JPH08283243A - イミダゾール系化合物の製造方法 - Google Patents

イミダゾール系化合物の製造方法

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JPH08283243A
JPH08283243A JP7255614A JP25561495A JPH08283243A JP H08283243 A JPH08283243 A JP H08283243A JP 7255614 A JP7255614 A JP 7255614A JP 25561495 A JP25561495 A JP 25561495A JP H08283243 A JPH08283243 A JP H08283243A
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formula
compound
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atom
reaction
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JP7255614A
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English (en)
Inventor
Tokiya Kimura
時也 木村
Toru Wakabayashi
徹 若林
Akimasa Takenaka
彰正 竹中
Noriyuki Horiuchi
則之 堀内
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Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
Original Assignee
Ishihara Sangyo Kaisha Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は農園芸用殺菌剤として有用な2−シ
アノイミダゾール系化合物の中間体の工業的製造方法を
提供する。 【解決手段】 当該化合物は、式(I): 【化1】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
である)で表されるイミダゾール系化合物の製造方法で
あって、式(II): 【化2】 (式中、R1 及びR2 は前述の通りであり、Xは水素原
子、塩素原子又は臭素原子であり、Yは塩素原子又は臭
素原子であり、Zは酸素原子又はヒドロキシイミノ基で
ある)で表される化合物と、ヒドロキシアミン又はその
鉱酸塩と、グリオキサール又はグリオキシムとを反応さ
せることを特徴とする前記イミダゾール系化合物(I)
の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、農園芸用殺菌剤と
して有用な2−シアノイミダゾール系化合物の中間体の
製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】前記2−シアノイミダゾール系化合物は
特開平1−131163号公報に記載されている。ま
た、その製造方法としていくつかの方法が提案されてい
る。特開平4−59766号公報には、1−ヒドロキシ
−2−オキシイミノメチルイミダゾール−3−オキシド
系化合物の製造方法が開示されている。しかしながら、
出発物として置換グリオキサール系化合物を使用する点
が本発明の方法と異なる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法において出
発物として使用される置換グリオキサール系化合物は、
工業的製造の比較的困難な化合物である。特公昭52−
19号公報には、その置換グリオキサール系化合物の製
造方法が開示されている。しかしながら、その方法は、
ハロゲン化水素の存在下出発原料のケトンと亜硝酸アル
キルガスとを反応させるが、その反応の途中で、生成し
たα−オキシイミノケトンを抽出、除去する連続反応で
あり、生産性が低い上、特殊な装置を必要とする。
【0004】
【課題を解決するための手段】そのため本発明者らは、
イミダゾール系化合物の製造方法において出発物である
置換グリオキサール系化合物を使用しない方法を見出す
べく検討したところ、 後記式(I)の化合物の製造において、置換グリオキ
サール系化合物の代わりに後記式(II)の化合物を使用
し工業的に容易に製造できること、またこの式(II)
の化合物は安価に製造できることの知見を得て本発明を
完成した。すなわち、本発明は、式(I):
【0005】
【化13】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
