JPH08281087A - 卓上型炭酸泉製造装置 - Google Patents
卓上型炭酸泉製造装置Info
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- JPH08281087A JPH08281087A JP7085615A JP8561595A JPH08281087A JP H08281087 A JPH08281087 A JP H08281087A JP 7085615 A JP7085615 A JP 7085615A JP 8561595 A JP8561595 A JP 8561595A JP H08281087 A JPH08281087 A JP H08281087A
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- Japan
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- carbonated spring
- hot water
- dissolver
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 簡単かつコンパクトな方法で炭酸ガスを温水
に効率的に溶解させて、家庭で高濃度の炭酸泉を得るこ
とができる炭酸泉製造装置の提供。 【構成】 温水に炭酸ガスを溶解する溶解器４、炭酸ガ
スを供給するガスボンベ６とが移動可能な基台１２上に
一体的に設けられており、溶解器は中空糸膜を介して温
水中に炭酸ガスを溶解する構造を有し、その温水流入口
は温水蛇口と着脱自在に設けられている構造を有する。
に効率的に溶解させて、家庭で高濃度の炭酸泉を得るこ
とができる炭酸泉製造装置の提供。 【構成】 温水に炭酸ガスを溶解する溶解器４、炭酸ガ
スを供給するガスボンベ６とが移動可能な基台１２上に
一体的に設けられており、溶解器は中空糸膜を介して温
水中に炭酸ガスを溶解する構造を有し、その温水流入口
は温水蛇口と着脱自在に設けられている構造を有する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、生理的に効果のある炭
酸泉が容易に得られる新規な卓上型炭酸泉の製造装置に
関する。
酸泉が容易に得られる新規な卓上型炭酸泉の製造装置に
関する。
【０００２】
【従来の技術】炭酸泉には優れた血行促進効果があるこ
とから、古くから温泉を利用する浴場等で用いられてい
る。炭酸泉の血行促進効果は、基本的に、含有炭酸ガス
の末梢血管拡張作用により身体環境が改善されるためと
考えられる。また、炭酸ガスの経皮進入によって、毛細
血管床の増加及び拡張が起こり、皮膚の血行を改善す
る。このため、皮膚上の毛穴から老廃物、汚れ等を排出
し、また、皮膚のpHを正常に整える弱酸性水でもあるた
め、にきび等皮膚の炎症の改善に効果があると考えられ
ている。
とから、古くから温泉を利用する浴場等で用いられてい
る。炭酸泉の血行促進効果は、基本的に、含有炭酸ガス
の末梢血管拡張作用により身体環境が改善されるためと
考えられる。また、炭酸ガスの経皮進入によって、毛細
血管床の増加及び拡張が起こり、皮膚の血行を改善す
る。このため、皮膚上の毛穴から老廃物、汚れ等を排出
し、また、皮膚のpHを正常に整える弱酸性水でもあるた
め、にきび等皮膚の炎症の改善に効果があると考えられ
ている。
【０００３】このように、炭酸泉が優れた効果を持つこ
とから、これを人工的に調合する試みが行われてきた。
例えば、浴槽内に炭酸ガスを気泡の形で送り込む方法、
炭酸塩と酸とを作用させる化学的方法、タンクに温水と
炭酸ガスとを一定期間加圧封入する方法等により炭酸温
水を得ていた。
とから、これを人工的に調合する試みが行われてきた。
例えば、浴槽内に炭酸ガスを気泡の形で送り込む方法、
炭酸塩と酸とを作用させる化学的方法、タンクに温水と
炭酸ガスとを一定期間加圧封入する方法等により炭酸温
水を得ていた。
【０００４】また、特開平２−２７９１５８号公報に
は、中空糸半透膜を通じて炭酸ガスを供給し、水に吸収
させる方法が提案されている。
は、中空糸半透膜を通じて炭酸ガスを供給し、水に吸収
させる方法が提案されている。
【０００５】また、従来の洗顔器は、細泡化した空気を
皮膚に当て、破裂する際の超音波により皮膚内の汚れを
除去する方法や、酸性水を用いて皮膚をひきしめ、汗や
皮脂の分泌を抑制する方法があった。
皮膚に当て、破裂する際の超音波により皮膚内の汚れを
除去する方法や、酸性水を用いて皮膚をひきしめ、汗や
皮脂の分泌を抑制する方法があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の炭酸泉
の生成方法では、全身浴浴槽用がほとんどであり、簡単
に家庭の洗面所等で洗顔等に利用できる炭酸泉製造装置
がなく、化学的方法では、炭酸ガス濃度を３００ppm に
するには、多量の薬品を投入しなければならず、高濃度
の炭酸泉を簡便に利用できる装置が望まれていた。本発
明の目的は、高濃度の炭酸泉を効率よく簡単かつコンパ
クトな方法で製造することができる装置を提供するもの
である。
の生成方法では、全身浴浴槽用がほとんどであり、簡単
に家庭の洗面所等で洗顔等に利用できる炭酸泉製造装置
がなく、化学的方法では、炭酸ガス濃度を３００ppm に
するには、多量の薬品を投入しなければならず、高濃度
の炭酸泉を簡便に利用できる装置が望まれていた。本発
明の目的は、高濃度の炭酸泉を効率よく簡単かつコンパ
クトな方法で製造することができる装置を提供するもの
である。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このような目的は、以下
の発明により達成される。 （１）温水に炭酸ガスを溶解する溶解器、炭酸ガスを供
給するガスボンベとが、移動可能な（持ち運び可能な）
基台上に一体的に設けられており、溶解器は温水流入口
から供給された温水に中空糸膜を介して炭酸ガスを溶解
し炭酸泉として流出口から流出せしめる構造を有し、温
水流入口は温水蛇口と着脱自在に設けられていることを
特徴とする卓上型炭酸泉製造装置。
の発明により達成される。 （１）温水に炭酸ガスを溶解する溶解器、炭酸ガスを供
給するガスボンベとが、移動可能な（持ち運び可能な）
基台上に一体的に設けられており、溶解器は温水流入口
から供給された温水に中空糸膜を介して炭酸ガスを溶解
し炭酸泉として流出口から流出せしめる構造を有し、温
水流入口は温水蛇口と着脱自在に設けられていることを
特徴とする卓上型炭酸泉製造装置。
【０００８】（２）基台の中央部に、溶解器とガスボン
ベとの固定用支持柱が設けられていることを特徴とする
上記（１）記載の卓上型炭酸泉製造装置。
ベとの固定用支持柱が設けられていることを特徴とする
上記（１）記載の卓上型炭酸泉製造装置。
【０００９】（３）溶解器とガスボンベの固定用支持柱
の先端部に把持用グリップが設けられている上記（２）
記載の卓上型炭酸泉製造装置。
の先端部に把持用グリップが設けられている上記（２）
記載の卓上型炭酸泉製造装置。
【００１０】（４）支持柱に固定されたガスボンベの固
定具が、固定部を支点に回転し得るようになした上記
（２）記載の卓上型炭酸泉製造装置。
定具が、固定部を支点に回転し得るようになした上記
（２）記載の卓上型炭酸泉製造装置。
【００１１】（５）中空糸膜がガス透過性に優れる薄膜
状の非多孔質層である均質層の両側を多孔質膜で挟み込
んだ三層構造の複合中空糸膜である上記（１）記載の卓
上型炭酸泉製造装置。
状の非多孔質層である均質層の両側を多孔質膜で挟み込
んだ三層構造の複合中空糸膜である上記（１）記載の卓
上型炭酸泉製造装置。
【００１２】（６）基台の底部に滑り止めが設けられて
いる上記（１）記載の卓上型炭酸泉製造装置。
いる上記（１）記載の卓上型炭酸泉製造装置。
【００１３】以下、図面により本発明をより詳細に説明
する。図１は、本発明の装置の一例である。１は蛇口直
結切替コック、２はワンタッチジョイント、３は温水流
入管、４は溶解器、５は炭酸ガスの流入管、６は炭酸ガ
スボンベ、７はレギュレーター、８はダイヤル、９は把
持用グリップ、１０は炭酸泉流出管、１１は固定用支持
柱、１２は基台、１３は滑り止め、１４は溶解器用の固
定具、１５は炭酸ガスボンベ用の固定具である。温水
は、蛇口より溶解器４に導かれ、炭酸ガスボンベ６より
導かれた炭酸ガスを溶解器内に設けられた中空糸膜４１
（図３）を介して溶解し、炭酸泉となる。
する。図１は、本発明の装置の一例である。１は蛇口直
結切替コック、２はワンタッチジョイント、３は温水流
入管、４は溶解器、５は炭酸ガスの流入管、６は炭酸ガ
スボンベ、７はレギュレーター、８はダイヤル、９は把
持用グリップ、１０は炭酸泉流出管、１１は固定用支持
柱、１２は基台、１３は滑り止め、１４は溶解器用の固
定具、１５は炭酸ガスボンベ用の固定具である。温水
は、蛇口より溶解器４に導かれ、炭酸ガスボンベ６より
導かれた炭酸ガスを溶解器内に設けられた中空糸膜４１
（図３）を介して溶解し、炭酸泉となる。
【００１４】この炭酸泉製造装置は、上記ユニットが一
体となった形になっており、コンパクトでかつ持ち運び
ができる重量になっており、温水蛇口に、ワンタッチで
装着でき、切替コック１で簡便に原水にも切り替えでき
る。
体となった形になっており、コンパクトでかつ持ち運び
ができる重量になっており、温水蛇口に、ワンタッチで
装着でき、切替コック１で簡便に原水にも切り替えでき
る。
【００１５】図２は、炭酸ガスボンベ用の固定具の一例
である。固定具１５は、金属製の湾曲した形状で、先端
部をネジ等で固定することにより、炭酸ガスボンベをは
さみ込む形で固定できる。固定具の根元はネジ棒構造を
有しており、固定用支持柱に設けられた貫通孔を貫通さ
せて固定用支持柱に固定させる。さらに貫通させた先端
部をナットでしめつけることにより、固定具を支持柱に
完全に固定できる。ガスボンベを取り換える際はナット
をゆるめ、固定具を回動させてガスボンベを傾けること
により、容易に取換えが行える。
である。固定具１５は、金属製の湾曲した形状で、先端
部をネジ等で固定することにより、炭酸ガスボンベをは
さみ込む形で固定できる。固定具の根元はネジ棒構造を
有しており、固定用支持柱に設けられた貫通孔を貫通さ
せて固定用支持柱に固定させる。さらに貫通させた先端
部をナットでしめつけることにより、固定具を支持柱に
完全に固定できる。ガスボンベを取り換える際はナット
をゆるめ、固定具を回動させてガスボンベを傾けること
により、容易に取換えが行える。
【００１６】図３は、溶解器４（図１）で用いる炭酸ガ
ス溶解モジュール４０の構造図の一例である。４１は中
空糸膜、４２は温水の流入口、４３は炭酸ガスの流入
管、４４は炭酸泉の流出口、４５はポッティング部であ
る。温水は、溶解器の温水流入口４２を経て、各々の中
空糸膜４１に一様に分配される。
ス溶解モジュール４０の構造図の一例である。４１は中
空糸膜、４２は温水の流入口、４３は炭酸ガスの流入
管、４４は炭酸泉の流出口、４５はポッティング部であ
る。温水は、溶解器の温水流入口４２を経て、各々の中
空糸膜４１に一様に分配される。
【００１７】図４は、中空糸膜の一例であり、Ａは芯部
の均質層、Ｂは内外部の多孔質層である。中空糸膜の内
径は、５０μｍ以上１０００μｍ以下が望ましい。５０
μｍ以下では中空糸膜内を流れる温水の抵抗が大きく、
充分な水量が得られない、また１０００μｍ以上では、
溶解器のサイズが大きくなり、コンパクトにならない。
の均質層、Ｂは内外部の多孔質層である。中空糸膜の内
径は、５０μｍ以上１０００μｍ以下が望ましい。５０
μｍ以下では中空糸膜内を流れる温水の抵抗が大きく、
充分な水量が得られない、また１０００μｍ以上では、
溶解器のサイズが大きくなり、コンパクトにならない。
