JPH08229377A - 反応槽／ミキサー - Google Patents
反応槽／ミキサーInfo
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- JPH08229377A JPH08229377A JP7335692A JP33569295A JPH08229377A JP H08229377 A JPH08229377 A JP H08229377A JP 7335692 A JP7335692 A JP 7335692A JP 33569295 A JP33569295 A JP 33569295A JP H08229377 A JPH08229377 A JP H08229377A
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- Japan
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- scraper
- mixer
- shaft
- scrapers
- shafts
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B7/00—Mixing; Kneading
- B29B7/30—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices
- B29B7/34—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices
- B29B7/38—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary
- B29B7/46—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary with more than one shaft
- B29B7/48—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary with more than one shaft with intermeshing devices, e.g. screws
- B29B7/481—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary with more than one shaft with intermeshing devices, e.g. screws provided with paddles, gears or discs
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F27/00—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders
- B01F27/60—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders with stirrers rotating about a horizontal or inclined axis
- B01F27/70—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders with stirrers rotating about a horizontal or inclined axis with paddles, blades or arms
- B01F27/701—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders with stirrers rotating about a horizontal or inclined axis with paddles, blades or arms comprising two or more shafts, e.g. in consecutive mixing chambers
- B01F27/702—Mixers with rotary stirring devices in fixed receptacles; Kneaders with stirrers rotating about a horizontal or inclined axis with paddles, blades or arms comprising two or more shafts, e.g. in consecutive mixing chambers with intermeshing paddles
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01F—MIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
- B01F35/00—Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
- B01F35/10—Maintenance of mixers
- B01F35/145—Washing or cleaning mixers not provided for in other groups in this subclass; Inhibiting build-up of material on machine parts using other means
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29B—PREPARATION OR PRETREATMENT OF THE MATERIAL TO BE SHAPED; MAKING GRANULES OR PREFORMS; RECOVERY OF PLASTICS OR OTHER CONSTITUENTS OF WASTE MATERIAL CONTAINING PLASTICS
- B29B7/00—Mixing; Kneading
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- B29B7/34—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices
- B29B7/38—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary
- B29B7/46—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary with more than one shaft
- B29B7/48—Mixing; Kneading continuous, with mechanical mixing or kneading devices with movable mixing or kneading devices rotary with more than one shaft with intermeshing devices, e.g. screws
- B29B7/488—Parts, e.g. casings, sealings; Accessories, e.g. flow controlling or throttling devices
- B29B7/489—Screws
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Mixers Of The Rotary Stirring Type (AREA)
- Processing And Handling Of Plastics And Other Materials For Molding In General (AREA)
- Accessories For Mixers (AREA)
- Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 それ自体を清浄化する。
【解決手段】 同方向に回転する平行なシャフトを少な
くとも２本以上および取り巻くハウジングを含み、これ
