JPH08269070A

JPH08269070A - 有機含ケイ素化合物の製造方法

Info

Publication number: JPH08269070A
Application number: JP7100743A
Authority: JP
Inventors: Masao Takei; 正雄武井; Kaoru Kimura; 馨木村
Original assignee: Toagosei Co Ltd
Current assignee: Toagosei Co Ltd
Priority date: 1995-03-31
Filing date: 1995-03-31
Publication date: 1996-10-15

Abstract

(57)【要約】【構成】末端二重結合を有する不飽和炭化水素および
一般式（１）で示されるヒドロシラン化合物を、第８族
金属触媒を用いて反応させて有機含ケイ素化合物を製造
するに当たり、反応を酸素存在雰囲気で行うことを特徴
とする有機含ケイ素化合物の製造方法。Ｈ_aＳｉＲ_bＸ_4-(a+b) …（１）【効果】本発明の製造方法によれば、触媒活性が高く
なり、短時間で有機含ケイ素化合物を製造することがで
きる。このため、吸水防止剤、撥水・撥油剤等の原料と
して工業的に有用な有機含ケイ素化合物の生産性が向上
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は有機含ケイ素化合物の製
造方法に関し、さらに詳しくは少なくとも１つ以上の末
端二重結合を有する不飽和炭化水素と一般式（１）で示
されるヒドロシラン化合物とを反応させる有機含ケイ素
化合物の製造方法に関する。本発明により、吸水防止
剤、撥水・撥油剤等の原料といった広い分野で有用な有
機含ケイ素化合物を、短い反応時間で製造することがで
きる。

【０００２】

【従来の技術】有機含ケイ素化合物は、従来、トリクロ
ロシランまたはメチルジクロロシラン等のクロロシラン
化合物と、末端二重結合を有する不飽和炭化水素とを、
第８族金属触媒を用いて反応させ、次いでアルコール類
またはフェノール類と反応させるという２段階の反応で
製造されていた。

【０００３】一方近年、アルコール類またはフェノール
類と金属ケイ素との直接反応で、アルコキシシラン化合
物またはアリールオキシシラン化合物が工業的に製造さ
れるようになった。そこで、アルコキシシラン化合物ま
たはアリールオキシシラン化合物を原料として用い、こ
れと末端二重結合を有する不飽和炭化水素とを反応させ
て有機含ケイ素化合物を製造する方法が検討されてきて
おり、この製法は前記クロロシラン化合物を出発原料と
する製造方法に比べて製造工程数を減らせるという利点
を有している。

【０００４】しかしながら、上記アルコキシシラン化合
物またはアリールオキシシラン化合物を出発原料とし末
端二重結合を有する不飽和炭化水素と反応させる方法
は、従来のクロロシラン化合物と末端二重結合を有する
不飽和炭化水素とを反応させる場合に比べ、付加反応の
速度が遅いという問題点を有している。反応時間を短く
するためには触媒量を増やさなければならず、経済的に
不利であった。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な従来技術に伴う問題点を解決し、反応時間が短く、生
産性に優れた有機含ケイ素化合物の製造方法を提供する
ものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、前記課題
を解決すべく鋭意研究した結果、本発明を完成させるに
至った。即ち本発明は、末端二重結合を有する不飽和炭
化水素および下記一般式（１）で示されるヒドロシラン
化合物を、第８族金属触媒を用いて反応させて有機含ケ
イ素化合物を製造するに当たり、反応を酸素存在雰囲気
で行うことを特徴とする有機含ケイ素化合物の製造方法
である。Ｈ_aＳｉＲ_bＸ_4-(a+b) …（１）（式中、Ｒはアルキル基、シクロアルキル基またはアリ
ール基を表し、Ｘはアルコキシ基またはアリールオキシ
基を表し、ａは１または２であり、ｂは０、１または２
であり、かつａ＋ｂは３以下である。）

【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。本発明で
用いるヒドロシラン化合物は、前記一般式（１）で示さ
れる化合物である。なお、この化合物においてＲまたは
Ｘが２つ以上あるときは、同じでも異なっていてもよ
い。

【０００８】この一般式（１）で示される化合物の具体
例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラ
ン、トリプロポキシシラン、メチルジメトキシシラン、
エチルジメトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジ
エチルエトキシシラン、トリフェノキシシラン、フェニ
ルジメトキシシラン、ジフェニルエトキシシラン、シク
ロヘキシルジメトキシシラン、ジメトキシジヒドロシラ
ン、ジエトキシジヒドロシラン、ジプロポキシジヒドロ
シラン、メチルメトキシジヒドロシランおよびエチルエ
トキシジヒドロシラン等が挙げられる。好ましいヒドロ
シラン化合物としては、最終的に生成する有機含ケイ素
化合物の安定性および取り扱いの容易さ等の理由からト
リメトキシシランまたはトリエトキシシラン等のトリア
ルコキシシランを挙げることができる。

【０００９】一方、本発明に用いる少なくとも１つ以上
の末端二重結合を有する不飽和炭化水素の具体例として
は、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−
ノネン、１−デセン、１−ウンデセン、１−ドデセン、
３−メチル−１−ブテン、３−メチル−１−ペンテン、
４−メチル−１−ペンテン、３−メチル−１−ヘキセ
ン、１，３−ブタジエン、３−メチル−１，２−ブタジ
エン、１，４−ペンタジエン、１，５−ヘキサジエン、
１，３−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，６
−ヘプタジエン、３−メチル−１，５−ヘキサジエン、
１，３，５−ヘキサトリエンおよびスチレン等を挙げる
ことができる。

【００１０】本発明で用いる第８族金属触媒としては、
コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウ
ム、イリジウムまたは白金等の第８族金属の単体、有機
金属錯体、金属塩または金属酸化物が挙げられる。この
うち触媒活性の高さや取り扱いの容易さ等の理由から、
白金の金属単体、有機金属錯体、金属塩または金属酸化
物が好ましく、さらに好ましくは有機白金錯体である。

【００１１】本発明において第８族金属触媒の使用量は
特に限定されないが、ヒドロシラン化合物１モルに対
し、好ましい触媒量は第８族金属に換算して１０^-2〜１
０^-8モルであり、さらに好ましくは１０^-4〜１０^-7モル
である。触媒量が１０^-8モル未満では反応時間が長くか
かり、１０^-2モルを超えて使用すると逆に反応速度が速
すぎ発熱等のため反応制御が困難になる恐れがある。

【００１２】ヒドロシラン化合物は水分により容易に分
解を起こすので、反応は水分が存在しないように乾燥し
た雰囲気中で行われ、雰囲気としては窒素またはアルゴ
ン等の不活性ガス雰囲気が従来採用されていた。これに
対して本発明者等は、酸素の存在雰囲気で反応を行うと
いう従来全く考えられなかった手段を採用すると、触媒
活性が上がり反応率や反応速度が上昇するという全く予
想外の効果を見出したものである。

【００１３】本発明は、反応を酸素存在雰囲気で行うこ
とを特徴とするものであるが、具体的には、末端二重結
合を有する不飽和炭化水素が液体または溶液の場合に
は、反応器の液相部に酸素を含有した不活性ガスを吹き
込んでも、気相部を酸素存在雰囲気としてもよい。しか
し液相部に吹き込む場合は、不活性ガスに随伴して気相
に移行する原料不飽和炭化水素をトラップする必要があ
るという問題があるので後者の方がより好ましい。ま
た、末端二重結合を有する不飽和炭化水素が気体の場合
は、酸素を含有した不活性ガスと単に混合すればよい。

【００１４】酸素存在雰囲気における酸素濃度は５０ｐ
ｐｍ以上が好ましく、より好ましくは０．１〜３０％で
ある。酸素濃度が５０ｐｐｍ未満では、反応速度が遅く
なり反応時間が長くかかり、また、あまり高濃度にして
も反応速度は一定値以上に増加せず、むしろ安全上好ま
しくない。

【００１５】本発明において、ヒドロシラン化合物およ
び末端二重結合を有する不飽和炭化水素の仕込み割合を
一律の条件に設定することはできないが、ヒドロシラン
化合物の活性水素１当量に対し、末端二重結合を有する
不飽和炭化水素の二重結合が０．５〜２当量になるよう
に仕込むのが好ましく、さらに好ましくは０．８〜１．
５当量である。

【００１６】ヒドロシラン化合物、末端二重結合を有す
る不飽和炭化水素および第８族金属触媒の仕込み方法
は、該不飽和炭化水素が液体または溶液の場合には、ヒ
ドロシラン類と触媒を先に仕込み、末端二重結合を有す
る不飽和炭化水素を滴下しても良いし、末端二重結合を
有する不飽和炭化水素と触媒を先に仕込み、ヒドロシラ
ン類を滴下しても良い。さらにこれら３種類を一括で仕
込む方法、これら３種類を同時に滴下する仕込み方法お
よび１種類を先に仕込み、残り２種類の混合物を滴下す
る方法も挙げられる。該不飽和炭化水素が常温気体の場
合には、これを溶剤に溶解しかつ反応を加圧下で行う等
の手段を取ることにより、液体または溶液の場合と同様
に他の成分と接触、反応させることができる。

【００１７】本発明においては反応熱の除去や濃度調整
のために、ベンゼン、トルエンまたはキシレン等の芳香
族炭化水素のような触媒金属と配位しない溶媒を用いて
も良い。

【００１８】反応温度および反応時間は、用いるヒドロ
シラン化合物の種類、末端二重結合を有する不飽和炭化
水素の種類および触媒量によって異なるので一律に設定
することはできないが、通常、室温〜１５０℃の温度で
０．５〜２４時間、好ましくは４０〜１００℃の温度で
１〜１２時間反応させるのが好ましい。反応は、常圧下
または加圧下のいずれの条件でも実施できる。

【００１９】

【実施例】以下、実施例および比較例を挙げて本発明を
より具体的に説明する。（実施例１）１００ｍｌガラス製４つ口フラスコに温度
計、冷却器、滴下ロート並びに酸素５％および窒素９５
％の混合ガス（以下「５％ＯＮ」と称する。）の導入管
を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で５％ＯＮ
を流した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内
にトリエトキシシラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）お
よび０．０５Ｍ−Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏのベンゾニ
トリル溶液３５．６マイクロリットルを仕込み、スター
ラーチップを用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃に
なった後、１−ヘキセン１５ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆ
っくりと滴下した。滴下開始と同時に内温が上昇し始め
たため、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０
±３℃に保ち、１時間反応させた。反応終了後、ガスク
ロマトグラフィー分析（以下「ガスクロ分析」と称す
る。）したところ、目的物であるヘキシルトリエトキシ
シランの収率は９２．５％（仕込み１−ヘキセン基準）
であった。

【００２０】（実施例２）５％ＯＮの代わりに空気を用
いた以外は、実施例１と同様の条件で反応を行った。実
施例１と同様、滴下開始と同時に内温が上昇し始めたた
め、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０±３
℃に保ち１時間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析
したところ、目的物であるヘキシルトリエトキシシラン
の収率は９３．２％（仕込み１−ヘキセン基準）であっ
た。

【００２１】（比較例１）５％ＯＮの代わりに窒素（酸
素を不純分として１５ｐｐｍ含む。）を用いた以外は、
実施例１と同様の条件で反応を行った。実施例１と異な
り、滴下を開始しても内温の上昇は認められず、内温を
６０±３℃に保ち６時間反応させた。反応終了後、ガス
クロ分析したところ、目的物であるヘキシルトリエトキ
シシランの収率は３５．０％（仕込み１−ヘキセン基
準）であった。

【００２２】（実施例３）５％ＯＮの代わりにアルゴン
（酸素を不純分として１００ｐｐｍ含む。）を用いた以
外は、実施例１と同様の条件で反応を行った。実施例１
と異なり、滴下を開始しても内温の上昇は認められず、
内温を６０±３℃に保ち６時間反応させた。反応終了
後、ガスクロ分析したところ、目的物であるヘキシルト
リエトキシシランの収率は４７．１％（仕込み１−ヘキ
セン基準）であった。

【００２３】（実施例４）１００ｍｌガラス製４つ口フ
ラスコ、温度計、冷却器および滴下ロートを乾燥し、空
気中で放冷後そのまま組立、フラスコ内にトリエトキシ
シラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）および０．０５Ｍ
−Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏのベンゾニトリル溶液３
５．６マイクロリットルを仕込み、スターラーチップを
用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃になった後、１
−ヘキセン１５ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆっくりと滴下
した。滴下開始と同時に内温が上昇し始めたため、加熱
をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０±３℃に保ち
２時間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析したとこ
ろ、目的物であるヘキシルトリエトキシシランの収率は
９１．６％（仕込み１−ヘキセン基準）であった。

【００２４】（実施例５）１００ｍｌガラス製４つ口フ
ラスコに温度計、冷却器、滴下ロートおよび空気導入管
を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で空気を流
した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内にト
リエトキシシラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）および
０．０５Ｍ−Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏのベンゾニトリ
ル溶液３．６マイクロリットルを仕込み、スターラーチ
ップを用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃になった
後、１−ヘキセン１５ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆっくり
と滴下した。滴下開始と同時に内温が上昇し始めたた
め、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０±３
℃に保ち３時間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析
したところ、目的物であるヘキシルトリエトキシシラン
の収率は９２．７％（仕込み１−ヘキセン基準）であっ
た。