である)で表わされるイミダゾール系化合物の製造方法
であって、式(II):
【0006】
【化14】 (式中、R1 及びR2 は前述の通りであり、Xは水素原
子、塩素原子又は臭素原子であり、Yは塩素原子又は臭
素原子であり、Zは酸素原子又はヒドロキシイミノ基で
ある)で表わされる化合物と、ヒドロキシルアミン又は
その鉱酸塩と、グリオキサール又はグリオキシムとを反
応させる前記イミダゾール系化合物(I)の製造方法に
関する。
【0007】式(I)及び(II)におけるR1 又はR2
の置換されてもよいフェニル基のその置換基としては、
弗素、塩素、臭素、沃素などのハロゲン原子、メチル、
エチル、プロピルなどのC1-3 アルキル基、メトキシ、
エトキシ、プロポキシなどのC1-3 アルコキシ基などが
挙げられる。置換基の数は1〜5であり、2以上の場合
はそれらは同じであっても異なっていてもよい。またR
1 又はR2 の置換されてもよいアルキル基のその置換基
としては、弗素、塩素などのハロゲン原子、フェニル
基、C1-3 アルコキシ基などが挙げられる。置換基の数
は1又は2以上であり、2以上の場合はそれらは同じで
あっても異なっていてもよい。ハロゲン原子としては弗
素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子が挙げられる。
1 又はR2 の置換されてもよいアルキル基のアルキル
部分は、炭素数1〜8の直鎖又は枝分れ鎖のアルキルで
あればよく、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチルが挙げら
れる。
【0008】R1 又はR2 としては、具体的にはフェニ
ル基;2−、3−又は4−フルオロフェニル基;2−、
3−又は4−クロロフェニル基;2−、3−又は4−ブ
ロモフェニル基;2−、3−又は4−メチルフェニル
基;2−、3−又は4−エチルフェニル基;2−、3−
又は4−プロピルフェニル基;2−、3−又は4−メト
キシフェニル基;2−、3−又は4−エトキシフェニル
基;3,4−ジクロロフェニル基;3,4−ジメチルフ
ェニル基;3,4−ジメトキシフェニル基;3−メチル
−4−メトキシフェニル基;3−クロロ−4−メチルフ
ェニル基;3−クロロ−4−メトキシフェニル基;te
rt−ブチル基;1,1−ジメチルプロピル基などが挙
げられる。
【0009】式(II)におけるZとしては酸素原子が好
ましい。また、式(II)におけるXとしては塩素原子又
は臭素原子が好ましい。式(I)及び(II)におけるR
2 としては水素原子又は置換されてもよいアルキル基が
好ましく、水素原子がより好ましい。
【0010】本発明の方法では、式(II)の化合物と、
ヒドロキシルアミン又はその鉱酸塩、及びグリオキサー
ル又はグリオキシムとを反応させる。
【0011】式(II)の化合物としては、具体的には
2,2−ジクロロアセトフェノン、2,2,4′−トリ
クロロアセトフェノン、4′−ブロモ−2,2−ジクロ
ロアセトフェノン、2−クロロ−4′−メチルアセトフ
ェノン、2−クロロ−4′−メチルアセトフェノンオキ
シム、2−ブロモ−4′−メチルアセトフェノン、2−
ブロモ−4′−メチルアセトフェノンオキシム、2,2
−ジクロロ−4′−メチルアセトフェノン、2,2−ジ
クロロ−4′−メチルアセトフェノンオキシム、2−ブ
ロモ−2−クロロ−4′−メチルアセトフェノン、2−
ブロモ−2−クロロ−4′−メチルアセトフェノンオキ
シム、2,2−ジブロモ−4′−メチルアセトフェノ
ン、2,2−ジブロモ−4′−メチルアセトフェノンオ
キシム、2,2−ジクロロ−4′−エチルアセトフェノ
ン、2,2−ジクロロ−4′−メトキシアセトフェノ
ン、1,1−ジクロロ−3,3−ジメチル−2−ブタノ
ン、1,1−ジブロモ−3,3−ジメチル−2−ブタノ
ン、1,1−ジクロロ−3,3−ジメチル−2−ペンタ
ノン、1,1−ジブロモ−3,3−ジメチル−2−ペン
タノン、2,2−ジクロロプロピオフェノン、2,2−
ジクロロブチロフェノン、2,2−ジクロロバレロフェ
ノン、2,2−ジクロロ−3−フェニルプロピオフェノ
ン、2,2−ジクロロ−3−メトキシプロピオフェノ
ン、2,2−ジクロロ−3,3,3−トリフルオロプロ
ピオフェノン、2,2−ジクロロ−2−フェニルアセト
フェノンなどを使用することができる。2,2−ジクロ
ロ−4′−メチルアセトフェノンオキシム、2−ブロモ
−2−クロロ−4′−メチルアセトフェノンオキシム又
は2,2−ジブロモ−4′−メチルアセトフェノンオキ
シムは新規化合物である。
【0012】ヒドロキシルアミンの鉱酸塩としては、塩
酸ヒドロキシルアミン、臭酸ヒドロキシルアミン、硫酸
ヒドロキシルアミンなどを使用することができる。