らのシャフトの上には、軸的にずれていて必ずしも円形
でないディスクが位置しておりそしてこのディスクの周
囲には、スクレーパーが分布して位置している。この反
応槽／ミキサーのローターは、生成物−側面角が鋭角に
なるのを広範囲に排除した特殊な幾何学的構造を有す
る。
くとも２本以上および取り巻くハウジングを含み、これ
らのシャフトの上には、軸的にずれていて必ずしも円形
でないディスクが位置しておりそしてこのディスクの周
囲には、スクレーパーが分布して位置している。この反
応槽／ミキサーのローターは、生成物−側面角が鋭角に
なるのを広範囲に排除した特殊な幾何学的構造を有す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自浄式反応槽／ミキサ
ー、特に高い利用可能有効容量を有していて自分自身を
運動学的に清浄化するディスク反応槽に関するものであ
り、これは、同方向に回転する平行なシャフトを少なく
とも２本以上および取り巻くハウジングを含み、これら
のシャフトの上には、軸的にずれていて必ずしも円形で
ないディスクが位置し、そしてこのディスクの周囲に
は、スクレーパーが分布して位置する。
ー、特に高い利用可能有効容量を有していて自分自身を
運動学的に清浄化するディスク反応槽に関するものであ
り、これは、同方向に回転する平行なシャフトを少なく
とも２本以上および取り巻くハウジングを含み、これら
のシャフトの上には、軸的にずれていて必ずしも円形で
ないディスクが位置し、そしてこのディスクの周囲に
は、スクレーパーが分布して位置する。
【０００２】
【従来技術及びその課題】このミキサーは、流体および
凝集性のあるかさ高い材料を処理するプロセスエンジニ
アリングで用いられる。このミキサーは広範囲に渡って
運動学的に自浄式でありそして高い利用可能有効容量を
有する。
凝集性のあるかさ高い材料を処理するプロセスエンジニ
アリングで用いられる。このミキサーは広範囲に渡って
運動学的に自浄式でありそして高い利用可能有効容量を
有する。
【０００３】プロセスエンジニアリングにおいて、例え
ばプラスチック材料およびゴムなどを製造および加工す
る場合、高い粘性を示す流体を処理する必要がある。特
に、混合、蒸発および反応の目的で装置が必要とされ
る。上記装置は良好な混合処置を可能にする必要があ
り、そしてまた蒸発の場合、自由表面の迅速な刷新を可
能にする必要がある。
ばプラスチック材料およびゴムなどを製造および加工す
る場合、高い粘性を示す流体を処理する必要がある。特
に、混合、蒸発および反応の目的で装置が必要とされ
る。上記装置は良好な混合処置を可能にする必要があ
り、そしてまた蒸発の場合、自由表面の迅速な刷新を可
能にする必要がある。
【０００４】例えば重合反応の場合、上記ミキサーの壁
に生成物が堆積すると、その方法の悪化がもたらされ得
る。保持時間が実質的に長引くことが理由で、その堆積
物内で起こる望まれない副反応が助長される。これによ
って生成物の汚染がもたらされる。このミキサーを運動
学的に自浄式にすることで、その壁に生成物が堆積しな
いようにすることができる。
に生成物が堆積すると、その方法の悪化がもたらされ得
る。保持時間が実質的に長引くことが理由で、その堆積
物内で起こる望まれない副反応が助長される。これによ
って生成物の汚染がもたらされる。このミキサーを運動
学的に自浄式にすることで、その壁に生成物が堆積しな
いようにすることができる。
【０００５】装置の費用を最小限にするには、材料の混
合で利用できる容量を最大にすべきである。
合で利用できる容量を最大にすべきである。
【０００６】上記問題の公知解決方法は多軸ディスク反
応槽を用いることであろう。このような反応槽の基本的
構造は例えばフランス特許出願公開第１ １９７ ７２
０号などの中に記述されている。
応槽を用いることであろう。このような反応槽の基本的
構造は例えばフランス特許出願公開第１ １９７ ７２
０号などの中に記述されている。
【０００７】ヨーロッパ特許出願公開第０ ４６０ ４
６６ Ａ１号には、ディスク反応槽のスクレーパーをど
のように設計すれば反対方向または同方向回転でスクレ
ーパーの運動学的清浄化および完成した反応槽の広範な
清浄化を達成することができるかが記述されている。
６６ Ａ１号には、ディスク反応槽のスクレーパーをど
のように設計すれば反対方向または同方向回転でスクレ
ーパーの運動学的清浄化および完成した反応槽の広範な
清浄化を達成することができるかが記述されている。
【０００８】ドイツ特許出願公開第ＯＳ ４１ ２６
４２５ Ａ１号には、完全に運動学的に自浄式である反
転軸が備わっている反応槽が記述されている。
４２５ Ａ１号には、完全に運動学的に自浄式である反
転軸が備わっている反応槽が記述されている。
【０００９】特開昭６３ ２３２ ８２８号には、同方
向回転の反応槽が例として示されており、これは完全に
自浄式であるが、６２％未満の利用可能有効容量に制限
されている。
向回転の反応槽が例として示されており、これは完全に
自浄式であるが、６２％未満の利用可能有効容量に制限
されている。
【００１０】上述した３種ミキサー全部に共通する点
は、ハウジング壁のかき取り中にハウジング壁とスクレ
ーパー表面との間に生じる生成物−側面角（図８も参
照）が６０°未満である点である。しかしながら、この
ようなミキサーは、固体を含んだ材料および極めて高い
粘度を有する材料を混合するにとってあまり適切でない
か或は完全に不適切である、と言うのは、その混合すべ
き材料または固体が迅速にそのハウジング壁とスクレー
パーの間に密集して圧縮され、その結果として、ロータ
ーのブロッキングが起こるからである。
は、ハウジング壁のかき取り中にハウジング壁とスクレ
ーパー表面との間に生じる生成物−側面角（図８も参
照）が６０°未満である点である。しかしながら、この
ようなミキサーは、固体を含んだ材料および極めて高い
粘度を有する材料を混合するにとってあまり適切でない
か或は完全に不適切である、と言うのは、その混合すべ
き材料または固体が迅速にそのハウジング壁とスクレー
パーの間に密集して圧縮され、その結果として、ロータ
ーのブロッキングが起こるからである。
【００１１】本発明の目的は、公知ミキサーの利点（最
大度合の自己清浄化、そして材料を混合するための最大
有効容量）を与えると同時に固体含有材料の混合を困難
なく行うことができる反応槽／ミキサーを見付け出すこ
とであった。
大度合の自己清浄化、そして材料を混合するための最大
有効容量）を与えると同時に固体含有材料の混合を困難
なく行うことができる反応槽／ミキサーを見付け出すこ
とであった。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明に従い、同方向に
回転する平行なシャフトを２本以上および取り巻くハウ
ジングを含んでいて該シャフトの上に軸的にずれていて
周囲が必ずしも円形でないディスクが位置しそしてそれ
らの周囲にスクレーパーが分布して位置する反応槽／ミ
キサーを用いることで上記目的を達成する。上記反応槽
／ミキサーは、該スクレーパーの表面全部が運動学的に
清浄化されること、特に該シャフトが同じ速度で回転す
る場合、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにおい
て、シャフトに備わっているスクレーパーの外側に向い
た表面が全部、これらが該ハウジングで清浄化される場
合、回転の中心と同心の凸形であるが、そうでない場
合、曲率半径としての軸の間に実質的に距離があって凸
形であり、そしてこれらが、隣接するシャフトまたは上
記シャフトのスクレーパーで清浄化されること、特にロ
ーターが同じ速度で回転する場合、該ミキサーを貫く半
径方向断面いずれかにおいて、シャフトに備わっている
スクレーパーの内側に向いた表面が全部、曲率半径とし
ての軸の間に実質的に距離があって凹形であり、そして
これらが、隣接する別のシャフトのスクレーパーで清浄
化されること、該スクレーパーによる該ハウジングの清
浄化中に、該ハウジングの壁と該スクレーパーの清浄化
する表面との間に生じる生成物−側面角が、９０°以上
のみであること、該スクレーパーの相互清浄化中に、互
いに接触する該スクレーパーの清浄化される表面と清浄
化する表面との間に生じる生成物−側面角が、６０°以
上、好適には９０°に等しいか或はそれ以上のみである
こと、を特徴とする。
回転する平行なシャフトを２本以上および取り巻くハウ
ジングを含んでいて該シャフトの上に軸的にずれていて
周囲が必ずしも円形でないディスクが位置しそしてそれ
らの周囲にスクレーパーが分布して位置する反応槽／ミ
キサーを用いることで上記目的を達成する。上記反応槽
／ミキサーは、該スクレーパーの表面全部が運動学的に
清浄化されること、特に該シャフトが同じ速度で回転す
る場合、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにおい
て、シャフトに備わっているスクレーパーの外側に向い
た表面が全部、これらが該ハウジングで清浄化される場
合、回転の中心と同心の凸形であるが、そうでない場
合、曲率半径としての軸の間に実質的に距離があって凸
形であり、そしてこれらが、隣接するシャフトまたは上
記シャフトのスクレーパーで清浄化されること、特にロ
ーターが同じ速度で回転する場合、該ミキサーを貫く半
径方向断面いずれかにおいて、シャフトに備わっている
スクレーパーの内側に向いた表面が全部、曲率半径とし
ての軸の間に実質的に距離があって凹形であり、そして
これらが、隣接する別のシャフトのスクレーパーで清浄
化されること、該スクレーパーによる該ハウジングの清
浄化中に、該ハウジングの壁と該スクレーパーの清浄化
する表面との間に生じる生成物−側面角が、９０°以上
のみであること、該スクレーパーの相互清浄化中に、互
いに接触する該スクレーパーの清浄化される表面と清浄
化する表面との間に生じる生成物−側面角が、６０°以
上、好適には９０°に等しいか或はそれ以上のみである
こと、を特徴とする。
【００１３】本文中の「清浄化（ｃｌｅａｎｉｎｇ）」
は、各場合とも、該ローターの回転中に該反応槽の上記
部分が軸の回転を妨害することなく互いに滑って通り過
ぎることが可能なように製作公差を考慮しながら上記部
分の最大可能接近を達成することができることであると
理解する。
は、各場合とも、該ローターの回転中に該反応槽の上記
部分が軸の回転を妨害することなく互いに滑って通り過
ぎることが可能なように製作公差を考慮しながら上記部
分の最大可能接近を達成することができることであると
理解する。
【００１４】本文中の「ローター（ｒｏｔｏｒ）」は、
シャフト（ｓｈａｆｔ）、ディスク（ｄｉｓｋｓ）およ
びスクレーパー（ｓｃｒａｐｅｒｓ）を含む緊密に結び
付いた装置（ｃｏｈｅｒｅｎｔ ｕｎｉｔ）であると理
解する。
シャフト（ｓｈａｆｔ）、ディスク（ｄｉｓｋｓ）およ
びスクレーパー（ｓｃｒａｐｅｒｓ）を含む緊密に結び
付いた装置（ｃｏｈｅｒｅｎｔ ｕｎｉｔ）であると理
解する。
【００１５】例えばこの反応槽／ミキサー内部における
反応過程に影響を与え得るように、本発明に従うミキサ
ーのハウジング（ｈｏｕｓｉｎｇ）およびローターに基
本的に公知の冷却もしくは加熱装置を取り付けてもよ
い。このハウジングに脱気排出ライン口または混合すべ
き材料の供給口および排出口に加えて測定装置の連結口
を設けてもよい。
反応過程に影響を与え得るように、本発明に従うミキサ
ーのハウジング（ｈｏｕｓｉｎｇ）およびローターに基
本的に公知の冷却もしくは加熱装置を取り付けてもよ
い。このハウジングに脱気排出ライン口または混合すべ
き材料の供給口および排出口に加えて測定装置の連結口
を設けてもよい。
【００１６】本明細書に記述する本発明に従う内蔵ミキ
サー部分（ローター）を、公知の混合、混練りまたはス
クリュー要素および他の運搬要素と、望ましい組み合わ
せいずれかで組み合わせてもよい。
サー部分（ローター）を、公知の混合、混練りまたはス
クリュー要素および他の運搬要素と、望ましい組み合わ
せいずれかで組み合わせてもよい。
【００１７】このスクレーパー配置の適切な選択はささ
いな事項でない。むしろ、好適な解決法は速度比、軸間
距離に対する直径の比率、またはスクレーパーの数に依
存することになるであろう。
いな事項でない。むしろ、好適な解決法は速度比、軸間
距離に対する直径の比率、またはスクレーパーの数に依
存することになるであろう。
【００１８】本発明に従う好適な２軸ミキサーの説明を
以下に示すが、半径方向断面において全てのスクレーパ
ーは合同であり、そしてそれらのローターは同じ方向に
同じ速度で回転する。
以下に示すが、半径方向断面において全てのスクレーパ
ーは合同であり、そしてそれらのローターは同じ方向に
同じ速度で回転する。
【００１９】上記記述を基にして、さらなるシャフトを
加えることで３軸および多軸ミキサーに拡張することが
できる。
加えることで３軸および多軸ミキサーに拡張することが
できる。
【００２０】２軸ミキサーには、基本的に可能である好
適な幾何学的配置が２つ存在する： １． 幾何学的に位置移動させることにより１つのロー
ターに備わっているスクレーパーを別のローターに備わ
っているスクレーパーの上に合同写像（ｍａｐｐｅｄ）
可能である； ２． 幾何学的に位置移動させると共にピッチ角（ａｎ
ｇｕｌａｒ ｐｉｔｃｈ）の半分に渡って回転させるこ
とにより１つのローターに備わっているスクレーパーを
別のローターに備わっているスクレーパーの上に合同写
像可能である。
適な幾何学的配置が２つ存在する： １． 幾何学的に位置移動させることにより１つのロー
ターに備わっているスクレーパーを別のローターに備わ
っているスクレーパーの上に合同写像（ｍａｐｐｅｄ）
可能である； ２． 幾何学的に位置移動させると共にピッチ角（ａｎ
ｇｕｌａｒ ｐｉｔｃｈ）の半分に渡って回転させるこ
とにより１つのローターに備わっているスクレーパーを
別のローターに備わっているスクレーパーの上に合同写
像可能である。
【００２１】軸間距離に対するハウジング半径の特定比
率が与えられたとすると、スクレーパー数の関数とし
て、本発明に従う適切な解決法が可能になる。最大有効
容量を有する反応槽／ミキサーが本発明の好適な主題事
項であることから、以下の表ではハウジング半径と軸間
距離の間の比率を０．７以上にすることを伴う解決法の
みを取り扱う。ボールド（ｂｏｌｄ）型で目立つ、軸間
距離に対するハウジング半径比の値の範囲では、シャフ
トによるスクレーパーの１表面の清浄化を除き（例えば
図３における３１から３４）、スクレーパーの相互清浄
化中に生じる生成物−側面角αは鈍角のみである（９０
°以上）。括弧内に入れる値の範囲では、ディスクの末
端表面の清浄化を完全に行うのは不可能であろう。
率が与えられたとすると、スクレーパー数の関数とし
て、本発明に従う適切な解決法が可能になる。最大有効
容量を有する反応槽／ミキサーが本発明の好適な主題事
項であることから、以下の表ではハウジング半径と軸間
距離の間の比率を０．７以上にすることを伴う解決法の
みを取り扱う。ボールド（ｂｏｌｄ）型で目立つ、軸間
距離に対するハウジング半径比の値の範囲では、シャフ
トによるスクレーパーの１表面の清浄化を除き（例えば
図３における３１から３４）、スクレーパーの相互清浄
化中に生じる生成物−側面角αは鈍角のみである（９０
°以上）。括弧内に入れる値の範囲では、ディスクの末
端表面の清浄化を完全に行うのは不可能であろう。
【００２２】上記値の範囲に比較して、括弧内に入って
いない値の範囲が好適である。
いない値の範囲が好適である。
【００２３】本文中における生成物−側面角αは、清浄
化すべき表面とスクレーパー表面との間のスクレーパー
エッジの所でスクレーパーが動く方向に開いているミキ
サー表面間の角度を意味する（図８参照）。
化すべき表面とスクレーパー表面との間のスクレーパー
エッジの所でスクレーパーが動く方向に開いているミキ
サー表面間の角度を意味する（図８参照）。
【００２４】本発明に従う反応槽／ミキサーの更に好適
な態様を副次的請求の範囲に示す。表１および２に、回
転軸間距離に対するハウジング内径の比率の好適な範囲
を示す。
な態様を副次的請求の範囲に示す。表１および２に、回
転軸間距離に対するハウジング内径の比率の好適な範囲
を示す。
【００２５】表１ 位置移動により、１つのシャフトに備わっているスクレ
ーパーを別のシャフトに備わっているスクレーパーの上
