JPH08241880A - スクラブ洗浄装置 - Google Patents

スクラブ洗浄装置

Info

Publication number
JPH08241880A
JPH08241880A JP7045153A JP4515395A JPH08241880A JP H08241880 A JPH08241880 A JP H08241880A JP 7045153 A JP7045153 A JP 7045153A JP 4515395 A JP4515395 A JP 4515395A JP H08241880 A JPH08241880 A JP H08241880A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
cleaning
liquid
rotary support
brush
cleaned
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7045153A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3422121B2 (ja
Inventor
Yasushi Inagaki
靖史 稲垣
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP04515395A priority Critical patent/JP3422121B2/ja
Publication of JPH08241880A publication Critical patent/JPH08241880A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3422121B2 publication Critical patent/JP3422121B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Cleaning In General (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄ヘッドと被洗浄面との接触部分に対し、
従来よりも効率良く洗浄液を供給することができるスク
ラブ洗浄装置を提供する。 【構成】 導液部11bが設けられた回転支持体11及
び回転支持体11の洗浄面11aに植毛された複数本の
洗浄毛12を有する洗浄ブラシ10を備えたスクラブ洗
浄装置に対し、回転支持体11の洗浄面11aに複数の
液孔11cを設けて、洗浄液供給系L1,L2により導
液部11bを介して液孔11cから洗浄液を放出させる
構成とした。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薬品水溶液、有機溶
剤、純水などの洗浄液を使用して洗浄処理を行うスクラ
ブ洗浄装置に関するもので、特に、回転する洗浄ヘッド
に洗浄液を供給しつつ被洗浄面を洗浄する際に用いて好
適なものである。
【0002】
【従来の技術】一般に、この種のスクラブ洗浄装置に
は、図8に示すような洗浄ブラシが洗浄ヘッドとして用
いられている。図8(a)に示す洗浄ブラシ50はカッ
プ型ブラシと呼ばれるもので、これは回転支持体である
ブラシ本体51の下面に複数本の洗浄毛52が植毛され
た構造となっている。一方、図8(b)に示す洗浄ブラ
シ60は円筒型ブラシと呼ばれるもので、これは回転支
持体である回転軸61の外周面に複数本の洗浄毛62が
植毛された構造となっている。
【0003】図9は上記カップ型ブラシを用いたスクラ
ブ洗浄装置の概略構成図であり、図中(a)はその平面
図、(b)は側面図、(c)はブラシ部分の拡大図を示
している。図示のように、洗浄ブラシ50は回転軸53
の下端部に取り付けられている。また、回転軸53は支
持アーム54の先端部にて支持されており、この支持ア
ーム54の基端部が駆動系55に連結されている。さら
に洗浄ブラシ50の近傍には洗浄液ノズル56が配置さ
れており、この洗浄液ノズル56から放出された洗浄液
が洗浄ブラシ50に供給されるようになっている。一
方、洗浄ブラシ50の下方にはスピンドルヘッド57が
配置されている。このスピンドルヘッド57は洗浄対象
となるワーク58(例えば半導体ウエハ等)を真空吸着
力をもって支持するものであり、その下面側には回転駆
動軸となるスピンドルシャフト59が連結されている。
洗浄時には、駆動系55から伝達された駆動力をもって
洗浄ブラシ50を回転させるとともに、洗浄液ノズル5
6から放出させた洗浄液を洗浄ブラシ50に供給しつ
つ、洗浄毛52の先端部分をワーク58の被洗浄面58
aに押し当てて洗浄処理を行う。
【0004】図10は上記円筒型ブラシを用いたスクラ
ブ洗浄装置の概略構成図であり、図中(a)はその平面
図、(b)は側面図、(c)はブラシ部分の拡大図を示
している。図示のように、洗浄ブラシ60はその両端が
一対の支持アーム63によって支持されている。また、
各々の支持アーム63の基端部は駆動系64に連結され
ている。さらに洗浄ブラシ60の近傍には洗浄液ノズル
65が配置されており、この洗浄液ノズル65から放出
された洗浄液が洗浄ブラシ60に供給されるようになっ
ている。一方、洗浄ブラシ60の下方には、先のスクラ
ブ洗浄装置と同様に洗浄対象となるワーク66を支持す
るためのスピンドルヘッド67が配置され、さらにスピ
ンドルヘッド67の下面側にはスピンドルシャフト68
が連結されている。洗浄時には、駆動系64から伝達さ
れた駆動力をもって洗浄ブラシ60を回転させるととも
に、洗浄液ノズル65から放出させた洗浄液を洗浄ブラ
シ60に供給しつつ、洗浄毛62の先端部分をワーク6
6の被洗浄面66aに押し当てて洗浄処理を行う。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上述した
スクラブ洗浄装置においては、いずれも洗浄液ノズル5
6、65から洗浄ブラシ50、60に向けて外側から洗
浄液を供給する構成となっているため、洗浄毛52、6
2そのものが妨げとなって、被洗浄面58a、66aと
接触状態にある全ての洗浄毛52、62に十分に洗浄液
を供給することが困難であり、満足のいく洗浄効果が得
られるものではなかった。特に、カップ型ブラシを用い
たスクラブ洗浄装置(図7参照)では、ブラシ外周側の
洗浄毛52が妨げとなってブラシ中心(回転中心)側の
洗浄毛52に洗浄液が供給され難いものとなっていた。
【0006】本発明は、上記問題を解決するためになさ
れたもので、その目的とするところは、洗浄ヘッドと被
洗浄面との接触部分に対し、従来よりも効率良く洗浄液
を供給することができるスクラブ洗浄装置を提供するこ
とにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するためになされたもので、回転支持体の洗浄面に洗
浄部材を取り付けてなる洗浄ヘッドを回転させるととも
に、その回転させた洗浄ヘッドに洗浄液を供給しつつ被
洗浄面を洗浄するスクラブ洗浄装置において、回転支持
体の洗浄面側に複数の液孔を有するとともに、回転支持
体の内部に設けられた導液部を介して各々の液孔から洗
浄液を放出させるための洗浄液供給系を備えた構成とな
っている。
【0008】
【作用】本発明のスクラブ洗浄装置においては、洗浄液
供給系から給送した洗浄液が洗浄ヘッドの回転支持体に
設けられた導液部を介して洗浄面側の各々の液孔から放
出され、この放出された洗浄液が洗浄ヘッドと被洗浄面
との接触部分全域にわたって的確に供給されるようにな
る。
【0009】
【実施例】本発明はスクラブ洗浄装置の構成において、
特に洗浄時に被洗浄面に押し当てられる洗浄ヘッドとこ
れに洗浄液を供給するための洗浄液供給系に特徴部分が
あり、以下にその具体的な実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。図1は本発明に係わるスクラブ洗浄装置の
第1実施例を説明する図である。まず、図1(a)に示
すように、洗浄ヘッドに相当する洗浄ブラシ10は、中
空構造をなす回転支持体11と、この回転支持体11の
下面、すなわち被洗浄面に対向する洗浄面11aに植毛
された複数本の洗浄毛12(洗浄部材)とから構成され
る。回転支持体11の内部には導液部11bが設けられ
ており、この導液部11bに連通した状態で回転支持体
11の洗浄面11aに複数の液孔11cが設けられてい
る。これら複数の液孔11cは、回転支持体11の洗浄
面11aの全域にわたり、洗浄毛12の植毛パターンに
ならって例えば同心円状に配設される。
【0010】さらに、洗浄ブラシ10に対しては、洗浄
液供給ラインL1と加圧ラインL2とがそれぞれ接続さ
れている。これら洗浄液供給ラインL1と加圧ラインL
2とは、図1(b)に示すように、回転支持体11の上
面に連結された回転軸13と、この回転軸13を支持す
る支持アーム14とを介して接続されており、また各々
の供給ラインL1,L2の末端部は回転支持体11の上
壁部分から導液部11bへと導出されている。
【0011】本第1実施例のスクラブ洗浄装置では、洗
浄液供給ラインL1を介して供給された洗浄液が回転支
持体11の導液部11bに例えばその半分程度の容量を
もって貯溜され、この状態から加圧ラインL2を介して
導液部11bにエアーや窒素ガス等を送り込むことによ
