JPH08279665A - 導電性ペーストおよびその製造方法 - Google Patents

導電性ペーストおよびその製造方法

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JPH08279665A
JPH08279665A JP8223695A JP8223695A JPH08279665A JP H08279665 A JPH08279665 A JP H08279665A JP 8223695 A JP8223695 A JP 8223695A JP 8223695 A JP8223695 A JP 8223695A JP H08279665 A JPH08279665 A JP H08279665A
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JP
Japan
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hole
copper powder
copper
paste
conductive paste
Prior art date
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Pending
Application number
JP8223695A
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English (en)
Inventor
Shizuo Furuyama
静夫 古山
Nobuo Kashimura
信男 樫村
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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  • Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
  • Conductive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明はプリント配線板における層間の回路
接続などに用いる充填性、導電性、コスト的に有利な導
電性ペーストおよびその製造方法を提供することを目的
とする。 【構成】 基材4のスルーホール5に、バインダに粒径
1.0〜2.5μmの球状銅粉と20〜40μmの球状
銅粉を混練した銅ペースト1を充填・硬化する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプリント配線板における
層間の回路接続などに使用可能な導電性ペーストおよび
その製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、情報機器分野の急速な発展に伴い
プリント配線板の高密度、高精度化が強く要望されてい
る。この中で、層間の電気的接続手段としては銅めっき
スルーホールが主流であった。しかし、めっき工法が適
用できる基板はガラスエポキシ基材などの寸法精度が良
いものに限定されている。フェノール基材には銀ペース
トが使用されているが、銀ペーストには銀のマイグレー
ションという特有の問題があるため高密度な基板への応
用には限界がある。
【0003】一方、スルーホール形成の技術動向とし
て、銅めっきスルーホール内に導電性ペーストを充填
し、その両端に銅めっきを施すことによりブラインドホ
ールとする方法(銅めっきスルーホール基板)が特開平
5−129781号公報に提案されている。この方法
は、スルーホール部が貫通孔とならず平滑でスルーホー
ル上に部品パッドが形成できるため配線密度の向上に大
きく寄与することができる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の方法で
は銅めっきを2回行う必要があるため、コストアップに
なるという課題がある。そのため高密度、高精度化を達
成するためのコストパフォーマンスに優れた工法ならび
に導電性ペーストが強く要望されていた。
【0005】本発明は前記従来の課題を解決するため充
填性、導電性およびコスト力に優れた導電性ペーストお
よびその製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に本発明の導電性ペーストは、バインダに導電性粒子と
して粒径が1.0〜2.5μmの球状銅粉と20〜40
μmの球状銅粉を混練して構成したものである。
【0007】
【作用】前記した本発明の構成によれば、充填が容易で
かつ導電性の高いペーストが得られる。この銅ペースト
を用いることにより、スルーホール内に銅めっきを施す
必要がないため、コスト力のある信頼性の高いプリント
配線板(銅ペーストスルーホール基板)を実現できる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
【0009】導電性ペーストとして価格の安定性、優れ
た電気的特性の材料として銅粉が注目されている。ペー
スト材料としての銅粉に要求される特性としては、適度
な粒度分布を持つ微粉(通常〜3μm以下)であるこ
と、分散性に優れていること、相互接触しやすい形状
(粒状が好ましい)であること、耐酸化性があり高純度
であることなどが特公平5−57324号公報に記載さ
れている。この中で平均粒径0.97μm〜1.82μ
mの銅粉の製造法が記載されている。本発明は単一粒子
径の銅粉を用いるのではなく、限定された小粒径の銅粉
に対して限定された大粒径の銅粉を限定量添加し粒度分
布を広げることによりはじめて、スルーホール内に充填
が容易でかつ導電性に優れた特性を示す導電性ペースト
が得られることを見いだしたことに基づくものである。
【0010】前記構成においては、小粒径の球状銅粉と
しては1.0〜2.5μm、大粒径の球状銅粉としては
20〜40μmであることが好ましい。大粒径の球状銅
粉の添加量は小粒径銅粉に対して0.5〜0.6重量%
であることが好ましい。
【0011】粒径が1μm未満であれば混練分散が難し
く、2.6μm以上であれば最密充填が達成しにくい。
大粒径の銅粉の添加量は0.5重量%未満であれば導電
性向上効果が見られない。逆に0.7重量%以上であれ
ば塗膜の表面粗度が大きくなりスルーホール内への充填
が困難になる。
【0012】本発明の導電性ペーストの製造方法は、小
粒径の球状銅粉とバインダを混練分散した後、大粒径の
球状銅粉を添加分散することを特徴とする。このことに
より最適な粒度分布を保持することが可能となる。
【0013】前記構成においては、バインダとしては硬
化収縮が小さいという点からエポキシ樹脂が好ましい。
【0014】以下、具体的な実施例を比較例とともに説
明する。 (実施例1)以下、本発明の実施例1を図1に基づいて
説明する。図1は実施例1の銅ペーストスルーホール基
板の模式断面図であり、1は銅ペースト、2は銅箔、3
は銅めっき、4は基材、5はスルーホールである。銅箔
2の厚さは18μm、銅めっき3の厚さは15μm、基
材4の厚みは0.2mmで、材質はガラスエポキシであ
る。スルーホール5の直径は0.35mmである。銅ペ
ースト1は次のようにして作製した。平均粒径2μmの
球状銅粉100重量部とエポキシ樹脂(エピコート82
8 油化シェルエポキシ社製)11重量部をニーダー及
び三本ロールを使用して十分に混練分散する。次に、平
均粒径25μmの球状銅粉0.57重量部を添加して三
本ロールで混練分散する。
【0015】更に、硬化剤(アミキュアPN−23 味
の素(株)製)を5.5重量部添加し、ニーダー混練し
て銅ペースト1を得た。得られた銅ペースト1をスルー
ホール5に充填、硬化した。研磨後、銅箔2及びスルー
ホール5上に銅めっき層を形成した。スルーホール抵抗
値は1mΩ/穴であった。
【0016】(比較例1)実施例1において、平均粒径
25μmの球状銅粉を添加せずに平均粒径2μmの球状
銅粉のみを100.57重量部使用する以外は同様にし
てスルーホール基板を作製した。スルーホール抵抗値は
1.8mΩ/穴であった。
【0017】(比較例2)実施例1において、平均粒径
2μmの球状銅粉の代わりに平均粒径4μmの球状銅粉
100重量部使用する以外は同様にしてスルーホール基
板を作製した。
【0018】スルーホール抵抗値は2.5mΩ/穴であ
った。 (比較例3)実施例1において、平均粒径25μmの球
状銅粉を1重量部添加する以外は同様にしてスルーホー
ル基板を作製した。スルーホール抵抗値は2.3mΩ/
穴であった。
【0019】(比較例4)実施例1において、エポキシ
樹脂の代わりにフェノール樹脂と硬化剤の系で16.5
重量部を使用する以外は同様にしてスルーホール基板を
作製した。この場合はフェノール樹脂の硬化収縮がエポ
キシ樹脂に比べて大きいため、均一な充填を行うために
はフェノール樹脂含有銅ペーストによる充填は2回必要
であった。スルーホール抵抗値は0.8mΩ/穴であっ
た。
【0020】(比較例5)実施例1において、平均粒径
25μmの球状銅粉と平均粒径2μmの球状銅粉を同時
にエポキシ樹脂と混練分散する以外は同様にしてスルー
ホール基板を作製した。スルーホール抵抗値は1.6m
Ω/穴であった。
【0021】(実施例2)実施例1において、平均粒径
1.5μmの球状銅粉を100重量部、平均粒径35μ
mの球状銅粉を0.5重量部使用する以外は同様にして
スルーホール基板を作製した。スルーホール抵抗値は
1.1mΩ/穴であった。
【0022】以上の実施例と比較例から明らかな通り、
本発明の銅粉の粒子設計、バインダ設計、分散法を用い
ることによりスルーホール抵抗値を小さくすることが可
能となる。さらにエポキシ樹脂を採用することにより、
充填が1回で完了するという長所も有している。
【0023】そして、スルーホール内への充填性が優れ
ているため各種信頼性試験、熱衝撃試験(125℃、3
0分←→−65℃、30分)100サイクル、耐湿試験
(55℃、95%RH)1000時間、高温保存(10
0℃)1000時間、低温保存(−55℃)1000時
間において問題はなかった。
【0024】
【発明の効果】本発明によれば、銅めっき工程を1回に
減らすことが可能となるためコスト力のある高信頼性、
高密度プリント配線板を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1の銅ペーストスルーホール基
板の模式断面図
【符号の説明】
1 銅ペースト 2 銅箔 3 銅めっき 4 基材 5 スルーホール

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 バインダに導電性粒子として粒径が1.
    0〜2.5μmの球状銅粉と20〜40μmの球状銅粉
    を混練して構成した導電性ペースト。
  2. 【請求項2】 粒径が1.0〜2.5μmの球状銅粉に
    対して20〜40μmの球状銅粉を0.5〜0.6重量
    %使用する請求項1記載の導電性ペースト。
  3. 【請求項3】 バインダとしてエポキシ樹脂を使用する
    請求項1記載の導電性ペースト。
  4. 【請求項4】 粒径が1.0〜2.5μmの球状銅粉と
    エポキシ樹脂を混練分散した後、20〜40μmの球状
    銅粉を添加分散する導電性ペーストの製造方法。
JP8223695A 1995-04-07 1995-04-07 導電性ペーストおよびその製造方法 Pending JPH08279665A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004066316A1 (ja) * 2003-01-23 2004-08-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 導電性ペースト及びその製造方法並びにその導電性ペーストを用いた回路基板及びその製造方法
CN100405505C (zh) * 2003-01-23 2008-07-23 松下电器产业株式会社 导电糊及其制造方法以及使用了该导电糊的电路基板及其制造方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004066316A1 (ja) * 2003-01-23 2004-08-05 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 導電性ペースト及びその製造方法並びにその導電性ペーストを用いた回路基板及びその製造方法
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