に合同写像可能である。
ーパーを別のシャフトに備わっているスクレーパーの上
に合同写像可能である。
【００２６】 スクレー 軸間距離に対する外径の比率 軸間距離に対する外径の比率 パーの数 −スクレーパーの相互清浄化 中に生じる生成物−側面角が 常に≧９０°であるミキサー 4 (0.708-1.000) 5 0.700-0.703 (0.851-1.000) 6 (0.700-0.816), 0.722-0.816 7 (0.700-0.924), 0.811-0.924 8 (0.708-1.000), 0.904-1.000 9 0.700-0.722 (0.778-1.000) 10 (0.700-0.786), 0.713-0.786 (0.851-1.000) 11 (0.700-0.849), 0.768-0.849 (0.925-1.000) 12 (0.708-0.913), 0.824-0.913 13 0.700-0.724 (0.755-0.976), 0.882-0.976 14 (0.700-0.768), 0.710-0.768 (0.802-1.000), 0.941-1.000 15 (0.700-0.813), 0.750-0.813 (0.851-1.000) 16 (0.708-0.858), 0.790-0.858 (0.900-1.000) 17 0.700-0.723 (0.743-0.903), 0.831-0.903 (0.950-1.000) 18 (0.700-0.757), 0.709-0.757 (0.778-0.948), 0.873-0.948 19 (0.700-0.791), 0.740-0.791 (0.815-0.993), 0.915-0.993 20 (0.708-0.826), 0.771-0.826, (0.851-1.000), 0.958-1.000表２ 位置移動させた後ピッチ角の半分に渡って回転させるこ
とにより、１つのシャフトに備わっているスクレーパー
を別のシャフトに備わっているスクレーパーの上に合同
写像可能である。
とにより、１つのシャフトに備わっているスクレーパー
を別のシャフトに備わっているスクレーパーの上に合同
写像可能である。
【００２７】 スクレー 軸間距離に対する外径の比率 軸間距離に対する外径の比率 パーの数 −スクレーパーの相互清浄化 中に生じる生成物−側面角が 常に≧９０°であるミキサー 4 (0.700-0.840), 0.741-0.840 5 (0.700-1.000), 0.864-1.000 6 (0.708-1.000) 7 0.700-0.717 (0.802-1.000) 8 (0.700-0.798), 0.716-0.798 (0.900-1.000) 9 (0.700-0.879), 0.784-0.879 10 (0.708-0.958), 0.854-0.958 11 0.700-0.724 (0.764-1.000), 0.927-1.000 12 (0.700-0.776), 0.711-0.776 (0.822-1.000) 13 (0.700-0.829), 0.757-0.829 (0.881-1.000) 14 (0.708-0.881), 0.804-0.881 (0.940-1.000) 15 0.700-0.724 (0.748-0.934), 0.853-0.934 16 (0.700-0.762), 0.710-0.762 (0.789-0.987), 0.901-0.987 17 (0.700-0.801), 0.744-0.801 (0.830-1.000), 0.951-1.000 18 (0.708-0.840), 0.780-0.840 (0.872-1.000) 19 0.700-0.723 (0.739-0.879), 0.816-0.879, (0.915-1.000) 20 (0.700-0.753), 0.709-0.753 (0.770-0.918), 0.852-0.918, (0.957-1.000)
【００２８】
【実施例】図１は、公知の多軸ディスク反応槽の基本的
構造を示す（例えば特許明細フランス特許出願公開第１
１９７ ７２０号参照）。
構造を示す（例えば特許明細フランス特許出願公開第１
１９７ ７２０号参照）。
【００２９】運動学を理解するには、本発明に従うミキ
サーのスクレーパー要素を貫く半径方向断面が重要であ
る。従って、図３−５および７各々に、図１の断面Ａ−
Ｂに匹敵する断面を示す。
サーのスクレーパー要素を貫く半径方向断面が重要であ
る。従って、図３−５および７各々に、図１の断面Ａ−
Ｂに匹敵する断面を示す。
【００３０】実施例１ 図２に、本発明に従うディスク反応槽に取り付けるシャ
フト（２、２’）、ディスク（３、３’）およびスクレ
ーパー（４、４’）の透視図を示す。上記反応槽が有す
る軸（回転軸）間距離に対するハウジング内径の比率は
０．７５である。このスクレーパー（４、４’）の配置
は８回の回転対称配置である。上記表に従い、別のシャ
フト２’に備わっているスクレーパー４’を幾何学的に
位置移動させると共にピッチ角の半分に渡って回転させ
る（ここでは２２．５°）結果として１つのシャフト２
に備わっているスクレーパー４が生じる時にのみ、ディ
スク３、３’の末端表面の広範囲な清浄化が可能にな
る。
フト（２、２’）、ディスク（３、３’）およびスクレ
ーパー（４、４’）の透視図を示す。上記反応槽が有す
る軸（回転軸）間距離に対するハウジング内径の比率は
０．７５である。このスクレーパー（４、４’）の配置
は８回の回転対称配置である。上記表に従い、別のシャ
フト２’に備わっているスクレーパー４’を幾何学的に
位置移動させると共にピッチ角の半分に渡って回転させ
る（ここでは２２．５°）結果として１つのシャフト２
に備わっているスクレーパー４が生じる時にのみ、ディ
スク３、３’の末端表面の広範囲な清浄化が可能にな
る。
【００３１】図３に、図２に示すシャフト（２、２’）
およびスクレーパー（４、４’）が備わっている本発明
に従うディスク反応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに相当
する半径方向の断面を示す。シャフト２、２’は、それ
ぞれ、スクレーパー４および４’のエッジ３１、３１’
の方向に回転する。
およびスクレーパー（４、４’）が備わっている本発明
に従うディスク反応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに相当
する半径方向の断面を示す。シャフト２、２’は、それ
ぞれ、スクレーパー４および４’のエッジ３１、３１’
の方向に回転する。
【００３２】該スクレーパーの相互清浄化およびこのス
クレーパーによるハウジングの清浄化中に生じる生成物
−側面角は下記の通りである： エッジ３１によるハウジング１の清浄化： 143° エッジ３１によるシャフト２’の清浄化： 137°−149° エッジ３１によるスクレーパー表面３２’−３３’の清浄化： 144°−149° エッジ３１によるスクレーパー表面３３’−３４’の清浄化： 96°−102° エッジ３２によるスクレーパー表面３１’−３２’の清浄化： 68°− 82° エッジ３５によるスクレーパー表面３１’−３４’の清浄化： 0°− 12° エッジ３１’によるハウジング１の清浄化： 143° エッジ３１’によるシャフト２の清浄化： 137°−149° エッジ３１’によるスクレーパー表面３２−３３の清浄化： 144°−149° エッジ３１’によるスクレーパー表面３３−３４の清浄化： 96°−102° エッジ３２’によるスクレーパー表面３１−３２の清浄化： 68°− 82° エッジ３５’によるスクレーパー表面３１−３４の清浄化： 0°− 12° 該シャフトによるスクレーパー表面３１−３４の清浄化
中に生じる生成物−側面角は鋭角である。表面３１−３
２の清浄化中に生じる角度は６０°以上である。清浄化
中に生じる他の生成物−側面角は全部９０°に等しいか
或はそれ以上である。
クレーパーによるハウジングの清浄化中に生じる生成物