【0013】式(II)の化合物のうちZが酸素原子であ
る化合物(II-1)は、ヒドロキシルアミンの鉱酸塩と反
応し、Zがヒドロキシルイミノ基である化合物(II-2)
になる。
【0014】
【化15】
【0015】また、グリオキサールはヒドロキシルアミ
ンの鉱酸塩と反応しグリオキシムになる。
【0016】前記式(II)から式(I)を製造する方法
において、ヒドロキシルアミン又はその鉱酸塩の使用量
は、式(II)の化合物1モル当り通常1〜8当量であ
り、同時にグリオキサールを使用する場合には3〜8当
量、好ましくは3.5〜6.0当量であり、同時にグリ
オキシムを使用する場合には1〜6当量、好ましくは
1.5〜4.0当量である。
【0017】グリオキサール又はグリオキシムの使用量
は、式(II)の化合物1モル当り通常0.5〜2.0モ
ル、好ましくは0.8〜1.6モルである。
【0018】本発明の方法では、溶媒を使用することが
好ましい。その溶媒としては、反応に悪い影響を与えな
いものであればいずれの溶媒を使用してもよいが、例え
ば水、メタノール、エタノール、プロパノールなどのア
ルコール、ギ酸、酢酸などの有機酸を使用することがで
きる。溶媒は、単独で或は混合して使用してもよい。な
かでも水又はアルコールの使用が好ましい。溶媒の使用
量は、式(II)の化合物の重量に対して1〜20倍量、
好ましくは2〜6倍量である。
【0019】この反応の反応温度は30〜120℃、好
ましくは60〜100℃であり、反応時間は1〜40時
間である。
【0020】また、本発明の方法では、式(II-1)の化
合物とヒドロキシルアミンの鉱酸塩とを反応させて式
(II-2)の化合物を得、次いで式(II-2)の化合物とグ
リオキサールとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の存在下
に反応させて式(I)の化合物を生成することができ
る。さらに、本発明の方法では前記式(II−2)の化
合物とグリオキシムとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の
存在下又は非存在下に反応させて式(I)の化合物を生
成することができる。
【0021】前段の反応はオキシム化反応である。オキ
シム化反応におけるヒドロキシルアミンの鉱酸塩の使用
量は、式(II-1)の化合物1モル当り通常1〜4当量、
好ましくは2〜3.5当量である。反応温度は30〜1
00℃、好ましくは60〜90℃である。反応時間は
0.2〜10時間である。
【0022】後段の反応は環化反応である。環化反応に
おけるヒドロキシルアミンの鉱酸塩の使用量は、式(II
-2)の化合物1モル当り通常0〜6当量であり、同時に
グリオキサールを使用する場合には2〜6当量、好まし
くは3〜4当量であり、同時にグリオキシムを使用する
場合には0〜4当量、好ましくは1〜2当量である。ヒ
ドロキシルアミンの鉱酸塩を使用しない場合には反応系
内に鉱酸を加えて反応を行ってもよい。グリオキサール
又はグリオキシムの使用量は、式(II-2)の化合物1モ
ル当り通常0.5〜2.0モル、好ましくは0.8〜
1.6モルである。反応温度は50〜120℃、好まし
くは60〜100℃である。反応時間は0.8〜30時
間である。
【0023】なお、このオキシム化反応では、反応条件
によっては、式(II-2)の化合物の他に、後記式(III
)の化合物も副生することがある。
【0024】あるいは、本発明の方法では、式(II-
1’)
【0025】
【化16】 (式中、R1 、R2 及びYは前述の通りであり、X’は
塩素原子又は臭素原子である)で表わされる化合物とヒ
ドロキシルアミンとを反応させて式(III ):
【0026】
【化17】 の化合物を得、次いで式(III )の化合物とグリオキサ
ールとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の存在下に反応さ
せて式(I)の化合物を生成することができる。さら
に、本発明の方法では前記式(III )の化合物とグ
リオキシムとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の存在下又
は非存在下に反応させて式(I)の化合物を生成するこ
とができる。
【0027】前段の反応はオキシム化反応である。オキ
シム化反応におけるヒドロキシルアミンの使用量は、式
(II−1’ )の化合物1モル当り通常2〜6当量、
好ましくは3〜5当量である。過剰量のヒドロキシルア
ミンは、副生するHCl又はHBrとともに塩酸ヒドロ
キシルアミン又は臭酸ヒドロキシルアミンを形成し、こ
のものは後段の反応におけるヒドロキシルアミンの鉱酸
塩として使用されてもよい。ヒドロキシルアミンを過剰
量使用しない場合には、塩基を加えてもよい。反応温度