【００２５】（実施例６）１００ｍｌガラス製４つ口フ
ラスコに温度計、冷却器、滴下ロートおよび空気導入管
を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で空気を流
した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内にト
リエトキシシラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）および
０．０５Ｍ−Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏのイソプロパノ
ール溶液３５．６マイクロリットルを仕込みスターラー
チップを用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃になっ
た後、１−ヘキセン１５ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆっく
りと滴下した。滴下開始と同時に内温が上昇し始めたた
め、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０±３
℃に保ち１時間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析
したところ、目的物であるヘキシルトリエトキシシラン
の収率は８８．８％（仕込み１−ヘキセン基準）であっ
た。

【００２６】（比較例２）空気の代わりに比較例１で用
いた窒素を使用した以外は、実施例６と同様の条件で反
応を行った。実施例６と異なり、滴下を開始しても内温
の上昇は認められず、内温を６０±３℃に保ち６時間反
応させた。反応終了後、ガスクロ分析したところ、目的
物であるヘキシルトリエトキシシランの収率は３１．２
％（仕込み１−ヘキセン基準）であった。

【００２７】（実施例７）１００ｍｌガラス製４つ口フ
ラスコに温度計、冷却器、滴下ロートおよび空気導入管
を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で空気を流
した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内にト
リエトキシシラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）および
０．０５Ｍ−ＰｔＣｌ₂（Ｃ₆Ｈ₅ＣＮ）₂のベンゾニ
トリル溶液３５．６マイクロリットルを仕込み、スター
ラーチップを用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃に
なった後、１−ヘキセン１５ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆ
っくりと滴下した。滴下開始と同時に内温が上昇し始め
たため、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０
±３℃に保ち１時間反応させた。反応終了後、ガスクロ
分析したところ、目的物であるヘキシルトリエトキシシ
ランの収率は９１．８％（仕込み１−ヘキセン基準）で
あった。

【００２８】（比較例３）空気の代わりに比較例１で用
いた窒素を用いた以外は、実施例７と同様の条件で反応
を行った。実施例７と異なり、滴下を開始しても内温の
上昇は認められず、内温を６０±３℃に保ち５時間反応
させた。反応終了後、ガスクロ分析したところ、目的物
であるヘキシルトリエトキシシランの収率は８４．９％
（仕込み１−ヘキセン基準）であった。

【００２９】（実施例８）１００ｍｌガラス製４つ口フ
ラスコに温度計、冷却器、滴下ロートおよび空気導入管
を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で空気を流
した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内にト
リエトキシシラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）および
０．０２５Ｍ−Ｐｔ（ＰＰｈ₃）₄のトルエン溶液７
１．２マイクロリットルを仕込み、スターラーチップを
用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃になった後、１
−ヘキセン１５ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆっくりと滴下
した。滴下開始と同時に内温が上昇し始めたため、加熱
をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０±３℃に保ち
１時間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析したとこ
ろ、目的物であるヘキシルトリエトキシシランの収率は
９０．８％（仕込み１−ヘキセン基準）であった。

【００３０】（比較例４）空気の代わりに比較例１で使
用した窒素を用いた以外は、実施例８と同様の条件で反
応を行った。実施例８と異なり、滴下を開始しても内温
の上昇は認められず、内温を６０±３℃に保ち５時間反
応させた。反応終了後、ガスクロ分析したところ、目的
物であるヘキシルトリエトキシシランの収率は３０．５
％（仕込み１−ヘキセン基準）であった。

【００３１】（実施例９）１００ｍｌガラス製４つ口フ
ラスコに温度計、冷却器、滴下ロートおよび空気導入管
を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で空気を流
した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内にト
リメトキシシラン２０．６ｇ（０．１７ｍｏｌ）および
０．０５Ｍ−Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏのベンゾニトリ
ル溶液３５．６マイクロリットルを仕込み、スターラー
チップを用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃になっ
た後、１−ヘキセン１５ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆっく
りと滴下した。滴下開始と同時に内温が上昇し始めたた
め、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０±３
℃に保ち２時間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析
したところ、目的物であるヘキシルトリメトキシシラン
の収率は７５．９％（仕込み１−ヘキセン基準）であっ
た。

【００３２】（比較例５）空気の代わりに比較例１で使
用した窒素を用いた以外は、実施例９と同様の条件で反
応を行った。実施例９と異なり、滴下を開始しても内温
の上昇は認められず、内温を６０±３℃に保ち２時間反
応させた。反応終了後、ガスクロ分析したところ、目的
物であるヘキシルトリメトキシシランの収率は３．２％
（仕込み１−ヘキセン基準）であった。

【００３３】（実施例１０）１００ｍｌガラス製４つ口
フラスコに温度計、冷却器、滴下ロートおよび空気導入
管を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で空気を
流した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内に
トリエトキシシラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）およ
び０．０５Ｍ−Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏのベンゾニト
リル溶液３．６マイクロリットルを仕込み、スターラー
チップを用いて加熱撹拌を行った。内温が５５℃になっ
た後、１−オクテン２０ｇ（０．１８ｍｏｌ）をゆっく
りと滴下した。滴下開始と同時に内温が上昇し始めたた
め、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温を６０±３
℃に保ち３時間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析
したところ、目的物であるオクチルトリエトキシシラン
の収率は８８．９％（仕込み１−オクテン基準）であっ
た。

【００３４】（比較例６）空気の代わりに比較例１で使
用した窒素を用いた以外は、実施例１０と同様の条件で
反応を行った。実施例１０と異なり、滴下を開始しても
内温の上昇は認められず、内温を６０±３℃に保ち３時
間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析したところ、
目的物であるオクチルトリエトキシシランの収率は１
０．３％（仕込み１−オクテン基準）であった。

【００３５】（実施例１１）１００ｍｌガラス製４つ口
フラスコに温度計、冷却器、滴下ロートおよび空気導入
管を取り付け、１５分間２００ｍｌ／分の流速で空気を
流した。その後流速を２０ｍｌ／分とし、フラスコ内に
トリエトキシシラン２６．４ｇ（０．１６ｍｏｌ）およ
び０．０５Ｍ−Ｈ₂ＰｔＣｌ₆・６Ｈ₂Ｏのベンゾニト
リル溶液３５．６マイクロリットルを仕込み、スターラ
ーチップを用いて加熱撹拌を行った。内温が３０℃にな
った後、１−ペンテン１２．５ｇ（０．１８ｍｏｌ）を
ゆっくりと滴下した。滴下開始と同時に内温がやや上昇
し始めたため、加熱をやめ、冷風にて冷却しながら内温
を３５±３℃に保ち４時間反応させた。反応終了後、ガ
スクロ分析したところ、目的物であるペンチルトリエト
キシシランの収率は７５．５％（仕込み１−ペンテン基
準）であった。

【００３６】（比較例７）空気の代わりに比較例１で使
用した窒素を用いた以外は、実施例１１と同様の条件で
反応を行った。実施例１１と異なり、滴下を開始しても
内温の上昇は認められず、内温を３５±３℃に保ち４時
間反応させた。反応終了後、ガスクロ分析したところ、
目的物であるペンチルトリエトキシシランの収率は１
１．２％（仕込み１−ペンテン基準）であった。

【００３７】

【発明の効果】本発明の有機含ケイ素化合物の製造方法
は、ヒドロシラン類と末端二重結合を有する不飽和炭化
水素化合物とを、第８族金属触媒を用いて付加反応させ
る際、酸素存在の雰囲気で反応させることを特徴とする
もので、触媒活性を高め、付加反応時間を短くすること
ができる。このため、吸水防止剤、撥水・撥油剤等の原
料として工業的に有用な有機含ケイ素化合物の生産性を
高めることができ、その工業的価値は著しく大きいもの
である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｆ 7/04 Ｃ０７Ｆ 7/04 Ｈ // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】末端二重結合を有する不飽和炭化水素お
よび一般式（１）で示されるヒドロシラン化合物を、第
８族金属触媒を用いて反応させて有機含ケイ素化合物を
製造するに当たり、反応を酸素存在雰囲気で行うことを
特徴とする有機含ケイ素化合物の製造方法。Ｈ_aＳｉＲ_bＸ_4-(a+b) …（１）（式中、Ｒはアルキル基、シクロアルキル基またはアリ
ール基を表し、Ｘはアルコキシ基またはアリールオキシ
基を表し、ａは１または２であり、ｂは０、１または２
であり、かつａ＋ｂは３以下である。）
【請求項２】一般式（１）で示されるヒドロシラン化
合物がトリアルコキシシランであることを特徴とする請
求項１の有機含ケイ素化合物の製造方法。