−側面角は下記の通りである： エッジ３１によるハウジング１の清浄化： 143° エッジ３１によるシャフト２’の清浄化： 137°−149° エッジ３１によるスクレーパー表面３２’−３３’の清浄化： 144°−149° エッジ３１によるスクレーパー表面３３’−３４’の清浄化： 96°−102° エッジ３２によるスクレーパー表面３１’−３２’の清浄化： 68°− 82° エッジ３５によるスクレーパー表面３１’−３４’の清浄化： 0°− 12° エッジ３１’によるハウジング１の清浄化： 143° エッジ３１’によるシャフト２の清浄化： 137°−149° エッジ３１’によるスクレーパー表面３２−３３の清浄化： 144°−149° エッジ３１’によるスクレーパー表面３３−３４の清浄化： 96°−102° エッジ３２’によるスクレーパー表面３１−３２の清浄化： 68°− 82° エッジ３５’によるスクレーパー表面３１−３４の清浄化： 0°− 12° 該シャフトによるスクレーパー表面３１−３４の清浄化
中に生じる生成物−側面角は鋭角である。表面３１−３
２の清浄化中に生じる角度は６０°以上である。清浄化
中に生じる他の生成物−側面角は全部９０°に等しいか
或はそれ以上である。
【００３３】図４に、図３に示すディスク反応槽の１つ
のローターに備わっているスクレーパー４１−４２−４
３−４４が別のローターに関係して半径方向断面で相対
的に動くことを説明するワンショット表示を示す。上記
図は、明らかに、その清浄化すべき表面をスクレーパー
エッジが滑るように通り過ぎることを示している。
のローターに備わっているスクレーパー４１−４２−４
３−４４が別のローターに関係して半径方向断面で相対
的に動くことを説明するワンショット表示を示す。上記
図は、明らかに、その清浄化すべき表面をスクレーパー
エッジが滑るように通り過ぎることを示している。
【００３４】ローターに備わっているスクレーパー全部
が示す相対的な動きがディスクの末端表面全体に渡って
再現されることでディスク２（または２’）の末端表面
が広範囲に清浄化されることは、図５から明らかであ
る。
が示す相対的な動きがディスクの末端表面全体に渡って
再現されることでディスク２（または２’）の末端表面
が広範囲に清浄化されることは、図５から明らかであ
る。
【００３５】実施例２ 図６は、本発明に従うさらなる態様のディスク反応槽に
備わっているシャフト（６２、６２’）、ディスク（６
３、６３’）およびスクレーパー（６４、６４’）の透
視図である。上記反応槽が有する軸（回転軸）間距離に
対するハウジング内径の比率は０．８２４である。各ロ
ーターは１２回の回転対称である。上記表に従い、別の
シャフト６２’に備わっているスクレーパー６４’を幾
何学的に位置移動させることにより１つのシャフト６２
に備わっているスクレーパー６４が生じる時、ディスク
６３の末端表面の広範囲な清浄化が可能になる。
備わっているシャフト（６２、６２’）、ディスク（６
３、６３’）およびスクレーパー（６４、６４’）の透
視図である。上記反応槽が有する軸（回転軸）間距離に
対するハウジング内径の比率は０．８２４である。各ロ
ーターは１２回の回転対称である。上記表に従い、別の
シャフト６２’に備わっているスクレーパー６４’を幾
何学的に位置移動させることにより１つのシャフト６２
に備わっているスクレーパー６４が生じる時、ディスク
６３の末端表面の広範囲な清浄化が可能になる。
【００３６】図７に、図６に示すシャフト（６２、６
２’）およびスクレーパー（６４、６４’）が備わって
いるディスク反応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに匹敵す
る半径方向の断面を示す。
２’）およびスクレーパー（６４、６４’）が備わって
いるディスク反応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに匹敵す
る半径方向の断面を示す。
【００３７】該スクレーパーの相互清浄化およびこのス
クレーパーによる該ハウジングの浄化中に生じる生成物
−側面角は下記の通りである： エッジ７１によるハウジング１の清浄化： 136° エッジ７１によるシャフト６２’の清浄化： 133°−138° エッジ７１によるスクレーパー表面７２’−７３’の清浄化： 130°−138° エッジ７２によるスクレーパー表面７１’−７２’の清浄化： 90°−100° エッジ７５によるスクレーパー表面７１’−７３’の清浄化： 0°− 5° エッジ７１’によるハウジング１の清浄化： 136° エッジ７１’によるシャフト６２の清浄化： 133°−138° エッジ７１’によるスクレーパー表面７２−７３の清浄化： 130°−138° エッジ７２’によるスクレーパー表面７１−７２の清浄化： 90°−100° エッジ７５’によるスクレーパー表面７１−７３の清浄化： 0°− 5° 該シャフトによるスクレーパー表面７１−７３の清浄化
中に生じる生成物−側面角は鋭角である。清浄化中に生
じる他の生成物−側面角は全部９０°に等しいか或はそ
れ以上である。
クレーパーによる該ハウジングの浄化中に生じる生成物
−側面角は下記の通りである： エッジ７１によるハウジング１の清浄化： 136° エッジ７１によるシャフト６２’の清浄化： 133°−138° エッジ７１によるスクレーパー表面７２’−７３’の清浄化： 130°−138° エッジ７２によるスクレーパー表面７１’−７２’の清浄化： 90°−100° エッジ７５によるスクレーパー表面７１’−７３’の清浄化： 0°− 5° エッジ７１’によるハウジング１の清浄化： 136° エッジ７１’によるシャフト６２の清浄化： 133°−138° エッジ７１’によるスクレーパー表面７２−７３の清浄化： 130°−138° エッジ７２’によるスクレーパー表面７１−７２の清浄化： 90°−100° エッジ７５’によるスクレーパー表面７１−７３の清浄化： 0°− 5° 該シャフトによるスクレーパー表面７１−７３の清浄化
中に生じる生成物−側面角は鋭角である。清浄化中に生
じる他の生成物−側面角は全部９０°に等しいか或はそ
れ以上である。
【００３８】本発明の特徴および態様は以下のとおりで
ある。
ある。
【００３９】１． 同方向に回転する平行なシャフト
（２、２’）を２本以上および取り巻くハウジング
（１）を含んでいて該シャフトの上に軸的にずれていて
周囲が必ずしも円形でないディスク（３、３’）が位置
しそしてそれらの周囲にスクレーパー（４、４’）が分
布して位置する反応槽／ミキサーであって、該スクレー
パー（４、４’）の表面全部が運動学的に清浄化される
こと、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにおい
て、シャフト（２）に備わっているスクレーパー（４）
の外側に向いた表面が全部凸形であり、そしてこれら
が、隣接するシャフト（２’）または上記シャフトのス
クレーパー（４’）でか或は該ハウジング（１）で清浄
化されること、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれか
において、シャフト（２）に備わっているスクレーパー
（４）の内側に向いた表面が全部凹形であり、そしてこ
れらが、隣接するシャフト（２’）のスクレーパー
（４’）で清浄化されること、該スクレーパー（４、
４’）による該ハウジング（１）の清浄化中に、該ハウ
ジングの壁と該スクレーパー（４、４’）の清浄化する
表面との間に生じる生成物−側面角が、９０°以上のみ
であること、該スクレーパー（４、４’）の相互清浄化
中に、互いに接触する該スクレーパー（４、４’）の清
浄化される表面と清浄化する表面との間に生じる生成物
−側面角が、６０°以上、好適には９０°に等しいか或
はそれ以上のみであること、を特徴とする反応槽／ミキ
サー。
（２、２’）を２本以上および取り巻くハウジング
（１）を含んでいて該シャフトの上に軸的にずれていて
周囲が必ずしも円形でないディスク（３、３’）が位置
しそしてそれらの周囲にスクレーパー（４、４’）が分
布して位置する反応槽／ミキサーであって、該スクレー
パー（４、４’）の表面全部が運動学的に清浄化される
こと、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにおい
て、シャフト（２）に備わっているスクレーパー（４）
の外側に向いた表面が全部凸形であり、そしてこれら
が、隣接するシャフト（２’）または上記シャフトのス
クレーパー（４’）でか或は該ハウジング（１）で清浄
化されること、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれか
において、シャフト（２）に備わっているスクレーパー
（４）の内側に向いた表面が全部凹形であり、そしてこ
れらが、隣接するシャフト（２’）のスクレーパー
（４’）で清浄化されること、該スクレーパー（４、
４’）による該ハウジング（１）の清浄化中に、該ハウ
ジングの壁と該スクレーパー（４、４’）の清浄化する
表面との間に生じる生成物−側面角が、９０°以上のみ
であること、該スクレーパー（４、４’）の相互清浄化
中に、互いに接触する該スクレーパー（４、４’）の清
浄化される表面と清浄化する表面との間に生じる生成物
−側面角が、６０°以上、好適には９０°に等しいか或
はそれ以上のみであること、を特徴とする反応槽／ミキ
サー。
【００４０】２． いずれか１つのシャフト（２、
２’）に備わっているスクレーパーが回転対称様式で配
列しており、そしてこのシャフトがよりゆっくりとか或
は同じ速度で回転する場合、該スクレーパーがｎ回の回
転対称様式で配列し、ここで、ｎが３より大きい数であ
ることを特徴とする第１項記載の反応槽／ミキサー。
２’）に備わっているスクレーパーが回転対称様式で配
列しており、そしてこのシャフトがよりゆっくりとか或
は同じ速度で回転する場合、該スクレーパーがｎ回の回
転対称様式で配列し、ここで、ｎが３より大きい数であ
ることを特徴とする第１項記載の反応槽／ミキサー。
【００４１】３． よりゆっくりとか或は同じ速度で回
転する該シャフトに備わっているスクレーパーがｎ回の
回転対称様式で配列しており、ここで、ｎが５より大き
い数であることを特徴とする第２項記載の反応槽／ミキ
サー。
転する該シャフトに備わっているスクレーパーがｎ回の
回転対称様式で配列しており、ここで、ｎが５より大き
い数であることを特徴とする第２項記載の反応槽／ミキ
サー。
【００４２】４． 第１から２項記載の反応槽／ミキサ
ーであって、該シャフト（２、２’）が同じ速度で回転
すること、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにお
いて、シャフト（２）に備わっているスクレーパー
（４）の外側に向いた表面が全部、これらが該ハウジン
グ（１）で清浄化される場合、回転の中心と同心の凸形
であるが、そうでない場合、曲率半径としての軸の間に
距離があって凸形であり、そしてこれらが、隣接するシ
ャフト（２’）または上記シャフトのスクレーパーで清
浄化されること、半径方向断面いずれかにおいて、ロー
ター（５）に備わっているスクレーパー（４）の内側に
向いた表面が全部、曲率半径としての軸（回転軸）の間
に距離があって凹形であり、そしてこれらが、隣接する
シャフト（２’）のスクレーパー（４’）で清浄化され
ること、を特徴とする反応槽／ミキサー。
ーであって、該シャフト（２、２’）が同じ速度で回転
すること、該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにお
いて、シャフト（２）に備わっているスクレーパー
（４）の外側に向いた表面が全部、これらが該ハウジン
グ（１）で清浄化される場合、回転の中心と同心の凸形
であるが、そうでない場合、曲率半径としての軸の間に
距離があって凸形であり、そしてこれらが、隣接するシ
ャフト（２’）または上記シャフトのスクレーパーで清
浄化されること、半径方向断面いずれかにおいて、ロー
ター（５）に備わっているスクレーパー（４）の内側に
向いた表面が全部、曲率半径としての軸（回転軸）の間
に距離があって凹形であり、そしてこれらが、隣接する
シャフト（２’）のスクレーパー（４’）で清浄化され
ること、を特徴とする反応槽／ミキサー。
【００４３】５． 該ミキサーを貫く半径方向断面にお
いて、該スクレーパー（４、４’）が全部、合同の断面
を有する、即ち１つを別の上に合同写像可能な断面を有
し、そして半径方向断面いずれかにおいて、シャフト
（２、２’）に備わっているスクレーパー（４、４’）
の数がそれらの配列の回転対称数に等しいことを特徴と
する第４項記載の反応槽／ミキサー。
いて、該スクレーパー（４、４’）が全部、合同の断面
を有する、即ち１つを別の上に合同写像可能な断面を有
し、そして半径方向断面いずれかにおいて、シャフト
（２、２’）に備わっているスクレーパー（４、４’）
の数がそれらの配列の回転対称数に等しいことを特徴と
する第４項記載の反応槽／ミキサー。
【００４４】６． 半径方向断面において幾何学的に位
置移動させることによりシャフト（２）のスクレーパー
（４）を隣接するシャフト（２’）のスクレーパー
（４’）の上に写像可能であることを特徴とする第５項
記載の反応槽／ミキサー。
置移動させることによりシャフト（２）のスクレーパー
（４）を隣接するシャフト（２’）のスクレーパー
（４’）の上に写像可能であることを特徴とする第５項
記載の反応槽／ミキサー。
【００４５】７． 半径方向断面において幾何学的に位
置移動させた後ピッチ角の半分
置移動させた後ピッチ角の半分
【００４６】
【数２】
【００４７】［ここで、ｎは、回転対称数を表す］に渡
って回転させることによりシャフト（２）のスクレーパ
ー（４）を隣接するシャフト（２’）のスクレーパー
（４'）の上に写像可能であることを特徴とする第５項
記載の反応槽／ミキサー。
って回転させることによりシャフト（２）のスクレーパ
ー（４）を隣接するシャフト（２’）のスクレーパー
（４'）の上に写像可能であることを特徴とする第５項
記載の反応槽／ミキサー。
【００４８】８． 回転軸間距離に対するハウジング内
径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２また
は２'）のスクレーパー（４または４'）数の関数として
以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 4 0.708-1.000 5 0.700-0.703または0.851-1.000 6 0.700-0.816 7 0.700-0.924 8 0.708-1.000 9 0.700-0.722または0.778-1.000 10 0.700-0.786または0.851-1.000 11 0.700-0.849または0.925-1.000 12 0.708-0.913 13 0.700-0.724または0.755-0.976 14 0.700-0.768または0.802-1.000 15 0.700-0.813または0.851-1.000 16 0.708-0.858または0.900-1.000 17 0.700-0.723または0.743-0.903または0.950-1.000 18 0.700-0.757または0.778-0.948 19 0.700-0.791または0.815-0.993 20 0.708-0.826または0.851-1.000 の如く選択することを特徴とする第６項記載の反応槽／
ミキサー。
径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２また
は２'）のスクレーパー（４または４'）数の関数として
以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 4 0.708-1.000 5 0.700-0.703または0.851-1.000 6 0.700-0.816 7 0.700-0.924 8 0.708-1.000 9 0.700-0.722または0.778-1.000 10 0.700-0.786または0.851-1.000 11 0.700-0.849または0.925-1.000 12 0.708-0.913 13 0.700-0.724または0.755-0.976 14 0.700-0.768または0.802-1.000 15 0.700-0.813または0.851-1.000 16 0.708-0.858または0.900-1.000 17 0.700-0.723または0.743-0.903または0.950-1.000 18 0.700-0.757または0.778-0.948 19 0.700-0.791または0.815-0.993 20 0.708-0.826または0.851-1.000 の如く選択することを特徴とする第６項記載の反応槽／
ミキサー。
【００４９】９． 回転軸間距離に対するハウジング内
径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２また
は２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数とし
て以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 5 0.700-0.703 6 0.722-0.816 7 0.811-0.924 8 0.904-1.000 9 0.700-0.722 10 0.713-0.786 11 0.768-0.849 12 0.824-0.913 13 0.700-0.724または0.882-0.976 14 0.710-0.768または0.941-1.000 15 0.750-0.813 16 0.790-0.858 17 0.700-0.723または0.831-0.903 18 0.709-0.757または0.873-0.948 19 0.740-0.791または0.915-0.993 20 0.771-0.826または0.958-1.000 の如く選択することを特徴とする第６項記載の反応槽／
ミキサー。
径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２また
は２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数とし
て以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 5 0.700-0.703 6 0.722-0.816 7 0.811-0.924 8 0.904-1.000 9 0.700-0.722 10 0.713-0.786 11 0.768-0.849 12 0.824-0.913 13 0.700-0.724または0.882-0.976 14 0.710-0.768または0.941-1.000 15 0.750-0.813 16 0.790-0.858 17 0.700-0.723または0.831-0.903 18 0.709-0.757または0.873-0.948 19 0.740-0.791または0.915-0.993 20 0.771-0.826または0.958-1.000 の如く選択することを特徴とする第６項記載の反応槽／
ミキサー。
【００５０】１０． 回転軸間距離に対するハウジング
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 8 0.904-1.000 12 0.824-0.913 13 0.882-0.976 14 0.941-1.000 16 0.790-0.858 17 0.831-0.903 18 0.873-0.948 19 0.915-0.993 20 0.771-0.826または0.958-1.000 の如く選択することを特徴とする第６項記載の反応槽／
ミキサー。
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 8 0.904-1.000 12 0.824-0.913 13 0.882-0.976 14 0.941-1.000 16 0.790-0.858 17 0.831-0.903 18 0.873-0.948 19 0.915-0.993 20 0.771-0.826または0.958-1.000 の如く選択することを特徴とする第６項記載の反応槽／
ミキサー。
【００５１】１１． 回転軸間距離に対するハウジング
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 4 0.700-0.840 5 0.700-1.000 6 0.708-1.000 7 0.700-0.717または0.802-1.000 8 0.700-0.798または0.900-1.000 9 0.700-0.879 10 0.708-0.958 11 0.700-0.724または0.764-1.000 12 0.700-0.776または0.822-1.000 13 0.700-0.829または0.881-1.000 14 0.708-0.881または0.940-1.000 15 0.700-0.724または0.748-0.934 16 0.700-0.762または0.789-0.987 17 0.700-0.801または0.830-1.000 18 0.708-0.840または0.872-1.000 19 0.700-0.723または0.739-0.879または0.915-1.000 20 0.700-0.753または0.770-0.918または0.957-1.000 の如く選択することを特徴とする第７項記載の反応槽／
ミキサー。
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 4 0.700-0.840 5 0.700-1.000 6 0.708-1.000 7 0.700-0.717または0.802-1.000 8 0.700-0.798または0.900-1.000 9 0.700-0.879 10 0.708-0.958 11 0.700-0.724または0.764-1.000 12 0.700-0.776または0.822-1.000 13 0.700-0.829または0.881-1.000 14 0.708-0.881または0.940-1.000 15 0.700-0.724または0.748-0.934 16 0.700-0.762または0.789-0.987 17 0.700-0.801または0.830-1.000 18 0.708-0.840または0.872-1.000 19 0.700-0.723または0.739-0.879または0.915-1.000 20 0.700-0.753または0.770-0.918または0.957-1.000 の如く選択することを特徴とする第７項記載の反応槽／
ミキサー。
【００５２】１２． 回転軸間距離に対するハウジング
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 4 0.741-0.840 5 0.864-1.000 7 0.700-0.717 8 0.716-0.798 9 0.784-0.879 10 0.854-0.958 11 0.700-0.724または0.927-1.000 12 0.711-0.776 13 0.757-0.829 14 0.804-0.881 15 0.700-0.724または0.853-0.934 16 0.710-0.762または0.901-0.987 17 0.744-0.802または0.951-1.000 18 0.780-0.840 19 0.700-0.723または0.816-0.879 20 0.709-0.753または0.852-0.918 の如く選択することを特徴とする第７項記載の反応槽／
ミキサー。
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 4 0.741-0.840 5 0.864-1.000 7 0.700-0.717 8 0.716-0.798 9 0.784-0.879 10 0.854-0.958 11 0.700-0.724または0.927-1.000 12 0.711-0.776 13 0.757-0.829 14 0.804-0.881 15 0.700-0.724または0.853-0.934 16 0.710-0.762または0.901-0.987 17 0.744-0.802または0.951-1.000 18 0.780-0.840 19 0.700-0.723または0.816-0.879 20 0.709-0.753または0.852-0.918 の如く選択することを特徴とする第７項記載の反応槽／
ミキサー。
【００５３】１３． 回転軸間距離に対するハウジング
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 10 0.854-0.958 11 0.927-1.000 14 0.804-0.881 15 0.853-0.934 16 0.901-0.987 17 0.951-1.000 18 0.780-0.840 19 0.816-0.879 20 0.852-0.918 の如く選択することを特徴とする第７項記載の反応槽／
ミキサー。
内径の比率を、半径方向断面において、シャフト（２ま
たは２’）のスクレーパー（４または４’）数の関数と
して以下： スクレーパー数 軸間距離に対するハウジング内径の比率 10 0.854-0.958 11 0.927-1.000 14 0.804-0.881 15 0.853-0.934 16 0.901-0.987 17 0.951-1.000 18 0.780-0.840 19 0.816-0.879 20 0.852-0.918 の如く選択することを特徴とする第７項記載の反応槽／
ミキサー。
【図１】側面図（図１ａ）、上面図（図１ｂ）および断
面図（図１ｃ）で断面として示す公知２軸ディスク反応
槽の基本的構造。
面図（図１ｃ）で断面として示す公知２軸ディスク反応
槽の基本的構造。
【図２】本発明に従う１つの態様のディスク反応槽に備
わっている２つのローターの透視図（ハウジングの表示
は除外）。
わっている２つのローターの透視図（ハウジングの表示
は除外）。
【図３】図２に示すローターが備わっているディスク反
応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに相当する半径方向断
面。
応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに相当する半径方向断
面。
【図４】図３に示すディスク反応槽の１つのローターに
備わっているスクレーパー４１−４２−４３−４４が別
のローターに関係して相対的に動くことを説明するワン
ショット表示。
備わっているスクレーパー４１−４２−４３−４４が別
のローターに関係して相対的に動くことを説明するワン
ショット表示。
【図５】図３に示すディスク反応槽の１つのローターに
備わっているスクレーパー全部が別のローターに関係し
て相対的に動くことを説明するワンショット表示。
備わっているスクレーパー全部が別のローターに関係し
て相対的に動くことを説明するワンショット表示。
【図６】本発明に従うさらなる態様のディスク反応槽に
備わっている２つのローターの透視図（ハウジングの表
示は除外）。
備わっている２つのローターの透視図（ハウジングの表
示は除外）。
【図７】図６に示すローターが備わっている本発明に従
うディスク反応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに相当する
半径方向断面。
うディスク反応槽を貫く、図１の断面Ａ−Ｂに相当する
半径方向断面。
【図８】用語「生成物−側面角α」を説明する図。
１ ハウジング ２ シヤフト ３ デイスク ４ スクレーパー ５ ローター
フロントページの続き (72)発明者 マルテイン・ウルリヒ ドイツ51375レーフエルクーゼン・メンデ ルスゾーンシユトラーセ32
Claims (6)
- 【請求項１】 同方向に回転する平行なシャフトを２本
以上および取り巻くハウジングを含んでいて該シャフト
の上に軸的にずれていて周囲が必ずしも円形でないディ
スクが位置しそしてそれらの周囲にスクレーパーが分布
して位置する反応槽／ミキサーであって、 該スクレーパーの表面全部が運動学的に清浄化されるこ
と、 該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにおいて、シャ
フトに備わっているスクレーパーの外側に向いた表面が
全部凸形であり、そしてこれらが、隣接するシャフトま
たは上記シャフトのスクレーパーでか或は該ハウジング
で清浄化されること、 該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにおいて、シャ
フトに備わっているスクレーパーの内側に向いた表面が
全部凹形であり、そしてこれらが、隣接するシャフトの
スクレーパーで清浄化されること、 該スクレーパーによる該ハウジングの清浄化中に、該ハ
ウジングの壁と該スクレーパーの清浄化する表面との間
に生じる生成物−側面角が、９０°以上のみであるこ
と、 該スクレーパーの相互清浄化中に、互いに接触する該ス
クレーパーの清浄化される表面と清浄化する表面との間
に生じる生成物−側面角が、６０°以上、好適には９０
°に等しいか或はそれ以上のみであること、を特徴とす
る反応槽／ミキサー。 - 【請求項２】 いずれか１つのシャフト（２、２’）に
備わっているスクレーパーが回転対称様式で配列してお
り、そしてこのシャフトがよりゆっくりとか或は同じ速
度で回転する場合、該スクレーパーがｎ回の回転対称様
式で配列し、ここで、ｎが３より大きい数であることを
特徴とする請求項１記載の反応槽／ミキサー。 - 【請求項３】 請求項１から２記載の反応槽／ミキサー
であって、 該シャフト（２、２’）が同じ速度で回転すること、 該ミキサーを貫く半径方向断面いずれかにおいて、シャ
フト（２）に備わっているスクレーパー（４）の外側に
向いた表面が全部、これらが該ハウジング（１）で清浄
化される場合、回転の中心と同心の凸形であるが、そう
でない場合、曲率半径としての軸の間に距離があって凸
形であり、そしてこれらが、隣接するシャフト（２’）
または上記シャフトのスクレーパーで清浄化されるこ
と、 半径方向断面いずれかにおいて、ローター（５）に備わ
っているスクレーパー（４）の内側に向いた表面が全
部、曲率半径としての軸（回転軸）の間に距離があって
凹形であり、そしてこれらが、隣接するシャフト
（２’）のスクレーパー（４’）で清浄化されること、
を特徴とする反応槽／ミキサー。 - 【請求項４】 該ミキサーを貫く半径方向断面におい
て、該スクレーパー（４、４’）が全部、合同の断面を
有する、即ち１つを別の上に合同写像可能な断面を有
し、そして半径方向断面いずれかにおいて、シャフト
（２、２’）に備わっているスクレーパー（４、４’）
の数がそれらの配列の回転対称数に等しいことを特徴と
する請求項３記載の反応槽／ミキサー。 - 【請求項５】 半径方向断面において幾何学的に位置移
動させることによりシャフト（２）のスクレーパー
（４）を隣接するシャフト（２’）のスクレーパー
（４’）の上に写像可能であることを特徴とする請求項
４記載の反応槽／ミキサー。 - 【請求項６】 半径方向断面において幾何学的に位置移
動させた後ピッチ角の半分 【数１】 ［ここで、ｎは、回転対称数を表す］に渡って回転させ
ることによりシャフト（２）のスクレーパー（４）を隣
接するシャフト（２’）のスクレーパー（４’）の上に
写像可能であることを特徴とする請求項４記載の反応槽
／ミキサー。
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| DE19526654A DE19526654A1 (de) | 1994-12-05 | 1995-07-21 | Selbstreinigender Reaktor/Mischer für hochviskoses und feststoffhaltiges Mischgut |
| DE19526654.4 | 1995-07-21 | ||
| DE4443154.6 | 1995-07-21 |
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| Publication Number | Publication Date |
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| EP (1) | EP0715882B1 (ja) |
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