は30〜100℃、好ましくは60〜90℃であり、反
応時間は0.2〜10時間である。
【0028】オキシム化反応によって生成される式(II
I )の化合物としては、具体的にはフェニルグリオキシ
ム、4−クロロフェニルグリオキシム、4−ブロモフェ
ニルグリオキシム、4−メチルフェニルグリオキシム、
4−エチルフェニルグリオキシム、4−メトキシフェニ
ルグリオキシム、3,3−ジメチル−1,2−ブタンジ
オンジオキシム、3,3−ジメチル−1,2−ペンタン
ジオンジオキシム、1−フェニル−1,2−プロパンジ
オンジオキシム、1−フェニル−1,2−ブタンジオン
ジオキシム、1−フェニル−1,2−ペンタンジオンジ
オキシム、1,3−ジフェニル−1,2−プロパンジオ
ンジオキシム、3−メトキシ−1−フェニル−1,2−
プロパンジオンジオキシム、3,3,3−トリフルオロ
−1−フェニル−1,2−プロパンジオンジオキシム、
ジフェニルグリオキシム、などが挙げられる。
【0029】後段の反応は環化反応である。環化反応に
おけるヒドロキシルアミンの鉱酸塩の使用量は、式(II
I )の化合物1モル当り通常0〜4当量であり、同時に
グリオキサールを使用する場合には1〜4当量、好まし
くは2〜3当量であり、同時にグリオキシムを使用する
場合には0〜2当量、好ましくは0.5〜1当量であ
る。ヒドロキシルアミンの鉱酸塩を使用しない場合には
反応系内に鉱酸を加えて反応を行ってもよい。鉱酸とし
ては塩酸、硫酸、臭化水素酸などが使用できる。グリオ
キサール又はグリオキシムの使用量は、式(III )の化
合物1モル当り通常0.5〜2.0モル、好ましくは
0.8〜1.6モルである。反応温度は50〜120
℃、好ましくは60〜100℃である。反応時間は0.
8〜30時間である。
【0030】式(II)又は式(II-1' )の化合物は、式
(IV):
【0031】
【化18】 (式中、R1 及びR2 は前述の通りである)で表わされ
る化合物と塩素又は臭素とを反応させることにより製造
することができる。この式(II)又は式(II-1')の化
合物を製造する反応の後、分離、精製処理を行うことな
く、前記式(I)の化合物の製造を行うことができる。
【0032】式(IV)の化合物としては、具体的にはア
セトフェノン、4′−クロロアセトフェノン、4′−ブ
ロモアセトフェノン、4′−メチルアセトフェノン、
4′−エチルアセトフェノン、4′−メトキシアセトフ
ェノン、3,3−ジメチル−2−ブタノン、3,3−ジ
メチル−2−ペンタノン、プロピオフェノン、ブチロフ
ェノン、バレロフェノン、3−フェニルプロピオフェノ
ン、3−メトキシプロピオフェノン、3,3,3−トリ
フルオロプロピオフェノン、2−フェニルアセトフェノ
ンなどを使用することができる。塩素又は臭素の使用量
は、式(IV)の化合物1モル当り、通常0.8〜4モル
である。この反応の反応温度は、通常0〜100℃であ
り、塩素を用いる場合には20〜100℃、臭素を用い
る場合は0〜80℃である。反応時間は塩素または臭素
の導入速度によって影響されるため一概に規定ができな
いが、通常0.5〜30時間である。この反応には溶媒
を使用してもよい。その溶媒としては、例えばメタノー
ル、エタノール、プロパノールなどのアルコール、ギ
酸、酢酸などの有機酸が挙げられる。原料及び生成物の
融点が80℃以下の場合には無溶媒でこの反応を行うこ
ともできる。本発明の方法では、この反応により製造さ
れる式(II)又は式(II-1' )の化合物を、ヒドロキシ
ルアミン又はその鉱酸塩、及びグリオキサール又はグリ
オキシムと反応させる。従って、この2つの反応を続け
て行うためには、この反応、即ち、式(IV)の化合物と
塩素又は臭素との反応を無溶媒又は後の反応で使用され
る溶媒と同じ溶媒を使用して行うことが望ましいが無溶
媒で行われることがより望ましい。
【0033】なお、前記式(I)で表される化合物に
は、1−ヒドロキシイミダゾール−3−オキシド骨格と
2位のオキシム結合のために異性体が存在する。また1
つのオキシム結合を有する前記式(II)又は式(II-2)
で表される化合物及び2つのオキシム結合を有する前記
式(III)で表される化合物にはそれぞれ幾何異性体が存
在する。本発明は前記各種の異性体あるいはそれらの混
合物に対して適用できる。
【0034】
【実施例】以下に本発明の実施例を記載するが、本発明
はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【0035】実施例1 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた200ml四つ口フ
ラスコに、2,2−ジクロロ−4′−メチルアセトフェ
ノン10.15g、40%グリオキサール水溶液7.9
8g、硫酸ヒドロキシルアミン16.4g及びメタノー
ル30mlを仕込み、撹拌下、還流温度で24時間反応
させた。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した
後、そこへ水60mlを投入し20分間撹拌を行った。
析出した結晶を濾取し乾燥を行って1−ヒドロキシ−4
(5)−(4−メチルフェニル)−2−オキシイミノメ
チルイミダゾール 3−オキシドの粗結晶10.48g
を得た。さらにその粗結晶をメタノール20mlに分散
させた後、濾過、メタノール洗浄及び乾燥を行って精製
結晶9.49gを得た(融点225〜228℃(分
解))。
【0036】実施例2 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた200ml四つ口フ
ラスコに、2,2−ジクロロプロピオフェノン10.0
g、40%グリオキサール水溶液7.86g、硫酸ヒド
ロキシルアミン24.1g及びメタノール30mlを仕
込み、撹拌下、還流温度で5時間反応させた。反応終了
後、反応混合液を室温まで冷却した後、そこへ水120
mlを投入し20分間撹拌を行った。析出した結晶を濾
取し乾燥を行って1−ヒドロキシ−5(4)−メチル−
2−オキシイミノメチル−4(5)−フェニルイミダゾ
ール3−オキシドの粗結晶10.24gを得た。さらに
その粗結晶をメタノール20mlに分散させた後、濾
過、メタノール洗浄及び乾燥を行って精製結晶8.85
gを得た(融点202〜210℃(分解))。
【0037】実施例3 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた200ml四つ口フ
ラスコに、4′−ブロモ−2,2−ジクロロアセトフェ
ノン15.0g、40%グリオキサール水溶液8.9
g、硫酸ヒドロキシルアミン27.6g及びメタノール
45mlを仕込み、撹拌下、還流温度で13時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、
そこへ水90mlを投入し20分間撹拌を行った。析出
した結晶を濾取し乾燥を行って4(5)−(4−ブロモ
フェニル)−1−ヒドロキシ−2−オキシイミノメチル
イミダゾール 3−オキシドの粗結晶15.3gを得
た。さらにその粗結晶をメタノール30mlに分散させ
た後、濾過、メタノール洗浄及び乾燥を行って精製結晶
12.18gを得た(融点231〜238℃(分
解))。
【0038】実施例4 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた200ml四つ口フ
ラスコに、2,2−ジクロロ−2−フェニルアセトフェ
ノン10.0g、40%グリオキサール水溶液6.1
g、硫酸ヒドロキシルアミン18.7g及びメタノール
30mlを仕込み、撹拌下、還流温度で24時間反応さ
せた。反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、
そこへ水60mlを投入し20分間撹拌を行った。析出
した結晶を濾取し乾燥を行った後、再びその粗結晶をメ
タノール30mlに分散させた後、濾過、メタノール洗
浄及び乾燥を行って4,5−ジフェニル−1−ヒドロキ
シ−2−オキシイミノメチルイミダゾール 3−オキシ
ドの粗結晶5.94gを得た(融点198〜208℃
(分解))。
【0039】実施例5 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた100ml四つ口フ
ラスコに、2,2−ジクロロ−4′−メチルアセトフェ
ノン5.08g、グリオキシム2.48g、硫酸ヒドロ
キシルアミン4.5g及びメタノール25mlを仕込
み、撹拌下、還流温度で28時間反応させた。反応終了
後、反応混合液を室温まで冷却した後、そこへ水50m
lを投入し20分間撹拌を行った。析出した結晶を濾取
し乾燥を行って1−ヒドロキシ−4(5)−(4−メチ
ルフェニル)−2−オキシイミノメチルイミダゾール
3−オキシドの粗結晶5.23gを得た。さらにその粗
結晶をメタノール15mlに分散させた後、濾過、メタ
ノール洗浄及び乾燥を行って精製結晶4.50gを得
た。
【0040】実施例6 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた100ml四つ口フ
ラスコに、2−ブロモ−4′−メチルアセトフェノン
5.33g、グリオキシム2.4g、硫酸ヒドロキシル
アミン4.5g及びメタノール15mlを仕込み、撹拌
下、還流温度で15時間反応させた。反応終了後、反応
混合液を室温まで冷却した後、そこへ水30mlを投入
し20分間撹拌を行った。析出した結晶を濾取し乾燥を
行って1−ヒドロキシ−4(5)−(4−メチルフェニ
ル)−2−オキシイミノメチルイミダゾール 3−オキ
シドの粗結晶5.29gを得た。さらにその粗結晶をメ
タノール15mlに分散させた後、濾過、メタノール洗
浄及び乾燥を行って精製結晶4.56gを得た。
【0041】実施例7 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた100ml四つ口フ
ラスコに、2,2−ジブロモ−4′−メチルアセトフェ
ノン5.0g、グリオキシム2.7g、硫酸ヒドロキシ
ルアミン7.0g及びメタノール25mlを仕込み、撹
拌下、還流温度で10時間反応させた。反応終了後、反
応混合液を室温まで冷却した後、そこへ水50mlを投
入し20分間撹拌を行った。析出した結晶を濾取し乾燥
を行って1−ヒドロキシ−4(5)−(4−メチルフェ
ニル)−2−オキシイミノメチルイミダゾール 3−オ
キシドの粗結晶3.65gを得た。さらにその粗結晶を
メタノール10mlに分散させた後、濾過、メタノール
洗浄及び乾燥を行って精製結晶2.74gを得た。
【0042】実施例8 温度計、冷却器、ガス導入管及び撹拌機を備えた300
ml四つ口フラスコに、4′−メチルアセトフェノン1
3.4gを仕込み、50〜60℃の温度に保ちながら塩
素ガスを導入した。4′−メチルアセトフェノンが2,
2−ジクロロ−4′−メチルアセトフェノンに転化した
ことをガスクロマトグラフィーで確認した後、40%グ
リオキサール水溶液17.4g、硫酸ヒドロキシルアミ
ン36.1g及びメタノール70mlを添加し、撹拌
下、還流温度で18時間反応させた。反応終了後、反応
混合液を室温まで冷却した後、そこへ水140mlを投
入し20分間撹拌を行った。析出した結晶を濾取し乾燥
を行って1−ヒドロキシ−4(5)−(4−メチルフェ
ニル)−2−オキシイミノメチルイミダゾール 3−オ
キシドの粗結晶20.1gを得た。さらにその粗結晶を
メタノール50mlに分散させた後、濾過、メタノール
洗浄及び乾燥を行って精製結晶17.83gを得た。
【0043】実施例9 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた300ml四つ口フ
ラスコに、2,2−ジクロロ−4′−メチルアセトフェ
ノン20.3g、塩酸ヒドロキシルアミン20.9g及
びメタノール200mlを仕込み、室温で3日間撹拌を
行った。反応混合液を水600mlへ投入して塩化メチ
レンで抽出を行った後、溶媒を留去して2,2−ジクロ
ロ−4′−メチルアセトフェノン オキシムの異性体混
合物(syn/anti=1/1)20.8gを得た。
その一部を取りヘキサンで洗浄し、片方の異性体の融点
を測定したところ100〜104℃であった。
【0044】実施例10 温度計、冷却器及び撹拌機を備えた200ml四つ口フ
ラスコに、実施例9で得られた2,2−ジクロロ−4′
−メチルアセトフェノン オキシムの異性体混合物1
0.0g、40%グリオキサール水溶液7.14g、硫
酸ヒドロキシルアミン13.3g及びメタノール30m
lを仕込み、撹拌下、還流温度で16時間反応させた。
反応終了後、反応混合液を室温まで冷却した後、そこへ
水60mlを投入し20分間撹拌を行った。析出した結
晶を濾取し乾燥を行って1−ヒドロキシ−4(5)−
(4−メチルフェニル)−2−オキシイミノメチルイミ
ダゾール 3−オキシドの粗結晶9.62gを得た。さ
らにその粗結晶をメタノール30mlに分散させた後、
濾過、メタノール洗浄及び乾燥を行って精製結晶8.4
3gを得た。
【0045】実施例11 温度計、冷却器、撹拌機及び滴下ロートを備えた100
ml四つ口フラスコに、2,2−ジクロロ−4′−メチ
ルアセトフェノン4.06g及び50%ヒドロキシルア
ミン水溶液6.6gを仕込み、撹拌下90℃で約1時間
反応させ4−メチルフェニルグリオキシム(融点170
〜176℃)を生成させた後、40%グリオキサール水
溶液3.19gを添加し、90℃で約1時間反応させ
た。反応終了後、析出した結晶をろ過、水洗及び乾燥を
行って1−ヒドロキシ−4(5)−(4−メチルフェニ
ル)−2−オキシイミノメチルイミダゾール 3−オキ
シド3.96gを得た。
【0046】実施例12 温度計、冷却器、撹拌機及び滴下ロートを備えた100
ml四つ口フラスコに、2,2−ジクロロ−4′−メチ
ルアセトフェノン4.06g、50%ヒドロキシルアミ
ン水溶液5.28g及びメタノール8mlを仕込み、還
流下約1時間反応させ4−メチルフェニルグリオキシム
を生成させた。系内のメタノールを留去した後、40%
グリオキサール水溶液2.9gを添加し、90℃で約
2.5時間反応させた。反応終了後、析出した結晶をろ
過、水洗及び乾燥を行って1−ヒドロキシ−4(5)−
(4−メチルフェニル)−2−オキシイミノメチルイミ
ダゾール 3−オキシド4.16gを得た。
【0047】実施例13 温度計、冷却器、撹拌機及び滴下ロートを備えた100
ml四つ口フラスコに、44.4%水酸化ナトリウム水
溶液10.8g、硫酸ヒドロキシルアミン9.84g、
2,2−ジクロロ−4′−メチルアセトフェノン6.0
9g及びメタノール6mlを順に仕込み、還流下で約3
時間反応させ4−メチルフェニルグリオキシムを生成さ
せた後、40%グリオキサール水溶液4.35g、水6
ml及び硫酸2.94gを添加し、80℃で約5時間反
応させた。反応終了後、析出した結晶をろ過、水洗及び
乾燥を行って1−ヒドロキシ−4(5)−(4−メチル
フェニル)−2−オキシイミノメチルイミダゾール 3
−オキシド5.94gを得た。
【0048】
【発明の効果】本発明の方法によれば、工業的に容易に
製造できる式(II)の化合物を使用して式(I)のイミ
ダゾール系化合物を製造することができる。また、式
(II)の化合物を製造する反応の後、分離、精製処理を
行うことなく、本発明の方法における反応を続けて行う
ことができ、反応、処理工程を簡略化することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 堀内 則之 滋賀県草津市西渋川二丁目3番1号 石原 産業株式会社中央研究所内

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 式(I): 【化1】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
    れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
    れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
    である)で表わされるイミダゾール系化合物の製造方法
    であって、式(II): 【化2】 (式中、R1 及びR2 は前述の通りであり、Xは水素原
    子、塩素原子又は臭素原子であり、Yは塩素原子又は臭
    素原子であり、Zは酸素原子又はヒドロキシイミノ基で
    ある)で表わされる化合物と、ヒドロキシルアミン又は
    その鉱酸塩と、グリオキサール又はグリオキシムとを反
    応させることを特徴とする前記イミダゾール系化合物
    (I)の製造方法。
  2. 【請求項2】 式(I)及び(II)においてR1 が置換
    されてもよいフェニル基である請求項1に記載の製造方
    法。
  3. 【請求項3】 式(II)においてZが酸素原子である請
    求項1に記載の製造方法。
  4. 【請求項4】 式(II)においてXが塩素原子又は臭素
    原子である請求項1に記載の製造方法。
  5. 【請求項5】 式(II)の化合物1モル当り、ヒドロキ
    シルアミン又はその鉱酸塩を1〜8当量及びグリオキサ
    ール又はグリオキシムを0.5〜2モルそれぞれ使用し
    て反応させる請求項1に記載の製造方法。
  6. 【請求項6】 溶媒として水又はアルコールを使用する
    請求項1に記載の製造方法。
  7. 【請求項7】 反応温度30〜120℃で反応させる請
    求項1に記載の製造方法。
  8. 【請求項8】 式(II-1): 【化3】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
    れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
    れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
    であり、Xは水素原子、塩素原子又は臭素原子であり、
    Yは塩素原子又は臭素原子である)で表わされる化合物
    とヒドロキシルアミンの鉱酸塩とを反応させて式(II-
    2): 【化4】 (式中、R1 、R2 、X及びYは前述の通りである)で
    表わされる化合物を得、次いで式(II-2)の化合物とグ
    リオキサールとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の存在下
    に反応させて式(I)の化合物を生成する請求項1に記
    載の製造方法。
  9. 【請求項9】 式(II-1): 【化5】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
    れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
    れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
