JPH08245944A - 紫外線吸収剤及びコーティング材料 - Google Patents
紫外線吸収剤及びコーティング材料Info
- Publication number
- JPH08245944A JPH08245944A JP7052992A JP5299295A JPH08245944A JP H08245944 A JPH08245944 A JP H08245944A JP 7052992 A JP7052992 A JP 7052992A JP 5299295 A JP5299295 A JP 5299295A JP H08245944 A JPH08245944 A JP H08245944A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- compound
- group
- benzotriazol
- hydroxy
- ultraviolet
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims description 33
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims description 32
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 17
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 title abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 39
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 16
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 claims abstract description 10
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- 125000006297 carbonyl amino group Chemical group [H]N([*:2])C([*:1])=O 0.000 claims abstract description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 20
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 claims description 20
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 9
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 claims 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 16
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 16
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- YCMRWTYHXRBNRU-UHFFFAOYSA-N 3-[4-hydroxy-3-methyl-5-(5-methylbenzotriazol-2-yl)phenyl]-n-(2-trimethoxysilylethyl)propanamide Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCNC(=O)CCC1=CC(C)=C(O)C(N2N=C3C=C(C)C=CC3=N2)=C1 YCMRWTYHXRBNRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 230000000740 bleeding effect Effects 0.000 abstract 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 abstract 1
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 abstract 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 abstract 1
- -1 methacryloyl group Chemical group 0.000 description 31
- 229940126062 Compound A Drugs 0.000 description 30
- NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N Heterophylliin A Natural products O1C2COC(=O)C3=CC(O)=C(O)C(O)=C3C3=C(O)C(O)=C(O)C=C3C(=O)OC2C(OC(=O)C=2C=C(O)C(O)=C(O)C=2)C(O)C1OC(=O)C1=CC(O)=C(O)C(O)=C1 NLDMNSXOCDLTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 238000000862 absorption spectrum Methods 0.000 description 18
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 13
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 9
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 8
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 8
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N Chloroform Chemical compound ClC(Cl)Cl HEDRZPFGACZZDS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L [dibutyl(dodecanoyloxy)stannyl] dodecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCC(=O)O[Sn](CCCC)(CCCC)OC(=O)CCCCCCCCCCC UKLDJPRMSDWDSL-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 6
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N octyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCCCCCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O DMFXLIFZVRXRRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N silanamine Chemical class [SiH3]N FZHAPNGMFPVSLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 5
- 239000012975 dibutyltin dilaurate Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 5
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007259 addition reaction Methods 0.000 description 4
- XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N allyl alcohol Chemical compound OCC=C XXROGKLTLUQVRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N isocyanatosilane Chemical class [SiH3]N=C=O BUZRAOJSFRKWPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 4
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N triethoxy(3-isocyanatopropyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN=C=O FRGPKMWIYVTFIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N triethoxysilane Chemical compound CCO[SiH](OCC)OCC QQQSFSZALRVCSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 3
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- CHKKZILXOJVMAD-UHFFFAOYSA-N 2-(benzotriazol-2-yl)-4-(2-hydroxyethyl)phenol Chemical compound OCCC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 CHKKZILXOJVMAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ITFHFFVIQBVZNR-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)phenol;propan-1-ol Chemical compound CCCO.CC(C)(C)C1=CC=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O ITFHFFVIQBVZNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CNXZIBKNVVUAIE-UHFFFAOYSA-N 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]-n-(3-triethoxysilylpropyl)propanamide Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)NCCC[Si](OCC)(OCC)OCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O CNXZIBKNVVUAIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NFORJTXNUVBLOK-UHFFFAOYSA-N 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O NFORJTXNUVBLOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 2
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 2
- VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N Allylamine Chemical compound NCC=C VVJKKWFAADXIJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 2
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 2
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- NDVXWXCCFNYDTK-UHFFFAOYSA-N propyl 3-[3-tert-butyl-5-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]propanoate Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCC(=O)OCCC)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O NDVXWXCCFNYDTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 2
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N titanium(IV) isopropoxide Chemical compound CC(C)O[Ti](OC(C)C)(OC(C)C)OC(C)C VXUYXOFXAQZZMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 2
- YLBKYSXIBVDOSY-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(benzotriazol-2-yl)-4-hydroxyphenyl]acetic acid Chemical compound OC(=O)CC1=CC=C(O)C(N2N=C3C=CC=CC3=N2)=C1 YLBKYSXIBVDOSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- WIZVALYRXUIVMS-UHFFFAOYSA-N 2-tert-butyl-6-(5-chlorobenzotriazol-2-yl)-4-(3-hydroxypropyl)phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(CCCO)=CC(N2N=C3C=C(Cl)C=CC3=N2)=C1O WIZVALYRXUIVMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CJBDUOMQLFKVQC-UHFFFAOYSA-N 3-(2-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1O CJBDUOMQLFKVQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVBULFZAKJVATH-UHFFFAOYSA-N 3-(2-propylphenyl)propanamide Chemical compound C(CC)C1=C(C=CC=C1)CCC(=O)N CVBULFZAKJVATH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZPMCQRCORYQQB-UHFFFAOYSA-N 3-(2-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propanoic acid Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1CCC(O)=O VZPMCQRCORYQQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRKFHAWZOZLLBC-UHFFFAOYSA-N 3-[4-hydroxy-3-(5-methylbenzotriazol-2-yl)-5-propan-2-ylphenyl]propanoic acid Chemical compound CC(C)C1=CC(CCC(O)=O)=CC(N2N=C3C=C(C)C=CC3=N2)=C1O QRKFHAWZOZLLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCN HXLAEGYMDGUSBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FSMHYZUFHYGNHS-UHFFFAOYSA-N 3-[ethoxy-di(propan-2-yl)silyl]propan-1-amine Chemical compound CCO[Si](C(C)C)(C(C)C)CCCN FSMHYZUFHYGNHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJURIXUDYDHOMA-UHFFFAOYSA-N 3-[tris[2-(2-methoxyethoxy)ethoxy]silyl]propan-1-amine Chemical compound COCCOCCO[Si](CCCN)(OCCOCCOC)OCCOCCOC PJURIXUDYDHOMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLBNHVVSCQAMHG-UHFFFAOYSA-N 3-isocyanatopropyl-methoxy-dimethylsilane Chemical compound CO[Si](C)(C)CCCN=C=O XLBNHVVSCQAMHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDHDYFSACUGWLQ-UHFFFAOYSA-N 3-phenyl-N-(3-triethoxysilylpropyl)propanamide Chemical compound C1(=CC=CC=C1)CCC(=O)NCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XDHDYFSACUGWLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBZRNYXXCIELG-WYFCWLEVSA-N COC1=CC=C(C[C@H](NC(=O)OC2CCCC3(C2)OOC2(O3)C3CC4CC(C3)CC2C4)C(=O)N[C@@H]2[C@@H](CO)O[C@H]([C@@H]2O)N2C=NC3=C2N=CN=C3N(C)C)C=C1 Chemical compound COC1=CC=C(C[C@H](NC(=O)OC2CCCC3(C2)OOC2(O3)C3CC4CC(C3)CC2C4)C(=O)N[C@@H]2[C@@H](CO)O[C@H]([C@@H]2O)N2C=NC3=C2N=CN=C3N(C)C)C=C1 PCBZRNYXXCIELG-WYFCWLEVSA-N 0.000 description 1
- OKSWIWVKFCDHAR-UHFFFAOYSA-N C[Si](C)(C)O[SiH](O[Si](C)(C)C)CCCN Chemical compound C[Si](C)(C)O[SiH](O[Si](C)(C)C)CCCN OKSWIWVKFCDHAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- 229920000877 Melamine resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004640 Melamine resin Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005370 alkoxysilyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N diethoxy(methyl)silicon Chemical compound CCO[Si](C)OCC GAURFLBIDLSLQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 1
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- PVXAEFHZZIVEEJ-UHFFFAOYSA-N ethoxy-di(propan-2-yl)silane Chemical compound CCO[SiH](C(C)C)C(C)C PVXAEFHZZIVEEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N ethyl chloroformate Chemical compound CCOC(Cl)=O RIFGWPKJUGCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 238000006459 hydrosilylation reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000001782 photodegradation Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Substances [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002239 polyacrylonitrile Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920002959 polymer blend Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- IMYPJPKHYOYCSP-UHFFFAOYSA-N prop-2-enyl 3-(2-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound OC1=CC=CC=C1CCC(=O)OCC=C IMYPJPKHYOYCSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N propan-2-ol;hydrate Chemical compound O.CC(C)O XTUSEBKMEQERQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 239000002516 radical scavenger Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- WEHDCBONCFYXKK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-(4-hydroxyphenyl)propanoate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)CCC1=CC=C(O)C=C1 WEHDCBONCFYXKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 125000005023 xylyl group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/54—Silicon-containing compounds
- C08K5/544—Silicon-containing compounds containing nitrogen
- C08K5/5477—Silicon-containing compounds containing nitrogen containing nitrogen in a heterocyclic ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】式化1で示される化合物を有効成分とする紫外
線吸収剤及びこれを含むコーティング材料。 【化1】 (R1;H、ハロゲン、炭素数1〜10のアルキル基、
R2;H、炭素数1〜10のアルキル基、R3及びR4;
炭素数1〜10のアルキレン基、R5〜R9;炭素数1〜
10のアルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜10のア
リール基、水酸基、H、X;アミド結合、ウレタン結
合、エステル結合、n≧0の整数) 【効果】前記紫外線吸収剤は、優れた紫外線吸収作用を
示し、且つ耐候性及び耐熱性等に優れ、また樹脂と共用
させる場合は、ブリードアウト等を生じさせることなく
安定に保持される。また前記コーティング材料は、多重
塗布が可能であって、優れた紫外線吸収作用を示すと共
に優れた耐候性及び耐熱性を示す。
線吸収剤及びこれを含むコーティング材料。 【化1】 (R1;H、ハロゲン、炭素数1〜10のアルキル基、
R2;H、炭素数1〜10のアルキル基、R3及びR4;
炭素数1〜10のアルキレン基、R5〜R9;炭素数1〜
10のアルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜10のア
リール基、水酸基、H、X;アミド結合、ウレタン結
合、エステル結合、n≧0の整数) 【効果】前記紫外線吸収剤は、優れた紫外線吸収作用を
示し、且つ耐候性及び耐熱性等に優れ、また樹脂と共用
させる場合は、ブリードアウト等を生じさせることなく
安定に保持される。また前記コーティング材料は、多重
塗布が可能であって、優れた紫外線吸収作用を示すと共
に優れた耐候性及び耐熱性を示す。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、紫外線吸収剤及び該紫
外線吸収剤を含むコーティング材料に関する。
外線吸収剤を含むコーティング材料に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より有機紫外線吸収剤をアクリル樹
脂等と共用し、紫外線カット塗料として用いることが行
われている。しかし長期にわたる使用では、紫外線吸収
剤のブリードアウトや母材となるポリマーの光劣化等に
よって、性能が劣化するという問題点がある。これらを
克服するために、樹脂成分の改良や酸化防止剤の併用
(特開昭63−43972号公報)が行われている。ま
たメタクリロイル基を有する有機紫外線吸収剤を用いて
母材ポリマーと共重合させ、ブリードアウトをなくす試
み(特開平6−88064号公報)もなされている。し
かしこれらは主鎖に数多くのエステル結合を有するた
め、Norrish型の反応を起こしたり、200℃を越える
高温環境下では使用できないという欠点がある。
脂等と共用し、紫外線カット塗料として用いることが行
われている。しかし長期にわたる使用では、紫外線吸収
剤のブリードアウトや母材となるポリマーの光劣化等に
よって、性能が劣化するという問題点がある。これらを
克服するために、樹脂成分の改良や酸化防止剤の併用
(特開昭63−43972号公報)が行われている。ま
たメタクリロイル基を有する有機紫外線吸収剤を用いて
母材ポリマーと共重合させ、ブリードアウトをなくす試
み(特開平6−88064号公報)もなされている。し
かしこれらは主鎖に数多くのエステル結合を有するた
め、Norrish型の反応を起こしたり、200℃を越える
高温環境下では使用できないという欠点がある。
【0003】また紫外線吸収剤に、シリル基を有する官
能基をハイドロシリレーションによって導入する試み
(特開平2−243695号公報)も数多くなされてい
る。しかしこれらのシリル化紫外線吸収剤を用いたシリ
コーン塗料は多重塗布することが困難である。
能基をハイドロシリレーションによって導入する試み
(特開平2−243695号公報)も数多くなされてい
る。しかしこれらのシリル化紫外線吸収剤を用いたシリ
コーン塗料は多重塗布することが困難である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、優れ
た紫外線吸収作用を示し、且つ耐候性及び耐熱性等に優
れ、また樹脂と共用させる場合であっても、ブリードア
ウト等を生じさせることなく安定に保持することが可能
な紫外線吸収剤を提供することにある。本発明の別の目
的は、多重塗布が可能であって、得られるコーティング
膜が優れた紫外線吸収作用を示すと共に、優れた耐候性
及び耐熱性等を示すコーティング材料を提供することに
ある。
た紫外線吸収作用を示し、且つ耐候性及び耐熱性等に優
れ、また樹脂と共用させる場合であっても、ブリードア
ウト等を生じさせることなく安定に保持することが可能
な紫外線吸収剤を提供することにある。本発明の別の目
的は、多重塗布が可能であって、得られるコーティング
膜が優れた紫外線吸収作用を示すと共に、優れた耐候性
及び耐熱性等を示すコーティング材料を提供することに
ある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、下記式
化2で示される化合物(以下化合物Aと略す)を有効成
分とする紫外線吸収剤が提供される。
化2で示される化合物(以下化合物Aと略す)を有効成
分とする紫外線吸収剤が提供される。
【0006】
【化2】
【0007】(式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又
は炭素数1〜10のアルキル基を示し、R2は水素原子
又は炭素数1〜10のアルキル基を示す。R3及びR4は
同一若しくは異なる基であって、炭素数1〜10のアル
キレン基を示す。R5〜R9は同一若しくは異なる基であ
って、炭素数1〜10のアルキル基、アルコキシ基、炭
素数6〜10のアリール基、水酸基又は水素原子を示
し、Xはアミド結合(CONH)、ウレタン結合(OC
ONH)又はエステル結合(COO)を示す。さらにn
はn≧0の整数を示す。) また、本発明によれば、前記紫外線吸収剤を含むコーテ
ィング材料が提供される。
は炭素数1〜10のアルキル基を示し、R2は水素原子
又は炭素数1〜10のアルキル基を示す。R3及びR4は
同一若しくは異なる基であって、炭素数1〜10のアル
キレン基を示す。R5〜R9は同一若しくは異なる基であ
って、炭素数1〜10のアルキル基、アルコキシ基、炭
素数6〜10のアリール基、水酸基又は水素原子を示
し、Xはアミド結合(CONH)、ウレタン結合(OC
ONH)又はエステル結合(COO)を示す。さらにn
はn≧0の整数を示す。) また、本発明によれば、前記紫外線吸収剤を含むコーテ
ィング材料が提供される。
【0008】以下、本発明についてさらに詳細に説明す
る。本発明の紫外線吸収剤において有効成分は、前記式
化2で示される化合物Aである。式化2中のR1は、水
素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜10、好ましくは
1〜6のアルキル基を示す。前記ハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等
が、また前記アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ターシャ
リーブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。R1
の置換位置としては、式化2中のベンゾトリアゾール骨
格の4位又は5位が考えられるが、ハロゲン原子及び炭
素数1〜10のアルキル基は通常5位に位置する。
る。本発明の紫外線吸収剤において有効成分は、前記式
化2で示される化合物Aである。式化2中のR1は、水
素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜10、好ましくは
1〜6のアルキル基を示す。前記ハロゲン原子として
は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等
が、また前記アルキル基としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ターシャ
リーブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。R1
の置換位置としては、式化2中のベンゾトリアゾール骨
格の4位又は5位が考えられるが、ハロゲン原子及び炭
素数1〜10のアルキル基は通常5位に位置する。
【0009】式中のR2は、水素原子、又は炭素数1〜
10、好ましくは1〜6のアルキル基を示す。前記アル
キル基としては、前記R1で具体的に列挙した基等を好
ましく挙げることが出来る。式中のR3及びR4は同一若
しくは異なる基であって、炭素数1〜10、好ましくは
1〜3のアルキレン基を示す。前記アルキレン基として
は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が例示さ
れる。式中のR5〜R9は同一若しくは異なる基であっ
て、炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基、
炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルコキシ基、炭
素数6〜10、好ましくは6〜8のアリール基、水酸基
又は水素原子を示す。前記アルキル基としては、前記R
1で具体的に列挙した基等を好ましく挙げることがで
き、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、
イソプロポキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ターシ
ャリーブトキシ基等を挙げることができ、アリール基と
しては、フェニル基、キシリル基等を挙げることができ
る。前記R1〜R9において、炭素数が規定される上限を
越える場合には、製造が困難である。またnはn≧0の
整数、好ましくは0≦n≦20の範囲の整数を示す。
10、好ましくは1〜6のアルキル基を示す。前記アル
キル基としては、前記R1で具体的に列挙した基等を好
ましく挙げることが出来る。式中のR3及びR4は同一若
しくは異なる基であって、炭素数1〜10、好ましくは
1〜3のアルキレン基を示す。前記アルキレン基として
は、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等が例示さ
れる。式中のR5〜R9は同一若しくは異なる基であっ
て、炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルキル基、
炭素数1〜10、好ましくは1〜6のアルコキシ基、炭
素数6〜10、好ましくは6〜8のアリール基、水酸基
又は水素原子を示す。前記アルキル基としては、前記R
1で具体的に列挙した基等を好ましく挙げることがで
き、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、
イソプロポキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ターシ
ャリーブトキシ基等を挙げることができ、アリール基と
しては、フェニル基、キシリル基等を挙げることができ
る。前記R1〜R9において、炭素数が規定される上限を
越える場合には、製造が困難である。またnはn≧0の
整数、好ましくは0≦n≦20の範囲の整数を示す。
【0010】前記式化2で表される化合物Aとしては、
具体的には、3−(5−メチル−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−5−メチル−4−ヒドロキシ−N−
(2−(トリメトキシシリル)エチル)−ベンゼンプロ
パンアミド、3−(5−エチル−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−ヒドロキシ−N−(2−(1,
1,3,3−テトラメチルジシロキシ)エチル)−ベン
ゼンプロパンアミド、3−(2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−4−ヒドロキシベンゼンエチルN−(3
−(トリメトキシシリル)プロピル)カルバメート、3
−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−ヒドロキシベンゼンプロピルN−(2−(ノ
ナフェニルテトラシロキシ)エチル)カルバメート、3
−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキ
シ−N−(3−(トリエトキシシリル)プロピル)−ベ
ンゼンプロパンアミド、3−(5−クロロ−2H−ベン
ゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチル
エチル)−4−ヒドロキシ−N−(3−(トリエトキシ
シリル)プロピル)−ベンゼンプロパンアミド、3−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−
N−(3−(ヘニコサジメチルデカシロキシ)プロピ
ル)−ベンゼンプロパンアミド、3−(2H−ベンゾト
リアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシ−N−(2−
(1,1−ジメチル−トリメトキシジシロキシ)エチ
ル)−ベンゼンプロパンアミド、3−(トリエトキシシ
リル)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート、3−
(1,1,3,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロ
キシ)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート、3−
(ジエトキシメチルシリル)プロピル 3−(2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチ
ルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート等
が挙げられる。
具体的には、3−(5−メチル−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−5−メチル−4−ヒドロキシ−N−
(2−(トリメトキシシリル)エチル)−ベンゼンプロ
パンアミド、3−(5−エチル−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−4−ヒドロキシ−N−(2−(1,
1,3,3−テトラメチルジシロキシ)エチル)−ベン
ゼンプロパンアミド、3−(2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−4−ヒドロキシベンゼンエチルN−(3
−(トリメトキシシリル)プロピル)カルバメート、3
−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−ヒドロキシベンゼンプロピルN−(2−(ノ
ナフェニルテトラシロキシ)エチル)カルバメート、3
−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキ
シ−N−(3−(トリエトキシシリル)プロピル)−ベ
ンゼンプロパンアミド、3−(5−クロロ−2H−ベン
ゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチル
エチル)−4−ヒドロキシ−N−(3−(トリエトキシ
シリル)プロピル)−ベンゼンプロパンアミド、3−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−
N−(3−(ヘニコサジメチルデカシロキシ)プロピ
ル)−ベンゼンプロパンアミド、3−(2H−ベンゾト
リアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシ−N−(2−
(1,1−ジメチル−トリメトキシジシロキシ)エチ
ル)−ベンゼンプロパンアミド、3−(トリエトキシシ
リル)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート、3−
(1,1,3,3,5,5,5−ヘプタメチルトリシロ
キシ)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート、3−
(ジエトキシメチルシリル)プロピル 3−(2H−ベ
ンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチ
ルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート等
が挙げられる。
【0011】前記化合物Aにおいて、アミド結合を有す
る化合物は合成が容易で耐熱性に特に優れており、例え
ば室温で固体の3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)
−4−ヒドロキシ−N−(3−(トリエトキシシリ
ル))プロピルベンゼンプロパンアミド等を特に好まし
く用いることができる。また、ウレタン結合を含有する
化合物は、前記アミド結合を含む化合物よりも靭性に優
れた物性を与え、且つ結晶性が低く、シリコーン系の塗
料等と用いた場合、トルエン等の炭化水素系溶剤を用い
ることができ、取り扱いが容易となる。このようなウレ
タン結合を有する化合物としては、例えば固体の3−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシベ
ンゼンプロピル N−(3−(トリエトキシシリル)プ
ロピル)カルバメートが挙げられる。さらにエステル結
合を有する化合物は、前記ウレタン結合を含む化合物よ
りも樹脂との相溶性に優れた物性を示す。このような化
合物としては、例えば液体の3−(トリエトキシシリ
ル)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)
−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネートが挙げられ
る。
る化合物は合成が容易で耐熱性に特に優れており、例え
ば室温で固体の3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)
−4−ヒドロキシ−N−(3−(トリエトキシシリ
ル))プロピルベンゼンプロパンアミド等を特に好まし
く用いることができる。また、ウレタン結合を含有する
化合物は、前記アミド結合を含む化合物よりも靭性に優
れた物性を与え、且つ結晶性が低く、シリコーン系の塗
料等と用いた場合、トルエン等の炭化水素系溶剤を用い
ることができ、取り扱いが容易となる。このようなウレ
タン結合を有する化合物としては、例えば固体の3−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシベ
ンゼンプロピル N−(3−(トリエトキシシリル)プ
ロピル)カルバメートが挙げられる。さらにエステル結
合を有する化合物は、前記ウレタン結合を含む化合物よ
りも樹脂との相溶性に優れた物性を示す。このような化
合物としては、例えば液体の3−(トリエトキシシリ
ル)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)
−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネートが挙げられ
る。
【0012】前記化合物Aは、公知の方法、例えば、ベ
ンゾトリアゾール類とシラン類とを反応させる方法、具
体的にはアミド結合を介してベンゾトリアゾール類と
シラン類とを反応させる方法、ウレタン結合を介して
ベンゾトリアゾール類とシラン類とを反応させる方法、
エステル結合を介してベンゾトリアゾール類とシラン
類とを反応させる方法等により容易に製造できる。
ンゾトリアゾール類とシラン類とを反応させる方法、具
体的にはアミド結合を介してベンゾトリアゾール類と
シラン類とを反応させる方法、ウレタン結合を介して
ベンゾトリアゾール類とシラン類とを反応させる方法、
エステル結合を介してベンゾトリアゾール類とシラン
類とを反応させる方法等により容易に製造できる。
【0013】前記の方法としては、前記化合物Aの部
分前駆体に相当するカルボン酸類をアミノシラン類と反
応させる方法等を挙げることができる。前記カルボン酸
類としては、下記一般式化3(式中、R1、R2及びR3
は前記化合物Aのものと同一である)で表されるカルボ
ン酸類等が挙げられる。
分前駆体に相当するカルボン酸類をアミノシラン類と反
応させる方法等を挙げることができる。前記カルボン酸
類としては、下記一般式化3(式中、R1、R2及びR3
は前記化合物Aのものと同一である)で表されるカルボ
ン酸類等が挙げられる。
【0014】
【化3】
【0015】前記式化3で示されるカルボン酸類として
は、具体的には、3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸、3−(2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシ
−ベンゼンエタン酸、3−(5−メチル−2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−5−(1−メチルエチル)
−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸等が挙げられ
る。
は、具体的には、3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸、3−(2
H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロキシ
−ベンゼンエタン酸、3−(5−メチル−2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−5−(1−メチルエチル)
−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸等が挙げられ
る。
【0016】前記アミノシラン類としては、下記一般式
化4(式中、R4〜R9及びnは前記化合物Aのものと同
一である)で表されるアミノシラン類等が挙げられる。
化4(式中、R4〜R9及びnは前記化合物Aのものと同
一である)で表されるアミノシラン類等が挙げられる。
【0017】
【化4】
【0018】前記式化4で示されるアミノシラン類とし
ては、具体的には、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラ
ン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−
アミノプロピルヘキサメチルトリシロキサン、N−(2
−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリス(メトキシエトキシエ
トキシ)シラン等が挙げられる。
ては、具体的には、3−アミノプロピルトリエトキシシ
ラン、3−アミノプロピルジイソプロピルエトキシシラ
ン、3−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、3−
アミノプロピルヘキサメチルトリシロキサン、N−(2
−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシ
ラン、3−アミノプロピルトリス(メトキシエトキシエ
トキシ)シラン等が挙げられる。
【0019】前記カルボン酸類とアミノシラン類との縮
合反応は、トルエン等の可溶性溶媒中、水分を除去する
ことによって進行する。例えば3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジ
メチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸
オクチルエステルを加水分解し、生成した3−(5−ク
ロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−
(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼ
ンプロパン酸と、等モルの3−アミノプロピルトリエト
キシシランとを可溶性溶媒中に溶解し、90〜100℃
で加熱することによってカルボン酸基とアミノ基とを脱
水縮合させる方法等によって、3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジ
メチルエチル)−4−ヒドロキシ−N−(3−(トリエ
トキシシリル)プロピル)ベンゼンプロパンアミドが生
成する。
合反応は、トルエン等の可溶性溶媒中、水分を除去する
ことによって進行する。例えば3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジ
メチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸
オクチルエステルを加水分解し、生成した3−(5−ク
ロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−
(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼ
ンプロパン酸と、等モルの3−アミノプロピルトリエト
キシシランとを可溶性溶媒中に溶解し、90〜100℃
で加熱することによってカルボン酸基とアミノ基とを脱
水縮合させる方法等によって、3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジ
メチルエチル)−4−ヒドロキシ−N−(3−(トリエ
トキシシリル)プロピル)ベンゼンプロパンアミドが生
成する。
【0020】前記縮合反応後、通常、再結晶等により生
成物を精製することが望ましいが、多少の不純物が混じ
っていても実質的に前記化合物Aからなるものであれ
ば、なんら支障無く紫外線吸収剤の有効成分として使用
できる。また、前記アミノシラン類としてアルコキシ基
を有する化合物を原料とする場合、ジシクロカルボジイ
ミド等の縮合剤を用いたり、カルボン酸類をカーボネー
トエステル等の反応性に富むエステルとしてから反応さ
せると、脱水過程がないため、純度の高い生成物が得易
い。
成物を精製することが望ましいが、多少の不純物が混じ
っていても実質的に前記化合物Aからなるものであれ
ば、なんら支障無く紫外線吸収剤の有効成分として使用
できる。また、前記アミノシラン類としてアルコキシ基
を有する化合物を原料とする場合、ジシクロカルボジイ
ミド等の縮合剤を用いたり、カルボン酸類をカーボネー
トエステル等の反応性に富むエステルとしてから反応さ
せると、脱水過程がないため、純度の高い生成物が得易
い。
【0021】前記の方法としては、前記化合物Aの部
分前駆体に相当するアルコール類をイソシアナトシラン
類と反応させる方法等を挙げることができる。前記アル
コール類としては、下記一般式化5(式中、R1、R2及
びR3は前記化合物Aのものと同一である)で表される
アルコール類等が挙げられる。
分前駆体に相当するアルコール類をイソシアナトシラン
類と反応させる方法等を挙げることができる。前記アル
コール類としては、下記一般式化5(式中、R1、R2及
びR3は前記化合物Aのものと同一である)で表される
アルコール類等が挙げられる。
【0022】
【化5】
【0023】前記式化5で示されるアルコール類として
は、具体的には、3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパノール、3−
(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロ
キシ−ベンゼンエタノール、3−(5−メチル−2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1−メチルエ
チル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパノール等が挙
げられる。
は、具体的には、3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパノール、3−
(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒドロ
キシ−ベンゼンエタノール、3−(5−メチル−2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1−メチルエ
チル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパノール等が挙
げられる。
【0024】これらアルコール類は、合成物や市販品を
用いることができる他、エステル基を有する市販のベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収剤をリチウムアルミニウム
ハイドライド等で還元することによっても得られる。
用いることができる他、エステル基を有する市販のベン
ゾトリアゾール系紫外線吸収剤をリチウムアルミニウム
ハイドライド等で還元することによっても得られる。
【0025】前記イソシアナトシラン類としては、下記
一般式化6(式中、R4〜R9及びnは前記化合物Aのも
のと同一である)で表されるものが挙げられる。
一般式化6(式中、R4〜R9及びnは前記化合物Aのも
のと同一である)で表されるものが挙げられる。
【0026】
【化6】
【0027】前記イソシアナトシラン類としては、具体
的には、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラ
ン、3−イソシアナトプロピルメトキシジメチルシラ
ン、3−イソシアナトエチルテトラメチルジシロキサン
等が挙げられる。
的には、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラ
ン、3−イソシアナトプロピルメトキシジメチルシラ
ン、3−イソシアナトエチルテトラメチルジシロキサン
等が挙げられる。
【0028】前記アルコール類とイソシアナトシラン類
の付加反応は、テトラハイドロフラン等の可溶性溶媒
中、ジブチルスズジラウレートなどの触媒の存在下で進
行する。例えば3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)
−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパノールと、3−イソ
シアナトプロピルトリエトキシシランとをテトラハイド
ロフラン等の可溶性溶媒中に、ジブチルスズジラウレー
トを添加し30〜60℃で反応させる方法等によって、
3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキ
シベンゼンプロピル N−(3−(トリエトキシシリ
ル)プロピル)カルバメートが生成する。
の付加反応は、テトラハイドロフラン等の可溶性溶媒
中、ジブチルスズジラウレートなどの触媒の存在下で進
行する。例えば3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリア
ゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)
−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパノールと、3−イソ
シアナトプロピルトリエトキシシランとをテトラハイド
ロフラン等の可溶性溶媒中に、ジブチルスズジラウレー
トを添加し30〜60℃で反応させる方法等によって、
3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキ
シベンゼンプロピル N−(3−(トリエトキシシリ
ル)プロピル)カルバメートが生成する。
【0029】前記の方法としては、前記化合物Aの部
分前駆体に相当するエステル類と、ヒドロシリル基を含
有するシラン類とを付加反応させる方法等が挙げられ
る。前記エステル類としては、下記一般式化7(式中、
R1、R2及びR3は前記化合物Aのものと同一である。
また、R10は不飽和2重結合を含む炭素数1〜10の炭
化水素基を示す。具体的には付加反応により、前記化合
物AのR4と同一になるものである)で表されるエステ
ル類等が挙げられる。
分前駆体に相当するエステル類と、ヒドロシリル基を含
有するシラン類とを付加反応させる方法等が挙げられ
る。前記エステル類としては、下記一般式化7(式中、
R1、R2及びR3は前記化合物Aのものと同一である。
また、R10は不飽和2重結合を含む炭素数1〜10の炭
化水素基を示す。具体的には付加反応により、前記化合
物AのR4と同一になるものである)で表されるエステ
ル類等が挙げられる。
【0030】
【化7】
【0031】前記式化7で示されるエステル類として
は、具体的には、3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸2−プロペ
ニル、3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−
4−ヒドロキシ−ベンゼンエタン酸ビニル、3−(5−
メチル−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−
(1−メチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロ
パン酸3−メチル−3−ブテニル等が挙げられる。
は、具体的には、3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸2−プロペ
ニル、3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−
4−ヒドロキシ−ベンゼンエタン酸ビニル、3−(5−
メチル−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−
(1−メチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロ
パン酸3−メチル−3−ブテニル等が挙げられる。
【0032】前記シラン類としては、下記一般式化8
(式中、R5〜R9及びnは前記化合物Aに記載のものと
同一である)で表されるものが挙げられる。
(式中、R5〜R9及びnは前記化合物Aに記載のものと
同一である)で表されるものが挙げられる。
【0033】
【化8】
【0034】前記式化8で示されるシラン類としては、
具体的には、トリエトキシシラン、ジイソプロピルエト
キシシラン、メチルジエトキシシラン、1,1,1−
3,3−5,5−ヘプタメチルトリシロキサン、ポリメ
チルシロキサン等が挙げられる。
具体的には、トリエトキシシラン、ジイソプロピルエト
キシシラン、メチルジエトキシシラン、1,1,1−
3,3−5,5−ヘプタメチルトリシロキサン、ポリメ
チルシロキサン等が挙げられる。
【0035】前記エステル類と前記ヒドロシリル基含有
シラン類との付加反応は、トルエン、テトラハイドロフ
ラン等の可溶性溶媒中、塩化白金酸等の触媒を用いるこ
とによって進行する。例えば3−(5−クロロ−2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメ
チルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オ
クチルエステルをアリルアルコール中でエステル交換
し、生成した3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−
4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸アリルをテトラハ
イドロフランに溶解し、さらに白金シロキサン錯体を添
加した後、等モルのトリエトキシシランを滴下し室温で
撹拌する方法等によって、3−(トリエトキシシリル)
プロピル3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−
ヒドロキシ−ベンゼンプロパネートが生成する。
シラン類との付加反応は、トルエン、テトラハイドロフ
ラン等の可溶性溶媒中、塩化白金酸等の触媒を用いるこ
とによって進行する。例えば3−(5−クロロ−2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメ
チルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オ
クチルエステルをアリルアルコール中でエステル交換
し、生成した3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−
4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸アリルをテトラハ
イドロフランに溶解し、さらに白金シロキサン錯体を添
加した後、等モルのトリエトキシシランを滴下し室温で
撹拌する方法等によって、3−(トリエトキシシリル)
プロピル3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール
−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−
ヒドロキシ−ベンゼンプロパネートが生成する。
【0036】前記縮合反応後、カラムを通す等して生成
物を精製することが望ましいが、多少の不純物が混じっ
ていても実質的に前記化合物Aからなるものであれば、
なんら支障無く紫外線吸収剤の有効成分として使用でき
る。
物を精製することが望ましいが、多少の不純物が混じっ
ていても実質的に前記化合物Aからなるものであれば、
なんら支障無く紫外線吸収剤の有効成分として使用でき
る。
【0037】本発明の紫外線吸収剤は、前記化合物Aを
有効成分とするものであって、後述するコーティング材
料等として使用することができる。前記化合物Aはそれ
自体紫外線吸収作用を示す化合物であって、例えば樹脂
や溶媒等と混合して使用できる。この際、化合物Aの配
合量を、通常0.1wt%以上、好ましくは0.1〜9
0wt%、特に好ましくは0.5〜70wt%の範囲で
含有させることにより、所望の紫外線吸収効果を得るこ
とができる。この際化合物Aにおけるnが大きい場合に
は、樹脂との併用で樹脂表面に化合物Aを偏在させるこ
とができるので、化合物Aの配合量を極少量としても所
望の効果を得ることができる。
有効成分とするものであって、後述するコーティング材
料等として使用することができる。前記化合物Aはそれ
自体紫外線吸収作用を示す化合物であって、例えば樹脂
や溶媒等と混合して使用できる。この際、化合物Aの配
合量を、通常0.1wt%以上、好ましくは0.1〜9
0wt%、特に好ましくは0.5〜70wt%の範囲で
含有させることにより、所望の紫外線吸収効果を得るこ
とができる。この際化合物Aにおけるnが大きい場合に
は、樹脂との併用で樹脂表面に化合物Aを偏在させるこ
とができるので、化合物Aの配合量を極少量としても所
望の効果を得ることができる。
【0038】本発明のコーティング材料は、前記紫外線
吸収剤を含有する。コーティング材料は、塗料、ハード
コート剤等として用いることができる。この際、塗布す
る基材は、ガラス、金属板、木板等のいずれでも良い。
吸収剤を含有する。コーティング材料は、塗料、ハード
コート剤等として用いることができる。この際、塗布す
る基材は、ガラス、金属板、木板等のいずれでも良い。
【0039】前記コーティング材料を塗料として用いる
場合、前記紫外線吸収剤に加えて塗膜形成樹脂を含有さ
せる。該塗膜形成樹脂としては、特に限定されないが、
例えばシリコーン樹脂、アクリル樹脂、アクリル−メラ
ミン樹脂、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリアクリ
ロニトリル、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホ
ン、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルクロライド等
の種々のポリマー又はこれらの樹脂の共重合体、ポリマ
ーブレンド体、グラフト体等を挙げることができる。特
に好ましくは、シリコーン樹脂を含む樹脂材料を用いる
ことができるが、この場合前記化合物Aとしては、純シ
リコーンワニス等のシリコーン樹脂と反応する基、具体
的にはアルコキシ基やシラノール基が含まれていること
が望ましい。このように例えばシリコーンワニス系塗料
やシリコーン樹脂系コート剤を用いた場合、紫外線吸収
剤が樹脂と反応し、長期に渡る使用においても、ブリー
ドアウトを起こさず、且つ良好な紫外線吸収能を維持す
ることが可能となる。
場合、前記紫外線吸収剤に加えて塗膜形成樹脂を含有さ
せる。該塗膜形成樹脂としては、特に限定されないが、
例えばシリコーン樹脂、アクリル樹脂、アクリル−メラ
ミン樹脂、ポリオレフィン、ポリスチレン、ポリアクリ
ロニトリル、ポリカーボネート、ポリエーテルサルホ
ン、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルクロライド等
の種々のポリマー又はこれらの樹脂の共重合体、ポリマ
ーブレンド体、グラフト体等を挙げることができる。特
に好ましくは、シリコーン樹脂を含む樹脂材料を用いる
ことができるが、この場合前記化合物Aとしては、純シ
リコーンワニス等のシリコーン樹脂と反応する基、具体
的にはアルコキシ基やシラノール基が含まれていること
が望ましい。このように例えばシリコーンワニス系塗料
やシリコーン樹脂系コート剤を用いた場合、紫外線吸収
剤が樹脂と反応し、長期に渡る使用においても、ブリー
ドアウトを起こさず、且つ良好な紫外線吸収能を維持す
ることが可能となる。
【0040】塗料として用いる場合、前記紫外線吸収剤
の有効成分である化合物Aの配合量は、通常5〜90w
t%の範囲で塗布する基材に応じて任意に設定できる。
また相溶性に優れる本発明の紫外線吸収剤の特性を考慮
するならば、20wt%以上の高濃度で使用するのが望
ましい。
の有効成分である化合物Aの配合量は、通常5〜90w
t%の範囲で塗布する基材に応じて任意に設定できる。
また相溶性に優れる本発明の紫外線吸収剤の特性を考慮
するならば、20wt%以上の高濃度で使用するのが望
ましい。
【0041】さらにこのように高濃度で化合物Aを含有
させた場合、塗膜の臨界表面張力が増大し、例えばトル
エン、イソプロパノール等の溶媒を用いてオーバーコー
トすることが可能となる。具体的には、例えば、3−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−
N−(3−(トリエトキシシリル)プロピル)−ベンゼ
ンプロパンアミドをシリコーン塗膜中、50wt%程度
含有させ、水−イソプロパノール混合溶媒(混合比1:
1)を用いて元来撥水性が強く塗布が困難であったコロ
イダルシリカを、オーバーコートに用いることもでき
る。
させた場合、塗膜の臨界表面張力が増大し、例えばトル
エン、イソプロパノール等の溶媒を用いてオーバーコー
トすることが可能となる。具体的には、例えば、3−
(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)
−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−
N−(3−(トリエトキシシリル)プロピル)−ベンゼ
ンプロパンアミドをシリコーン塗膜中、50wt%程度
含有させ、水−イソプロパノール混合溶媒(混合比1:
1)を用いて元来撥水性が強く塗布が困難であったコロ
イダルシリカを、オーバーコートに用いることもでき
る。
【0042】前記塗料には、さらに性能の劣化を抑制す
るために、酸化防止剤や消光剤、ラジカル補足材等を含
有させることができる。さらに塗布にあたっては、トル
エン、イソプロパノール等の溶剤を用いることもでき
る。前記塗料を塗布する際の膜厚は、特に限定されるも
のではなく適宜選択することができるが、通常0.5〜
50μm程度の範囲内で塗布できる。0.5μm未満で
は充分な紫外線遮断能力を出すことが難しい場合があ
り、50μmを越える場合は亀裂を生じさせずに塗布す
るのが難しい場合があるので好ましくない。
るために、酸化防止剤や消光剤、ラジカル補足材等を含
有させることができる。さらに塗布にあたっては、トル
エン、イソプロパノール等の溶剤を用いることもでき
る。前記塗料を塗布する際の膜厚は、特に限定されるも
のではなく適宜選択することができるが、通常0.5〜
50μm程度の範囲内で塗布できる。0.5μm未満で
は充分な紫外線遮断能力を出すことが難しい場合があ
り、50μmを越える場合は亀裂を生じさせずに塗布す
るのが難しい場合があるので好ましくない。
【0043】また塗布方法は、特に限定されなく適宜公
知の方法を選択することができ、例えばスピンコート、
スプレーコート、キャストコート、ブレードコート、デ
ィップコート等、目的に応じて選択できる。
知の方法を選択することができ、例えばスピンコート、
スプレーコート、キャストコート、ブレードコート、デ
ィップコート等、目的に応じて選択できる。
【0044】前記塗膜を硬化させるには、予め塗料中
に、例えば、塩酸、硫酸、酢酸等の酸、水酸化カリウ
ム、トリエチルアミン、アニリン等の塩基、ジブチルス
ズジラウレート、チタンテトライソプロポキサイド等の
有機金属を触媒として配合し、室温から250℃程度で
硬化させる方法、また触媒を含有させずに室温〜350
℃で加熱し、硬化させる方法等により行うことができ
る。前記触媒の配合割合は、紫外線吸収剤と塗膜形成樹
脂の合計に対して0.1〜5.0重量%であるのが好ま
しい。
に、例えば、塩酸、硫酸、酢酸等の酸、水酸化カリウ
ム、トリエチルアミン、アニリン等の塩基、ジブチルス
ズジラウレート、チタンテトライソプロポキサイド等の
有機金属を触媒として配合し、室温から250℃程度で
硬化させる方法、また触媒を含有させずに室温〜350
℃で加熱し、硬化させる方法等により行うことができ
る。前記触媒の配合割合は、紫外線吸収剤と塗膜形成樹
脂の合計に対して0.1〜5.0重量%であるのが好ま
しい。
【0045】本発明のコーティング材料は、前記紫外線
吸収剤を、例えばトルエン、シンナー、ジメチルホルム
アミド、シクロヘキサノン等の溶媒に溶解させて得るこ
ともできる。この際紫外線吸収剤の有効成分としての化
合物Aは、アルコキシシリル基を有するものが好まし
い。また化合物Aの含有割合は、0.1〜90wt%が
望ましい。
吸収剤を、例えばトルエン、シンナー、ジメチルホルム
アミド、シクロヘキサノン等の溶媒に溶解させて得るこ
ともできる。この際紫外線吸収剤の有効成分としての化
合物Aは、アルコキシシリル基を有するものが好まし
い。また化合物Aの含有割合は、0.1〜90wt%が
望ましい。
【0046】前記紫外線吸収剤を溶媒に溶解したコーテ
ィング材料を塗布する際の膜厚は特に限定されなく、適
宜選択できるが、通常0.2〜20μmの範囲が好まし
い。0.2μm未満では充分な紫外線遮断能力が得られ
ない場合があり、20μmを越える場合は、亀裂を生じ
させずに塗布するのが難しい場合があるので好ましくな
い。塗布方法は、特に限定されなく適宜公知の方法が選
択でき、例えばスピンコート、スプレーコート、キャス
トコート、ブレードコート、ディップコート等、目的に
応じて選択できる。
ィング材料を塗布する際の膜厚は特に限定されなく、適
宜選択できるが、通常0.2〜20μmの範囲が好まし
い。0.2μm未満では充分な紫外線遮断能力が得られ
ない場合があり、20μmを越える場合は、亀裂を生じ
させずに塗布するのが難しい場合があるので好ましくな
い。塗布方法は、特に限定されなく適宜公知の方法が選
択でき、例えばスピンコート、スプレーコート、キャス
トコート、ブレードコート、ディップコート等、目的に
応じて選択できる。
【0047】
【発明の効果】本発明の紫外線吸収剤は、特定の化合物
Aを含有するので、良好な紫外線遮断効果を示し、また
樹脂と共用させる場合であっても、樹脂を選択すること
により、ブリードアウト等を生じさせることなく安定に
保持することができる。また本発明のコーティング材料
は、特にシリコーン樹脂を用いた場合、耐候性、耐熱性
に優れたコーティング膜を得ることができる。
Aを含有するので、良好な紫外線遮断効果を示し、また
樹脂と共用させる場合であっても、樹脂を選択すること
により、ブリードアウト等を生じさせることなく安定に
保持することができる。また本発明のコーティング材料
は、特にシリコーン樹脂を用いた場合、耐候性、耐熱性
に優れたコーティング膜を得ることができる。
【0048】
【実施例】以下実施例によりさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらに限定されるものではない。
本発明はこれらに限定されるものではない。
【0049】
【実施例1】3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イ
ル)−4−ヒドロキシベンゼンエタノール(商品名「J
F−269」、城北化学社製)2.0g(7.8ミリモ
ル)をテトラハイドロフラン20mlに溶解させた後、
3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン2.13
g(8.2ミリモル)とジブチルスズジラウレート20
μlとを加え、60℃で10分間反応させた。溶媒を除
去後エタノールから再結晶により下記式化9で示される
3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒ
ドロキシベンゼンエチル N−(3−(トリエトキシシ
リル)プロピル)カルバメート(以下、化合物(1)と
略す)を得た。収率は90%で、得られた化合物(1)
の融点は107℃であった。化合物(1)の赤外線吸収
スペクトルを図1に示す。
ル)−4−ヒドロキシベンゼンエタノール(商品名「J
F−269」、城北化学社製)2.0g(7.8ミリモ
ル)をテトラハイドロフラン20mlに溶解させた後、
3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン2.13
g(8.2ミリモル)とジブチルスズジラウレート20
μlとを加え、60℃で10分間反応させた。溶媒を除
去後エタノールから再結晶により下記式化9で示される
3−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−ヒ
ドロキシベンゼンエチル N−(3−(トリエトキシシ
リル)プロピル)カルバメート(以下、化合物(1)と
略す)を得た。収率は90%で、得られた化合物(1)
の融点は107℃であった。化合物(1)の赤外線吸収
スペクトルを図1に示す。
【0050】
【化9】
【0051】また、化合物(1)10mgをクロロホル
ム50mlに溶解し、光路長1mmの石英セルを使用し
て、紫外可視吸収スペクトルを測定した。この結果を図
2に示す。図2より化合物(1)は紫外線領域で充分大
きな吸収を示すことが判る。
ム50mlに溶解し、光路長1mmの石英セルを使用し
て、紫外可視吸収スペクトルを測定した。この結果を図
2に示す。図2より化合物(1)は紫外線領域で充分大
きな吸収を示すことが判る。
【0052】
【実施例2】水素化リチウムアルミニウム2.87g
(0.076モル)をテトラハイドロフラン50mlに
懸濁させ、氷冷した。次いで、3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジ
メチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸
オクチルエステル(「TINUVIN109」、商標
名、Ciba−Geigy社製)28.7g(0.05
9モル)をテトラハイドロフラン100mlに溶解させ
た溶液を滴下した後、室温で1時間撹拌した。得られた
反応溶液を2N塩酸水溶液200mlに、氷冷下、徐々
に滴下した。この混合液を塩化メチレンで抽出し、得ら
れた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し
た。得られた固体をエタノールより再結晶し、3−(5
−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5
−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベン
ゼンプロパノールを得た(以下、前駆体(1)と略
す)。
(0.076モル)をテトラハイドロフラン50mlに
懸濁させ、氷冷した。次いで、3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジ
メチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸
オクチルエステル(「TINUVIN109」、商標
名、Ciba−Geigy社製)28.7g(0.05
9モル)をテトラハイドロフラン100mlに溶解させ
た溶液を滴下した後、室温で1時間撹拌した。得られた
反応溶液を2N塩酸水溶液200mlに、氷冷下、徐々
に滴下した。この混合液を塩化メチレンで抽出し、得ら
れた有機層を硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去し
た。得られた固体をエタノールより再結晶し、3−(5
−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5
−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベン
ゼンプロパノールを得た(以下、前駆体(1)と略
す)。
【0053】得られた前駆体(1)9.9g(0.02
7モル)をテトラハイドロフラン溶液20mlに溶解
し、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン7.
9g(0.032モル)とジブチルスズジラウレート2
0μlとを加え、60℃で1時間反応させた。テトラハ
イドロフランを除去後エタノールより再結晶して下記式
化10で示される3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシベンゼンプロピル N−(3−
(トリエトキシシリル)プロピル)カルバメート(以
下、化合物(2)と略す)を得た。収率は85%で、得
られた化合物(2)の融点は90℃であった。化合物
(2)の赤外線吸収スペクトルを図3に示す。
7モル)をテトラハイドロフラン溶液20mlに溶解
し、3−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン7.
9g(0.032モル)とジブチルスズジラウレート2
0μlとを加え、60℃で1時間反応させた。テトラハ
イドロフランを除去後エタノールより再結晶して下記式
化10で示される3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリ
アゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチ
ル)−4−ヒドロキシベンゼンプロピル N−(3−
(トリエトキシシリル)プロピル)カルバメート(以
下、化合物(2)と略す)を得た。収率は85%で、得
られた化合物(2)の融点は90℃であった。化合物
(2)の赤外線吸収スペクトルを図3に示す。
【0054】
【化10】
【0055】また、化合物(2)の紫外可視吸収スペク
トルを実施例1と同様に測定した。結果を図4に示す。
図4より化合物(2)は紫外線領域で充分大きな吸収を
示すことが判る。
トルを実施例1と同様に測定した。結果を図4に示す。
図4より化合物(2)は紫外線領域で充分大きな吸収を
示すことが判る。
【0056】
【実施例3】3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4
−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オクチルエステル
(「TINUVIN109」、商標名、Ciba−Ge
igy社製)5.1g(0.01モル)とアリルアミン
1.5g(0.02モル)とをベンゼン20mlに溶解
し、NaOCH31.36g(0.025モル)を加え
て80℃で2時間加熱した。放冷後、10重量%HCl
水溶液に反応溶液を注ぎ、クロロホルムで抽出した。有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、溶媒を
留去して白色固体を得た。これをエタノールから再結晶
を行うことによりN−アリル−3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメ
チルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパンアミ
ド(以下前駆体(2)と略す)を得た。
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4
−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オクチルエステル
(「TINUVIN109」、商標名、Ciba−Ge
igy社製)5.1g(0.01モル)とアリルアミン
1.5g(0.02モル)とをベンゼン20mlに溶解
し、NaOCH31.36g(0.025モル)を加え
て80℃で2時間加熱した。放冷後、10重量%HCl
水溶液に反応溶液を注ぎ、クロロホルムで抽出した。有
機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後、ろ過し、溶媒を
留去して白色固体を得た。これをエタノールから再結晶
を行うことによりN−アリル−3−(5−クロロ−2H
−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメ
チルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパンアミ
ド(以下前駆体(2)と略す)を得た。
【0057】得られた前駆体(2)1.95g(0.0
05モル)とトリエトキシシラン0.78g(0.00
5モル)とを、テトラハイドロフラン10mlに溶解さ
せ、60℃に加熱し、白金−シロキサン錯体0.1ml
を加えた。2時間加熱後、溶媒を留去し真空乾燥するこ
とで淡黄色固体を得た。これをエタノールより再結晶す
ることにより下記式化11で示される3−(5−クロロ
−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,
1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−N−(3−
(トリエトキシシリル)プロピル)ベンゼンプロパンア
ミド(以下化合物(3)と略す)を得た。収率は90%
で、化合物(3)の融点は139〜140℃であった。
05モル)とトリエトキシシラン0.78g(0.00
5モル)とを、テトラハイドロフラン10mlに溶解さ
せ、60℃に加熱し、白金−シロキサン錯体0.1ml
を加えた。2時間加熱後、溶媒を留去し真空乾燥するこ
とで淡黄色固体を得た。これをエタノールより再結晶す
ることにより下記式化11で示される3−(5−クロロ
−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,
1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−N−(3−
(トリエトキシシリル)プロピル)ベンゼンプロパンア
ミド(以下化合物(3)と略す)を得た。収率は90%
で、化合物(3)の融点は139〜140℃であった。
【0058】
【化11】
【0059】また、実施例1と同様に紫外可視吸収スペ
クトルを測定したところ、紫外線領域で充分大きな吸収
が得られた。
クトルを測定したところ、紫外線領域で充分大きな吸収
が得られた。
【0060】
【実施例4】3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4
−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オクチルエステル
(「TINUVIN109」、商標名、Ciba−Ge
igy社製)225g(0.46モル)をアセトン70
0mlに溶解し、2N水酸化ナトリウム水溶液600m
lを加えて室温で24時間撹拌した。続いて2N塩酸6
50mlを加えて酸性にした後、不溶化した生成物を濾
別し、蒸留水で濾液が中性になるまで洗浄した。この生
成物を真空乾燥した後、トルエンから再結晶を行うこと
で3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−
イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロ
キシ−ベンゼンプロパン酸(以下前駆体(3)と略す)
を得た。
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4
−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オクチルエステル
(「TINUVIN109」、商標名、Ciba−Ge
igy社製)225g(0.46モル)をアセトン70
0mlに溶解し、2N水酸化ナトリウム水溶液600m
lを加えて室温で24時間撹拌した。続いて2N塩酸6
50mlを加えて酸性にした後、不溶化した生成物を濾
別し、蒸留水で濾液が中性になるまで洗浄した。この生
成物を真空乾燥した後、トルエンから再結晶を行うこと
で3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−
イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロ
キシ−ベンゼンプロパン酸(以下前駆体(3)と略す)
を得た。
【0061】得られた前駆体(3)3.88g(0.0
1モル)をアセトン100mlに溶解させ、トリエチル
アミン1.78g(0.018モル)を滴下した。滴下
終了後、しばらく撹拌した後、0℃に冷却し、クロロ炭
酸エチル1.14g(0.01モル)をゆっくりと滴下
した。滴下終了後、同じ温度で30分間撹拌した後、生
成した沈澱物を濾過した。得られた濾液を0℃に冷却
し、3−アミノプロピルトリエトキシシラン2.3g
(0.01モル)を滴下した。滴下終了後、室温で30
分間撹拌した後、反応溶液を冷却することにより生成物
が沈降した。この沈澱物を濾過し、冷したアセトンで洗
浄した後乾燥することにより化合物(3)を得た。化合
物(3)の融点は139〜140℃であった。
1モル)をアセトン100mlに溶解させ、トリエチル
アミン1.78g(0.018モル)を滴下した。滴下
終了後、しばらく撹拌した後、0℃に冷却し、クロロ炭
酸エチル1.14g(0.01モル)をゆっくりと滴下
した。滴下終了後、同じ温度で30分間撹拌した後、生
成した沈澱物を濾過した。得られた濾液を0℃に冷却
し、3−アミノプロピルトリエトキシシラン2.3g
(0.01モル)を滴下した。滴下終了後、室温で30
分間撹拌した後、反応溶液を冷却することにより生成物
が沈降した。この沈澱物を濾過し、冷したアセトンで洗
浄した後乾燥することにより化合物(3)を得た。化合
物(3)の融点は139〜140℃であった。
【0062】また、実施例1と同様に紫外可視吸収スペ
クトルを測定したところ、紫外線領域で充分大きな吸収
が得られた。
クトルを測定したところ、紫外線領域で充分大きな吸収
が得られた。
【0063】
【実施例5】実施例4で調製した前駆体(3)6.47
g(0.017モル)をトルエン100mlに溶解し、
3−アミノプロピルトリエトキシシラン3.91g
(0.017モル)を加えた。次いで110℃で3時間
加熱した後、トルエンを留去し得られた固体を乾燥させ
ることで化合物(3)を得た。収率は80%であった。
g(0.017モル)をトルエン100mlに溶解し、
3−アミノプロピルトリエトキシシラン3.91g
(0.017モル)を加えた。次いで110℃で3時間
加熱した後、トルエンを留去し得られた固体を乾燥させ
ることで化合物(3)を得た。収率は80%であった。
【0064】次に化合物(3)100gをN,N−ジメ
チルホルムアミド300mlに溶解し、シリコーンワニ
ス(商品名「XO−7931−クリヤー」、オキツモ社
製)222gを添加した。さらに水10ml、酢酸1m
l、ジ−n−ブチルスズジラウレート0.1mlを加
え、60℃で2時間加熱撹拌して塗布液を得た。得られ
た塗布液をガラス基板上に10milのアプリケーター
を用いて塗布し、200℃で20分間加熱し、厚さ約1
5μmの紫外線吸収層を設けたガラス基板を作製した。
チルホルムアミド300mlに溶解し、シリコーンワニ
ス(商品名「XO−7931−クリヤー」、オキツモ社
製)222gを添加した。さらに水10ml、酢酸1m
l、ジ−n−ブチルスズジラウレート0.1mlを加
え、60℃で2時間加熱撹拌して塗布液を得た。得られ
た塗布液をガラス基板上に10milのアプリケーター
を用いて塗布し、200℃で20分間加熱し、厚さ約1
5μmの紫外線吸収層を設けたガラス基板を作製した。
【0065】さらにこの紫外線吸収層の上に、シリコー
ンレジン(商品名「APZ−6615」、日本ユニカー
社製)をスプレー塗布し、100℃で20分間乾燥し
て、厚さ約2μmの保護膜を設けた。
ンレジン(商品名「APZ−6615」、日本ユニカー
社製)をスプレー塗布し、100℃で20分間乾燥し
て、厚さ約2μmの保護膜を設けた。
【0066】このガラス基板の紫外可視吸収スペクトル
を図5に示す。図5より得られたガラス基板は、紫外線
を完全に遮断することが判る。
を図5に示す。図5より得られたガラス基板は、紫外線
を完全に遮断することが判る。
【0067】
【実施例6】3−(5−クロロ−2H−ベンゾトリアゾ
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4
−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オクチルエステル
(「TINUVIN109」、商標名、Ciba−Ge
igy社製)220g(0.45モル)をアリルアルコ
ール500mlに溶解させ、濃硫酸5mlを加えた後、
5時間還流させた。放冷後、析出してきた生成物を濾別
した。得られた固体を塩化メチレン300mlに溶解さ
せ、飽和NaHCO3水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、得られた固体を
ヘキサンから再結晶を行うことでアリル 3−(5−ク
ロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−
(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼ
ンプロパネート(以下前駆体(4)と略す)を得た。収
率は90%であった。
ール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエチル)−4
−ヒドロキシ−ベンゼンプロパン酸オクチルエステル
(「TINUVIN109」、商標名、Ciba−Ge
igy社製)220g(0.45モル)をアリルアルコ
ール500mlに溶解させ、濃硫酸5mlを加えた後、
5時間還流させた。放冷後、析出してきた生成物を濾別
した。得られた固体を塩化メチレン300mlに溶解さ
せ、飽和NaHCO3水溶液で洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。濾過後、溶媒を留去し、得られた固体を
ヘキサンから再結晶を行うことでアリル 3−(5−ク
ロロ−2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−
(1,1−ジメチルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼ
ンプロパネート(以下前駆体(4)と略す)を得た。収
率は90%であった。
【0068】前駆体(4)69.13g(0.167モ
ル)をテトラハイドロフラン300mlに溶解し、白金
−シロキサン錯体0.6mlを加えた後、トリエトキシ
シラン30.6g(0.186モル)を滴下した。6時
間撹拌後、溶媒を留去して真空乾燥することで淡黄色液
体を得た。これを容積比3:1のヘキサン/エーテル5
00mlとともにフローリザルカラムを通すことにより
下記式化12で示される液状の化合物3−(トリエトキ
シシリル)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエ
チル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート(以
下、化合物(4)と略す)を得た。収率は90%であっ
た。化合物(4)の赤外線吸収スペクトルを図6に示
す。
ル)をテトラハイドロフラン300mlに溶解し、白金
−シロキサン錯体0.6mlを加えた後、トリエトキシ
シラン30.6g(0.186モル)を滴下した。6時
間撹拌後、溶媒を留去して真空乾燥することで淡黄色液
体を得た。これを容積比3:1のヘキサン/エーテル5
00mlとともにフローリザルカラムを通すことにより
下記式化12で示される液状の化合物3−(トリエトキ
シシリル)プロピル 3−(5−クロロ−2H−ベンゾ
トリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメチルエ
チル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート(以
下、化合物(4)と略す)を得た。収率は90%であっ
た。化合物(4)の赤外線吸収スペクトルを図6に示
す。
【0069】
【化12】
【0070】また、化合物(4)の紫外可視吸収スペク
トルを実施例1と同様に測定した。結果を図7に示す。
図7より化合物(4)は紫外線領域で充分な吸収を示す
ことが判る。
トルを実施例1と同様に測定した。結果を図7に示す。
図7より化合物(4)は紫外線領域で充分な吸収を示す
ことが判る。
【0071】
【実施例7】前駆体(4)5.0g(0.012モル)
をテトラハイドロフラン50mlに溶解させ、白金−シ
ロキサン錯体0.4mlを加えた後、1,1,1,3,
3,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン4.0g
(0.018モル)を滴下した。6時間撹拌後、溶媒を
留去して真空乾燥することで淡黄色液体を得た。これを
容積比3:1のヘキサン/エーテル500mlとともに
フローリザルカラムを通すことにより下記式化13で示
される3−(1,1,3,3,5,5,5−ヘプタメチ
ルトリシロキシ)プロピル 3−(5−クロロ−2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメ
チルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート
(以下化合物(5)と略す)を得た。収率は90%であ
った。
をテトラハイドロフラン50mlに溶解させ、白金−シ
ロキサン錯体0.4mlを加えた後、1,1,1,3,
3,5,5−ヘプタメチルトリシロキサン4.0g
(0.018モル)を滴下した。6時間撹拌後、溶媒を
留去して真空乾燥することで淡黄色液体を得た。これを
容積比3:1のヘキサン/エーテル500mlとともに
フローリザルカラムを通すことにより下記式化13で示
される3−(1,1,3,3,5,5,5−ヘプタメチ
ルトリシロキシ)プロピル 3−(5−クロロ−2H−
ベンゾトリアゾール−2−イル)−5−(1,1−ジメ
チルエチル)−4−ヒドロキシ−ベンゼンプロパネート
(以下化合物(5)と略す)を得た。収率は90%であ
った。
【0072】
【化13】
【0073】また、化合物(5)15mgをクロロホル
ム50mlに溶解し、実施例1と同様に紫外可視吸収ス
ペクトルを測定した。結果を図8に示す。図8より化合
物(5)は紫外線領域で充分な吸収を示すことが判る。
ム50mlに溶解し、実施例1と同様に紫外可視吸収ス
ペクトルを測定した。結果を図8に示す。図8より化合
物(5)は紫外線領域で充分な吸収を示すことが判る。
【図1】実施例1において得られた化合物(1)の赤外
線吸収スペクトル結果を示すグラフである。
線吸収スペクトル結果を示すグラフである。
【図2】実施例1における紫外可視吸収スペクトルを示
すグラフである。
すグラフである。
【図3】実施例2において得られた化合物(2)の赤外
線吸収スペクトル結果を示すグラフである。
線吸収スペクトル結果を示すグラフである。
【図4】実施例2における紫外可視吸収スペクトルを示
すグラフである。
すグラフである。
【図5】実施例5における紫外線吸収層付ガラス基板の
紫外可視吸収スペクトルを示すグラフである。
紫外可視吸収スペクトルを示すグラフである。
【図6】実施例6において得られた化合物(4)の赤外
線吸収スペクトル結果を示すグラフである。
線吸収スペクトル結果を示すグラフである。
【図7】実施例6における紫外可視吸収スペクトルを示
すグラフである。
すグラフである。
【図8】実施例7における紫外可視吸収スペクトルを示
すグラフである。
すグラフである。
Claims (2)
- 【請求項1】 式化1で示される化合物を有効成分とす
る紫外線吸収剤。 【化1】 (式中、R1は水素原子、ハロゲン原子又は炭素数1〜
10のアルキル基を示し、R2は水素原子又は炭素数1
〜10のアルキル基を示す。R3及びR4は同一若しくは
異なる基であって、炭素数1〜10のアルキレン基を示
す。R5〜R9は同一若しくは異なる基であって、炭素数
1〜10のアルキル基、アルコキシ基、炭素数6〜10
のアリール基、水酸基又は水素原子を示し、Xはアミド
結合(CONH)、ウレタン結合(OCONH)又はエ
ステル結合(COO)を示す。さらにnはn≧0の整数
を示す。) - 【請求項2】 請求項1記載の紫外線吸収剤を含むコー
ティング材料。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05299295A JP3524617B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 紫外線吸収剤及びコーティング材料 |
US08/609,558 US5627227A (en) | 1995-03-13 | 1996-03-01 | Ultraviolet absorber and coating material |
EP96301583A EP0732361B1 (en) | 1995-03-13 | 1996-03-07 | Ultraviolet absorber and coating material |
DE69604519T DE69604519T2 (de) | 1995-03-13 | 1996-03-07 | Ultraviolett-Absorber und Überzugsmaterial |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP05299295A JP3524617B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 紫外線吸収剤及びコーティング材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08245944A true JPH08245944A (ja) | 1996-09-24 |
JP3524617B2 JP3524617B2 (ja) | 2004-05-10 |
Family
ID=12930429
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP05299295A Expired - Fee Related JP3524617B2 (ja) | 1995-03-13 | 1995-03-13 | 紫外線吸収剤及びコーティング材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5627227A (ja) |
EP (1) | EP0732361B1 (ja) |
JP (1) | JP3524617B2 (ja) |
DE (1) | DE69604519T2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997049778A1 (fr) * | 1996-06-27 | 1997-12-31 | Nippon Oil Company, Ltd. | Materiau absorbant les ultraviolets et plaques d'absorption des ultraviolets |
JP2004505984A (ja) * | 2000-08-03 | 2004-02-26 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 光に安定なシリル化ベンゾトリアゾールuv吸収剤及びそれにより安定化された組成物 |
KR100891436B1 (ko) | 2001-06-29 | 2009-04-03 | 시바 홀딩 인크 | 첨가제 작용화된 친유기성 나노 스케일 충전제 |
JP2014114364A (ja) * | 2012-12-07 | 2014-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 樹脂用コーティング剤組成物 |
WO2020262658A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 硬化性組成物およびその製造方法、眼鏡レンズ、眼鏡ならびに眼鏡レンズの製造方法 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6291586B2 (en) | 1996-05-03 | 2001-09-18 | 3M Innovative Properties Company | Amide functional ultraviolet light absorbers for polyurethanes and polyureas |
US5994431A (en) * | 1996-05-03 | 1999-11-30 | 3M Innovative Properties Company | Amide functional ultraviolet light absorbers for polyolefins |
EP0855615A3 (en) * | 1997-01-23 | 1999-02-10 | NIPPON OIL Co. Ltd. | Electrochromic device |
DE19724396A1 (de) * | 1997-06-10 | 1998-12-24 | Bayer Ag | UV-Stabilisatoren für Siloxan-Systeme |
DE19724397A1 (de) * | 1997-06-10 | 1999-01-14 | Bayer Ag | UV-Stabilisatoren für Siloxan-Systeme |
KR100383917B1 (ko) * | 1998-07-27 | 2003-08-21 | 주식회사 엘지화학 | 내후성이우수한내마모성피복조성물및이를이용한피막형성방법 |
US6194330B1 (en) * | 1998-07-31 | 2001-02-27 | Milliken & Company | Polymer latex for ultraviolet absorbtion on fabric |
KR100673265B1 (ko) * | 2000-10-04 | 2007-01-22 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 |
US6930136B2 (en) * | 2001-09-28 | 2005-08-16 | National Starch And Chemical Investment Holding Corporation | Adhesion promoters containing benzotriazoles |
JP4260418B2 (ja) * | 2001-12-07 | 2009-04-30 | 日鉱金属株式会社 | 塩基性シランカップリング剤有機カルボン酸塩組成物、その製造方法、並びにそれを含むエポキシ樹脂組成物 |
US6883807B2 (en) | 2002-09-13 | 2005-04-26 | Seimens Westinghouse Power Corporation | Multidirectional turbine shim seal |
US6733234B2 (en) | 2002-09-13 | 2004-05-11 | Siemens Westinghouse Power Corporation | Biased wear resistant turbine seal assembly |
EP1737471A4 (en) * | 2004-04-20 | 2010-08-25 | Rnd Pharmaceuticals | PHARMACEUTICAL COMPOSITIONS AND METHODS OF USING SILICON-SUBSTITUTED CYCLO-OXYGENASE-2 LIPOPHILIC DRUGS AND DERIVATIVES |
JP6145407B2 (ja) * | 2011-11-18 | 2017-06-14 | 株式会社Adeka | 新規化合物及びこの新規化合物を担持した担持体 |
EP3089985B1 (en) * | 2014-01-03 | 2018-06-27 | Council of Scientific and Industrial Research | Silicon-based fungicides and process for producing the same |
FR3029919B1 (fr) * | 2014-12-11 | 2018-03-02 | L'oreal | Composes alpha-silanes et beta-silanes portant une fonction filtrant les radiations uv ; compositions les contenant |
CN107382887A (zh) * | 2017-07-06 | 2017-11-24 | 浙江工业大学 | 一种合成n‑烯氧基苯并三氮唑类化合物的方法 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4179548A (en) * | 1975-10-28 | 1979-12-18 | General Electric Company | UV curable resin compositions containing urethanes of hydroxybenzotriazoles or urethanes of hydroxy benzophenones |
US4373060A (en) * | 1980-05-30 | 1983-02-08 | General Electric Company | Silicone coating for unprimed plastic substrate and coated articles |
US4316033A (en) * | 1980-05-30 | 1982-02-16 | General Electric Company | Alkoxysilylbenzotriazoles |
US4328346A (en) * | 1980-08-01 | 1982-05-04 | General Electric Company | Silane-functionalized ultraviolet screen precursors |
EP0057160B1 (de) * | 1981-01-23 | 1985-06-19 | Ciba-Geigy Ag | 2-(2-Hydroxyphenyl)-benztriazole, ihre Verwendung als UV-Absorber und ihre Herstellung |
US4504628A (en) * | 1982-02-01 | 1985-03-12 | The Dow Chemical Company | Polymerizable UV light stabilizers from isocyanatoalkyl esters of unsaturated carboxylic acids |
JPS6343972A (ja) * | 1986-08-11 | 1988-02-25 | Nihon Tokushu Toryo Co Ltd | 高耐候性塗料 |
US4803254A (en) * | 1987-03-11 | 1989-02-07 | Iolab Corporation | Vinylsilylalkoxy arylbenzotriazole compounds and UV absorbing compositions made therefrom |
US4923914A (en) * | 1988-04-14 | 1990-05-08 | Kimberly-Clark Corporation | Surface-segregatable, melt-extrudable thermoplastic composition |
FR2635780B1 (fr) * | 1988-08-04 | 1990-12-14 | Rhone Poulenc Chimie | Diorganopolysiloxane a fonction benzotriazole |
JPH02243695A (ja) * | 1989-03-16 | 1990-09-27 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 有機ケイ素化合物 |
JP2527093B2 (ja) * | 1990-09-25 | 1996-08-21 | 信越化学工業株式会社 | 有機珪素化合物及び化粧料 |
US5164462A (en) * | 1991-04-25 | 1992-11-17 | Allergan, Inc. | Ultraviolet light absorbing compounds and silicone compositions |
EP0526399B1 (de) * | 1991-07-29 | 1995-09-27 | Ciba SC Holding AG | Lichtstabilisierte Copolymer-Zusammensetzungen als Bindemittel für Lacke |
US5244947A (en) * | 1991-12-31 | 1993-09-14 | Kimberly-Clark Corporation | Stabilization of polyolefin nonwoven webs against actinic radiation |
JP3477723B2 (ja) * | 1992-09-09 | 2003-12-10 | 東レ株式会社 | 紫外線吸収剤及びそれを含む紫外線吸収組成物 |
FR2726561B1 (fr) * | 1994-11-08 | 1996-12-13 | Oreal | Nouveaux filtres solaires, compositions cosmetiques photoprotectrices les contenant et utilisations |
-
1995
- 1995-03-13 JP JP05299295A patent/JP3524617B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-03-01 US US08/609,558 patent/US5627227A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-07 DE DE69604519T patent/DE69604519T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1996-03-07 EP EP96301583A patent/EP0732361B1/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997049778A1 (fr) * | 1996-06-27 | 1997-12-31 | Nippon Oil Company, Ltd. | Materiau absorbant les ultraviolets et plaques d'absorption des ultraviolets |
US6190777B1 (en) | 1996-06-27 | 2001-02-20 | Nippon Mitsubishi Oil Corporation | Ultraviolet absorbing material and ultraviolet absorbing plate |
JP2004505984A (ja) * | 2000-08-03 | 2004-02-26 | チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド | 光に安定なシリル化ベンゾトリアゾールuv吸収剤及びそれにより安定化された組成物 |
JP4912561B2 (ja) * | 2000-08-03 | 2012-04-11 | チバ ホールディング インコーポレーテッド | 光に安定なシリル化ベンゾトリアゾールuv吸収剤及びそれにより安定化された組成物 |
KR100891436B1 (ko) | 2001-06-29 | 2009-04-03 | 시바 홀딩 인크 | 첨가제 작용화된 친유기성 나노 스케일 충전제 |
JP2014114364A (ja) * | 2012-12-07 | 2014-06-26 | Shin Etsu Chem Co Ltd | 樹脂用コーティング剤組成物 |
WO2020262658A1 (ja) * | 2019-06-28 | 2020-12-30 | ホヤ レンズ タイランド リミテッド | 硬化性組成物およびその製造方法、眼鏡レンズ、眼鏡ならびに眼鏡レンズの製造方法 |
JP2021006600A (ja) * | 2019-06-28 | 2021-01-21 | ホヤ レンズ タイランド リミテッドHOYA Lens Thailand Ltd | 硬化性組成物およびその製造方法、眼鏡レンズ、眼鏡ならびに眼鏡レンズの製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0732361A1 (en) | 1996-09-18 |
EP0732361B1 (en) | 1999-10-06 |
DE69604519D1 (de) | 1999-11-11 |
US5627227A (en) | 1997-05-06 |
DE69604519T2 (de) | 2000-01-13 |
JP3524617B2 (ja) | 2004-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3524617B2 (ja) | 紫外線吸収剤及びコーティング材料 | |
KR840001742B1 (ko) | 알콕시실릴벤조트리아졸-함유 피복 조성물로 피복시킨 제품 | |
US5391795A (en) | Silylated agents useful for absorbing ultraviolet light | |
JP3831481B2 (ja) | カルバシラトラン誘導体、その製造方法、接着促進剤、および硬化性シリコーン組成物 | |
KR840001765B1 (ko) | 자외선 흡수제를 함유하는 수성 피복조성물 | |
JP4124505B2 (ja) | 耐湿性を有する改良シリル化紫外線吸収剤 | |
US4307240A (en) | Alkoxysilanes and method for making | |
JP6687644B2 (ja) | 組成物、膜、ガラス物品、化合物、高純度組成物、化合物の製造方法および膜の製造方法 | |
FR2483435A1 (fr) | Revetement de silicone pour support en matiere plastique non apprete et articles revetus correspondants | |
US5322945A (en) | Photochromic spirooxazine monomers and polysiloxanes | |
US4349602A (en) | Substrates coated with a thermoset acrylic primer and an alkoxysilylbenzotriazole UV stabilizer | |
JPH09124794A (ja) | 有機光機能材を含有するポリシロキサン樹脂組成物及びそれから得られる透明な光機能素子 | |
JPH0224315B2 (ja) | ||
US20220112355A1 (en) | Curable composition, method for preparing the same, spectacle lens, spectacles, and method for producing spectacle lens | |
JP2011162497A (ja) | 環状シラザン化合物及びその製造方法 | |
JP2006182688A (ja) | 紫外線吸収性基含有有機ケイ素化合物及びその製造方法並びにコーティング組成物及び被覆物品 | |
US20130204006A1 (en) | Process for preparing 2-hydroxyphenyl benzotriazole siloxane compounds | |
US4368241A (en) | Alkoxysilanes and method for making | |
JPS62298595A (ja) | ケイ素含有重合性単量体ならびにその製法 | |
JP2001098222A (ja) | 下塗り剤組成物及びプラスチック基体の表面保護方法 | |
JP2001302974A (ja) | ケイ素含有コーティング剤及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20031215 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20040120 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20040213 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |