JPH08283962A - 金属装飾品及び金属装飾品の製造方法 - Google Patents

金属装飾品及び金属装飾品の製造方法

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JPH08283962A
JPH08283962A JP11016495A JP11016495A JPH08283962A JP H08283962 A JPH08283962 A JP H08283962A JP 11016495 A JP11016495 A JP 11016495A JP 11016495 A JP11016495 A JP 11016495A JP H08283962 A JPH08283962 A JP H08283962A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 金属素材表面のレーザー彫刻を施した部分に
任意の色を着色可能であり、レーザー彫刻部分の耐摩耗
性に優れた金属装飾品及び金属装飾品の製造方法を提供
する。 【構成】 ステンレス2の表面にニッケルメッキ層6、
黒クロームメッキ層7、フッ素系樹脂層8を順次設けて
マスキング層9を形成した後、レーザー彫刻により凹部
3を形成し、チタン系化合物皮膜11をイオンプレーテ
ィングにて形成し、マスキング層9を除去して金属装飾
品1を得た。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は金属装飾品及び金属装飾
品の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、金属系素材の表面にレーザー彫刻
を行い装飾を施す方法として、例えばステンレス系の金
属にイオンプレーティングにより全面にチタン系の皮膜
を形成し、レーザー彫刻を施してステンレス系金属表面
を露出させ、金メッキを施す方法が知られている。
【0003】この方法によれば、チタン系皮膜の部分に
は金のメッキが乗らないため、レーザー彫刻部分のみが
選択的に金メッキされた装飾品が得られる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のレーザー彫刻した部分は金メッキが施されているも
のの、彫刻部分以外はイオンプレーティングによるチタ
ン系皮膜が形成されており、金属素材の表面が露出しな
いために、下地となる金属素材の表面を露出して生かす
ことができないという問題があった。
【0005】又、レーザー彫刻を施した部分は金メッキ
が施されているものの、金メッキの表面は耐摩耗性が低
いため、長期の耐久性が悪いという問題があった。更に
金メッキ層以外の色を表現することは困難であり、意匠
的に単調なものしか得られないという問題があった。
【0006】本発明は上記従来技術の欠点を解消しよう
とするもので、金属素材表面のレーザー彫刻を施した部
分に任意の色を着色可能であり、レーザー彫刻部分の耐
摩耗性に優れた金属装飾品と金属装飾品の製造方法を提
供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明金属装飾品は、金
属素材の表面にレーザー彫刻を施して設けた凹部を有
し、上記凹部にチタン系化合物皮膜を形成したことを特
徴とするものである。
【0008】また、本発明金属装飾品の製造方法は、金
属素材の表面にニッケルメッキ層、黒クロームメッキ
層、合成樹脂層を順次設けて、少なくとも上記三層から
なるマスキング層を形成した後、レーザー彫刻により所
望の部分の金属素材表面に凹部を形成し、しかる後該凹
部に装飾を施し上記マスキング層を剥離除去することを
特徴とする。
【0009】上記金属装飾品の製造方法において、装飾
がイオンプレーティングにより形成されたチタン系化合
物皮膜であることが好ましい。
【0010】
【実施例】本発明を図面に基き詳細に説明する。図面は
本発明の実施例を示し、図1は本発明の金属装飾品の1
例を示し、(a)は外観斜視図であり、(b)は縦断面
図である。又図2は、本発明金属装飾品の製造方法の1
例の工程を示すものであり、各工程における装飾品の要
部縦断面図である。
【0011】本発明金属装飾品1は、図1(a)、
(b)に示すように、金属素材2の表面にレーザー彫刻
を施して設けた凹部3を有し、上記凹部3にチタン系化
合物の皮膜4を設けたものである。
【0012】本発明において金属装飾品とは、例えば時
計ケース、時計ケースの裏蓋、指輪、イヤリング等にレ
ーザー彫刻が施され、該レーザー彫刻の部分が装飾され
ているものを言う。
【0013】本発明において用いられる金属素材は、上
記装飾品の素材として用いられる素材であればよく、例
えばステンレス、金又は金合金、プラチナ又はプラチナ
合金、真鍮、洋白等が挙げられる。
【0014】また、レーザー彫刻により施す凹部3は、
炭酸ガスレーザー、YAGレーザー等の加工用レーザー
を用い、例えば文字、ブランドマーク、連続番号等の数
字、バーコード等の意匠が挙げられる。尚、凹部3は、
上記の意匠に特に限定されず、任意の意匠を用いること
ができる。又、凹部3にレーザー彫刻で形成した後、エ
ッチング等を施して、更に深い凹部とすることもでき
る。
【0015】チタン系化合物の皮膜4は、各種の公知の
手段により形成することができるが、イオンプレーティ
ングにより形成するのが好ましい。イオンプレーティン
グによりチタン系化合物皮膜を形成した場合、チタン系
化合物の種類を代えて容易に任意の着色を行うことが可
能であり、耐久性に特に優れた皮膜が得られる。下記の
表1に着色皮膜とチタン系化合物との関係を示す。
【0016】
【表1】
【0017】チタン系化合物の皮膜の厚みは、通常0.
1μm〜1μmに形成するのが好ましい。本発明金属装
飾品は、このようにチタン系化合物皮膜をレーザー彫刻
を施した凹部に形成するため、従来の金メッキ等による
装飾と比較して、イオンプレーティングによるチタン系
化合物の皮膜は耐久性が良好であり、任意の着色が可能
であるため、意匠性と耐久性に優れた金属装飾品を提供
することができる。
【0018】次に本発明金属装飾品の製造方法について
説明する。まず、図2(ア)に示すように金属素材2を
準備して、該金属素材2の表面にニッケルメッキ層6、
黒クロームメッキ層7、フッ素系樹脂層8を順次設けて
マスキング層9を形成する〔同図(イ)〕。尚、上記フ
ッ素系樹脂層8は、アクリル樹脂等のフッ素系樹脂以外
の合成樹脂層を用いることができるが、剥離性等の点か
らフッ素系樹脂層が好ましい。
【0019】本発明金属装飾品の製造方法では、マスキ
ング層9を上記特定の3層を設けて形成することが重要
である。マスキング層9は上記の層の1層又は2層のみ
では良好な結果が得られない。マスキング層9の厚み
は、ニッケルメッキ層6が0.1μm〜0.5μm、黒
クロームメッキ層7が1μm〜5μm、フッ素樹脂層8
が100μm〜200μmに形成するのが好ましい。ニ
ッケルメッキ層6及び黒クロームめっき層7はは公知の
メッキ方法により形成する。また、フッ素系樹脂層8は
筆塗り、ガンによる吹付け等の公知の塗工手段で形成す
ることができる。
【0020】次に同図(ウ)に示すようにマスキング層
9の上からレーザー彫刻を施して金属素材2の表面を露
出させ凹部10を設ける。
【0021】次にレーザー彫刻により形成した凹部10
に装飾を施す。凹部への装飾は例えば塗料のワイピン
グ、メッキ、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレー
ティング等の手段を用いることができる。特に凹部への
装飾としては、装飾品の装飾部分の耐磨耗性の点に優
れ、任意の着色が可能であることからチタン系化合物皮
膜をイオンプレーティングにより形成するのが好まし
い。
【0022】イオンプレーティングは、公知のイオンプ
レーティング装置を用いて行うことができる。上記イオ
ンプレーティング装置は、金属素材を陰極側に置き、グ
ロー放電をおこさせ、蒸発源からの蒸発原子をイオン化
または励起させて加速して、上記金属素材に激突させ堆
積させることが可能な真空蒸着装置により構成される。
【0023】凹部10に装飾11を施したならば、マス
キング層9を剥離除去して、装飾11を施した部分以外
の金属素材の表面を露出させる〔図2(エ)〕。マスキ
ング層9の剥離除去は金属素材及び装飾部分に影響を与
えない剥離液を用い、該剥離液に全体を浸積して行う。
【0024】マスキング層9を剥離するための剥離液と
しては、例えばフッ素系樹脂剥離液(酸性剥離液)、黒
クローム剥離液(酸性剥離液)、ニッケル剥離液(酸性
剥離液)のように、それぞれ各層専用の剥離液を用いる
のが好ましい。
【0025】本発明製造方法において、レーザー彫刻を
施して金属素材を露出させた後、マスキング層が設けら
れている状態で〔図2(ウ)〕エッチングを行い、金属
素材の凹部を更に深く形成することもできる。この場合
エッチング液は金属素材に応じて適宜使用する。例えば
金属素材にステンレスを使用した場合には、エッチング
