JPH0824621A - 処理液の滴下方法 - Google Patents
処理液の滴下方法Info
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- JPH0824621A JPH0824621A JP17980095A JP17980095A JPH0824621A JP H0824621 A JPH0824621 A JP H0824621A JP 17980095 A JP17980095 A JP 17980095A JP 17980095 A JP17980095 A JP 17980095A JP H0824621 A JPH0824621 A JP H0824621A
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- Feeding, Discharge, Calcimining, Fusing, And Gas-Generation Devices (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【目的】注入管の末端から処理液が凝固するのを防止す
る。 【構成】処理液を吐出するノズル３１に接続する注入管
１１と、該注入管１１を上記ノズル３１迄覆うコネクタ
２９と、該コネクタ２９に接続するチューブ２８より構
成される吐出部分を用い、上記注入管１１に、サックバ
ック用ベローズを介して、収容容器から送られて来る処
理液を供給し、上記チューブ２８から上記コネクタ２９
に温調された液体を供給することにより、上記注入管１
１内の処理液を所定の温度に保ち、上記サックバック用
ベローズを開くことにより、上記注入管１１内の処理液
をウエーハに滴下する。 【効果】上記吐出部分から処理液を常に安定して滴下す
ることができる。また、上記吐出部分から滴下する処理
液の量をサックバック用ベローズの開け閉めにより、正
確にコントロールすることができる。従って、ウエーハ
上に塗布されるフォトレジストの膜厚を、各ウエーハ間
で、均一にすることができる。
る。 【構成】処理液を吐出するノズル３１に接続する注入管
１１と、該注入管１１を上記ノズル３１迄覆うコネクタ
２９と、該コネクタ２９に接続するチューブ２８より構
成される吐出部分を用い、上記注入管１１に、サックバ
ック用ベローズを介して、収容容器から送られて来る処
理液を供給し、上記チューブ２８から上記コネクタ２９
に温調された液体を供給することにより、上記注入管１
１内の処理液を所定の温度に保ち、上記サックバック用
ベローズを開くことにより、上記注入管１１内の処理液
をウエーハに滴下する。 【効果】上記吐出部分から処理液を常に安定して滴下す
ることができる。また、上記吐出部分から滴下する処理
液の量をサックバック用ベローズの開け閉めにより、正
確にコントロールすることができる。従って、ウエーハ
上に塗布されるフォトレジストの膜厚を、各ウエーハ間
で、均一にすることができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液体処理装置、特にフォ
トレジストを一定温度で注入するシステム、とりわけ固
体撮像素子のウエーハへのゼラチン塗布に好適なフォト
レジスト定温注入システムに関するものである。
トレジストを一定温度で注入するシステム、とりわけ固
体撮像素子のウエーハへのゼラチン塗布に好適なフォト
レジスト定温注入システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に固体撮像素子には、色分解フィル
タとして一種のフォトレジストであるゼラチンが使用さ
れており、このゼラチンはウエーハ上に形成された絵素
上に回転塗布法により被着形成される。そして、このゼ
ラチンは、約２５℃程度の常温でゲル状態を呈している
ため、約２５℃以上に温め、ゾル状態にしておかなけれ
ば塗布できない。さらにゼラチンは、またウエーハも塗
布膜厚が均一で膜欠点もない良好な塗布を行うためには
所定の温度に温調する必要がある。
タとして一種のフォトレジストであるゼラチンが使用さ
れており、このゼラチンはウエーハ上に形成された絵素
上に回転塗布法により被着形成される。そして、このゼ
ラチンは、約２５℃程度の常温でゲル状態を呈している
ため、約２５℃以上に温め、ゾル状態にしておかなけれ
ば塗布できない。さらにゼラチンは、またウエーハも塗
布膜厚が均一で膜欠点もない良好な塗布を行うためには
所定の温度に温調する必要がある。
【０００３】これらの条件を踏まれた従来のゼラチン塗
布システムを図３に示す。同図において、従来のシステ
ムは、恒温槽１，ヒータ２，温度センサ３，撹拌器４お
よび温度調節器５により恒温に温調される液体６に、ゼ
ラチン７の収容容器８が入れられた加圧容器９を浸け、
ゼラチン７をゾル状態にしておくとともに、一定温度に
保温させる。また恒温槽１から塗布室１０までの注入系
を内部に注入管１１が通された弗素樹脂製チューブ１２
と、この外部を覆った断熱材１３と、これとチューブ１
２との間に入れられたヒータ１４および温度センサ１５
と、温度調節器１６とにより温調し、ゼラチン７を一定
温度で吐出させる。さらに図示しないファンと、ヒータ
およびフィルタとからなるファンヒータユニットとによ
り、温風１７をダクト１８を通して塗布室１０へ送り込
み、回転するように構成されているチャック１９に吸着
されたウエーハ２０を一定温度に加熱するようになって
いる。なお、２１は廃液回収容器、２２はウエーハ２０
の回転時に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、２３は
ゼラチンを吐出させるための所定の圧力に制御されたＮ
2ガス、２４はフィルタ、２５，２６は注入管１１の開
閉，吐出側ゼラチンのサックバック用ベローズである。
布システムを図３に示す。同図において、従来のシステ
ムは、恒温槽１，ヒータ２，温度センサ３，撹拌器４お
よび温度調節器５により恒温に温調される液体６に、ゼ
ラチン７の収容容器８が入れられた加圧容器９を浸け、
ゼラチン７をゾル状態にしておくとともに、一定温度に
保温させる。また恒温槽１から塗布室１０までの注入系
を内部に注入管１１が通された弗素樹脂製チューブ１２
と、この外部を覆った断熱材１３と、これとチューブ１
２との間に入れられたヒータ１４および温度センサ１５
と、温度調節器１６とにより温調し、ゼラチン７を一定
温度で吐出させる。さらに図示しないファンと、ヒータ
およびフィルタとからなるファンヒータユニットとによ
り、温風１７をダクト１８を通して塗布室１０へ送り込
み、回転するように構成されているチャック１９に吸着
されたウエーハ２０を一定温度に加熱するようになって
いる。なお、２１は廃液回収容器、２２はウエーハ２０
の回転時に発生するゼラチン飛沫吸引用ブロア、２３は
ゼラチンを吐出させるための所定の圧力に制御されたＮ
2ガス、２４はフィルタ、２５，２６は注入管１１の開
閉，吐出側ゼラチンのサックバック用ベローズである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】このように構成された
従来システムは、ゼラチン注入系の温調方法に問題があ
った。すなわち、温度調節器５の設定温度とゼラチン７
の吐出温度とが異なるため、吐出液温調整が不便であっ
た。また塗布室１０内のゼラチン温度を調節出来ないと
いう欠点もあった。さらにこのため、ウエーハ加熱用温
風を塗布室１０へ送り込まなければ注入管１１の末端か
らゼラチンが凝固してくる問題もあった。
従来システムは、ゼラチン注入系の温調方法に問題があ
った。すなわち、温度調節器５の設定温度とゼラチン７
の吐出温度とが異なるため、吐出液温調整が不便であっ
た。また塗布室１０内のゼラチン温度を調節出来ないと
いう欠点もあった。さらにこのため、ウエーハ加熱用温
風を塗布室１０へ送り込まなければ注入管１１の末端か
らゼラチンが凝固してくる問題もあった。
【０００５】したがって本発明は、上述した従来技術の
問題点を解消するためになされたものであり、その目的
とするところは、注入系の末端まで温調できるフォトレ
ジスト定温注入システムを提供することにある。
問題点を解消するためになされたものであり、その目的
とするところは、注入系の末端まで温調できるフォトレ
ジスト定温注入システムを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために本発明は、処理液を吐出するノズルに接続する
第１の管と、該第１の管を覆う第２の管と、上記ノズル
の近傍で該第２の管に接続する第３の管より構成される
吐出部分を用い、上記第２の管内に温調された液体を供
給しながら、上記処理液の容器から上記第１の管内に送
られて来る処理液を被加工物に間欠的に滴下することを
特徴とする処理液の滴下方法とした。
るために本発明は、処理液を吐出するノズルに接続する
第１の管と、該第１の管を覆う第２の管と、上記ノズル
の近傍で該第２の管に接続する第３の管より構成される
吐出部分を用い、上記第２の管内に温調された液体を供
給しながら、上記処理液の容器から上記第１の管内に送
られて来る処理液を被加工物に間欠的に滴下することを
特徴とする処理液の滴下方法とした。
【０００７】さらに、上記第１の管内に上記処理液をサ
ックバック用ベローズにより間欠的に供給し、その間上
記第１の管内の処理液を上記温調された液体により所定
の温度に保つことを特徴とする処理液の滴下方法とし
た。
ックバック用ベローズにより間欠的に供給し、その間上
記第１の管内の処理液を上記温調された液体により所定
の温度に保つことを特徴とする処理液の滴下方法とし
た。
【０００８】さらに、上記温度調節された液体を、上記
第３の管より、供給することを特徴とする処理液の滴下
方法とした。
第３の管より、供給することを特徴とする処理液の滴下
方法とした。
【０００９】さらに、上記温調された液体は上記第１の
管と上記第２の管の間を上記吐出部分から上記容器の方
向に向けて流すことを特徴とする処理液の滴下方法とし
た。
管と上記第２の管の間を上記吐出部分から上記容器の方
向に向けて流すことを特徴とする処理液の滴下方法とし
た。
【００１０】さらに、上記所定温度は上記第１の管内の
処理液の凝固する温度より高いことを特徴とする処理液
の滴下方法とした。
処理液の凝固する温度より高いことを特徴とする処理液
の滴下方法とした。
【００１１】また、処理液を吐出するノズルと、第１の
管と、上記ノズルと上記第１の管とを連結するコネクタ
と、上記第１の管を覆い上記コネクタに連結される第２
の管と、上記コネクタに連結される第３の管とより構成
される吐出部分を用い、上記第１の管と上記第２の管の
間、上記第１の管と上記コネクタの間及び上記第３の管
を通して温調された液体を供給しながら、上記処理液の
容器から上記第１の管内に送られて来る処理液を被加工
物に滴下することを特徴とする処理液の滴下方法とし
た。
管と、上記ノズルと上記第１の管とを連結するコネクタ
と、上記第１の管を覆い上記コネクタに連結される第２
の管と、上記コネクタに連結される第３の管とより構成
される吐出部分を用い、上記第１の管と上記第２の管の
間、上記第１の管と上記コネクタの間及び上記第３の管
を通して温調された液体を供給しながら、上記処理液の
容器から上記第１の管内に送られて来る処理液を被加工
物に滴下することを特徴とする処理液の滴下方法とし
た。
【００１２】
【作用】上記の処理液の滴下方法によれば、処理液を間
欠吐出する場合、処理液を吐出しない間も第１の管の末
端から処理液が凝固してくる問題がないので、上記吐出
部分から処理液を常に安定して滴下することができる。
欠吐出する場合、処理液を吐出しない間も第１の管の末
端から処理液が凝固してくる問題がないので、上記吐出
部分から処理液を常に安定して滴下することができる。
【００１３】また上記の処理液の滴下方法によれば、ノ
ズル近傍の、第１の管内の処理液の温度を一定に保つこ
とが出来るので、ノズル付近の処理液の粘性も常に一定
に保たれ、間欠吐出する頻度に影響されず、上記吐出部
分から滴下する処理液の量を常に一定に保つことができ
る。
ズル近傍の、第１の管内の処理液の温度を一定に保つこ
とが出来るので、ノズル付近の処理液の粘性も常に一定
に保たれ、間欠吐出する頻度に影響されず、上記吐出部
分から滴下する処理液の量を常に一定に保つことができ
る。
【００１４】さらに、サックバック用ベローズを用いる
ことにより、上記吐出部分から滴下する処理液の量を正
確に制御することができる。
ことにより、上記吐出部分から滴下する処理液の量を正
確に制御することができる。
【００１５】さらに、新しく温度調節された液体を、第
３の管を通して、ノズルの近傍の第１の管と第２の管の
間に供給することにより、ノズルの近傍の第１の管内の
処理液の温度が正確に設定される。
３の管を通して、ノズルの近傍の第１の管と第２の管の
間に供給することにより、ノズルの近傍の第１の管内の
処理液の温度が正確に設定される。
【００１６】さらに、温調された液体を第１の管と第２
の管の間を上記吐出部分から処理液の容器の方向に向け
て流すことにより、上記温調された液体と処理液との間
の熱交換効率が良くなり、精度の良い温度制御が出来
る。
の管の間を上記吐出部分から処理液の容器の方向に向け
て流すことにより、上記温調された液体と処理液との間
の熱交換効率が良くなり、精度の良い温度制御が出来
る。
【００１７】さらに上記の処理液の滴下方法をフォトレ
ジストの塗布方法に応用することにより、ウエーハ上に
塗布されるフォトレジストの膜厚を、各ウエーハ間で、
均一にすることができる。
ジストの塗布方法に応用することにより、ウエーハ上に
塗布されるフォトレジストの膜厚を、各ウエーハ間で、
均一にすることができる。
【００１８】
【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例を詳細に説
明する。図２は本発明によるフォトレジスト定温注入シ
ステムの一例を示す断面構成図であり、図３と同符号は
同一要素となるのでその説明は省略する。図２におい
て、恒温槽１から塗布室１０を経由し、再び恒温槽１ま
でポンプ２７を通してチューブ２８が配管されている。
そして、このチューブ２８の内部にはゼラチン７の注入
管１１が塗布室１０まで通されている。また塗布室１０
内のゼラチン吐出部分は図１に要部断面図で示すような
構造を有している。すなわち、図１において、２９はコ
ネクタであり、このコネクタ２９には前記チューブ２８
が通常用いられているチューブ継手３０により接続され
ている。また、前記注入管１１の先端は、フランジ加工
され、コネクタ２９の一端にねじ込まれるノズル３１に
より、コネクタ２９に締付固定されている。なお、３２
はシール材である。
明する。図２は本発明によるフォトレジスト定温注入シ
ステムの一例を示す断面構成図であり、図３と同符号は
同一要素となるのでその説明は省略する。図２におい
て、恒温槽１から塗布室１０を経由し、再び恒温槽１ま
でポンプ２７を通してチューブ２８が配管されている。
そして、このチューブ２８の内部にはゼラチン７の注入
管１１が塗布室１０まで通されている。また塗布室１０
内のゼラチン吐出部分は図１に要部断面図で示すような
構造を有している。すなわち、図１において、２９はコ
ネクタであり、このコネクタ２９には前記チューブ２８
が通常用いられているチューブ継手３０により接続され
ている。また、前記注入管１１の先端は、フランジ加工
され、コネクタ２９の一端にねじ込まれるノズル３１に
より、コネクタ２９に締付固定されている。なお、３２
はシール材である。
【００１９】このように配管された注入系において、ポ
ンプ２７を作動させることにより、恒温槽１内に液体６
が注入管１１のまわりを包むようにしてチューブ２８と
コネクタ２９とを通って循環する。一方、液体６は前述
したように恒温となるように常時加熱温調されている。
したがって、この定温注入システムによれば、収容容器
８内のゼラチン７の温度を一定に保つと同時に注入管１
１内のゼラチン温度も一定に保つことができる。また、
液体６の温度はそのまま収容容器８および注入管１１内
のゼラチン温度となるため、温度調節器５の設定温度と
ゼラチン吐出温度とが同一となる。
ンプ２７を作動させることにより、恒温槽１内に液体６
が注入管１１のまわりを包むようにしてチューブ２８と
コネクタ２９とを通って循環する。一方、液体６は前述
したように恒温となるように常時加熱温調されている。
したがって、この定温注入システムによれば、収容容器
８内のゼラチン７の温度を一定に保つと同時に注入管１
１内のゼラチン温度も一定に保つことができる。また、
液体６の温度はそのまま収容容器８および注入管１１内
のゼラチン温度となるため、温度調節器５の設定温度と
ゼラチン吐出温度とが同一となる。
【００２０】このように、温度調節器５の設定温度とゼ
ラチン吐出温度とが同一になるように温度調節できるの
は、上述のいわば２重管の管状にした部分で、一定温度
の温度調整用の液体が、処理液を包むようにながれるこ
とにより処理液の温度変化を極めて少なくすることが出
来るからである。すなわち、温度調節用の液体は基本的
に温度が変化しないように制御される。よって、温度調
整用の液体は温度変化による対流等は、期待出来ず、循
環用ポンプを設けることが必須となる。
ラチン吐出温度とが同一になるように温度調節できるの
は、上述のいわば２重管の管状にした部分で、一定温度
の温度調整用の液体が、処理液を包むようにながれるこ
とにより処理液の温度変化を極めて少なくすることが出
来るからである。すなわち、温度調節用の液体は基本的
に温度が変化しないように制御される。よって、温度調
整用の液体は温度変化による対流等は、期待出来ず、循
環用ポンプを設けることが必須となる。
【００２１】また、処理液の注入管１１と容器８とを同
じ液体６で温度調節しているので、或いは、それらを共
通の温度制御系２、３及び５で温度調節しているので、
温度制御性が良い。ポンプ２７は注入管が内側に挿入さ
れていないチューブ２８の部分に取り付けられているた
め、取付けが簡単である。
じ液体６で温度調節しているので、或いは、それらを共
通の温度制御系２、３及び５で温度調節しているので、
温度制御性が良い。ポンプ２７は注入管が内側に挿入さ
れていないチューブ２８の部分に取り付けられているた
め、取付けが簡単である。
【００２２】また本発明の吐出部分は図１に示すよう
に、温度調節用の液体はチューブ２８から、ノズル３１
の近傍にある、コネクタ２９に供給される構造になって
いる。
に、温度調節用の液体はチューブ２８から、ノズル３１
の近傍にある、コネクタ２９に供給される構造になって
いる。
【００２３】従って、ノズル３１内及びノズル３１の近
傍の注入管内の処理液が、絶えず供給される温度調節用
液体により、恒温かつ一定の粘度に保たれるので、ノズ
ル３１から滴下する処理液の量を正確にコントロールす
ることが出来る。
傍の注入管内の処理液が、絶えず供給される温度調節用
液体により、恒温かつ一定の粘度に保たれるので、ノズ
ル３１から滴下する処理液の量を正確にコントロールす
ることが出来る。
【００２４】特に、図２に示すサックバック用ベローズ
２５、２６等を用いて、間欠的に吐出する処理液の滴下
法に本発明の吐出部分を用いることにより、処理液が注
入管１１内を流動しない間も、注入管１１内の処理液が
ノズル３１側から凝固してくるのが防止されかつ一定の
粘度に保たれる、優れた効果が得られる。
２５、２６等を用いて、間欠的に吐出する処理液の滴下
法に本発明の吐出部分を用いることにより、処理液が注
入管１１内を流動しない間も、注入管１１内の処理液が
ノズル３１側から凝固してくるのが防止されかつ一定の
粘度に保たれる、優れた効果が得られる。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、吐
出部分の処理液の温度を、温調液により、所定の温度に
保つので、吐出部分から処理液が凝固してくる問題がな
く、上記吐出部分から処理液を常に安定して滴下するこ
とができる。
出部分の処理液の温度を、温調液により、所定の温度に
保つので、吐出部分から処理液が凝固してくる問題がな
く、上記吐出部分から処理液を常に安定して滴下するこ
とができる。
【００２６】また、吐出部分の処理液の粘度も一定に保
たれるので、吐出部分から滴下する処理液の量を正確に
コントロールすることが出来る。
たれるので、吐出部分から滴下する処理液の量を正確に
コントロールすることが出来る。
【図１】本発明の処理液吐出部分の要部断面構成図。
【図２】本発明に係わる処理液塗布システムの一例を説
明するための要部断面構成図。
明するための要部断面構成図。
【図３】従来の処理液塗布システムの一例を説明するた
めの要部断面構成図。
めの要部断面構成図。
１……恒温槽、２……ヒータ、３……温度センサ、４…
…撹拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、１０……塗布
室、１１……注入管、１２……チューブ、１３……断熱
材、１４……ヒータ、１５……温度センサ、１６……温
度調節器、１７……温風、１８……ダクト、１９……チ
ャック、２０……ウエーハ、２１……廃液回収容器、２
２……ブロア、２３……Ｎ2ガス、２４……フィルタ、
２５，２６……ベローズ、２７……ポンプ、２８……チ
ューブ、２９……コネクタ、３０……チューブ継手、３
１……ノズル、３２……シール材。
…撹拌器、５……温度調節器、６……液体、７……ゼラ
チン、８……収容容器、９……加圧容器、１０……塗布
室、１１……注入管、１２……チューブ、１３……断熱
材、１４……ヒータ、１５……温度センサ、１６……温
度調節器、１７……温風、１８……ダクト、１９……チ
ャック、２０……ウエーハ、２１……廃液回収容器、２
２……ブロア、２３……Ｎ2ガス、２４……フィルタ、
２５，２６……ベローズ、２７……ポンプ、２８……チ
ューブ、２９……コネクタ、３０……チューブ継手、３
１……ノズル、３２……シール材。
Claims (8)
- 【請求項１】処理液を吐出するノズルに接続する第１の
管と、該第１の管を覆う第２の管と、上記ノズルの近傍
で該第２の管に接続する第３の管より構成される吐出部
分を用い、 上記第２の管内に温調された液体を供給しながら、上記
処理液の容器から上記第１の管内に送られて来る処理液
を被加工物に間欠的に滴下することを特徴とする処理液
の滴下方法。 - 【請求項２】上記第１の管内に上記処理液をサックバッ
ク用ベローズにより間欠的に供給し、その間上記第１の
管内の処理液を上記温調された液体により所定の温度に
保つことを特徴とする請求項１記載の処理液の滴下方
法。 - 【請求項３】上記温度調節された液体を、上記第３の管
より、供給することを特徴とする請求項１記載の処理液
の滴下方法。 - 【請求項４】上記温調された液体は上記第１の管と上記
第２の管の間を上記吐出部分から上記容器の方向に向け
て流すことを特徴とする請求項３記載の処理液の滴下方
法。 - 【請求項５】上記所定温度は上記第１の管内の処理液の
凝固する温度より高いことを特徴とする請求項１記載の
処理液の滴下方法。 - 【請求項６】処理液を吐出するノズルと、第１の管と、
上記ノズルと上記第１の管とを連結するコネクタと、上
記第１の管を覆い上記コネクタに連結される第２の管
と、上記コネクタに連結される第３の管とより構成され
る吐出部分を用い、 上記第１の管と上記第２の管の間、上記第１の管と上記
コネクタの間及び上記第３の管を通して温調された液体
を供給しながら、上記処理液の容器から上記第１の管内
に送られて来る処理液を被加工物に滴下することを特徴
とする処理液の滴下方法。 - 【請求項７】上記温度調節された液体を、上記第３の管
より、供給することを特徴とする請求項６記載の処理液
の滴下方法。 - 【請求項８】上記温調された液体は上記第２の管内を上
記吐出部分から上記容器の方向に向けて流すことを特徴
とする請求項３記載の処理液の滴下方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7179800A JP2616748B2 (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7179800A JP2616748B2 (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 半導体装置の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1174024A Division JPH0667466B2 (ja) | 1989-07-07 | 1989-07-07 | 被加工物の処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0824621A true JPH0824621A (ja) | 1996-01-30 |
| JP2616748B2 JP2616748B2 (ja) | 1997-06-04 |
Family
ID=16072122
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7179800A Expired - Lifetime JP2616748B2 (ja) | 1995-07-17 | 1995-07-17 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2616748B2 (ja) |
Citations (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5096969A (ja) * | 1973-12-24 | 1975-08-01 | ||
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| JPS5670869A (en) * | 1979-11-14 | 1981-06-13 | Hitachi Ltd | Spinner coating apparatus |
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1995
- 1995-07-17 JP JP7179800A patent/JP2616748B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2616748B2 (ja) | 1997-06-04 |
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