JP2002265474A - イミド化合物を触媒として用いた有機化合物の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機
化合物から、ヒドロキシル基とともにシリル基を有する
有機化合物を製造できる方法を提供する。 【解決手段】 ヒドロキシル基とともにシリル基を有す
る有機化合物の製造方法は、下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を含む触媒の存在
下、（Ａ）非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機
化合物と、（Ｂ）シリルラジカルを生成可能なシラン系
化合物と、（Ｃ）酸素とを反応させて、対応するヒドロ
キシル基及びシリル基を有する有機化合物を得ることを
特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｎ−ヒドロキシフ
タルイミドなどのイミド化合物を触媒として用いて、ヒ
ドロキシル基とともにシリル基を有する有機化合物を製
造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機ケイ素化合物は、合成材料の中間体
として重要な化合物であり、様々な合成方法が開発され
ている。なかでもアルケンのヒドロキシシリル化反応
は、炭素−ケイ素結合の形成として最も代表的な方法で
あり、広く検討されている。このようなヒドロキシル基
とともに、シリル基を有する有機化合物を、温和な条件
下であっても効率よく製造することができる方法が求め
られている。

【０００３】また、Ｎ−ヒドロキシフタルイミド等のイ
ミド化合物は、分子状酸素による酸化、カルボキシル
化、ニトロ化、スルホン化、炭素−炭素結合生成反応
（アシル化、ラジカルカップリング反応等）などの諸反
応を温和な条件下で円滑に進行させる触媒として注目さ
れている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記イ
ミド化合物を触媒とし、非芳香族性炭素−炭素二重結合
を有する有機化合物を用いて、ヒドロキシシリル化反応
を行う方法は知られていない。

【０００５】従って、本発明の目的は、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミドなどのイミド化合物触媒を用いて、非芳香
族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物から、ヒド
ロキシル基とともにシリル基を有する有機化合物を製造
できる方法を提供することにある。本発明の他の目的
は、温和な条件下であっても、効率よく、オレフィンか
らヒドロキシル基とともにシリル基を有する有機化合物
を製造できる方法を提供することにある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記目的
を達成するために鋭意検討した結果、イミド化合物触媒
を用いて、非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機
化合物を、特定のシラン系化合物と酸素と反応させる
と、温和な条件下であっても効率よく、ヒドロキシル基
とともにシリル基を有する有機化合物を製造できること
を見出し、本発明を完成させた。

【０００７】すなわち、本発明は、下記式（Ｉ）

【化５】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
状イミド骨格を有するイミド化合物を含む触媒の存在
下、（Ａ）非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機
化合物と、（Ｂ）シリルラジカルを生成可能なシラン系
化合物と、（Ｃ）酸素とを反応させて、対応するヒドロ
キシル基及びシリル基を有する有機化合物を得ることを
特徴とする有機化合物の製造方法を提供する。

【０００８】前記非芳香族性炭素−炭素二重結合を有す
る有機化合物（Ａ）には、下記式（２）で表されるオレ
フィンが含まれる。

【化６】 （式（２）中、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c、Ｒ^dは、同一又は異なっ
て、それぞれ、水素原子又は有機基を示す。Ｒ^a、Ｒ^b、
Ｒ^c、Ｒ^dのうち少なくとも２つは、互いに結合して、隣
接する炭素原子又は炭素−炭素二重結合とともに環を形
成していてもよい）

【０００９】また、前記シリルラジカルを生成可能なシ
ラン系化合物（Ｂ）としては、下記式（３）で表される
シラン系化合物を用いることができる。

【化７】 （式（３）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または置換
若しくは無置換シリル基を示す。Ｒ^e、Ｒ^f、Ｒ^gは、同
一又は異なって、それぞれ、水素原子、有機基または置
換若しくは無置換シリル基を示す）

【００１０】

【発明の実施の形態】［イミド化合物］本発明では、触
媒として、前記式（Ｉ）で表される環状イミド骨格を有
するイミド化合物を用いている。すなわち、イミド化合
物の使用量は触媒量である。

【００１１】式（Ｉ）において、窒素原子とＸとの結合
は単結合又は二重結合である。前記イミド化合物は、分
子中に、式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨格を
複数個有していてもよい。また、このイミド化合物は、
前記Ｘが−ＯＲ基であり且つＲがヒドロキシル基の保護
基である場合、Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く
部分（Ｎ−オキシ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介し
て結合していてもよい。

【００１２】式（Ｉ）中、Ｒで示されるヒドロキシル基
の保護基としては、有機合成の分野で慣用のヒドロキシ
ル基の保護基を用いることができる。このような保護基
として、例えば、アルキル基（例えば、メチル、ｔ−ブ
チル基などのＣ_1-4アルキル基など）、アルケニル基
（例えば、アリル基など）、シクロアルキル基（例え
ば、シクロヘキシル基など）、アリール基（例えば、
２，４−ジニトロフェニル基など）、アラルキル基（例
えば、ベンジル、２，６−ジクロロベンジル、３−ブロ
モベンジル、２−ニトロベンジル、トリフェニルメチル
基など）；置換メチル基（例えば、メトキシメチル、メ
チルチオメチル、ベンジルオキシメチル、ｔ−ブトキシ
メチル、２−メトキシエトキシメチル、２，２，２−ト
リクロロエトキシメチル、ビス（２−クロロエトキシ）
メチル、２−（トリメチルシリル）エトキシメチル基な
ど）、置換エチル基（例えば、１−エトキシエチル、１
−メチル−１−メトキシエチル、１−イソプロポキシエ
チル、２，２，２−トリクロロエチル基など）、テトラ
ヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、１−ヒド
ロキシアルキル基（例えば、１−ヒドロキシエチル、１
−ヒドロキシヘキシル、１−ヒドロキシデシル、１−ヒ
ドロキシヘキサデシル、１−ヒドロキシ−１−フェニル
メチル基など）等のヒドロキシル基とアセタール又はヘ
ミアセタール基を形成可能な基など；アシル基（例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、ピバロイル基などのＣ_1-6脂肪
族アシル基；アセトアセチル基；ベンゾイル、ナフトイ
ル基などの芳香族アシル基など）、スルホニル基（メタ
ンスルホニル、エタンスルホニル、トリフルオロメタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホ
ニル、ナフタレンスルホニル基など）、アルコキシカル
ボニル基（例えば、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基などのＣ_1-4アルコ
キシ−カルボニル基など）、アラルキルオキシカルボニ
ル基（例えば、ベンジルオキシカルボニル基、ｐ−メト
キシベンジルオキシカルボニル基など）、置換又は無置
換カルバモイル基（例えば、カルバモイル、メチルカル
バモイル、フェニルカルバモイル基など）、無機酸（硫
酸、硝酸、リン酸、ホウ酸など）からＯＨ基を除した
基、ジアルキルホスフィノチオイル基（例えば、ジメチ
ルホスフィノチオイル基など）、ジアリールホスフィノ
チオイル基（例えば、ジフェニルホスフィノチオイル基
など）、置換シリル基（例えば、トリメチルシリル、ｔ
−ブチルジメチルシリル、トリベンジルシリル、トリフ
ェニルシリル基など）などが挙げられる。

【００１３】また、Ｘが−ＯＲ基である場合において、
Ｎ−置換環状イミド骨格のうちＲを除く部分（Ｎ−オキ
シ環状イミド骨格）が複数個、Ｒを介して結合する場
合、該Ｒとして、例えば、オキサリル、マロニル、スク
シニル、グルタリル、フタロイル、イソフタロイル、テ
レフタロイル基などのポリカルボン酸アシル基；カルボ
ニル基；メチレン、エチリデン、イソプロピリデン、シ
クロペンチリデン、シクロヘキシリデン、ベンジリデン
基などの多価の炭化水素基（特に、２つのヒドロキシル
基とアセタール結合を形成する基）などが挙げられる。

【００１４】Ｒとしては、アルキル基（メチル基など）
以外の保護基がより好ましい。特に好ましいＲには、例
えば、水素原子；ヒドロキシル基とアセタール又はヘミ
アセタール基を形成可能な基；カルボン酸、スルホン
酸、炭酸、カルバミン酸、硫酸、リン酸、ホウ酸などの
酸からＯＨ基を除した基（アシル基、スルホニル基、ア
ルコキシカルボニル基、カルバモイル基等）などの加水
分解により脱離可能な加水分解性保護基が好ましい。

【００１５】前記イミド化合物の代表的な例として、下
記式（１）で表されるイミド化合物が挙げられる。

【００１６】

【化８】 （式（１）中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原
子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す。Ｒ¹及
びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヒド
ロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキ
シカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ¹及びＲ²は互いに
結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の
環を形成してもよい。前記Ｒ¹、Ｒ²、又はＲ¹及びＲ²が
互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しく
は非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−
置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていても
よい）

【００１７】このイミド化合物において、置換基Ｒ¹及
びＲ²のうちハロゲン原子には、ヨウ素、臭素、塩素お
よびフッ素原子が含まれる。アルキル基には、例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イ
ソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチル、ヘキシル、デシル
基などの炭素数１〜１０程度の直鎖状又は分岐鎖状アル
キル基が含まれる。好ましいアルキル基としては、例え
ば、炭素数１〜６程度、特に炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基が挙げられる。

【００１８】アリール基には、フェニル、ナフチル基な
どが含まれ、シクロアルキル基には、シクロペンチル、
シクロヘキシル基などが含まれる。アルコキシ基には、
例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロポキシ、ブトキ
シ、ｔ−ブトキシ、ヘキシルオキシ基などの炭素数１〜
１０程度、好ましくは炭素数１〜６程度、特に炭素数１
〜４程度の低級アルコキシ基が含まれる。

【００１９】アルコキシカルボニル基には、例えば、メ
トキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポキ
シカルボニル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカル
ボニル、ヘキシルオキシカルボニル基などのアルコキシ
部分の炭素数が１〜１０程度のアルコキシカルボニル基
が含まれる。好ましいカルボニル基にはアルコキシ部分
の炭素数が１〜６程度、特に１〜４程度の低級アルコキ
シカルボニル基が含まれる。アシル基としては、例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、ピバロイル基な
どの炭素数１〜６程度のアシル基が例示できる。

【００２０】前記置換基Ｒ¹及びＲ²は、同一又は異なっ
ていてもよい。また、前記式（１）において、Ｒ¹及び
Ｒ²は互いに結合して、二重結合、または芳香族性又は
非芳香属性の環を形成してもよい。好ましい芳香族性又
は非芳香族性環は５〜１２員環、特に６〜１０員環程度
であり、複素環又は縮合複素環であってもよいが、炭化
水素環である場合が多い。このような環には、例えば、
非芳香族性脂環式環（シクロヘキサン環などの置換基を
有していてもよいシクロアルカン環、シクロヘキセン環
などの置換基を有していてもよいシクロアルケン環な
ど）、非芳香族性橋かけ環（５−ノルボルネン環などの
置換基を有していてもよい橋かけ式炭化水素環など）、
ベンゼン環、ナフタレン環などの置換基を有していても
よい芳香族環（縮合環を含む）が含まれる。前記環は、
芳香族環で構成される場合が多い。前記環は、アルキル
基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、
カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、
ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子などの置
換基を有していてもよい。

【００２１】前記Ｒ¹、Ｒ²、又はＲ¹及びＲ²が互いに結
合して形成された二重結合又は芳香族性若しくは非芳香
族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−置換環状
イミド基がさらに１又は２個形成されていてもよい。例
えば、Ｒ¹又はＲ²が炭素数２以上のアルキル基である場
合、このアルキル基を構成する隣接する２つの炭素原子
を含んで前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていても
よい。また、Ｒ¹及びＲ²が互いに結合して二重結合を形
成する場合、該二重結合を含んで前記Ｎ−置換環状イミ
ド基が形成されていてもよい。さらに、Ｒ¹及びＲ²が互
いに結合して芳香族性若しくは非芳香族性の環を形成す
る場合、該環を構成する隣接する２つの炭素原子を含ん
で前記Ｎ−置換環状イミド基が形成されていてもよい。

【００２２】好ましいイミド化合物には、下記式で表さ
れる化合物が含まれる。

【化９】 （式中、Ｒ³〜Ｒ⁶は、同一又は異なって、水素原子、ア
ルキル基、ハロアルキル基、ヒドロキシル基、アルコキ
シ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アシ
ル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、ハロゲン原子を
示す。Ｒ³〜Ｒ⁶は、隣接する基同士が互いに結合して芳
香族性又は非芳香族性の環を形成していてもよい。式
（1f）中、Ａはメチレン基又は酸素原子を示す。Ｒ¹、
Ｒ²、Ｘは前記に同じ。式（1c）のベンゼン環には、式
（1c）中に示されるＮ−置換環状イミド基がさらに１又
は２個形成されていてもよい）

【００２３】置換基Ｒ³〜Ｒ⁶において、アルキル基に
は、前記例示のアルキル基と同様のアルキル基、特に炭
素数１〜６程度のアルキル基が含まれ、ハロアルキル基
には、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜４程度の
ハロアルキル基、アルコキシ基には、前記と同様のアル
コキシ基、特に炭素数１〜４程度の低級アルコキシ基、
アルコキシカルボニル基には、前記と同様のアルコキシ
カルボニル基、特にアルコキシ部分の炭素数が１〜４程
度の低級アルコキシカルボニル基が含まれる。また、ア
シル基としては、前記と同様のアシル基、特に炭素数１
〜６程度のアシル基が例示され、ハロゲン原子として
は、フッ素、塩素、臭素原子が例示できる。置換基Ｒ³
〜Ｒ⁶は、通常、水素原子、炭素数１〜４程度の低級ア
ルキル基、カルボキシル基、ニトロ基、ハロゲン原子で
ある場合が多い。Ｒ³〜Ｒ⁶が互いに結合して形成する環
としては、前記Ｒ¹及びＲ²が互いに結合して形成する環
と同様であり、特に芳香族性又は非芳香族性の５〜１２
員環が好ましい。

【００２４】好ましいイミド化合物の代表的な例とし
て、例えば、Ｎ−ヒドロキシコハク酸イミド、Ｎ−ヒド
ロキシマレイン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシヘキサヒドロ
フタル酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシシクロヘキサ
ンテトラカルボン酸イミド、Ｎ−ヒドロキシフタル酸イ
ミド、Ｎ−ヒドロキシテトラブロモフタル酸イミド、Ｎ
−ヒドロキシテトラクロロフタル酸イミド、Ｎ−ヒドロ
キシヘット酸イミド、Ｎ−ヒドロキシハイミック酸イミ
ド、Ｎ−ヒドロキシトリメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ´−
ジヒドロキシピロメリット酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジヒド
ロキシナフタレンテトラカルボン酸イミドなどのＸが−
ＯＲ基で且つＲが水素原子である化合物；Ｎ−アセトキ
シコハク酸イミド、Ｎ−アセトキシマレイン酸イミド、
Ｎ−アセトキシヘキサヒドロフタル酸イミド、Ｎ，Ｎ´
−ジアセトキシシクロヘキサンテトラカルボン酸イミ
ド、Ｎ−アセトキシフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテ
トラブロモフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシテトラクロ
ロフタル酸イミド、Ｎ−アセトキシヘット酸イミド、Ｎ
−アセトキシハイミック酸イミド、Ｎ−アセトキシトリ
メリット酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジアセトキシピロメリッ
ト酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジアセトキシナフタレンテトラ
カルボン酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがアセチ
ル基等のアシル基である化合物；Ｎ−メトキシメチルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（２−メトキシエトキシメチ
ルオキシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲ
がヒドロキシル基とアセタール又はヘミアセタール結合
を形成可能な基である化合物；Ｎ−メタンスルホニルオ
キシフタル酸イミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニルオ
キシ）フタル酸イミドなどのＸが−ＯＲ基で且つＲがス
ルホニル基である化合物；Ｎ−ヒドロキシフタル酸イミ
ドの硫酸エステル、硝酸エステル、リン酸エステル又は
ホウ酸エステルなどのＸが−ＯＲ基で且つＲが無機酸か
らＯＨ基を除した基である化合物などが挙げられる。

【００２５】前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で
且つＲが水素原子である化合物は、慣用のイミド化反
応、例えば、対応する酸無水物とヒドロキシルアミンＮ
Ｈ₂ＯＨとを反応させ、酸無水物基の開環及び閉環を経
てイミド化する方法により調製できる。前記酸無水物に
は、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸などの飽和
又は不飽和脂肪族ジカルボン酸無水物、テトラヒドロ無
水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸（１，２−シク
ロヘキサンジカルボン酸無水物）、１，２，３，４−シ
クロヘキサンテトラカルボン酸１，２−無水物などの飽
和又は不飽和非芳香族性環状多価カルボン酸無水物（脂
環式多価カルボン酸無水物）、無水ヘット酸、無水ハイ
ミック酸などの橋かけ環式多価カルボン酸無水物（脂環
式多価カルボン酸無水物）、無水フタル酸、テトラブロ
モ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、無水ニト
ロフタル酸、無水トリメリット酸、メチルシクロヘキセ
ントリカルボン酸無水物、無水ピロメリット酸、無水メ
リット酸、１，８；４，５−ナフタレンテトラカルボン
酸二無水物などの芳香族多価カルボン酸無水物が含まれ
る。

【００２６】前記イミド化合物のうち、Ｘが−ＯＲ基で
且つＲがヒドロキシル基の保護基である化合物は、対応
するＲが水素原子である化合物（Ｎ−ヒドロキシ環状イ
ミド化合物）に、慣用の保護基導入反応を利用して、所
望の保護基を導入することにより調製することができ
る。例えば、Ｎ−アセトキシフタル酸イミドは、Ｎ−ヒ
ドロキシフタル酸イミドに無水酢酸を反応させたり、塩
基の存在下でアセチルハライドを反応させることにより
得ることができる。

【００２７】特に好ましいイミド化合物は、脂環式多価
カルボン酸無水物又は芳香族多価カルボン酸無水物、な
かでも芳香族多価カルボン酸無水物から誘導されるＮ−
ヒドロキシイミド化合物（例えば、Ｎ−ヒドロキシフタ
ル酸イミド、Ｎ，Ｎ´−ジヒドロキシピロメリット酸イ
ミド）；及び該Ｎ−ヒドロキシイミド化合物のヒドロキ
シル基に保護基を導入することにより得られる化合物な
どが含まれる。

【００２８】式（Ｉ）で表されるＮ−置換環状イミド骨
格を有するイミド化合物は、反応において、単独で又は
２種以上組み合わせて使用できる。前記イミド化合物は
反応系内で生成させてもよい。

【００２９】前記イミド化合物は、担体に担持した形態
で用いてもよい。担体としては、活性炭、ゼオライト、
シリカ、シリカ−アルミナ、ベントナイトなどの多孔質
担体を用いる場合が多い。前記イミド化合物の担体への
担持量は、担体１００重量部に対して、例えば０．１〜
５０重量部、好ましくは０．５〜３０重量部、さらに好
ましくは１〜２０重量部程度である。

【００３０】前記イミド化合物の使用量は、広い範囲で
選択でき、例えば、反応成分（基質）１モルに対して
０．００００００１〜１モル、好ましくは０．００００
１〜０．５モル、さらに好ましくは０．０００１〜０．
４モル程度であり、０．００１〜０．３５モル程度であ
る場合が多い。

【００３１】［助触媒］本発明では、前記イミド化合物
からなる触媒に加えて助触媒を用いることもできる。助
触媒として金属化合物が挙げられる。前記触媒と金属化
合物とを併用することにより反応速度や反応の選択性を
向上させることができる。助触媒は一種又は二種以上組
み合わせて用いることができる。

【００３２】金属化合物を構成する金属元素としては、
特に限定されないが、周期表２〜１５族の金属元素を用
いる場合が多い。なお、本明細書では、ホウ素Ｂも金属
元素に含まれるものとする。例えば、前記金属元素とし
て、周期表２族元素（Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａなど）、
３族元素（Ｓｃ、ランタノイド元素、アクチノイド元素
など）、４族元素（Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆなど）、５族元素
（Ｖなど）、６族元素（Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗなど）、７族元
素（Ｍｎなど）、８族元素（Ｆｅ、Ｒｕなど）、９族元
素（Ｃｏ、Ｒｈなど）、１０族元素（Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ
など）、１１族元素（Ｃｕなど）、１２族元素（Ｚｎな
ど）、１３族元素（Ｂ、Ａｌ、Ｉｎなど）、１４族元素
（Ｓｎ、Ｐｂなど）、１５族元素（Ｓｂ、Ｂｉなど）な
どが挙げられる。好ましい金属元素には、遷移金属元素
（周期表３〜１２族元素）が含まれる。なかでも、周期
表５〜１１族元素、特に５族〜９族元素が好ましく、と
りわけＶ、Ｍｏ、Ｍｎ、Ｃｏなどが好ましい。金属元素
の原子価は特に制限されず、例えば０〜６価程度であ
る。

【００３３】金属化合物としては、前記金属元素の単
体、水酸化物、酸化物（複合酸化物を含む）、ハロゲン
化物（フッ化物、塩化物、臭化物、ヨウ化物）、オキソ
酸塩（例えば、硝酸塩、硫酸塩、リン酸塩、ホウ酸塩、
炭酸塩など）、イソポリ酸の塩、ヘテロポリ酸の塩など
の無機化合物；有機酸塩（例えば、酢酸塩、プロピオン
酸塩、青酸塩、ナフテン酸塩、ステアリン酸塩など）、
錯体などの有機化合物が挙げられる。前記錯体を構成す
る配位子としては、ＯＨ（ヒドロキソ）、アルコキシ
（メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシなど）、
アシル（アセチル、プロピオニルなど）、アルコキシカ
ルボニル（メトキシカルボニル、エトキシカルボニルな
ど）、アセチルアセトナト、シクロペンタジエニル基、
ハロゲン原子（塩素、臭素など）、ＣＯ、ＣＮ、酸素原
子、Ｈ₂Ｏ（アコ）、ホスフィン（トリフェニルホスフ
ィンなどのトリアリールホスフィンなど）のリン化合
物、ＮＨ ₃（アンミン）、ＮＯ、ＮＯ₂（ニトロ）、ＮＯ
₃（ニトラト）、エチレンジアミン、ジエチレントリア
ミン、ピリジン、フェナントロリンなどの窒素含有化合
物などが挙げられる。

【００３４】金属化合物の具体例としては、例えば、コ
バルト化合物を例にとると、水酸化コバルト、酸化コバ
ルト、塩化コバルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、硫
酸コバルト、リン酸コバルトなどの無機化合物；酢酸コ
バルト、ナフテン酸コバルト、ステアリン酸コバルトな
どの有機酸塩；コバルトアセチルアセトナトなどの錯体
等の２価又は３価のコバルト化合物などが挙げられる。
また、バナジウム化合物の例としては、水酸化バナジウ
ム、酸化バナジウム、塩化バナジウム、塩化バナジル、
硫酸バナジウム、硫酸バナジル、バナジン酸ナトリウム
などの無機化合物；バナジウムアセチルアセトナト、バ
ナジルアセチルアセトナトなどの錯体等の２〜５価のバ
ナジウム化合物などが挙げられる。他の金属元素の化合
物としては、前記コバルト又はバナジウム化合物に対応
する化合物などが例示される。金属化合物は単独で又は
２種以上組み合わせて使用できる。

【００３５】前記金属化合物の使用量は、例えば、反応
成分（基質）１モルに対して、０．０００００１〜０．
１モル程度、好ましくは０．００００１〜０．０１モル
程度である。また、前記金属化合物の使用量は、前記イ
ミド化合物１モルに対して、例えば、０．００１〜１０
モル程度、好ましくは０．００５〜３モル程度である。

【００３６】本発明では、また、助触媒として、少なく
とも１つの有機基が結合した周期表１５族又は１６族元
素を含む多原子陽イオン又は多原子陰イオンとカウンタ
ーイオンとで構成された有機塩を用いることもできる。
助触媒として前記有機塩を用いることにより、反応速度
や反応の選択性を向上させることができる。

【００３７】前記有機塩において、周期表１５族元素に
は、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉが含まれる。周期表１６
族元素には、Ｏ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅなどが含まれる。好ま
しい元素としては、Ｎ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｓが挙げら
れ、特に、Ｎ、Ｐ、Ｓなどが好ましい。

【００３８】前記元素の原子に結合する有機基には、置
換基を有していてもよい炭化水素基、置換オキシ基など
が含まれる。炭化水素基としては、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリ
ルなどの炭素数１〜３０程度（好ましくは炭素数１〜２
０程度）の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族炭化水素基（ア
ルキル基、アルケニル基及びアルキニル基）；シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなどの炭素数３〜８程度の脂環
式炭化水素基；フェニル、ナフチルなどの炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基などが挙げられる。炭化水素
基が有していてもよい置換基として、例えば、ハロゲン
原子、オキソ基、ヒドロキシル基、置換オキシ基（例え
ば、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基
など）、カルボキシル基、置換オキシカルボニル基、置
換又は無置換カルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、置
換又は無置換アミノ基、アルキル基（例えば、メチル、
エチル基などのＣ_1-4アルキル基など）、シクロアルキ
ル基、アリール基（例えば、フェニル、ナフチル基な
ど）、複素環基などが例示できる。好ましい炭化水素基
には、炭素数１〜３０程度のアルキル基、炭素数６〜１
４程度の芳香族炭化水素基（特に、フェニル基又はナフ
チル基）などが含まれる。前記置換オキシ基には、アル
コキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基など
が含まれる。

【００３９】前記有機塩の代表的な例として、有機アン
モニウム塩、有機ホスホニウム塩、有機スルホニウム塩
などの有機オニウム塩が挙げられる。有機アンモニウム
塩の具体例としては、テトラメチルアンモニウムクロリ
ド、テトラエチルアンモニウムクロリド、テトラブチル
アンモニウムクロリド、テトラヘキシルアンモニウムク
ロリド、トリオクチルメチルアンモニウムクロリド、ト
リエチルフェニルアンモニウムクロリド、トリブチル
（ヘキサデシル）アンモニウムクロリド、ジ（オクタデ
シル）ジメチルアンモニウムクロリドなどの第４級アン
モニウムクロリド、及び対応する第４級アンモニウムブ
ロミドなどの、窒素原子に４つの炭化水素基が結合した
第４級アンモニウム塩；ジメチルピペリジニウムクロリ
ド、ヘキサデシルピリジニウムクロリド、メチルキノリ
ニウムクロリドなどの環状第４級アンモニウム塩などが
挙げられる。また、有機ホスホニウム塩の具体例として
は、テトラメチルホスホニウムクロリド、テトラブチル
ホスホニウムクロリド、トリブチル（ヘキサデシル）ホ
スホニウムクロリド、トリエチルフェニルホスホニウム
クロリドなどの第４級ホスホニウムクロリド、及び対応
する第４級ホスホニウムブロミドなどの、リン原子に４
つの炭化水素基が結合した第４級ホスホニウム塩などが
挙げられる。有機スルホニウム塩の具体例としては、ト
リエチルスルホニウムイオジド、エチルジフェニルスル
ホニウムイオジドなどの、イオウ原子に３つの炭化水素
基が結合したスルホニウム塩などが挙げられる。

【００４０】また、前記有機塩には、メタンスルホン酸
塩、エタンスルホン酸塩、オクタンスルホン酸塩、ドデ
カンスルホン酸塩などのアルキルスルホン酸塩（例え
ば、Ｃ _1-18アルキルスルホン酸塩）；ベンゼンスルホン
酸塩、ｐ−トルエンスルホン酸塩、ナフタレンスルホン
酸塩、デシルベンゼンスルホン酸塩、ドデシルベンゼン
スルホン酸塩などのアルキル基で置換されていてもよい
アリールスルホン酸塩（例えば、Ｃ_1-18アルキル−アリ
ールスルホン酸塩）；スルホン酸型イオン交換樹脂（イ
オン交換体）；ホスホン酸型イオン交換樹脂（イオン交
換体）なども含まれる。

【００４１】前記有機塩の使用量は、例えば、反応成分
（基質）１モルに対して、０．０００００１〜０．１モ
ル程度、好ましくは０．００００１〜０．０１モル程度
である。また、前記有機塩の使用量は、前記イミド化合
物１モルに対して、例えば、０．００１〜０．１モル程
度、好ましくは０．００５〜０．０８モル程度である。

【００４２】また、本発明の方法では、系内に、ラジカ
ル発生剤やラジカル反応促進剤を存在させてもよい。こ
のような成分として、例えば、ハロゲン（塩素、臭素な
ど）、過酸（過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸など）、過
酸化物（過酸化水素、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド
（ＴＢＨＰ）等のヒドロペルオキシドなど）、ラジカル
開始剤（アゾビスイソブチロニトリルなど）、安息香
酸、ベンズアルデヒドなどが挙げられる。これらの成分
を系内に存在させると、反応が促進される場合がある。
前記成分の使用量は、前記イミド化合物１モルに対し
て、通常０．００１〜０．１モル程度であるが、添加剤
の種類によってはそれ以上用いてもよい。

【００４３】［有機化合物（Ａ）］非芳香族性炭素−炭
素二重結合を有する有機化合物（Ａ）（単に「有機化合
物（Ａ）」と称する場合がある）としては、非芳香族性
炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有する有機化合物
であれば特に制限されない。有機化合物（Ａ）は単独で
又は２種以上組み合わせて使用することができる。な
お、有機化合物（Ａ）は基質として用いることができ
る。

【００４４】前記非芳香族性炭素−炭素二重結合として
は、脂肪族性炭素−炭素二重結合（アルケニル基を構成
する炭素−炭素二重結合）、脂環族性炭素−炭素二重結
合（シクロアルケニル基を構成する炭素−炭素二重結
合）などが挙げられる。

【００４５】前記アルケニル基には、例えば、ビニル
（エテニル）、１−プロペニル、アリル（２−プロペニ
ル）、イソプロペニル（１−メチルビニル；１−メチル
エテニル）、１−ブテニル、２−ブテニル、３−ブテニ
ル、１−ペンテニル、２−ペンテニル、３−ペンテニ
ル、４−ペンテニル、１−ヘキセニル、２−ヘキセニ
ル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニ
ル、６−ヘプテニル、７−オクテニル、８−ノネニル、
９−デセニル基などの直鎖又は分岐鎖状アルケニル基が
挙げられる。また、前記シクロアルケニル基としては、
例えば、シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロ
ヘプテニル、シクロオクテニル基などが挙げられる。な
お、アルケニル基やシクロアルケニル基において、炭素
−炭素二重結合の位置は特に制限されない。アルケニル
基やシクロアルケニル基は、置換基を有していてもよ
い。

【００４６】より具体的には、有機化合物（Ａ）として
は、例えば、下記式（２）で表されるオレフィンなどが
挙げられる。

【化１０】 （式（２）中、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c、Ｒ^dは、同一又は異なっ
て、それぞれ、水素原子又は有機基を示す。Ｒ^a、Ｒ^b、
Ｒ^c、Ｒ^dのうち少なくとも２つは、互いに結合して、隣
接する炭素原子又は炭素−炭素二重結合とともに環を形
成していてもよい）

【００４７】前記式（２）において、有機基としては、
シリルラジカルを生成可能なシラン系化合物（Ｂ）との
反応を阻害しないような有機基（例えば、本発明の方法
における反応条件下で非反応性の有機基）であればよ
く、例えば、炭化水素基、複素環式基、ハロゲン原子、
置換オキシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、ア
リールオキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニ
ル基、シクロアルキルオキシカルボニル基など）、カル
ボキシル基、置換又は無置換カルバモイル基（Ｎ−置換
又は無置換アミド基など）、シアノ基、ニトロ基、硫黄
酸基（スルホン酸基、スルフィン酸基など）、硫黄酸エ
ステル基（スルホン酸エステル基、スルフィン酸エステ
ル基など）、アシル基、アシルオキシ基、ヒドロキシル
基、アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリール
オキシ基、Ｎ−置換又は無置換アミノ基などが挙げられ
る。前記有機基において、カルボキシル基、ヒドロキシ
ル基やアミノ基などは慣用の保護基により保護されてい
てもよい。

【００４８】前記炭化水素基には、脂肪族炭化水素基、
脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基が含まれる。脂肪
族炭化水素基としては、例えば、メチル、エチル、プロ
ピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｓ−ブチ
ル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、デシ
ル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、アリ
ルなどの炭素数１〜２０（好ましくは１〜１０、さらに
好ましくは１〜６）程度の直鎖状又は分岐鎖状の脂肪族
炭化水素基（アルキル基、アルケニル基及びアルキニル
基）などが挙げられる。脂環式炭化水素基としては、例
えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、シクロヘキセニル、シクロオクチ
ル、シクロデシル、シクロドデシル基などの炭素数３〜
２０（好ましくは炭素数３〜１５）程度の脂環式炭化水
素基（シクロアルキル基、シクロアルケニル基等）など
が挙げられる。また、芳香族炭化水素基としては、例え
ば、フェニル、ナフチル基などの炭素数６〜１４程度の
芳香族炭化水素基などが挙げられる。また、炭化水素基
としては、トリフルオロメチル基などの炭素数１〜６程
度（特に、炭素数１〜４程度）のハロアルキル基も用い
ることができる。

【００４９】また、複素環式基を構成する複素環には、
芳香族性複素環及び非芳香族性複素環が含まれる。この
ような複素環としては、例えば、ヘテロ原子として酸素
原子を含む複素環（例えば、フラン、テトラヒドロフラ
ン、オキサゾール、イソオキサゾールなどの５員環、４
−オキソ−４Ｈ−ピラン、テトラヒドロピラン、モルホ
リンなどの６員環、ベンゾフラン、イソベンゾフラン、
４−オキソ−４Ｈ−クロメン、クロマン、イソクロマン
などの縮合環など）、ヘテロ原子としてイオウ原子を含
む複素環（例えば、チオフェン、チアゾール、イソチア
ゾール、チアジアゾールなどの５員環、４−オキソ−４
Ｈ−チオピランなどの６員環、ベンゾチオフェンなどの
縮合環など）、ヘテロ原子として窒素原子を含む複素環
（例えば、ピロール、ピロリジン、ピラゾール、イミダ
ゾール、トリアゾールなどの５員環、ピリジン、ピリダ
ジン、ピリミジン、ピラジン、ピペリジン、ピペラジン
などの６員環、インドール、インドリン、キノリン、ア
クリジン、ナフチリジン、キナゾリン、プリンなどの縮
合環など）などが挙げられる。

【００５０】前記ハロゲン原子にはフッ素、塩素、臭素
及びヨウ素原子などが含まれる。アルコキシカルボニル
基には、例えば、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、イソプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル基な
どのＣ_1-6アルコキシ−カルボニル基などが含まれる。
アリールオキシカルボニル基には、例えば、フェニルオ
キシカルボニル基などが含まれ、アラルキルオキシカル
ボニル基には、例えば、ベンジルオキシカルボニル基な
どが含まれる。また、シクロアルキルオキシカルボニル
基としては、例えば、シクロペンチルオキシカルボニ
ル、シクロヘキシルオキシカルボニル基などが挙げられ
る。

【００５１】また、置換カルバモイル基には、例えば、
Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイ
ル基などが含まれる。スルホン酸エステル基には、スル
ホン酸メチル、スルホン酸エチル基などのスルホン酸Ｃ
_1-4アルキルエステル基などが含まれる。スルフィン酸
エステル基には、スルフィン酸メチル、スルフィン酸エ
チル基などのスルフィン酸Ｃ_1-4アルキルエステル基な
どが含まれる。アシル基としては、例えば、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、イソブチリル基などの脂肪族
アシル基（例えば、Ｃ_2-7脂肪族アシル基など）、ベン
ゾイル基などの芳香族アシル基などが挙げられる。アシ
ルオキシ基としては、アセチルオキシ、プロピオニルオ
キシ、ブチリルオキシ、イソブチリルオキシ基などのＣ
_2-7脂肪族アシルオキシ基などが挙げられる。アルコキ
シ基としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、ブトキシ基などの炭素数１〜６程度のアルコキシ基
などが挙げられる。シクロアルキルオキシ基には、例え
ば、シクロヘキシルオキシ基が含まれる。アリールオキ
シ基としては、例えば、フェニルオキシ基が挙げられ
る。Ｎ−置換アミノ基には、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、ピペリジノ基などが
含まれる。

【００５２】好ましいＲ^a、Ｒ^b、Ｒ^c、Ｒ^dとしては、水
素原子、炭化水素基［例えば、Ｃ_{1- 6}脂肪族炭化水素基
（特にＣ_1-4脂肪族炭化水素基など）、Ｃ_6-14アリール
基（フェニル基など）、シクロアルキル基（３〜８員程
度のシクロアルキル基など）、ハロアルキル基（例え
ば、トリフルオロメチル基などのＣ_1-6ハロアルキル
基、特にＣ_1-4ハロアルキル基）など］、複素環式基、
置換オキシカルボニル基（例えば、Ｃ_1-6アルコキシ−
カルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アラルキ
ルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニ
ル基など）、カルボキシル基、置換又は無置換カルバモ
イル基、アシルオキシ基、シアノ基、ニトロ基、硫黄酸
基、硫黄酸エステル基、アシル基などが含まれる。
Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c、Ｒ^dとして特に好ましい基としては、水
素原子、脂肪族炭化水素基、置換オキシカルボニル基、
カルボキシル基、アシルオキシ基が挙げられる。

【００５３】また、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c、Ｒ^dのうち少なくと
も２つが、互いに結合して形成された環には、例えば、
シクロプロパン、シクロブタン、シクロペンタン、シク
ロペンテン、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロ
オクタン、シクロデカン、シクロドデカン環、デカリン
環、アダマンタン環などの３〜２０員（好ましくは３〜
１５員、さらに好ましくは５〜１５員、特に５〜８員）
程度の非芳香族性炭素環（シクロアルカン環、シクロア
ルケン環、橋かけ炭素環）；インデン環、１，２−ジヒ
ドロナフタレン環などの、シクロアルケン環に芳香族環
（例えば、ベンゼン環など）が縮合した縮合炭化水素
環；テトラヒドロフラン環、オキソラン環などの非芳香
族性複素環などが含まれる。これらの環は、置換基（例
えば、前記炭化水素基が有していてもよい置換基と同様
の基）を有していてもよく、また他の環（非芳香族性環
又は芳香族性環）が縮合していてもよい。

【００５４】なお、前記式（２）における有機基（例え
ば、炭化水素基や複素環式基など）は、置換基を有して
いてもよい。このような置換基としては、例えば、ハロ
ゲン原子（フッ素、塩素、臭素、ヨウ素原子など）、ヒ
ドロキシル基、オキソ基、置換オキシ基（アルコキシ
基、アシルオキシ基など）、カルボキシル基、置換オキ
シカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリールオ
キシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基な
ど）、置換カルバモイル基（モノ又はジアルキル置換カ
ルバモイル基など）、無置換カルバモイル基、置換アミ
ノ基（モノ又はジアルキルアミノ基や環状アミノ基な
ど）、無置換アミノ基、アシル基、シアノ基、ニトロ
基、複素環式基などが挙げられる。これらの置換基は、
保護基により保護されていてもよく、前記保護基として
は、有機合成の分野で慣用の保護基を使用できる。ま
た、これらの置換基は互いに結合して隣接する１又は複
数の炭素原子ととともに環を形成してもよい。

【００５５】より具体的には、有機化合物（Ａ）として
のオレフィン（前記式（２）で表されるオレフィン等）
としては、例えば、脂肪族不飽和炭化水素、脂環式不飽
和炭化水素、α，β−不飽和エステル類、α，β−不飽
和カルボニル化合物（α，β−不飽和ケトン類）、α，
β−不飽和アルデヒド類、α，β−不飽和ニトリル類、
α，β−不飽和カルボン酸類、α，β−不飽和カルボン
酸アミド類、α，β−不飽和イミン類、ビニルエステル
類、ビニルエーテル類、ビニルアルコール類、共役ジエ
ン類（二重結合と三重結合とが共役している化合物も含
む）などが挙げられる。

【００５６】オレフィンにおいて、脂肪族不飽和炭化水
素としては、例えば、エテン、プロペン、１−ブテン、
１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オク
テン、１−オクテン−３−オール、１−ノネン、１−デ
セン、１−ウンデセン、１−ドデセン、１−ヘキサデセ
ン、１−オクタデセン、１，５−ヘキサジエン、１，６
−ヘプタジエン、１，７−オクタジエン、スチレン、ビ
ニルトルエン、α−メチルスチレン、アリルベンゼン、
ビニルシクロヘキサン、アリルシクロヘキサンなどのα
−オレフィン類や、２−ブテン、イソブテン、２−ペン
テン、２，４，４−トリメチル−２−ペンテン、２−ヘ
キセン、２，３−ジメチル−２−ブテン、３−ヘキセ
ン、２−オクテン、３−オクテン、４−オクテン、２−
ノネン、２，６−オクタジエンなどの内部オレフィン類
などが挙げられる。

【００５７】脂環式不飽和炭化水素には、例えば、シク
ロプロペン、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘ
キセン、シクロヘプテン、シクロオクテン、シクロノネ
ン、シクロデセン、シクロウンデセン、シクロドデセ
ン、１，４−シクロヘキサジエン、１，４−シクロヘプ
タジエン、シクロデカジエン、シクロドデカジエン、ノ
ルボルネン、ジシクロペンタジエンなどが含まれる。

【００５８】α，β−不飽和エステル類には、例えば、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチ
ル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸
イソプロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）ア
クリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、
（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキ
シル、（メタ）アクリル酸ヘプチル、（メタ）アクリル
酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、
（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸
ノニル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アク
リル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）
アクリル酸テトラデシル、（メタ）アクリル酸ヘキサデ
シル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アク
リル酸イコシルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエス
テル；（メタ）アクリル酸フェニルなどの（メタ）アク
リル酸アリールエステル；（メタ）アクリル酸シクロヘ
キシルなどの（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステ
ルなどの（メタ）アクリル酸エステルなどが含まれる。
また、（メタ）アクリル酸エステルには、（メタ）アク
リル酸ヒドロキシメチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキ
シエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシプロピルなど
の（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル；
（メタ）アクリル酸グリシジル；（メタ）アクリル酸ジ
メチルアミノエチルも含まれる。さらに、α，β−不飽
和エステル類としては、例えば、クロトン酸メチル、ク
ロトン酸エチルなどのクロトン酸アルキルエステル；３
−メチル−２−ブテン酸メチル、３−メチル−２−ブテ
ン酸エチル、２−ペンテン酸メチル、２−オクテン酸メ
チルなども用いることができる。

【００５９】また、α，β−不飽和カルボニル化合物と
しては、例えば、３−ブテン−２−オン（ビニルメチル
ケトン）、３−メチル−３−ブテン−２−オン、４−ペ
ンテン−３−オン（ビニルエチルケトン）、３−ペンテ
ン−４−オン（メチル−１−プロペニルケトン）、５−
ヘキセン−４−オン、４−メチル−３−ペンテン−２−
オン、４−メチル−４−ペンテン−３−オン、ホロン
（２，６−ジメチル−２，５−ヘプタジエン−４−オ
ン）、２，６−ジメチル−５−ヘプテン−４−オン、１
−アセチル−１−シクロヘキセン、４−フェニル−３−
ブテン−２−オンなどの脂肪族α，β−不飽和カルボニ
ル化合物；２−シクロペンテン−１−オン、２−シクロ
ヘキセン−１−オン、２−（３−メチルシクロヘキセ
ン）−１−オン、２−（３−メチルシクロペンテン）−
１−オン、２−シクロヘプテン−１−オン、２−シクロ
オクテン−１−オンなどの脂環式α，β−不飽和カルボ
ニル化合物などが挙げられる。

【００６０】α，β−不飽和アルデヒド類としては、例
えば、プロペナール、クロトンアルデヒドなどが挙げら
れる。α，β−不飽和ニトリル類には、例えば、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトニルなどが含まれる。α，
β−不飽和カルボン酸類には、例えば、（メタ）アクリ
ル酸、クロトン酸などが含まれる。α，β−不飽和カル
ボン酸アミド類には、例えば、（メタ）アクリルアミド
などが含まれる。α，β−不飽和イミン類には、例え
ば、Ｎ−（２−プロペニリデン）メチルアミン、Ｎ−
（２−ブテニリデン）メチルアミンなどが含まれる。ビ
ニルエステル類には、例えば、酢酸ビニル、プロピオン
酸ビニル、酪酸ビニル、イソ酪酸ビニル、吉草酸ビニル
などが含まれる。ビニルエーテル類には、例えば、メチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビ
ニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビ
ニルエーテルなどが含まれる。ビニルアルコール類に
は、例えば、ビニルアルコール、１−メチルビニルアル
コールなどが含まれる。共役ジエン類（二重結合と三重
結合とが共役している化合物も含む）には、例えば、ブ
タジエン、イソプレン、２−クロロブタジエン、２−エ
チルブタジエン、ビニルアセチレン、シクロペンタジエ
ン誘導体などが含まれる。

【００６１】また、本発明では、有機化合物（Ａ）とし
て、テルペン類を用いることもできる。テルペン類とし
ては、例えば、リモネン（ｄｌ−リモネン）、テルピネ
ン（α−，β−又はγ−テルピネン）、テルピノレン、
フェランドレン（α−又はβ−フェランドレン）、１−
ｐ−メンテン、３−ｐ−メンテン、カルベオール（ｃｉ
ｓ体、ｔｒａｎｓ体）、α−テルピネオール、１−ｐ−
メンテン−４−オール、ピノール＝ヒドラート、ｔｒａ
ｎｓ−ソブレロール、カルベノン、カルボタナセトン、
カルボン、ピペリトン、ジオスフェノール、ピノール、
α−ピネン、２−ボルネン、α−セドレン、バレンセン
などの脂環族性炭素−炭素二重結合（環状の炭素−炭素
二重結合）を有するテルペン系化合物；オシメン、ミル
セン、ジヒドロミルセン、ゲラニオール、シトロネロー
ル、ネロール、リナロオール、シトラール、シトロネラ
ール、フェルネソール、ネロリドール、スクアレン、ジ
ヒドロカルベオール、ｔｒａｎｓ−β−テルピネオー
ル、イソプレゴン、ジヒドロカルボン、β−セリネンな
どの脂肪族性炭素−炭素二重結合（鎖状の炭素−炭素二
重結合）などが挙げられる。

【００６２】［シラン系化合物（Ｂ）］シリルラジカル
を生成可能なシラン系化合物（Ｂ）（単に「シラン系化
合物（Ｂ）」と称する場合がある）としては、シリルラ
ジカルを安定的に生成することができるシラン系化合物
であれば特に制限されない。シラン系化合物（Ｂ）は単
独で又は２種以上組み合わせて使用することができる。

【００６３】シラン系化合物（Ｂ）としては、例えば、
下記式（３）で表されるシラン系化合物などが挙げられ
る。

【化１１】 （式（３）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または置換
若しくは無置換シリル基を示す。Ｒ^e、Ｒ^f、Ｒ^gは、同
一又は異なって、それぞれ、水素原子、有機基または置
換若しくは無置換シリル基を示す）

【００６４】このような式（３）で表されるシラン系化
合物は、基Ｘ（水素原子、ハロゲン原子、置換若しくは
無置換シリル基）が解離して、安定なシリルラジカルを
生成させることができる。なお、このようなシリルラジ
カルは、（Ｒ^eＲ^fＲ^gＳｉ・）として表すことができ
る。

【００６５】前記式（３）において、Ｘのハロゲン原子
としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素原子などが挙
げられる。

【００６６】また、Ｘにおける置換若しくは無置換シリ
ル基としては、下記式（３ａ）で表される置換若しくは
無置換シリル基を用いることができる。

【化１２】 （式（３）中、Ｒ^h、Ｒⁱ、Ｒ^jは、同一又は異なって、
それぞれ、水素原子、有機基または置換若しくは無置換
シリル基を示す）

【００６７】Ｒ^h、Ｒⁱ、Ｒ^jにおける有機基としては、
前記式（２）において例示された有機基、例えば、炭化
水素基（脂肪族炭化水素基、脂環式炭化水素基、芳香族
炭化水素基など）、複素環式基、ハロゲン原子、置換オ
キシカルボニル基（アルコキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、アラルキルオキシカルボニル基、
シクロアルキルオキシカルボニル基など）、カルボキシ
ル基、置換又は無置換カルバモイル基（Ｎ−置換又は無
置換アミド基など）、シアノ基、ニトロ基、硫黄酸基
（スルホン酸基、スルフィン酸基など）、硫黄酸エステ
ル基（スルホン酸エステル基、スルフィン酸エステル基
など）、アシル基、アシルオキシ基、ヒドロキシル基、
アルコキシ基、シクロアルキルオキシ基、アリールオキ
シ基、Ｎ−置換又は無置換アミノ基などが挙げられる。
Ｒ^h、Ｒⁱ、Ｒ^jにおいて、有機基としては、炭化水素基
（特にアルキル基などの脂肪族炭化水素基）、ハロゲン
原子、アルコキシ基を好適に用いることができる。

【００６８】また、Ｒ^h、Ｒⁱ、Ｒ^jにおける置換シリル
基としては、例えば、有機基により置換されたシリル基
（以下「有機基置換シリル基」と称する場合がある）な
どが挙げられる。該有機基置換シリル基において、シリ
ル基の置換に用いられる有機基としては、前記Ｒ^h、
Ｒⁱ、Ｒ^jにおける有機基と同様の有機基を用いることが
できる。

【００６９】前記式（３）において、Ｒ^e、Ｒ^f、Ｒ^gに
おける有機基としては、前記Ｒ^h、Ｒ ⁱ、Ｒ^jにおける有
機基と同様に、前記式（２）において例示された有機基
を用いることができる。もちろん、これらのＲ^e、Ｒ^f、
Ｒ^gにおける有機基は、置換基を有していてもよい。ま
た、Ｒ^e、Ｒ^f、Ｒ^gにおける置換シリル基としては、
Ｒ^h、Ｒⁱ、Ｒ^jにおける置換シリル基と同様の有機基置
換シリル基を用いることができる。

【００７０】より具体的には、シラン系化合物（Ｂ）と
しては、例えば、モノシラン系化合物、ジシラン系化合
物などが挙げられる。モノシラン系化合物には、例え
ば、シラン；テトラフルオロシラン、テトラクロロシラ
ン、トリフルオロシラン、トリクロロシラン、ジフルオ
ロシラン、ジクロロシラン、モノフルオロシラン、モノ
クロロシランなどのハロ系シラン；メチルシラン、エチ
ルシラン、プロピルシラン、イソプロピルシラン、ブチ
ルシラン、イソブチルシラン、ｔ−ブチルシラン、ジメ
チルシラン、ジエチルシラン、ジプロピルシラン、ジイ
ソプロピルシラン、ジブチルシラン、ジイソブチルシラ
ン、ジｔ−ブチルシラン、トリメチルシラン、トリエチ
ルシラン、トリプロピルシラン、トリイソプロピルシラ
ン、トリブチルシラン、トリイソブチルシラン、トリｔ
−ブチルシランなどのアルキル系シラン；トリメトキシ
シラン、トリエトキシシラン、ジメトキシシラン、ジエ
トキシシラン、メトキシシラン、エトキシシランなどの
アルコキシ系シラン；ジクロロジメチルシラン、ジクロ
ロジエチルシラン、ジクロロメチルシラン、ジクロロエ
チルシラン、クロロトリメチルシラン、クロロトリエチ
ルシラン、クロロジメチルシラン、クロロジエチルシラ
ン、クロロメチルシラン、クロロエチル、ｔ−ブチルク
ロロジメチルシラン、ｔ−ブチルクロロジエチルシラン
などのハロアルキル系シラン；ジメトキシメチルシラ
ン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシエチルシラ
ン、ジエトキシエチルシラン、メトキシジメチルシラ
ン、エトキシジメチルシラン、メトキシジエチルシラ
ン、エトキシジエチルシランなどのアルコキシアルキル
系シランなどが含まれる。

【００７１】また、ジシラン系化合物としては、例え
ば、ジシラン；ヘキサクロロジシランなどのハロ系ジシ
ラン；ヘキサメチルジシラン、ヘキサエチルジシラン、
テトラメチルジシラン、ジメチルジシランなどのアルキ
ル系ジシラン；ヘキサメトキシジシラン、ヘキサエトキ
シジシラン、テトラメトキシジシラン、ジメトキシジシ
ランなどのアルコキシ系ジシラン；メチルジクロロジシ
ラン、エチルジクロロジシラン、メチルクロロジシラ
ン、エチルクロロジシラン、ジメチルクロロジシラン、
ジエチルクロロジシランなどのハロアルキル系ジシラ
ン；ジメトキシメチルジシラン、ジメトキシエチルジシ
ラン、メトキシジメチルジシラン、メトキシジエチルジ
シラン、メトキシメチルジシラン、メトキシエチルジシ
ランなどのアルコキシアルキル系ジシランなどが挙げら
れる。

【００７２】シラン系化合物（Ｂ）の使用量は、特に制
限されず、例えば、基質（有機化合物（Ａ））１モルに
対して１モル以上（例えば、１〜１００モル）、好まし
くは２〜５０モル、さらに好ましくは３〜３０モル程度
である。

【００７３】［酸素（Ｃ）］酸化に利用される酸素とし
ては、発生期の酸素であってもよいが、分子状酸素を用
いるのが好ましい。分子状酸素は純粋な酸素を用いても
よく、窒素、ヘリウム、アルゴン、二酸化炭素などの不
活性ガスで希釈した酸素や空気を用いることもできる。
酸素の使用量は、例えば、基質（有機化合物（Ａ））１
モルに対して０．５モル以上（例えば、１モル以上）、
好ましくは１〜１００モル、さらに好ましくは２〜５０
モル程度である。基質に対して過剰モルの酸素を使用す
る場合が多い。

【００７４】［反応］本発明では、前記イミド化合物を
含む触媒の存在下、例えば、非芳香族性炭素−炭素二重
結合を有する有機化合物（Ａ）を、シリルラジカルを生
成可能なシラン系化合物（Ｂ）と、酸素（Ｃ）と反応さ
せることにより、有機化合物（Ａ）のに、ヒドロキシル
基とともに、置換又は無置換シリル基（「置換又は無置
換シリル基」を単に「シリル基」と称する場合があ
る。）を導入して、前記有機化合物（Ａ）に対応するヒ
ドロキシル基及びシリル基を有する有機化合物を生成さ
せることができる。ヒドロキシル基及びシリル基を有す
る有機化合物としては、例えば、有機化合物（Ａ）にお
ける非芳香族性炭素−炭素二重結合を形成する一方の炭
素原子にヒドロキシル基が導入され、他方の炭素原子に
シリル基が導入された有機化合物などが例示できる。よ
り具体的には、例えば、アクリル酸メチルを、前記イミ
ド化合物の存在下、トリエチルシランと酸素と反応させ
ると、α−ヒドロキシ−β−トリエチルシリルプロピオ
ン酸メチル（２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプ
ロピオン酸メチル）が生成する。また、メタクリル酸メ
チルを、トリエチルシランと酸素と反応させると、α−
ヒドロキシ−β−トリエチルシリルイソ酪酸メチル（２
−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸メチル）
が生成する。

【００７５】従って、本発明の方法では、ヒドロキシル
基とシリル基とを有機化合物に導入することができるの
で、このような反応を「ヒドロキシシリル化」反応と称
することができる。

【００７６】なお、有機化合物（Ａ）として、α，β−
不飽和カルボニル化合物（α，β−不飽和ケトン類）を
用いた場合、脱アシル化を伴い、β−ケトシリル化合物
が生成する場合がある。例えば、基質としてビニルメチ
ルケトンを用いて、トリエチルシラン及び酸素と反応さ
せると、ヒドロキシシリル化及び脱アシル化により、２
−トリエチルシリルエタナールが生成する場合がある。

【００７７】有機化合物（Ａ）のヒドロキシシリル化反
応は、溶媒の存在下又は非存在下で行うことができる。
前記溶媒としては、基質（有機化合物（Ａ））の種類等
により適宜選択でき、例えば、酢酸、プロピオン酸など
の有機酸；アセトニトリル、プロピオニトリル、ベンゾ
ニトリルなどのニトリル類；ホルムアミド、アセトアミ
ド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセト
アミドなどのアミド類；ヘキサン、オクタンなどの脂肪
族炭化水素；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロ
エタン、四塩化炭素、クロロベンゼン、トリフルオロメ
チルベンゼンなどのハロゲン化炭化水素；ニトロベンゼ
ン、ニトロメタン、ニトロエタンなどのニトロ化合物；
酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；これらの混
合溶媒などが挙げられる。溶媒としては、酢酸などの有
機酸類、アセトニトリルやベンゾニトリルなどのニトリ
ル類、トリフルオロメチルベンゼンなどのハロゲン化炭
化水素、酢酸エチルなどのエステル類などを用いる場合
が多い。

【００７８】なお、本発明では、イミド化合物触媒は、
反応開始前又は開始時に一括に添加して仕込んでもよ
く、反応開始前又は開始時から逐次添加してもよい。イ
ミド化合物触媒を逐次添加する場合は、反応開始時から
終了にかけて、反応系に連続的に添加してもよく、間欠
的に添加してもよい。イミド化合物触媒は系内にそのま
ま添加してもよく、適当な溶媒に溶解若しくは分散させ
て添加してもよい。このように、イミド化合物触媒を反
応系に逐次添加すると、反応系に一括添加した場合と比
較して、原料化合物の転化率が向上したり、副反応が抑
制されて目的化合物（ヒドロキシシリル化反応生成物）
の選択率が向上する場合がある。また、基質濃度が高い
場合に触媒活性が損なわれることがあるが、イミド化合
物触媒を逐次添加することにより反応が円滑に進行し、
目的化合物を高い収率で得ることができる。

【００７９】なお、前記助触媒も反応系に逐次的に添加
してもよい。

【００８０】ヒドロキシシリル化反応において、反応温
度は、基質の種類等に応じて適宜選択できるが、一般に
は０〜３００℃、好ましくは１０〜２５０℃、さらに好
ましくは２０〜２００℃程度である。反応は常圧又は加
圧下で行うことができ、加圧下で反応させる場合には、
通常、１〜１００ａｔｍ（＝０．１０１〜１０．１ＭＰ
ａ）［好ましくは、１．５〜８０ａｔｍ（＝０．１５２
〜８．０８ＭＰａ）］程度である。

【００８１】反応は回分式、半回分式、連続式などの慣
用の方法により行うことができる。反応終了後、反応生
成物等は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、蒸留、抽
出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分
離精製手段やこれらの組み合わせにより、容易に分離精
製できる。

【００８２】

【発明の効果】本発明の方法によれば、Ｎ−ヒドロキシ
フタルイミドなどのイミド化合物を触媒として、非芳香
族性炭素−炭素二重結合を有する有機化合物（Ａ）を、
シラン系化合物（Ｂ）と酸素（Ｃ）と反応させているの
で、温和な条件下であっても、効率よく、前記有機化合
物（Ａ）に対応するヒドロキシル基及びシリル基を有す
る有機化合物を得ることができる。

【００８３】

【実施例】以下に、実施例に基づいて本発明を詳細に説
明するが、本発明はこれらの実施例により何ら限定され
るものではない。

【００８４】（実施例１）基質としてアクリル酸メチ
ル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラ
ン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイ
ミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助
触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒として酢
酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ
＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で３時間攪拌して反応を
行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体ク
ロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析した
ところ、アクリル酸メチルの転化率は９７％であり、ト
リエチルシランの転化率は４３％であった。また、収率
６２％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピ
オン酸メチルが生成していた。

【００８５】（実施例２）反応温度を６０℃に代えて５
０℃とすること以外は、実施例１と同様の操作を行った
ところ、アクリル酸メチルの転化率は７５％であり、ト
リエチルシランの転化率は２５％であり、収率５４％で
２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メ
チルが生成していた。

【００８６】（実施例３）溶媒としての酢酸エチルの使
用量を２ｍｌに代えて１ｍｌとすること以外は、実施例
１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転
化率は８１％であり、トリエチルシランの転化率は１６
％であり、収率４４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチ
ルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００８７】（実施例４）反応時間を３時間に代えて２
時間とすること以外は、実施例１と同様の操作を行った
ところ、アクリル酸メチルの転化率は９１％であり、ト
リエチルシランの転化率は２８％であり、収率７０％で
２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メ
チルが生成していた。

【００８８】（実施例５）溶媒としての酢酸エチルの使
用量を２ｍｌに代えて３ｍｌとすること以外は、実施例
１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転
化率は８２％であり、トリエチルシランの転化率は１９
％であり、収率６６％で２−ヒドロキシ−３−トリエチ
ルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００８９】（実施例６）トリエチルシランの使用量を
１５ミリモルに代えて３０ミリモルとすること以外は実
施例１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチル
の転化率は６８％であり、トリエチルシランの転化率は
９％であり、収率５４％で２−ヒドロキシ−３−トリエ
チルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００９０】（実施例７）溶媒としての酢酸エチルの使
用量を２ｍｌに代えて５ｍｌとすること以外は、実施例
１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転
化率は９１％であり、トリエチルシランの転化率は３１
％であり、収率６１％で２−ヒドロキシ−３−トリエチ
ルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００９１】（実施例８）基質としてアクリル酸メチ
ル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラ
ン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイ
ミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助
触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．００３ミリ
モル（基質に対して０．１モル％）、コバルト（III）
アセチルアセトナト：０．０１５ミリモル（基質に対し
て０．５モル％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌ
の混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、６０℃で２時間攪拌して反応を行った。反応混合
物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー
及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、アクリル
酸メチルの転化率は７１％であり、トリエチルシランの
転化率は２０％であった。また、収率６６％で２−ヒド
ロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生
成していた。

【００９２】（実施例９）助触媒としてのコバルト（II
I）アセチルアセトナトの使用量を０．０１５ミリモル
（基質に対して０．５モル％）に代えて０．０３ミリモ
ル（基質に対して１モル）とすること以外は、実施例８
と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチルの転化
率は９７％であり、トリエチルシランの転化率は３２％
であり、収率６８％で２−ヒドロキシ−３−トリエチル
シリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００９３】（実施例１０）助触媒としてのコバルト
（III）アセチルアセトナトの使用量を０．０１５ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）に代えて０．００３
ミリモル（基質に対して０．１モル）とすること以外
は、実施例８と同様の操作を行ったところ、アクリル酸
メチルの転化率は８８％であり、トリエチルシランの転
化率は３１％であり、収率７３％で２−ヒドロキシ−３
−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成してい
た。

【００９４】（実施例１１）基質としてアクリル酸メチ
ル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラ
ン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイ
ミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助
触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）、ＺｒＯ（ＣＨ₃Ｃ
ＯＯ）₂：０．０３ミリモル（基質に対して１モル
％）、及び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、
酸素雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃
で２時間攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロ
マトグラフィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共
鳴スペクトルで分析したところ、アクリル酸メチルの転
化率は８７％であり、トリエチルシランの転化率は２９
％であった。また、収率７３％で２−ヒドロキシ−３−
トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００９５】（実施例１２）助触媒としてのＺｒＯ（Ｃ
Ｈ₃ＣＯＯ）₂をＭｎ（ＣＨ₃ＣＯＯ）₂［使用量：０．０
３ミリモル（基質に対して１モル％）］とすること以外
は、実施例１１と同様の操作を行ったところ、アクリル
酸メチルの転化率は５８％であり、トリエチルシランの
転化率は１７％であり、収率５２％で２−ヒドロキシ−
３−トリエチルシリルプロピオン酸メチルが生成してい
た。

【００９６】（実施例１３）助触媒としてのＺｒＯ（Ｃ
Ｈ₃ＣＯＯ）₂を水酸化銅（II）［使用量：０．０３ミリ
モル（基質に対して１モル％）］とすること以外は、実
施例１１と同様の操作を行ったところ、アクリル酸メチ
ルの転化率は８３％であり、トリエチルシランの転化率
は２２％であり、収率６９％で２−ヒドロキシ−３−ト
リエチルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００９７】（実施例１４）助触媒としてのＺｒＯ（Ｃ
Ｈ₃ＣＯＯ）₂を亜鉛（III）アセチルアセトナト［使用
量：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）］とす
ること以外は、実施例１１と同様の操作を行ったとこ
ろ、アクリル酸メチルの転化率は６９％であり、トリエ
チルシランの転化率は１７％であり、収率５４％で２−
ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオン酸メチル
が生成していた。

【００９８】（実施例１５）基質としてアクリル酸メチ
ル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラ
ン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイ
ミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助
触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）、酢酸マンガン（II
I）：０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）、及
び溶媒として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲
気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間
攪拌して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラ
フィー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペク
トルで分析したところ、アクリル酸メチルの転化率は８
６％であり、トリエチルシランの転化率は３０％であっ
た。また、収率７５％で２−ヒドロキシ−３−トリエチ
ルシリルプロピオン酸メチルが生成していた。

【００９９】（実施例１６）反応時間を２時間に代えて
３時間とすること以外は、実施例１５と同様の操作を行
ったところ、アクリル酸メチルの転化率は９６％であ
り、トリエチルシランの転化率は４３％であり、収率７
０％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオ
ン酸メチルが生成していた。

【０１００】（実施例１７）基質としてアクリル酸メチ
ル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラ
ン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイ
ミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助
触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）、酢酸銅（II）：
０．０３ミリモル（基質に対して１モル％）、及び溶媒
として酢酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下
（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間攪拌
して反応を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィ
ー、液体クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトル
で分析したところ、アクリル酸メチルの転化率は４９％
であり、トリエチルシランの転化率は１５％であった。
また、収率４９％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシ
リルプロピオン酸メチルが生成していた。

【０１０１】（実施例１８）反応時間を２時間に代えて
３時間とすること以外は、実施例１７と同様の操作を行
ったところ、アクリル酸メチルの転化率は６１％であ
り、トリエチルシランの転化率は１６％であり、収率６
１％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオ
ン酸メチルが生成していた。

【０１０２】（実施例１９）反応時間を２時間に代えて
６時間とすること以外は、実施例１７と同様の操作を行
ったところ、アクリル酸メチルの転化率は９４％であ
り、トリエチルシランの転化率は４２％であり、収率５
７％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルプロピオ
ン酸メチルが生成していた。

【０１０３】（実施例２０）基質としてメタクリル酸メ
チル：２ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシ
ラン：２０ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタル
イミド：０．４ミリモル（基質に対して２０モル％）、
助触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒として酢
酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ
＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で２時間攪拌して反応を
行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体ク
ロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析した
ところ、メタクリル酸メチルの転化率は６９％であり、
トリエチルシランの転化率は８％であった。また、収率
４７％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪
酸メチルが生成していた。

【０１０４】（実施例２１）反応時間を２時間に代えて
６時間とすること以外は、実施例２０と同様の操作を行
ったところ、メタクリル酸メチルの転化率は９９％であ
り、トリエチルシランの転化率は５４％であり、収率３
６％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸
メチルが生成していた。

【０１０５】（実施例２２）反応温度を６０℃に代えて
５０℃とするとともに、反応時間を２時間に代えて６時
間とすること以外は、実施例２０と同様の操作を行った
ところ、メタクリル酸メチルの転化率は５７％であり、
トリエチルシランの転化率は１３％であり、収率５５％
で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸メチ
ルが生成していた。

【０１０６】（実施例２３）反応温度を６０℃に代えて
５０℃とするとともに、反応時間を２時間に代えて１０
時間とすること以外は、実施例２０と同様の操作を行っ
たところ、メタクリル酸メチルの転化率は８６％であ
り、トリエチルシランの転化率は１９％であり、収率５
９％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルイソ酪酸
メチルが生成していた。

【０１０７】（実施例２４）基質としてフマル酸ジエチ
ル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラ
ン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイ
ミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助
触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒として酢
酸エチル：２ｍｌの混合物を、酸素雰囲気下（１ａｔｍ
＝０．１０１ＭＰａ）、６０℃で１２時間攪拌して反応
を行った。反応混合物をガスクロマトグラフィー、液体
クロマトグラフィー及び核磁気共鳴スペクトルで分析し
たところ、フマル酸ジエチルの転化率は９５％であっ
た。また、収率５１％で２−ヒドロキシ−３−トリエチ
ルシリルコハク酸ジエチル（３−トリエチルシリルリン
ゴ酸ジエチル）が生成していた。

【０１０８】（実施例２５）溶媒としての酢酸エチルに
代えて酢酸とすること以外は、実施例２４と同様の操作
を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率は８５％で
あり、トリエチルシランの転化率は２３％であり、収率
５３％で２−ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク
酸ジエチルが生成していた。

【０１０９】（実施例２６）溶媒としての酢酸エチルに
代えてアセトニトリルとすること以外は、実施例２４と
同様の操作を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率
は９９％以上であり、トリエチルシランの転化率は３６
％であり、収率６４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチ
ルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。

【０１１０】（実施例２７）溶媒としての酢酸エチルに
代えてアセトニトリルとするとともに、反応時間を１２
時間に代えて１０時間とすること以外は、実施例２４と
同様の操作を行ったところ、フマル酸ジエチルの転化率
は９９％以上であり、トリエチルシランの転化率は３８
％であり、収率６４％で２−ヒドロキシ−３−トリエチ
ルシリルコハク酸ジエチルが生成していた。

【０１１１】（実施例２８）溶媒としての酢酸エチル：
２ｍｌに代えてアセトニトリル：３ｍｌとすること以外
は、実施例２４と同様の操作を行ったところ、フマル酸
ジエチルの転化率は９９％以上であり、トリエチルシラ
ンの転化率は４０％であり、収率６６％で２−ヒドロキ
シ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生成して
いた。

【０１１２】（実施例２９）基質としてフマル酸ジエチ
ル：３ミリモル、シラン系化合物としてトリエチルシラ
ン：１５ミリモル、触媒としてＮ−ヒドロキシフタルイ
ミド：０．３ミリモル（基質に対して１０モル％）、助
触媒として酢酸コバルト（II）４水塩：０．０１５ミリ
モル（基質に対して０．５モル％）、及び溶媒としてア
セトニトリル：２ｍｌの混合物を、窒素／酸素＝１／１
（モル比）の雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰ
ａ）、６０℃で１２時間攪拌して反応を行った。反応混
合物をガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィ
ー及び核磁気共鳴スペクトルで分析したところ、フマル
酸ジエチルの転化率は９８％であり、トリエチルシラン
の転化率は２９％であった。また、収率５５％で２−ヒ
ドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが生
成していた。

【０１１３】（実施例３０）窒素／酸素＝１／１（モル
比）の雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）に代え
て、空気雰囲気下（１ａｔｍ＝０．１０１ＭＰａ）とす
ること以外は、実施例２９と同様の操作を行ったとこ
ろ、フマル酸ジエチルの転化率は９９％であり、トリエ
チルシランの転化率は２１％であり、収率４６％で２−
ヒドロキシ−３−トリエチルシリルコハク酸ジエチルが
生成していた。

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原子又は
   ヒドロキシル基の保護基を示す）を示す］で表される環
   状イミド骨格を有するイミド化合物を含む触媒の存在
   下、（Ａ）非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する有機
   化合物と、（Ｂ）シリルラジカルを生成可能なシラン系
   化合物と、（Ｃ）酸素とを反応させて、対応するヒドロ
   キシル基及びシリル基を有する有機化合物を得ることを
   特徴とする有機化合物の製造方法。
2. 【請求項２】 非芳香族性炭素−炭素二重結合を有する
   有機化合物（Ａ）が、下記式（２）で表されるオレフィ
   ンである請求項１記載の有機化合物の製造方法。 【化２】 （式（２）中、Ｒ^a、Ｒ^b、Ｒ^c、Ｒ^dは、同一又は異なっ
   て、それぞれ、水素原子又は有機基を示す。Ｒ^a、Ｒ^b、
   Ｒ^c、Ｒ^dのうち少なくとも２つは、互いに結合して、隣
   接する炭素原子又は炭素−炭素二重結合とともに環を形
   成していてもよい）
3. 【請求項３】 シリルラジカルを生成可能なシラン系化
   合物（Ｂ）が、下記式（３）で表されるシラン系化合物
   である請求項１又は２記載の有機化合物の製造方法。 【化３】 （式（３）中、Ｘは水素原子、ハロゲン原子または置換
   若しくは無置換シリル基を示す。Ｒ^e、Ｒ^f、Ｒ^gは、同
   一又は異なって、それぞれ、水素原子、有機基または置
   換若しくは無置換シリル基を示す）
4. 【請求項４】 イミド化合物が下記式（１）で表される
   化合物である請求項１〜３の何れかの項に記載の有機化
   合物の製造方法。 【化４】 （式（１）中、Ｘは酸素原子又は−ＯＲ基（Ｒは水素原
   子又はヒドロキシル基の保護基を示す）を示す。Ｒ¹及
   びＲ²は、同一又は異なって、水素原子、ハロゲン原
   子、アルキル基、アリール基、シクロアルキル基、ヒド
   ロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキ
   シカルボニル基、アシル基を示し、Ｒ¹及びＲ²は互いに
   結合して二重結合、又は芳香族性若しくは非芳香族性の
   環を形成してもよい。前記Ｒ¹、Ｒ²、又はＲ¹及びＲ²が
   互いに結合して形成された二重結合又は芳香族性若しく
   は非芳香族性の環には、上記式（１）中に示されるＮ−
   置換環状イミド基がさらに１又は２個形成されていても
   よい）