り、先に貯溜された洗浄液が回転支持体11の洗浄面1
1aより複数の液孔11cを介して放出される。このと
き、各々の液孔11cからは洗浄毛12の先端側に向け
て洗浄液が放出されるため、洗浄時に洗浄ブラシ10を
被洗浄面(不図示)に押し当てた際には、回転支持体1
1の洗浄面11a側の全領域にわたり、各々の液孔11
cから放出させた洗浄液が洗浄毛12と被洗浄面との接
触部分に的確に供給されるようになる。これにより、従
来装置では洗浄液の供給が困難とされていたカップ型ブ
ラシの回転中心側に対しても十分に洗浄液を供給するこ
とが可能となるため、洗浄液によるパーティクル等の排
出効果が高まり、ブラシスクライビングによる洗浄効果
を格段に向上させることができる。
【0012】図2は本発明に係わるスクラブ洗浄装置の
第2実施例を説明する図である。本第2実施例のスクラ
ブ洗浄装置では、上記第1実施例との比較において、特
に、洗浄ブラシ10を構成する回転支持体11とこの回
転支持体11の洗浄面11aに植毛された複数本の洗浄
毛12のうち、回転支持体11の洗浄面11a側に液孔
を設ける際の具体的手段に違いがある。すなわち本第2
実施例においては、図2に示すように、回転支持体11
の外壁部分を貫通する状態で各々の洗浄毛12が洗浄面
11aに植毛されている。また個々の洗浄毛12には、
その軸芯に沿って細い管状の液孔12aが設けられてお
り、この液孔12aが回転支持体11の外壁部分を介し
て導液部11bに連通している。さらに、回転支持体1
1の導液部11bには、上記第1実施例と同様に洗浄液
供給ラインL1と加圧ラインL2とが回転軸13等を介
して導出されている。
【0013】本第2実施例のスクラブ洗浄装置では、洗
浄液供給ラインL1を介して供給された洗浄液が回転支
持体11の導液部11bに貯溜され、この状態から加圧
ラインL2を介して導液部11bにエアーや窒素ガス等
を送り込むことにより、そこに貯溜された洗浄液が各洗
浄毛12の液孔12aを通して放出される。これによ
り、洗浄時に洗浄ブラシ10を被洗浄面(不図示)に押
し当てた際には、図3に示すように、各洗浄毛12の液
孔12aから放出された洗浄液がワーク(例えば半導体
ウエハ)15の被洗浄面15aに直に供給されるように
なるため、洗浄毛12によって擦り取られたパーティク
ル等を、よりスムーズに排出させることが可能となる。
【0014】図4は本発明に係わるスクラブ洗浄装置の
第3実施例を説明する図であり、これは洗浄ヘッドに円
筒型ブラシを採用した場合の具体例を示している。ま
ず、図4(a)に示すように、洗浄ヘッドに相当する洗
浄ブラシ20は、中空構造をなす回転支持体21と、こ
の回転支持体21の外周面、すなわち洗浄面21aに植
毛された複数本の洗浄毛22とから構成される。回転支
持体21の内部には導液部21bが設けられており、こ
の導液部21bに連通した状態で回転支持体21の洗浄
面21aに複数の液孔21cが設けられている。これら
複数の液孔21cは、回転支持体11の洗浄面11aの
全域にわたり、洗浄毛22の植毛パターンにならって例
えばマトリクス状に配設される。
【0015】また、回転支持体21の導液部21bには
例えば薄いゴムシート等からなるガードリング23が組
み込まれている。このガードリング23は、導液部21
bからの洗浄液の放出方向を規制するためのもので、導
液部21bの側壁部分と上壁部分に位置する液孔22c
を塞ぐかたちで配置されている。さらにガードリング2
3は、洗浄時に洗浄ブラシ20と一緒に回転しないよ
う、ブラシ回転軸とは分離した状態で取り付けられてい
る。
【0016】これに加えて、洗浄ブラシ20の両端部に
は、図4(b)に示すように、洗浄ブラシ20を支持す
る一対の支持アーム24や、この支持アーム24を介し
て洗浄ブラシ20に回転駆動力を付与する駆動系25と
ともに、洗浄液供給ラインL1と加圧ラインL2とがそ
れぞれ接続されている。そして、各々の供給ラインL
1,L2の末端部は洗浄ノズル20の枢軸部を介して回
転支持体21の導液部21bに導出されている。
【0017】本第3実施例のスクラブ洗浄装置では、上
記第1実施例と同様に、洗浄液供給ラインL1を介して
供給された洗浄液が回転支持体21の導液部21bに貯
溜され、この状態から加圧ラインL2を介して回転支持
体21の導液部21bにエアーや窒素ガス等を送り込む
ことにより、先に貯溜された洗浄液が回転支持体21の
洗浄面21aより複数の液孔21cを介して放出され
る。このとき、回転支持体21の洗浄面21aに設けら
れた液孔21cのうち、導液部21bの側壁部分と上壁
部分に位置する液孔21cはガードリング23によって
閉塞されることから、導液部21bの底部に位置する液
孔21cから洗浄毛22の先端側に向けて洗浄液が放出
されることになる。したがって、洗浄時に洗浄ブラシ2
0を被洗浄面(不図示)に押し当てた際には、被洗浄面
に対向する回転支持体21の洗浄面21a側の全領域に
わたり、各々の液孔21cから放出させた洗浄液を洗浄
毛22と被洗浄面との接触部分に的確に供給することが
可能となる。これにより、本第3実施例のように洗浄ヘ
ッドとして円筒型ブラシを採用したスクラブ洗浄装置に
おいても、洗浄ブラシと被洗浄面との接触部分に十分に
洗浄液を供給することが可能となるため、洗浄液による
パーティクル等の排出効果が高まり、ブラシスクライビ
ングによる洗浄効果を格段に向上させることができる。
【0018】図5は本発明に係わるスクラブ洗浄装置の
第4実施例を説明する図である。本第4実施例のスクラ
ブ洗浄装置では、上記第3実施例との比較において、特
に、洗浄ブラシ20を構成する回転支持体21とこの回
転支持体21の洗浄面21aに植毛された複数本の洗浄
毛22のうち、回転支持体21の洗浄面21a側に液孔
を設ける際の具体的手段に違いがある。すなわち本第4
実施例においては、図5に示すように、回転支持体11
の周壁部分を貫通する状態で各々の洗浄毛22が洗浄面
21aに植毛されている。また個々の洗浄毛22には、
その軸芯に沿って細い管状の液孔22aが設けられてお
り、この液孔22aが回転支持体21の周壁部分を介し
て導液部21bに連通している。さらに、回転支持体2
1の導液部21bには、上記第3実施例と同様に洗浄ブ
ラシの枢軸部分を介して図示せぬ洗浄液供給ラインと加
圧ラインとが導出されている。
【0019】本第4実施例のスクラブ洗浄装置では、図
示せぬ洗浄液供給ラインを介して供給された洗浄液が回
転支持体21の導液部21bに貯溜され、この状態から
図示せぬ加圧ラインを介して導液部21bにエアーや窒
素ガス等を送り込むことにより、そこに貯溜された洗浄
液がガードリング23により塞がれていない各洗浄毛2
2の液孔22aを通して放出される。これにより洗浄時
に洗浄ブラシ20を被洗浄面(不図示)に押し当てた際
には、上記第2実施例と同様に、各洗浄毛22の液孔2
2aから放出された洗浄液が被洗浄面(不図示)に直に
供給されるようになるため、洗浄毛22によって擦り取
られたパーティクル等を効率良く外部に排出させること
が可能となる。
【0020】図6は本発明に係わるスクラブ洗浄装置の
第5実施例を説明する図であり、これは洗浄ヘッドの洗
浄部材としてスポンジを採用した場合の具体例を示して
いる。本第5実施例で適用した洗浄ヘッド30において
は、中空構造をなす回転支持体31の下面、すなわち被
洗浄面に対向する洗浄面31aに洗浄部材としてスポン
ジ32が取り付けられている。また、回転支持体31の
内部には導液部31bが形成されており、この導液部3
1bに連通した状態で洗浄面31aに複数の液孔31c
が設けられている。さらに回転支持体31の導液部31
bには、洗浄液供給系として洗浄液供給ラインL1と加
圧ラインL2とが回転軸33等を介して導出されてい
る。
【0021】本第5実施例のスクラブ洗浄装置では、洗
浄液供給ラインL1を介して供給された洗浄液が回転支
持体31の導液部31bに貯溜され、この状態から加圧
ラインL2を介して回転支持体31の導液部31bにエ
アーや窒素ガス等を送り込むことにより、先に貯溜され
た洗浄液が回転支持体31の洗浄面31aより複数の液
孔31cを介して放出される。このとき、各々の液孔1
1cから放出された洗浄液は海綿状のスポンジ32に浸
透して、その下面側すなわち被洗浄面(不図示)との接
触面側に滲み出るため、洗浄時に洗浄ヘッド30を被洗
浄面に押し当てた際には、回転支持体31の洗浄面31
a側の全領域にわたり、各々の液孔31cから放出させ
た洗浄液をスポンジ32と被洗浄面との接触部分に的確
に供給することが可能となる。
【0022】なお、上記第1〜第5実施例の中では、主
として洗浄ヘッドの構成上の違いについて述べたが、洗
浄ヘッドに洗浄液を供給する洗浄液供給系としても種々
の態様が考えられる。すなわち、上記実施例でも述べた
ように、所望する洗浄液を各供給ライン(配管)L1,
L2によって直に洗浄ヘッド(洗浄ブラシ)に供給する
以外にも、例えば図7に示すように、2種類の洗浄液を
個別に供給する各供給ラインL3,L4を調合タンクT
に導出するとともに、この調合タンクTで調合した洗浄
液(混合液)を、加圧ラインL5からの加圧力をもって
単一の供給ラインL6より洗浄ヘッドに供給する構成と
することもできる。また、上記第2及び第4実施例の構
成においては、いずれも洗浄毛12、22の末端部(先
端部)のみを開放する形態でそれぞれ液孔12a、22
aを設けるようにしたが、これ以外にも、例えば洗浄毛
12、22の末端部を閉塞してその毛先側の毛壁部分1
2b、22b(図2、図5参照)を局所的に開放した形
態で液孔12a、22aを設けることもできる。
【0023】さらに、本発明に係わるスクラブ洗浄装置
では、洗浄ヘッドの回転支持体の洗浄面側に設けられる
液孔の配列形態や大きさ等を変えることにより、洗浄ヘ
ッドと被洗浄面との接触部分に対してエリア毎に洗浄液
の供給量を制御することもできる。その結果、特に上記
第1及び第2実施例のごとく洗浄ヘッドとしてカップ型
ブラシを採用したスクラブ洗浄装置においては、洗浄ブ
ラシの回転中心領域における液孔の孔径をその外側領域
よりも大きく設定することにより、洗浄時には、洗浄ブ
ラシの回転中心領域からその外側領域に向けてスムーズ
な液流を形成することができるため、被洗浄面からのパ
ーティクル等の排出効率をより一層高めることが可能と
なる。
【0024】
【発明の効果】以上、説明したように本発明のスクラブ
洗浄装置によれば、洗浄液供給系から洗浄ヘッドに供給
された洗浄液を、回転支持体の導液部を介してその洗浄
面側に形成された複数の液孔から放出させることによ
り、洗浄ヘッドと被洗浄面との接触部分全域にわたって
洗浄液を的確に供給することができるため、従来よりも
洗浄効果を向上させることができる。これにより、従来
よりも少ない液量で十分な洗浄効果が得られるようにな
るため、特に高い洗浄レベルが要求される半導体ウエハ
等の洗浄工程においては、製造コストの低減や省資源化
とともに、薬液等の排出量の低減により環境保全の点で
も大いに貢献できる。また、洗浄効果の向上によって洗
浄時間の短縮が図られるため、生産効率の向上にもつな
がる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わるスクラブ洗浄装置の第1実施例
を説明する図である。
【図2】本発明に係わるスクラブ洗浄装置の第2実施例
を説明する図である。
【図3】第2実施例における洗浄時の要部拡大図であ
る。
【図4】本発明に係わるスクラブ洗浄装置の第3実施例
を説明する図である。
【図5】本発明に係わるスクラブ洗浄装置の第4実施例
を説明する図である。
【図6】本発明に係わるスクラブ洗浄装置の第5実施例
を説明する図である。
【図7】洗浄液供給系の一例を示す模式図である。
【図8】一般的な洗浄ブラシの一例を示す図である。
【図9】カップ型ブラシを用いた従来のスクラブ洗浄装
置の概略構成図である。
【図10】円筒型ブラシを用いた従来のスクラブ洗浄装
置の概略構成図である。
【符号の説明】
10 洗浄ブラシ(洗浄ヘッド) 11 回転支持体 11a 洗浄面 11b 導液部 11c 液孔 L1 洗浄液供給ライン L2 加圧ライン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 回転支持体の洗浄面に洗浄部材を取り付
    けてなる洗浄ヘッドを回転させるとともに、その回転さ
    せた洗浄ヘッドに洗浄液を供給しつつ被洗浄面を洗浄す
    るスクラブ洗浄装置において、 前記回転支持体の洗浄面側に複数の液孔を有するととも
    に、前記回転支持体の内部に設けられた導液部を介して
    前記液孔から前記洗浄液を放出させるための洗浄液供給
    系を備えたことを特徴とするスクラブ洗浄装置。
  2. 【請求項2】 前記洗浄部材は前記回転支持体の洗浄面
    に植毛された複数本の洗浄毛から成り、これらの洗浄毛
    に前記液孔が設けられていることを特徴とする請求項1
    記載のスクラブ洗浄装置。
JP04515395A 1995-03-06 1995-03-06 スクラブ洗浄装置 Expired - Fee Related JP3422121B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04515395A JP3422121B2 (ja) 1995-03-06 1995-03-06 スクラブ洗浄装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP04515395A JP3422121B2 (ja) 1995-03-06 1995-03-06 スクラブ洗浄装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH08241880A true JPH08241880A (ja) 1996-09-17
JP3422121B2 JP3422121B2 (ja) 2003-06-30

Family

ID=12711332

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP04515395A Expired - Fee Related JP3422121B2 (ja) 1995-03-06 1995-03-06 スクラブ洗浄装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3422121B2 (ja)

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999018600A1 (en) * 1997-10-06 1999-04-15 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus and method for cleaning semiconductor wafer
US6187132B1 (en) * 1997-03-13 2001-02-13 Tokyo Electron Ltd. Substrate treatment device and substrate transporting method
US6295683B1 (en) * 1999-12-09 2001-10-02 United Microelectronics Corp. Equipment for brushing the underside of a semiconductor wafer
US7010826B2 (en) 2000-09-22 2006-03-14 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning tool and substrate cleaning apparatus
KR100598993B1 (ko) * 1998-01-06 2006-07-07 동경 엘렉트론 주식회사 기판세정장치 및 기판세정방법
CN107234117A (zh) * 2016-03-28 2017-10-10 盟立自动化股份有限公司 清洗机构
US10040226B2 (en) 2003-08-08 2018-08-07 Entegris, Inc. Methods and materials for making a monolithic porous pad cast onto a rotatable base

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6187132B1 (en) * 1997-03-13 2001-02-13 Tokyo Electron Ltd. Substrate treatment device and substrate transporting method
KR100292322B1 (ko) * 1997-03-13 2001-07-12 히가시 데쓰로 기판처리장치및기판반송방법
WO1999018600A1 (en) * 1997-10-06 1999-04-15 Advanced Micro Devices, Inc. Apparatus and method for cleaning semiconductor wafer
KR100598993B1 (ko) * 1998-01-06 2006-07-07 동경 엘렉트론 주식회사 기판세정장치 및 기판세정방법
US6295683B1 (en) * 1999-12-09 2001-10-02 United Microelectronics Corp. Equipment for brushing the underside of a semiconductor wafer
US7010826B2 (en) 2000-09-22 2006-03-14 Tokyo Electron Limited Substrate cleaning tool and substrate cleaning apparatus
US10040226B2 (en) 2003-08-08 2018-08-07 Entegris, Inc. Methods and materials for making a monolithic porous pad cast onto a rotatable base
CN107234117A (zh) * 2016-03-28 2017-10-10 盟立自动化股份有限公司 清洗机构

Also Published As

Publication number Publication date
JP3422121B2 (ja) 2003-06-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3933670B2 (ja) 基板洗浄方法及び基板洗浄装置
US6643882B1 (en) Substrate cleaning apparatus
JP2006278592A5 (ja)
JP3865602B2 (ja) 基板洗浄装置
US6379469B1 (en) Apparatus and method for washing substrate
US20020007840A1 (en) Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method and substrate processing apparatus
JP3422121B2 (ja) スクラブ洗浄装置
CN102773240A (zh) 化学机械抛光后晶片清洗装置
WO1999046083A1 (fr) Dispositif de nettoyage pour dresseur correcteur de marbre
JPH11192461A (ja) 流液式ワークカセット洗浄装置
US6079073A (en) Washing installation including plural washers
JP2000015190A (ja) 基板洗浄方法及び装置
JP2002509367A (ja) ウエハ処理装置に用いられる洗浄/バフ研磨装置
JP4033709B2 (ja) 基板洗浄方法及びその装置
JPH10335283A (ja) 洗浄設備及び洗浄方法
JP2003086558A (ja) ディスク状ワークの洗浄方法及び装置
WO2005065849A1 (ja) 洗浄用スポンジローラー用の中芯
JP3219375B2 (ja) スクラブ洗浄部材およびそれを用いた基板処理装置、ならびに洗浄用ブラシ
JPH0766160A (ja) 半導体基板の研磨方法及び研磨装置
JPH09171983A (ja) 基板洗浄装置
JPH10242100A (ja) 半導体製造装置の洗浄装置
JPH06151398A (ja) ウエハ洗浄装置
JPH07283180A (ja) 基板洗浄装置
JP3059641B2 (ja) 基板洗浄方法
JP2001000381A (ja) グラス洗浄機

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees