JPH08253732A - ポリマー被覆金属部品およびその製法 - Google Patents
ポリマー被覆金属部品およびその製法Info
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- JPH08253732A JPH08253732A JP33449795A JP33449795A JPH08253732A JP H08253732 A JPH08253732 A JP H08253732A JP 33449795 A JP33449795 A JP 33449795A JP 33449795 A JP33449795 A JP 33449795A JP H08253732 A JPH08253732 A JP H08253732A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 耐熱性・耐薬品性および強度に優れた絶縁層
被覆金属部品を提供すること。 【解決手段】 金属部品に下記の構造式 （Ｒ1 は４価の芳香核で、Ｎによって対称的に置換され
ており、Ｒ2 は２価の基で、Ｃ2-20の脂肪族、脂環族お
よび芳香族のラジカルの中から選択され、Ｒ3 はＨおよ
びアルキル基、アリール基などの疎水性の基、Ｒ4 はＨ
およびアルキル基、アリール基などの疎水性の基、ｎは
２以上の整数を表すが、繰り返し単位を構成するすべて
のＲ3とＲ4がＨであることはない）、または構造式（Ｉ
Ｉ）： （Ｒ5 はＮ（ベンゾイミダゾール環を形成）を有する同
一の芳香核であり、Ｒ6 はＨおよびアルキル基、アリー
ル基などの疎水性の基、ｎは２以上の整数を表すが、繰
り返し単位を構成するすべてのＲ6 がＨであることはな
い）で示されるポリマーを含む被膜を形成する。
被覆金属部品を提供すること。 【解決手段】 金属部品に下記の構造式 （Ｒ1 は４価の芳香核で、Ｎによって対称的に置換され
ており、Ｒ2 は２価の基で、Ｃ2-20の脂肪族、脂環族お
よび芳香族のラジカルの中から選択され、Ｒ3 はＨおよ
びアルキル基、アリール基などの疎水性の基、Ｒ4 はＨ
およびアルキル基、アリール基などの疎水性の基、ｎは
２以上の整数を表すが、繰り返し単位を構成するすべて
のＲ3とＲ4がＨであることはない）、または構造式（Ｉ
Ｉ）： （Ｒ5 はＮ（ベンゾイミダゾール環を形成）を有する同
一の芳香核であり、Ｒ6 はＨおよびアルキル基、アリー
ル基などの疎水性の基、ｎは２以上の整数を表すが、繰
り返し単位を構成するすべてのＲ6 がＨであることはな
い）で示されるポリマーを含む被膜を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、様々な工業製品に
利用され得るポリマー被膜金属部品に関する。
利用され得るポリマー被膜金属部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、電線などの耐熱性の被覆材料とし
てはポリエステル、ポリアミドイミド、ポリイミドなど
が用いられてきた。また、金属材料の低表面張力化など
の表面改質を目的として、ポリテトラフルオロエチレン
に代表されるフッ素系高分子も多く用いられている。し
かし、近年、機器の小型化や高性能化のため、さらに耐
熱性の高い、あるいは強度の大きな被覆材料が要求され
始めている。
てはポリエステル、ポリアミドイミド、ポリイミドなど
が用いられてきた。また、金属材料の低表面張力化など
の表面改質を目的として、ポリテトラフルオロエチレン
に代表されるフッ素系高分子も多く用いられている。し
かし、近年、機器の小型化や高性能化のため、さらに耐
熱性の高い、あるいは強度の大きな被覆材料が要求され
始めている。
【０００３】ポリベンゾイミダゾールは熱的・化学的に
安定な複素環式高分子であり、耐熱性・表面硬度の点で
他の高分子被覆材料を上回る特性が期待されている。本
出願人はポリベンゾイミダゾール被膜の形成方法を提案
し、様々な応用製品への展開が検討されている（特開平
５−３３９４０１号公報参照）。
安定な複素環式高分子であり、耐熱性・表面硬度の点で
他の高分子被覆材料を上回る特性が期待されている。本
出願人はポリベンゾイミダゾール被膜の形成方法を提案
し、様々な応用製品への展開が検討されている（特開平
５−３３９４０１号公報参照）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】上述したようにポリベ
ンゾイミダゾールは新しい被覆材料としての大きな可能
性を有しているが、その吸湿性は１０重量％以上と一般
的な他の樹脂と比べて大きく、電気絶縁性の点で問題が
あった。
ンゾイミダゾールは新しい被覆材料としての大きな可能
性を有しているが、その吸湿性は１０重量％以上と一般
的な他の樹脂と比べて大きく、電気絶縁性の点で問題が
あった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】米国特許３５７８６４
４、４０２０１４２、４５７９９１５、４５９９３８
８、４８１４３９９、４８１４４００、４８６８２４
９、４８７７８４９、４８９８９１７、４９３３３９
７、４９９７８９２号明細書などに示されているよう
に、ポリベンゾイミダゾールのイミダゾールＮ−Ｈ結合
は特殊な状況下で反応することが知られている。これら
の特許では、反応性の高い前記イミダゾールＮ−Ｈ結合
の水素をより反応性の低い置換基で置き換えることによ
ってポリベンゾイミダゾールの耐薬品性や耐熱性を改善
すること、または特殊な非線形性の様な特性を持つ置換
基で置き換えることによってポリベンゾイミダゾールに
新たな機能を付与することを主な目的としている。
４、４０２０１４２、４５７９９１５、４５９９３８
８、４８１４３９９、４８１４４００、４８６８２４
９、４８７７８４９、４８９８９１７、４９３３３９
７、４９９７８９２号明細書などに示されているよう
に、ポリベンゾイミダゾールのイミダゾールＮ−Ｈ結合
は特殊な状況下で反応することが知られている。これら
の特許では、反応性の高い前記イミダゾールＮ−Ｈ結合
の水素をより反応性の低い置換基で置き換えることによ
ってポリベンゾイミダゾールの耐薬品性や耐熱性を改善
すること、または特殊な非線形性の様な特性を持つ置換
基で置き換えることによってポリベンゾイミダゾールに
新たな機能を付与することを主な目的としている。
【０００６】本発明者は鋭意検討した結果、疎水性の置
換基で前記イミダゾールＮ−Ｈ結合の水素を置き換える
ことにより、ポリベンゾイミダゾールの吸湿性を低下さ
せ、優れた電気絶縁性が得られることを見出した。
換基で前記イミダゾールＮ−Ｈ結合の水素を置き換える
ことにより、ポリベンゾイミダゾールの吸湿性を低下さ
せ、優れた電気絶縁性が得られることを見出した。
【０００７】本発明はこの知見に基づいてなされたもの
である。すなわち、本発明は、下記の構造式（Ｉ）：
である。すなわち、本発明は、下記の構造式（Ｉ）：
【化１０】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ1 は４価の芳香核で
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ3 は
水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎水性の
基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換されてい
てもよい）の中から独立的に選択され、繰り返し単位を
構成する各Ｒ4 は水素原子およびアルキル基、アリール
基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他の
基で置換されていてもよい）の中から独立的に選択さ
れ、繰り返し単位を構成するすべてのＲ3とＲ4が水素原
子であることはない）で示される繰り返し単位および／
または構造式（ＩＩ）：
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ3 は
水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎水性の
基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換されてい
てもよい）の中から独立的に選択され、繰り返し単位を
構成する各Ｒ4 は水素原子およびアルキル基、アリール
基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他の
基で置換されていてもよい）の中から独立的に選択さ
れ、繰り返し単位を構成するすべてのＲ3とＲ4が水素原
子であることはない）で示される繰り返し単位および／
または構造式（ＩＩ）：
【化１１】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ5 は窒素原子（芳香
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する芳香核であり、繰
り返し単位を構成する各Ｒ6 は水素原子およびアルキル
基、アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基
がさらに他の基で置換されていてもよい）の中から独立
的に選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し単
位を構成するすべてのＲ6 が水素原子であることはな
い）で示される繰り返し単位を有するポリマーを含む被
膜が形成された金属部品を提供する。
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する芳香核であり、繰
り返し単位を構成する各Ｒ6 は水素原子およびアルキル
基、アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基
がさらに他の基で置換されていてもよい）の中から独立
的に選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し単
位を構成するすべてのＲ6 が水素原子であることはな
い）で示される繰り返し単位を有するポリマーを含む被
膜が形成された金属部品を提供する。
【０００８】また、本発明はＲ3、Ｒ4および／またはＲ
6が炭素数１〜４のフルオロアルキル基である上記の金
属部品を提供する。
6が炭素数１〜４のフルオロアルキル基である上記の金
属部品を提供する。
【０００９】さらに、本発明は、下記の構造式（Ｉ
Ｖ）：
Ｖ）：
【化１２】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ1 は４価の芳香核で
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選ばれ、ｎは２以上の整数を表す）で示され
る化合物を下記の構造式（Ｖ）：
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選ばれ、ｎは２以上の整数を表す）で示され
る化合物を下記の構造式（Ｖ）：
【化１３】 （式中、繰り返し単位を構成する各Ｒ3 は水素原子およ
びアルキル基、アリール基などの疎水性の基（これらの
疎水性の基がさらに他の基で置換されていてもよい）の
中から独立的に選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ
4 は水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎水
性の基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換され
ていてもよい）の中から独立的に選択されるが、繰り返
し単位を構成するすべてのＲ3とＲ4が水素原子であるこ
とはない）で示されるピロカーボネートと反応させるこ
とにより得られた、構造式（Ｉ）で示される繰り返し単
位を有するポリマー、および／または下記の構造式（Ｖ
Ｉ）：
びアルキル基、アリール基などの疎水性の基（これらの
疎水性の基がさらに他の基で置換されていてもよい）の
中から独立的に選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ
4 は水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎水
性の基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換され
ていてもよい）の中から独立的に選択されるが、繰り返
し単位を構成するすべてのＲ3とＲ4が水素原子であるこ
とはない）で示されるピロカーボネートと反応させるこ
とにより得られた、構造式（Ｉ）で示される繰り返し単
位を有するポリマー、および／または下記の構造式（Ｖ
Ｉ）：
【化１４】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ5 は窒素原子（芳香
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する芳香核であり、ｎ
は２以上の整数を表す）で示される化合物を下記の構造
式（ＶＩＩ）：
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する芳香核であり、ｎ
は２以上の整数を表す）で示される化合物を下記の構造
式（ＶＩＩ）：
【化１５】 （式中、繰り返し単位を構成する各Ｒ6 は、水素原子お
よびアルキル基、アリール基などの疎水性の基（これら
の疎水性の基がさらに他の基で置換されていてもよい）
の中から独立的に選択されるが、繰り返し単位を構成す
るすべてのＲ6 が水素原子であることはない）で示され
るピロカーボネートと反応させることにより得られた、
構造式（ＩＩ）で示される繰り返し単位を有するポリマ
ー、を含む被膜を金属部品に直接または間接に形成する
ことを特徴とする金属部品の製法を提供する。
よびアルキル基、アリール基などの疎水性の基（これら
の疎水性の基がさらに他の基で置換されていてもよい）
の中から独立的に選択されるが、繰り返し単位を構成す
るすべてのＲ6 が水素原子であることはない）で示され
るピロカーボネートと反応させることにより得られた、
構造式（ＩＩ）で示される繰り返し単位を有するポリマ
ー、を含む被膜を金属部品に直接または間接に形成する
ことを特徴とする金属部品の製法を提供する。
【００１０】加えて、本発明は、構造式（ＩＶ）で示さ
れる化合物を構造式（Ｖ）で示されるピロカーボネート
と反応させることにより得られた下記の構造式（ＶＩＩ
Ｉ）：
れる化合物を構造式（Ｖ）で示されるピロカーボネート
と反応させることにより得られた下記の構造式（ＶＩＩ
Ｉ）：
【化１６】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ1 は４価の芳香核で
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ7 は
水素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、
アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさ
らに他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から
独立的に選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ8 は水
素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、ア
リール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさら
に他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から独
立的に選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し
単位を構成するすべてのＲ7とＲ8が水素原子であること
はない）で示されるポリマー、または構造式（ＶＩ）で
示される化合物を構造式（ＶＩＩ）で示されるピロカー
ボネートと反応させることにより得られた下記の構造式
（ＩＸ）：
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ7 は
水素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、
アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさ
らに他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から
独立的に選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ8 は水
素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、ア
リール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさら
に他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から独
立的に選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し
単位を構成するすべてのＲ7とＲ8が水素原子であること
はない）で示されるポリマー、または構造式（ＶＩ）で
示される化合物を構造式（ＶＩＩ）で示されるピロカー
ボネートと反応させることにより得られた下記の構造式
（ＩＸ）：
【化１７】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ5 は窒素原子（芳香
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する同一の芳香核であ
り、繰り返し単位を構成する各Ｒ9は水素原子および基
−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、アリール基などの
疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換
されていてもよい）を表す）の中から独立的に選択さ
れ、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し単位を構成す
るすべてのＲ9が水素原子であることはない）で示され
るポリマー、を溶解した溶液を用いて、該ポリマーの被
膜を金属部品上に形成し、引き続き該ポリマーの被膜が
形成された金属部品の熱処理を行い、構造式（Ｉ）で示
される繰り返し単位および／または構造式（ＩＩ）で示
される繰り返し単位を有するポリマーの被膜を形成する
ことを特徴とする金属部品の製法を提供する。
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する同一の芳香核であ
り、繰り返し単位を構成する各Ｒ9は水素原子および基
−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、アリール基などの
疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換
されていてもよい）を表す）の中から独立的に選択さ
れ、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し単位を構成す
るすべてのＲ9が水素原子であることはない）で示され
るポリマー、を溶解した溶液を用いて、該ポリマーの被
膜を金属部品上に形成し、引き続き該ポリマーの被膜が
形成された金属部品の熱処理を行い、構造式（Ｉ）で示
される繰り返し単位および／または構造式（ＩＩ）で示
される繰り返し単位を有するポリマーの被膜を形成する
ことを特徴とする金属部品の製法を提供する。
【００１１】本発明において用いられる構造式（Ｉ）、
（ＩＩ）、（ＩＶ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩＩ）および
（ＩＸ）で示される各ポリマーにおいて、繰り返し単位
を構成する基の内、Ｒ1、Ｒ2およびＲ5はすべて同じ基
を表していても、複数種類の基を含んでいてもよい。ま
た、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々について
定義された基からＲ1、Ｒ2、Ｒ5の組み合わせとは独立
的に選択される。すなわち、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8
およびＲ9は定義された基がポリマー中にランダムに存
在することができる。ただし、すべてのＲ3とＲ4が水素
原子である場合、すべてのＲ6が水素原子である場合、
すべてのＲ7とＲ8が水素原子である場合、およびすべて
のＲ9が水素原子である場合は本発明の範囲から除外さ
れる。例えば、ポリマーを構成するＲ3のうち、一部の
Ｒ3は水素原子で、残りのＲ3は水素原子以外の基である
ことができる。Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9について
も同様である。
（ＩＩ）、（ＩＶ）、（ＶＩ）、（ＶＩＩＩ）および
（ＩＸ）で示される各ポリマーにおいて、繰り返し単位
を構成する基の内、Ｒ1、Ｒ2およびＲ5はすべて同じ基
を表していても、複数種類の基を含んでいてもよい。ま
た、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9は各々について
定義された基からＲ1、Ｒ2、Ｒ5の組み合わせとは独立
的に選択される。すなわち、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8
およびＲ9は定義された基がポリマー中にランダムに存
在することができる。ただし、すべてのＲ3とＲ4が水素
原子である場合、すべてのＲ6が水素原子である場合、
すべてのＲ7とＲ8が水素原子である場合、およびすべて
のＲ9が水素原子である場合は本発明の範囲から除外さ
れる。例えば、ポリマーを構成するＲ3のうち、一部の
Ｒ3は水素原子で、残りのＲ3は水素原子以外の基である
ことができる。Ｒ4、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8およびＲ9について
も同様である。
【００１２】本発明において用いられるポリマーは、少
なくとも０．２、好ましくは０．５から１．２の固有粘
度値（２５℃において９７％濃硫酸１００ｍｌ中に０．
４ｇのポリマーが溶けた溶液で測定される）を持つ。
なくとも０．２、好ましくは０．５から１．２の固有粘
度値（２５℃において９７％濃硫酸１００ｍｌ中に０．
４ｇのポリマーが溶けた溶液で測定される）を持つ。
【００１３】また、本発明の化合物における各置換基の
具体例は、以下に記す通りである。
具体例は、以下に記す通りである。
【００１４】Ｒ1 は、４価の芳香核であって窒素原子に
よって対称的に置換されている基であるならば特に限定
されないが、好ましい例としては下記の基を挙げること
ができる。
よって対称的に置換されている基であるならば特に限定
されないが、好ましい例としては下記の基を挙げること
ができる。
【００１５】
【化１８】 Ｒ2 は、炭素数が２から２０までの脂肪族、脂環族、芳
香族の２価の基の中から任意に選択することができる。
脂肪族の２価の基の例としては、−ＣＨ2 −、−Ｃ2 Ｈ
4 −、−Ｃ3 Ｈ6 −、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −、−Ｃ4 Ｈ8
−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 −、−Ｃ≡
Ｃ−等の基を、脂環族の２価の基の例としてはシクロプ
ロパンやシクロヘキサンから２個の水素が取れた形の基
を挙げることができる。シクロヘキサンの２価の基の場
合、結合部分の位置関係はオルト位、メタ位、パラ位の
いずれであってもよい。また、芳香族の２価の基として
は以下に示すものを例示することができる。
香族の２価の基の中から任意に選択することができる。
脂肪族の２価の基の例としては、−ＣＨ2 −、−Ｃ2 Ｈ
4 −、−Ｃ3 Ｈ6 −、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −、−Ｃ4 Ｈ8
−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2 −、−Ｃ≡
Ｃ−等の基を、脂環族の２価の基の例としてはシクロプ
ロパンやシクロヘキサンから２個の水素が取れた形の基
を挙げることができる。シクロヘキサンの２価の基の場
合、結合部分の位置関係はオルト位、メタ位、パラ位の
いずれであってもよい。また、芳香族の２価の基として
は以下に示すものを例示することができる。
【００１６】
【化１９】 Ｒ3 は水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎
水性の基の中から選択され、Ｒ4 は水素原子およびアル
キル基、アリール基などの疎水性の基の中から選択され
る。しかしながら、ポリマーの繰り返し単位を構成する
すべてのＲ3とＲ4が水素原子であることはない。また、
Ｒ6も水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎
水性の基の中から選択される。しかし、ポリマーの繰り
返し単位を構成するすべてのＲ6が水素原子であること
はない。この場合、アルキル基やアリール基などの疎水
性の基はその炭素上に１個もしくは２個以上の置換基を
有していてもよい。好ましいアルキル基は、炭素数１〜
４のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブ
チル基が挙げられる。炭素数１〜４のフルオロアルキル
基、例えば、トリフルオロメチル基やヘキサフルオロイ
ソプロピル基などのフッ素原子を含む基やシロキサン結
合などのシリコン原子を含む基が本発明において特に好
ましい例であり、低表面エネルギー化や低摩擦係数化な
どの新たな機能も付与されるため好ましい。好ましいア
リール基はメチル基、エチル基等の低級アルキル基等で
置換されていてもよいフェニル基やナフチル基である。
また、疎水性の基が有する好ましい置換基としては、ハ
ロゲン、アミノ基などが挙げられる。
水性の基の中から選択され、Ｒ4 は水素原子およびアル
キル基、アリール基などの疎水性の基の中から選択され
る。しかしながら、ポリマーの繰り返し単位を構成する
すべてのＲ3とＲ4が水素原子であることはない。また、
Ｒ6も水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎
水性の基の中から選択される。しかし、ポリマーの繰り
返し単位を構成するすべてのＲ6が水素原子であること
はない。この場合、アルキル基やアリール基などの疎水
性の基はその炭素上に１個もしくは２個以上の置換基を
有していてもよい。好ましいアルキル基は、炭素数１〜
４のアルキル基、例えば、メチル基、エチル基、ｔ−ブ
チル基が挙げられる。炭素数１〜４のフルオロアルキル
基、例えば、トリフルオロメチル基やヘキサフルオロイ
ソプロピル基などのフッ素原子を含む基やシロキサン結
合などのシリコン原子を含む基が本発明において特に好
ましい例であり、低表面エネルギー化や低摩擦係数化な
どの新たな機能も付与されるため好ましい。好ましいア
リール基はメチル基、エチル基等の低級アルキル基等で
置換されていてもよいフェニル基やナフチル基である。
また、疎水性の基が有する好ましい置換基としては、ハ
ロゲン、アミノ基などが挙げられる。
【００１７】置換基を有する疎水性の基としては、炭素
数１〜４のフルオロアルキル基、例えば、トリフルオロ
メチル基やヘキサフルオロイソプロピル基などのフッ素
原子を含む基やシロキサン結合などのシリコン原子を含
む基またはそれを含むアリール基が本発明において特に
好ましい例であり、低表面エネルギー化や低摩擦係数化
などの新たな機能も付与されるため好ましい。また、疎
水性の基Ｒ3、Ｒ4およびＲ6が、−Ｃ−Ｏ−、−Ｏ−な
どを介して窒素原子と結合している場合も含まれる。
数１〜４のフルオロアルキル基、例えば、トリフルオロ
メチル基やヘキサフルオロイソプロピル基などのフッ素
原子を含む基やシロキサン結合などのシリコン原子を含
む基またはそれを含むアリール基が本発明において特に
好ましい例であり、低表面エネルギー化や低摩擦係数化
などの新たな機能も付与されるため好ましい。また、疎
水性の基Ｒ3、Ｒ4およびＲ6が、−Ｃ−Ｏ−、−Ｏ−な
どを介して窒素原子と結合している場合も含まれる。
【００１８】Ｒ5 は、芳香核の隣接した炭素原子上で組
合わされているベンゾイミダゾール環を形成している窒
素原子を有する芳香核であり、具体例を以下に示す。
合わされているベンゾイミダゾール環を形成している窒
素原子を有する芳香核であり、具体例を以下に示す。
【００１９】
【化２０】 上記構造式（Ｉ）および（ＩＩ）の式中におけるｎは２
以上の整数を表す。本発明で用いられる構造式（Ｉ）お
よび（ＩＩ）のポリマーの数平均分子量は２，０００〜
１，０００，０００であり、好ましくは２０，０００〜
２００，０００である。
以上の整数を表す。本発明で用いられる構造式（Ｉ）お
よび（ＩＩ）のポリマーの数平均分子量は２，０００〜
１，０００，０００であり、好ましくは２０，０００〜
２００，０００である。
【００２０】本発明に用いられる疎水性基の置換方法と
しては、特に限定はなく、先に挙げた多くの米国特許な
どに示されている方法を用いることができる。米国特許
４８７７８４９に示されているピロカーボネートを用い
る方法、米国特許４０２０１４２に示されている酸無水
物や酸クロライドを用いる方法、米国特許４８９８９１
７に示されているハロゲン化アルキルを用いた方法など
が本発明の好ましい置換法の例である。また、先に挙げ
た米国特許には含まれていないが、良く知られた方法と
してエポキシ基とアミンとの反応を利用することも可能
である。
しては、特に限定はなく、先に挙げた多くの米国特許な
どに示されている方法を用いることができる。米国特許
４８７７８４９に示されているピロカーボネートを用い
る方法、米国特許４０２０１４２に示されている酸無水
物や酸クロライドを用いる方法、米国特許４８９８９１
７に示されているハロゲン化アルキルを用いた方法など
が本発明の好ましい置換法の例である。また、先に挙げ
た米国特許には含まれていないが、良く知られた方法と
してエポキシ基とアミンとの反応を利用することも可能
である。
【００２１】米国特許４８７７８４９に示されているピ
ロカーボネートを用いる方法は本発明で用いられる置換
法として最も好ましい例である。被膜を乾燥させるため
の熱処理により容易に副生成物である二酸化炭素や低級
アルコールを除くことが可能であること、５０％から９
０％という高い置換率が得られることが本置換法の利点
であるが、最大の特徴は下記の構造式（ＶＩＩＩ）また
は（ＩＸ）に示す有機溶剤への溶解性が高い構造を経由
することである。
ロカーボネートを用いる方法は本発明で用いられる置換
法として最も好ましい例である。被膜を乾燥させるため
の熱処理により容易に副生成物である二酸化炭素や低級
アルコールを除くことが可能であること、５０％から９
０％という高い置換率が得られることが本置換法の利点
であるが、最大の特徴は下記の構造式（ＶＩＩＩ）また
は（ＩＸ）に示す有機溶剤への溶解性が高い構造を経由
することである。
【００２２】
【化２１】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ1 は４価の芳香核で
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ7 は
水素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、
アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさ
らに他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から
独立的に選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ8 は水
素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、ア
リール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさら
に他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から独
立的に選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し
単位を構成するすべてのＲ7とＲ8が水素原子であること
はない）
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ7 は
水素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、
アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさ
らに他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から
独立的に選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ8 は水
素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、ア
リール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさら
に他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から独
立的に選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し
単位を構成するすべてのＲ7とＲ8が水素原子であること
はない）
【化２２】 （式中、繰り返し単位を構成するすべてのＲ5 は窒素原
子（芳香核の隣接した炭素原子上で組合わされているベ
ンゾイミダゾール環を形成している）を有する同一の芳
香核であり、繰り返し単位を構成する各Ｒ9は水素原子
および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、アリール
基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他の
基で置換されていてもよい）を表す）の中から独立的に
選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し単位を
構成するすべてのＲ9が水素原子であることはない） 通常、イミダゾールＮ−Ｈ結合の水素が他の疎水性の置
換基で置き換えられたポリベンゾイミダゾールは有機溶
剤への溶解性が乏しく、特に置換率が高い場合には溶液
化が不可能であるため被膜を形成するための適当な手段
がない。本置換法で得られた有機溶剤への溶解性が高い
前述の構造式（ＶＩＩＩ）または（ＩＸ）で示されるポ
リマーの溶液から塗膜を形成し、引き続き行われる熱処
理により前記の構造式（Ｉ）または（ＩＩ）のイミダゾ
ールＮ−Ｈ結合の水素が他の疎水性の置換基で置き換え
られたポリベンゾイミダゾールを得ることにより、置換
率が高くても被膜形成が可能となった。
子（芳香核の隣接した炭素原子上で組合わされているベ
ンゾイミダゾール環を形成している）を有する同一の芳
香核であり、繰り返し単位を構成する各Ｒ9は水素原子
および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、アリール
基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他の
基で置換されていてもよい）を表す）の中から独立的に
選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し単位を
構成するすべてのＲ9が水素原子であることはない） 通常、イミダゾールＮ−Ｈ結合の水素が他の疎水性の置
換基で置き換えられたポリベンゾイミダゾールは有機溶
剤への溶解性が乏しく、特に置換率が高い場合には溶液
化が不可能であるため被膜を形成するための適当な手段
がない。本置換法で得られた有機溶剤への溶解性が高い
前述の構造式（ＶＩＩＩ）または（ＩＸ）で示されるポ
リマーの溶液から塗膜を形成し、引き続き行われる熱処
理により前記の構造式（Ｉ）または（ＩＩ）のイミダゾ
ールＮ−Ｈ結合の水素が他の疎水性の置換基で置き換え
られたポリベンゾイミダゾールを得ることにより、置換
率が高くても被膜形成が可能となった。
【００２３】本発明に用いられるポリマーの置換率の好
ましい値としては、一般的には１０％から９０％である
が、得られる被膜の電気絶縁性と引張破断伸びなどの膜
物性から詳しくは決定される。１０％以下の低い置換率
は、置換基の効果が十分でなく高い電気絶縁性は得られ
ないが、疎水性の強いふっ素原子を含む置換基や高分子
量のシロキサン結合を含む置換基の場合は０．１％から
１％程度の置換率でも有効である。また、９０％以上の
高い置換率は、被膜の引張破断伸びなどの物性が低下
し、被覆部品の耐屈曲などの強度が低下するため好まし
くないが、嵩が小さな置換基の場合は有効である。
ましい値としては、一般的には１０％から９０％である
が、得られる被膜の電気絶縁性と引張破断伸びなどの膜
物性から詳しくは決定される。１０％以下の低い置換率
は、置換基の効果が十分でなく高い電気絶縁性は得られ
ないが、疎水性の強いふっ素原子を含む置換基や高分子
量のシロキサン結合を含む置換基の場合は０．１％から
１％程度の置換率でも有効である。また、９０％以上の
高い置換率は、被膜の引張破断伸びなどの物性が低下
し、被覆部品の耐屈曲などの強度が低下するため好まし
くないが、嵩が小さな置換基の場合は有効である。
【００２４】なお、上記置換率（％）は下記の式によっ
て算出される。
て算出される。
【００２５】置換率＝［（Ｎに結合するＲがＨ以外であ
る）÷｛（Ｎに結合するＲがＨである）＋（Ｎに結合す
るＲがＨ以外である）｝］×１００ この式において、Ｎは構造式（Ｉ）および／または構造
式（ＩＩ）における窒素原子を、Ｒは構造式（Ｉ）およ
び／または構造式（ＩＩ）における置換基Ｒ3、Ｒ4およ
び／またはＲ6を意味する。「（Ｎに結合するＲがＨ以
外である）」とは構造式（Ｉ）および／または構造式
（ＩＩ）で示されるを繰り返し単位を有するポリマーに
おいて、置換基Ｒ3、Ｒ4および／またはＲ6が水素原子
以外の基である各繰り返し単位の質量を当該繰り返し単
位当たりの分子量で割った値の総計を意味する。また、
「（Ｎに結合するＲがＨである）」とは、構造式（Ｉ）
および／または構造式（ＩＩ）で示されるを繰り返し単
位を有するポリマーにおいて、置換基Ｒ3、Ｒ4および／
またはＲ6が水素原子のみである各繰り返し単位の質量
を当該繰り返し単位当たりの分子量で割った値の総計を
意味する。
る）÷｛（Ｎに結合するＲがＨである）＋（Ｎに結合す
るＲがＨ以外である）｝］×１００ この式において、Ｎは構造式（Ｉ）および／または構造
式（ＩＩ）における窒素原子を、Ｒは構造式（Ｉ）およ
び／または構造式（ＩＩ）における置換基Ｒ3、Ｒ4およ
び／またはＲ6を意味する。「（Ｎに結合するＲがＨ以
外である）」とは構造式（Ｉ）および／または構造式
（ＩＩ）で示されるを繰り返し単位を有するポリマーに
おいて、置換基Ｒ3、Ｒ4および／またはＲ6が水素原子
以外の基である各繰り返し単位の質量を当該繰り返し単
位当たりの分子量で割った値の総計を意味する。また、
「（Ｎに結合するＲがＨである）」とは、構造式（Ｉ）
および／または構造式（ＩＩ）で示されるを繰り返し単
位を有するポリマーにおいて、置換基Ｒ3、Ｒ4および／
またはＲ6が水素原子のみである各繰り返し単位の質量
を当該繰り返し単位当たりの分子量で割った値の総計を
意味する。
【００２６】置換率は、主として、構造式（ＩＶ）また
は構造式（ＶＩ）で示される化合物を目的の置換率に相
当するモル数の置換基を有する化合物（構造式（Ｖ）ま
たは構造式（ＶＩＩ）で示されるピロカーボネート）と
反応させることによってコントロールすることができ
る。また、第二次的には、反応温度、時間などの反応条
件を変更することによって置換率をコントロールするこ
とも可能である。
は構造式（ＶＩ）で示される化合物を目的の置換率に相
当するモル数の置換基を有する化合物（構造式（Ｖ）ま
たは構造式（ＶＩＩ）で示されるピロカーボネート）と
反応させることによってコントロールすることができ
る。また、第二次的には、反応温度、時間などの反応条
件を変更することによって置換率をコントロールするこ
とも可能である。
【００２７】例えば、置換率３０％の構造式（Ｉ）で示
されるを繰り返し単位を有するポリマーを製造するため
には、下記式を満足するようなモル数の構造式（Ｖ）で
示されるピロカーボネートを用いればよい。
されるを繰り返し単位を有するポリマーを製造するため
には、下記式を満足するようなモル数の構造式（Ｖ）で
示されるピロカーボネートを用いればよい。
【００２８】（Ｗ／Ｍ）×２×０．３＝ｗ／ｍ 上記式において、Ｍは構造式（Ｉ）で示されるを繰り返
し単位を有するポリマーの繰り返し単位当たりの分子
量、Ｗは構造式（Ｉ）で示されるを繰り返し単位を有す
るポリマーの質量、ｍは構造式（Ｖ）で示されるピロカ
ーボネートの分子量、およびｗは構造式（Ｖ）で示され
るピロカーボネートの質量をそれぞれ意味する。
し単位を有するポリマーの繰り返し単位当たりの分子
量、Ｗは構造式（Ｉ）で示されるを繰り返し単位を有す
るポリマーの質量、ｍは構造式（Ｖ）で示されるピロカ
ーボネートの分子量、およびｗは構造式（Ｖ）で示され
るピロカーボネートの質量をそれぞれ意味する。
【００２９】本発明は、イミダゾールＮ−Ｈ結合の水素
が他の疎水性の置換基で置き換えられたポリマー、また
は加熱により該ポリマーに変換しうる前駆体ポリマーの
溶液を金属部品上に直接または他の被覆を介して間接的
に塗布することにより実現される。溶媒としてはＮ，Ｎ
−ジメチルフォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの極性溶媒が主
として使用される。溶液濃度については特に限定はない
が、被膜を形成しやすい溶液粘度を得るため、溶液の総
重量に対するポリマーの重量が５重量％から２０重量％
が好ましい。固有粘度値が０．８のポリマーを用いた場
合、５重量％の時約１０ｃｐの溶液粘度が、２０重量％
の時約２０００ｃｐの溶液粘度が得られる。また、本発
明に用いられるポリマー溶液には必要に応じて内添フィ
ラーや結着樹脂物質などを混合することができる。内添
フィラーを含有させることで、得られる被膜の自己潤滑
性などを向上させることができる。結着樹脂物質を含有
させることで、得られる被膜の弾性および表面硬度を改
善することができる。弾性および表面硬度を改善するこ
とによって、被膜表面が他の素材と接触する場合におけ
る接触表面に自由度を持たせることが可能となる。その
ような結着樹脂物質は例えば、シリコン系樹脂、ＰＴＦ
Ｅなどのフッ素系樹脂またはフッ素含有モノマーであ
る。
が他の疎水性の置換基で置き換えられたポリマー、また
は加熱により該ポリマーに変換しうる前駆体ポリマーの
溶液を金属部品上に直接または他の被覆を介して間接的
に塗布することにより実現される。溶媒としてはＮ，Ｎ
−ジメチルフォルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトア
ミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどの極性溶媒が主
として使用される。溶液濃度については特に限定はない
が、被膜を形成しやすい溶液粘度を得るため、溶液の総
重量に対するポリマーの重量が５重量％から２０重量％
が好ましい。固有粘度値が０．８のポリマーを用いた場
合、５重量％の時約１０ｃｐの溶液粘度が、２０重量％
の時約２０００ｃｐの溶液粘度が得られる。また、本発
明に用いられるポリマー溶液には必要に応じて内添フィ
ラーや結着樹脂物質などを混合することができる。内添
フィラーを含有させることで、得られる被膜の自己潤滑
性などを向上させることができる。結着樹脂物質を含有
させることで、得られる被膜の弾性および表面硬度を改
善することができる。弾性および表面硬度を改善するこ
とによって、被膜表面が他の素材と接触する場合におけ
る接触表面に自由度を持たせることが可能となる。その
ような結着樹脂物質は例えば、シリコン系樹脂、ＰＴＦ
Ｅなどのフッ素系樹脂またはフッ素含有モノマーであ
る。
【００３０】本発明においてポリマーを含む被膜が形成
される金属部品には、材質・形状ともに特に制限はな
い。アルミニウム、銅、ステンレス、ニクロムなどの様
々な金属およびそれらの合金からなる部品が主として用
いられる。さらに、これらの金属部品表面に各種塗料、
ＰＴＦＥなどの高分子物質、密着性を向上させるための
シランカップリング剤などの被膜が形成されていてもよ
い。
される金属部品には、材質・形状ともに特に制限はな
い。アルミニウム、銅、ステンレス、ニクロムなどの様
々な金属およびそれらの合金からなる部品が主として用
いられる。さらに、これらの金属部品表面に各種塗料、
ＰＴＦＥなどの高分子物質、密着性を向上させるための
シランカップリング剤などの被膜が形成されていてもよ
い。
【００３１】また、銅箔上に被膜を形成した構成で、接
着層の無い２層型ＴＡＢ用キャリヤーテープやＦＰＣと
して使用することも可能である。
着層の無い２層型ＴＡＢ用キャリヤーテープやＦＰＣと
して使用することも可能である。
【００３２】
【実施例】以下、本発明を実施例を基に詳細に説明す
る。
る。
【００３３】
【実施例１】下式
【化２３】 の繰り返し単位を有するポリベンゾイミダゾール（固有
粘度値０．８）（以下、「ポリマー１」という）の１０
重量％Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液に下式
粘度値０．８）（以下、「ポリマー１」という）の１０
重量％Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液に下式
【化２４】 で示される２炭酸ジエチルをポリベンゾイミダゾールに
対して２当量加えて、室温で２時間攪拌した。８０℃に
加熱してさらに２時間攪拌した後、室温まで冷却後、引
き続き１６時間攪拌を行って、下式で示される繰り返し
単位で代表される置換ポリベンゾイミダゾールを得た。
ＮＭＲで調べた置換率は、６０％であった。
対して２当量加えて、室温で２時間攪拌した。８０℃に
加熱してさらに２時間攪拌した後、室温まで冷却後、引
き続き１６時間攪拌を行って、下式で示される繰り返し
単位で代表される置換ポリベンゾイミダゾールを得た。
ＮＭＲで調べた置換率は、６０％であった。
【００３４】
【化２５】
【００３５】
【実施例２】実施例１で得られた置換ポリベンゾイミダ
ゾールのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液を銅基板上
にキャスティングした後、３５０℃に加熱して乾燥と脱
炭酸反応を行い下式の繰り返し単位で代表されるＮ−エ
チルポリベンゾイミダゾールの膜厚３０μｍフィルムを
得た。
ゾールのＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド溶液を銅基板上
にキャスティングした後、３５０℃に加熱して乾燥と脱
炭酸反応を行い下式の繰り返し単位で代表されるＮ−エ
チルポリベンゾイミダゾールの膜厚３０μｍフィルムを
得た。
【００３６】
【化２６】 得られたフィルムの相対湿度７６％での平衡吸湿率と体
積抵抗率（乾燥状態と相対湿度７６％での平衡吸湿時）
を、従来のポリベンゾイミダゾールの値とともに下記表
１に示す。
積抵抗率（乾燥状態と相対湿度７６％での平衡吸湿時）
を、従来のポリベンゾイミダゾールの値とともに下記表
１に示す。
【００３７】
【実施例３】ポリマー１の１０重量％Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド溶液に、下式
アセトアミド溶液に、下式
【化２７】 で示される４，４−（ヘキサフルオロイソプロピリデ
ン）ジフタリックアンハイドライドをポリベンゾイミダ
ゾールに対して１／６当量加えた。
ン）ジフタリックアンハイドライドをポリベンゾイミダ
ゾールに対して１／６当量加えた。
【００３８】得られた置換ポリベンゾイミダゾールの
Ｎ，Ｎ′−ジメチルアセトアミド溶液を銅基板上にキャ
スティングした後、３５０℃に加熱して乾燥を行い膜厚
１μｍフィルムを得た。得られたフィルムの体積低効率
は表１に示すように、置換前のポリベンゾイミダゾール
（ポリマー１）より優れたものであった。
Ｎ，Ｎ′−ジメチルアセトアミド溶液を銅基板上にキャ
スティングした後、３５０℃に加熱して乾燥を行い膜厚
１μｍフィルムを得た。得られたフィルムの体積低効率
は表１に示すように、置換前のポリベンゾイミダゾール
（ポリマー１）より優れたものであった。
【００３９】
【実施例４】ポリマー１の１０重量％Ｎ，Ｎ−ジメチル
アセトアミド溶液に、下式
アセトアミド溶液に、下式
【化２８】 で示される片末端エポキシ変性シリコーン（平均分子量
４、５００）をポリベンズイミダゾールに対して１／５
０当量加えた。１５０℃で３時間両者を反応させて下式
で代表される置換ポリベンゾイミダゾールを得た。
４、５００）をポリベンズイミダゾールに対して１／５
０当量加えた。１５０℃で３時間両者を反応させて下式
で代表される置換ポリベンゾイミダゾールを得た。
【００４０】
【化２９】 得られた置換ポリベンゾイミダゾールのキャストフィル
ムに対する水の接触角は９０度以上であり、本材料が強
い疎水性を持つことが示された。
ムに対する水の接触角は９０度以上であり、本材料が強
い疎水性を持つことが示された。
【００４１】
【表１】 上記実施例より本発明で得られたポリマーは、非常に優
れた電気絶縁性を有する。また、本発明で得られたポリ
マーはイミダゾールＮ−Ｈを有する従来のポリベンゾイ
ミダゾールと同様の特性を有し、耐薬品性・耐熱性・強
度ともに優れていた。さらに、他の各種金属基材上へも
同様に被膜形成することが可能であり、密着性も優れた
ものであった。
れた電気絶縁性を有する。また、本発明で得られたポリ
マーはイミダゾールＮ−Ｈを有する従来のポリベンゾイ
ミダゾールと同様の特性を有し、耐薬品性・耐熱性・強
度ともに優れていた。さらに、他の各種金属基材上へも
同様に被膜形成することが可能であり、密着性も優れた
ものであった。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のポリマー
を含む被膜を金属部品上に形成することにより、金属部
品表面に優れた電気絶縁層を得ることが可能であり、耐
熱性・耐薬品性・強度に優れた絶縁層被覆金属部品の提
供が可能となる。
を含む被膜を金属部品上に形成することにより、金属部
品表面に優れた電気絶縁層を得ることが可能であり、耐
熱性・耐薬品性・強度に優れた絶縁層被覆金属部品の提
供が可能となる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ３２Ｂ 15/08 Ｂ３２Ｂ 15/08 Ｑ Ｃ０８Ｇ 73/18 ＮＴＰ Ｃ０８Ｇ 73/18 ＮＴＰ
Claims (6)
- 【請求項１】 下記の構造式（Ｉ）： 【化１】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ1 は４価の芳香核で
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ3 は
水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎水性の
基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換されてい
てもよい）の中から独立的に選択され、繰り返し単位を
構成する各Ｒ4 は水素原子およびアルキル基、アリール
基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他の
基で置換されていてもよい）の中から独立的に選択さ
れ、繰り返し単位を構成するすべてのＲ3とＲ4が水素原
子であることはない）で示される繰り返し単位および／
または構造式（ＩＩ）： 【化２】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ5 は窒素原子（芳香
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する芳香核であり、繰
り返し単位を構成する各Ｒ6 は水素原子およびアルキル
基、アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基
がさらに他の基で置換されていてもよい）の中から独立
的に選択され、繰り返し単位を構成するすべてのＲ6 が
水素原子であることはない）で示される繰り返し単位を
有するポリマーを含む被膜が形成された金属部品。 - 【請求項２】 Ｒ3、Ｒ4および／またはＲ6が炭素数１
〜４のフルオロアルキル基またはそれを含むアリール基
である請求項１記載の金属部品。 - 【請求項３】 前記ポリマーが下記の構造式（ＩＩ
Ｉ）： 【化３】 （式中、繰り返し単位を構成するすべてのＲ3 は同一で
あって、アルキル基、アリール基などの疎水性の基（こ
れらの疎水性の基がさらに他の基で置換されていてもよ
い）であり、繰り返し単位を構成するすべてのＲ4 はア
ルキル基、アリール基などの疎水性の基（これらの疎水
性の基がさらに他の基で置換されていてもよい）である
か、もしくは繰り返し単位を構成するすべてのＲ3 と繰
り返し単位を構成するすべてのＲ4 のいずれか一方がア
ルキル基、アリール基などの疎水性の基（これらの疎水
性の基がさらに他の基で置換されていてもよい）の中か
ら選択され、他方が水素原子であり、ｎは２以上の整数
を表す）で示される、請求項１記載の金属部品。 - 【請求項４】 Ｒ3および／またはＲ4が炭素数１〜４の
フルオロアルキル基またはそれを含むアリール基である
請求項３記載の金属部品。 - 【請求項５】 下記の構造式（ＩＶ）： 【化４】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ1 は４価の芳香核で
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選ばれ、ｎは２以上の整数を表す）で示され
る化合物を下記の構造式（Ｖ）： 【化５】 （式中、Ｒ3 およびＲ4 はいずれも、同一または異なっ
て、水素原子およびアルキル基、アリール基などの疎水
性の基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換され
ていてもよい）の中から選択されるが、Ｒ3とＲ4がとも
に水素原子であることはない）で示されるピロカーボネ
ートと反応させることにより得られた請求項１に記載の
構造式（Ｉ）で示される繰り返し単位を有するポリマー
および／または下記の構造式（ＶＩ）： 【化６】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ5 は窒素原子（芳香
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する芳香核であり、ｎ
は２以上の整数を表す）で示される化合物を下記の構造
式（ＶＩＩ）： 【化７】 （式中、各Ｒ6 は、水素原子およびアルキル基、アリー
ル基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさらに他
の基で置換されていてもよい）の中から独立的に選択さ
れるが、双方のＲ6 が水素原子であることはない）で示
されるピロカーボネートと反応させることにより得られ
た、請求項１に記載の構造式（ＩＩ）で示される繰り返
し単位を有するポリマー、を含む被膜を金属部品に直接
または間接に形成することを特徴とする金属部品の製
法。 - 【請求項６】 構造式（ＩＶ）で示される化合物を構造
式（Ｖ）で示されるピロカーボネートと反応させること
により得られた下記の構造式（ＶＩＩＩ）： 【化８】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ1 は４価の芳香核で
あって、窒素原子によって対称的に置換されており、繰
り返し単位を構成するＲ2 は２価の基であり、炭素数が
２から２０までの脂肪族、脂環族および芳香族のラジカ
ルの中から選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ7 は
水素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、
アリール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさ
らに他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から
独立的に選択され、繰り返し単位を構成する各Ｒ8 は水
素原子および基−ＣＯＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、ア
リール基などの疎水性の基（これらの疎水性の基がさら
に他の基で置換されていてもよい）を表す）の中から独
立的に選択され、ｎは２以上の整数を表すが、繰り返し
単位を構成するすべてのＲ7とＲ8が水素原子であること
はない）で示されるポリマーおよび／または構造式（Ｖ
Ｉ）で示される化合物を構造式（ＶＩＩ）で示されるピ
ロカーボネートと反応させることにより得られた下記の
構造式（ＩＸ）： 【化９】 （式中、繰り返し単位を構成するＲ5 は窒素原子（芳香
核の隣接した炭素原子上で組合わされているベンゾイミ
ダゾール環を形成している）を有する芳香核であり、繰
り返し単位を構成する各Ｒ9は水素原子および基−ＣＯ
ＯＲ（式中、Ｒはアルキル基、アリール基などの疎水性
の基（これらの疎水性の基がさらに他の基で置換されて
いてもよい）を表す）の中から独立的に選択され、ｎは
２以上の整数を表すが、繰り返し単位を構成するすべて
のＲ9が水素原子であることはない）で示されるポリマ
ー、を溶解した溶液を用いて、該ポリマーの被膜を金属
部品上に形成し、引き続き該ポリマーの被膜が形成され
た金属部品の熱処理を行い、請求項１に記載の構造式
（Ｉ）で示される繰り返し単位および／または請求項１
に記載の構造式（ＩＩ）で示される繰り返し単位を有す
るポリマーの被膜を形成することを特徴とする金属部品
の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33449795A JPH08253732A (ja) | 1994-12-22 | 1995-12-22 | ポリマー被覆金属部品およびその製法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32040694 | 1994-12-22 | ||
| JP6-320406 | 1994-12-22 | ||
| JP33449795A JPH08253732A (ja) | 1994-12-22 | 1995-12-22 | ポリマー被覆金属部品およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08253732A true JPH08253732A (ja) | 1996-10-01 |
Family
ID=26570068
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33449795A Pending JPH08253732A (ja) | 1994-12-22 | 1995-12-22 | ポリマー被覆金属部品およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08253732A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007217489A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Soken Chem & Eng Co Ltd | Ｏｈ変性ポリベンゾイミダゾール樹脂及びその製造方法 |
| JP2010538144A (ja) * | 2007-09-07 | 2010-12-09 | ネクソルブ・コーポレイシヨン | オリゴマーシルセスキオキサンを有するポリイミドポリマー |
-
1995
- 1995-12-22 JP JP33449795A patent/JPH08253732A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007217489A (ja) * | 2006-02-15 | 2007-08-30 | Soken Chem & Eng Co Ltd | Ｏｈ変性ポリベンゾイミダゾール樹脂及びその製造方法 |
| JP2010538144A (ja) * | 2007-09-07 | 2010-12-09 | ネクソルブ・コーポレイシヨン | オリゴマーシルセスキオキサンを有するポリイミドポリマー |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20040630 |
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