【００１８】また、中空糸膜は、ガス透過性に優れる薄
膜状の非多孔質層である均質層を芯部に有し、その内外
両側を多孔質膜で挟み込んだ三層構造の複合中空糸膜が
好ましく、例えば、三菱レイヨン（株）製三層複合中空
糸膜（ＭＨＦ「商品名」）が挙げられる。
膜状の非多孔質層である均質層を芯部に有し、その内外
両側を多孔質膜で挟み込んだ三層構造の複合中空糸膜が
好ましく、例えば、三菱レイヨン（株）製三層複合中空
糸膜（ＭＨＦ「商品名」）が挙げられる。
【００１９】前記の均質層の非多孔質ガス透過膜は、気
体が溶解、拡散機構により透過する膜であり、分子がク
ヌッセン流れのように気体がガス状で透過できる孔を実
質的に含まないものであればいかなるものでも良い。こ
のような非多孔質ガス透過膜を均質層に用いることによ
り、任意の圧力でガスが気泡として放出されることなく
ガスを供給、溶解でき、効率よい溶解ができると共に、
任意の濃度に制御性良く、簡便に溶解できる。また、膜
を介して水または水溶液がガス供給側に逆流するような
こともない。
体が溶解、拡散機構により透過する膜であり、分子がク
ヌッセン流れのように気体がガス状で透過できる孔を実
質的に含まないものであればいかなるものでも良い。こ
のような非多孔質ガス透過膜を均質層に用いることによ
り、任意の圧力でガスが気泡として放出されることなく
ガスを供給、溶解でき、効率よい溶解ができると共に、
任意の濃度に制御性良く、簡便に溶解できる。また、膜
を介して水または水溶液がガス供給側に逆流するような
こともない。
【００２０】膜素材としては、シリコーン系、ポリオレ
フィン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリイミド
系、ポリスルフォン系、セルロース系、ポリウレタン系
等が好ましいものとして挙げられる。
フィン系、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリイミド
系、ポリスルフォン系、セルロース系、ポリウレタン系
等が好ましいものとして挙げられる。
【００２１】ここで使用する炭酸ガスボンベは、簡単に
持ち運び、取り替えができるという観点から、１００cc
入りボンベが望ましい。
持ち運び、取り替えができるという観点から、１００cc
入りボンベが望ましい。
【００２２】
【実施例】以下、実施例により本発明の効果を具体的に
説明する。炭酸ガス濃度は、東亜電波工業製 イオンメ
ーターＩＭ４０Ｓ炭酸ガス電極ＣＥ−２３５で測定し
た。
説明する。炭酸ガス濃度は、東亜電波工業製 イオンメ
ーターＩＭ４０Ｓ炭酸ガス電極ＣＥ−２３５で測定し
た。
【００２３】（実施例１）図１に示したように装置を組
み立て、この装置で炭酸泉を製造した。溶解器４は、図
３の構造を有し膜面積が０．６ｍ2 である炭酸ガス溶解
モジュール４０を用意した。使用した中空糸膜は、３層
構造を有し、内径２００μｍ、内層と外層は厚みがそれ
ぞれ２０μｍのポリエチレン多孔質膜、中間層は厚みが
０．５μｍの非多孔質膜セグメント化ポリウレタン膜で
ある。炭酸ガスボンベ６は、１００ccのものを使用し、
溶解器４に４０℃の温水を１０Ｌ／min で供給した。同
時に炭酸ガスボンベ６より炭酸ガスをレギュレター７で
圧力２ kgf／cm2 に調整して流量を調整した炭酸ガス
を、それぞれ炭酸ガス流量を変えて測定したところ、２
Ｌ／min で３６０ppm 、３Ｌ／min で４６０ppm、４Ｌ
／min で６００ppm の濃度の炭酸泉が得られた。
み立て、この装置で炭酸泉を製造した。溶解器４は、図
３の構造を有し膜面積が０．６ｍ2 である炭酸ガス溶解
モジュール４０を用意した。使用した中空糸膜は、３層
構造を有し、内径２００μｍ、内層と外層は厚みがそれ
ぞれ２０μｍのポリエチレン多孔質膜、中間層は厚みが
０．５μｍの非多孔質膜セグメント化ポリウレタン膜で
ある。炭酸ガスボンベ６は、１００ccのものを使用し、
溶解器４に４０℃の温水を１０Ｌ／min で供給した。同