    であり、Xは水素原子、塩素原子又は臭素原子であり、
    Yは塩素原子又は臭素原子である)で表わされる化合物
    とヒドロキシルアミンの鉱酸塩とを反応させて式(II-
    2): 【化6】 (式中、R1 、R2 、X及びYは前述の通りである)で
    表わされる化合物を得、次いで式(II-2)の化合物とグ
    リオキシムとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の存在下又
    は非存在下に反応させて式(I)の化合物を生成する請
    求項1に記載の製造方法。
  10. 【請求項10】 式(II-1’): 【化7】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
    れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
    れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
    であり、X’は塩素原子又は臭素原子であり、Yは塩素
    原子又は臭素原子である)で表わされる化合物とヒドロ
    キシルアミンとを反応させて式(III ): 【化8】 (式中、R1 及びR2 は前述の通りである)で表わされ
    る化合物を得、次いで式(III )の化合物とグリオキサ
    ールとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の存在下に反応さ
    せて式(I)の化合物を生成する請求項1に記載の製造
    方法。
  11. 【請求項11】 式(II-1’): 【化9】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
    れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
    れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
    であり、X’は塩素原子又は臭素原子であり、Yは塩素
    原子又は臭素原子である)で表わされる化合物とヒドロ
    キシルアミンとを反応させて式(III ): 【化10】 (式中、R1 及びR2 は前述の通りである)で表わされ
    る化合物を得、次いで式(III )の化合物とグリオキシ
    ムとをヒドロキシルアミンの鉱酸塩の存在下又は非存在
    下に反応させて式(I)の化合物を生成する請求項1に
    記載の製造方法。
  12. 【請求項12】 式(II)の化合物が、式(IV): 【化11】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
    れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
    れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
    である)で表わされる化合物と塩素又は臭素とを反応さ
    せることにより製造されるものである請求項1に記載の
    製造方法。
  13. 【請求項13】 式(IV)の化合物と塩素又は臭素との
    反応において反応温度が0〜100℃である請求項12
    に記載の製造方法。
  14. 【請求項14】 式(IV)の化合物と塩素又は臭素との
    反応において反応が無溶媒で行われる請求項12に記載
    の製造方法。
  15. 【請求項15】 式(II-1' )の化合物が、式(IV): 【化12】 (式中、R1 は置換されてもよいアルキル基又は置換さ
    れてもよいフェニル基であり、R2 は水素原子、置換さ
    れてもよいアルキル基又は置換されてもよいフェニル基
    である)で表わされる化合物と塩素又は臭素とを反応さ
    せることにより製造されるものである請求項10、請求
    項11に記載の製造方法。
  16. 【請求項16】 2,2−ジクロロ−4′−メチルアセ
    トフェノンオキシム、2−ブロモ−2−クロロ−4′−
    メチルアセトフェノンオキシム又は2,2−ジブロモ−
    4′−メチルアセトフェノンオキシム。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO2021246455A1 (ja) 2020-06-03 2021-12-09 石原産業株式会社 ヒト用抗真菌剤
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