US6212042B1 (en) | 1997-06-27 | 2001-04-03 | Seagate Technology Llc | Slider having air bearing surface which includes pads for disk storage system |
| US6229671B1 (en) | 1997-09-22 | 2001-05-08 | Seagate Technology Llc | Shock pads for a slider for a data storage system |
| US6369900B1 (en) | 1998-04-16 | 2002-04-09 | Seagate Technology Llc | Glide head with features on its air bearing surface for improved fly height measurement |
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