液として市販の酸性エッチング液が用いられる。一般に
レーザー彫刻により金属素材の表面に形成される凹部の
深さは7〜20μm程度であり、これに対しエッチング
によれば200μm程度の深い凹部の形成が可能であ
る。
【0026】
【発明の効果】以上説明したように本発明金属装飾品
は、レーザー彫刻を施した部分にチタン系化合物皮膜を
設けたことにより、装飾部分がセラミックの強固な皮膜
で耐磨耗性に優れ、且つチタン系化合物の種類を変える
ことで任意の着色が可能であるため、ファッション性に
優れた装飾品が得られる。
【0027】本発明金属装飾品の製造方法は、マスキン
グ層としてニッケルメッキ層、黒クロームメッキ層、合
成樹脂層の3層からなる層を設けた後、レーザー彫刻を
施して凹部を設け該凹部に装飾を施しマスキング層を剥
離除去する方法を採用したことにより、従来のチタン系
化合物をイオンプレーティング等で設けた上にレーザー
彫刻を施し金メッキを施す方法等と比較すると、金属素
材の素地を露出させて任意のレーザー彫刻部分のみに装
飾を施すことができるため、金属素材の地肌を生かし且
つレーザー彫刻部分のみに任意に装飾することができ
る。
【0028】更に、装飾を施す場合、マスキング層がレ
ーザー彫刻部分以外を完全に保護し、レーザー彫刻部分
の意匠がつぶれたりして文字等の線幅が細くなったり、
マスクが不完全なために線幅が太くなる等の不具合が全
くなく、装飾部分の意匠の再現性が良好である。
【0029】特に、チタン系化合物皮膜の装飾を凹部に
施す方法として、イオンプレーティングを用いた場合、
装飾部分の耐久性が更に優れた装飾品が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明金属装飾品の1例を示し(a)は外観斜
視図、(b)は縦断面図である。
【図2】本発明金属装飾品の製造方法の1例の工程を示
すものであり、(ア)〜((エ)は各工程における装飾
品の要部縦断面図である。
【符号の説明】
1 金属装飾品 2 金属素材 3 レーザー彫刻で設けた凹部 4 チタン系化合物皮膜 6 ニッケルメッキ層 7 黒クロームメッキ層 8 フッ素系樹脂層 9 マスキング層 11 装飾

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】金属素材の表面にレーザー彫刻を施して設
    けた凹部を有し、上記凹部にチタン系化合物の皮膜を形
    成したことを特徴とする金属装飾品。
  2. 【請求項2】金属素材の表面にニッケルメッキ層、黒ク
    ロームメッキ層、合成樹脂層を順次設けて、少なくとも
    上記三層からなるマスキング層を形成した後、レーザー
    彫刻により所望の部分の金属素材表面に凹部を形成し、
    しかる後該凹部に装飾を施し上記マスキング層を剥離除
    去することを特徴とする金属装飾品の製造方法。
  3. 【請求項3】装飾がイオンプレーティングにより形成さ
    れたチタン系化合物皮膜である請求項2記載の金属装飾
    品の製造方法。
JP11016495A 1995-04-11 1995-04-11 金属装飾品及び金属装飾品の製造方法 Pending JPH08283962A (ja)

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