時に炭酸ガスボンベ６より炭酸ガスをレギュレター７で
圧力２ kgf／cm2 に調整して流量を調整した炭酸ガス
を、それぞれ炭酸ガス流量を変えて測定したところ、２
Ｌ／min で３６０ppm 、３Ｌ／min で４６０ppm、４Ｌ
／min で６００ppm の濃度の炭酸泉が得られた。
【００２４】
【発明の効果】本発明の炭酸泉製造装置によれば、簡単
かつコンパクトな方法で炭酸ガスを温水に効率的に溶解
させて、家庭で高濃度の炭酸泉を得ることができる。ま
た、本発明の炭酸泉製造装置は、極めてコンパクト、軽
量なため、洗面台等に設置することが可能で、基台１２
中央部の固定用支持柱１１に溶解器４、炭酸ガスボンベ
６を固定すること、また基台１２底部に滑り止め１３を
設けることにより高い安定性を得ることができる。更
に、把持用グリップ９により簡便に炭酸泉を使用する箇
所に持ち運びでき、また、炭酸ガスボンベ６の固定部が
回転するため、ボンベ交換が容易である。
かつコンパクトな方法で炭酸ガスを温水に効率的に溶解
させて、家庭で高濃度の炭酸泉を得ることができる。ま
た、本発明の炭酸泉製造装置は、極めてコンパクト、軽
量なため、洗面台等に設置することが可能で、基台１２
中央部の固定用支持柱１１に溶解器４、炭酸ガスボンベ
６を固定すること、また基台１２底部に滑り止め１３を
設けることにより高い安定性を得ることができる。更
に、把持用グリップ９により簡便に炭酸泉を使用する箇
所に持ち運びでき、また、炭酸ガスボンベ６の固定部が
回転するため、ボンベ交換が容易である。
【００２５】上記効果により、洗面台等に設置し高濃度
の炭酸泉を洗顔等に使用することができ、にきび等皮膚
炎の改善に効果があり、また、洗面器等に高濃度の炭酸
泉を溜めて、手浴、足浴に使用することによって、冷え
性、虚血肢、慢性リウマチ等血行障害の改善に効果があ
る。他に、高濃度の炭酸泉をタオル等にしみ込ませ温湿
布とし、１日に数回施すことを続けることにより、褥創
等の血行障害の改善に効果がある。
の炭酸泉を洗顔等に使用することができ、にきび等皮膚
炎の改善に効果があり、また、洗面器等に高濃度の炭酸
泉を溜めて、手浴、足浴に使用することによって、冷え
性、虚血肢、慢性リウマチ等血行障害の改善に効果があ
る。他に、高濃度の炭酸泉をタオル等にしみ込ませ温湿
布とし、１日に数回施すことを続けることにより、褥創
等の血行障害の改善に効果がある。
【図１】本発明の装置の概略的な全体構成図である。
【図２】本発明に適用するのに好適な炭酸ガスボンベ用
固定具の一例である。
固定具の一例である。
【図３】本発明に適用するのに好適な炭酸ガス溶解モジ
ュールの側面図である。
ュールの側面図である。
【図４】本発明に適用するのに好適な中空糸膜の一例で
ある。
ある。
１…蛇口直結切替コック ２…ワンタッチジョイント ３…温水流入管 ４…溶解器 ５…炭酸ガス流入管 ６…炭酸ガスボンベ ７…レギュレーター ８…ダイヤル ９…把持用グリップ １０…炭酸泉流出管 １１…固定用支持柱 １２…基台 １３…滑り止め １４…溶解器用固定具 １５…炭酸ガスボンベ用固定具 ４０…炭酸ガス溶解モジュール ４１…中空糸膜 ４２…温水流入口 ４３…炭酸ガス流入管 ４４…炭酸泉流出口 ４５…ポッティング部 Ａ…均質層 Ｂ…多孔質層
Claims (6)
- 【請求項１】 温水に炭酸ガスを溶解する溶解器、炭酸
ガスを供給するガスボンベとが、移動可能な（持ち運び
可能な）基台上に一体的に設けられており、溶解器は温
水流入口から供給された温水に中空糸膜を介して炭酸ガ
スを溶解し炭酸泉として流出口から流出せしめる構造を
有し、温水流入口は温水蛇口と着脱自在に設けられてい
ることを特徴とする卓上型炭酸泉製造装置。 - 【請求項２】 基台の中央部に、溶解器とガスボンベと
の固定用支持柱が設けられていることを特徴とする請求
項１記載の卓上型炭酸泉製造装置。 - 【請求項３】 溶解器とガスボンベの固定用支持柱の先
端部に把持用グリップが設けられている請求項２記載の
卓上型炭酸泉製造装置。 - 【請求項４】 支持柱に固定されたガスボンベの固定具
が、固定部を支点に回転し得るようになした請求項２記
載の卓上型炭酸泉製造装置。 - 【請求項５】 中空糸膜がガス透過性に優れる薄膜状の
非多孔質層である均質層の両側を多孔質膜で挟み込んだ
三層構造の複合中空糸膜である請求項１記載の卓上型炭
酸泉製造装置。 - 【請求項６】 基台の底部に滑り止めが設けられている
請求項１記載の卓上型炭酸泉製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7085615A JPH08281087A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 卓上型炭酸泉製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7085615A JPH08281087A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 卓上型炭酸泉製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08281087A true JPH08281087A (ja) | 1996-10-29 |
Family
ID=13863756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7085615A Pending JPH08281087A (ja) | 1995-04-11 | 1995-04-11 | 卓上型炭酸泉製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08281087A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6164632A (en) * | 1997-02-05 | 2000-12-26 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method for the preparation of a carbonate spring |
| JP2018047403A (ja) * | 2016-09-20 | 2018-03-29 | 栗田工業株式会社 | 生物処理装置 |
| JP6408083B1 (ja) * | 2017-07-13 | 2018-10-17 | 環境技術サービス株式会社 | 気泡発生装置及び気泡発生方法 |
| JP2019018203A (ja) * | 2017-07-13 | 2019-02-07 | 環境技術サービス株式会社 | 気泡発生装置及び気泡発生方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58128133A (ja) * | 1982-08-31 | 1983-07-30 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ミネラル水製造装置 |
| JPH0678963A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-03-22 | Toto Ltd | 炭酸ガス供給装置 |
| JPH07779A (ja) * | 1993-02-04 | 1995-01-06 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | 炭酸ガス溶解方法及び装置 |
-
1995
- 1995-04-11 JP JP7085615A patent/JPH08281087A/ja active Pending
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