JPH08220335A - カラーフィルタの製造方法及びカラーフイルター - Google Patents
カラーフィルタの製造方法及びカラーフイルターInfo
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- JPH08220335A JPH08220335A JP2792895A JP2792895A JPH08220335A JP H08220335 A JPH08220335 A JP H08220335A JP 2792895 A JP2792895 A JP 2792895A JP 2792895 A JP2792895 A JP 2792895A JP H08220335 A JPH08220335 A JP H08220335A
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- ink
- colored
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 インク着色層の表面の凹凸をなくし、精度の
高い安価なカラーフィルタの製造方法及びカラーフイル
タを提供する。 【構成】 基板５上にインク受容層７を形成する工程
（図１（ａ））と、インクジェット方式により受容層を
着色する工程（図１（ｂ））と、受容層を平坦化する工
程（図１（ｄ））と、熱または光により完全に硬化させ
る工程を少なくとも有することを特徴とする基板の一面
に形成したインク受容層に複数種の微少着色部を配列し
てなるカラーフィルタの製造方法。
高い安価なカラーフィルタの製造方法及びカラーフイル
タを提供する。 【構成】 基板５上にインク受容層７を形成する工程
（図１（ａ））と、インクジェット方式により受容層を
着色する工程（図１（ｂ））と、受容層を平坦化する工
程（図１（ｄ））と、熱または光により完全に硬化させ
る工程を少なくとも有することを特徴とする基板の一面
に形成したインク受容層に複数種の微少着色部を配列し
てなるカラーフィルタの製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、カラーテレビ、パーソ
ナルコンピュータ等に使用されているカラー液晶ディス
プレイ用のカラーフィルタの製造方法に関し、特にイン
クジェット記録技術を利用したカラーフィルタの製造方
法に関するものである。
ナルコンピュータ等に使用されているカラー液晶ディス
プレイ用のカラーフィルタの製造方法に関し、特にイン
クジェット記録技術を利用したカラーフィルタの製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年携帯用パーソナルコンピュータの急
速な発展に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶デ
ィスプレイの需要は増加する傾向にある。同時に、装置
のコストダウンも要求されるようになり、特に比較的コ
スト比率の高いカラーフィルタのコストダウンに対する
要求が高まっている。カラーフィルタの要求特性を満足
し、上記の要求も満たすため様々な方法が試されている
が、いまだ不十分である。以下に従来の方法について説
明する。
速な発展に伴い、液晶ディスプレイ、特にカラー液晶デ
ィスプレイの需要は増加する傾向にある。同時に、装置
のコストダウンも要求されるようになり、特に比較的コ
スト比率の高いカラーフィルタのコストダウンに対する
要求が高まっている。カラーフィルタの要求特性を満足
し、上記の要求も満たすため様々な方法が試されている
が、いまだ不十分である。以下に従来の方法について説
明する。
【０００３】最も多く使われている第１の方法が染色法
である。この方法はガラス基板上に染色用の材料である
水溶性の高分子材料を形成し、フォトリソグラフィー工
程によりある形状にパターンニングして、できあがった
パターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得
る。これを３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラ
ーフィルタを形成する。
である。この方法はガラス基板上に染色用の材料である
水溶性の高分子材料を形成し、フォトリソグラフィー工
程によりある形状にパターンニングして、できあがった
パターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得
る。これを３回繰り返すことにより、Ｒ、Ｇ、Ｂのカラ
ーフィルタを形成する。
【０００４】第２の方法は、顔料分散法である。この方
法は、まず基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成
し、これをパターンニングすることにより単色のパター
ンを得る。さらにこの工程を３回繰り返すことにより
Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層を得る。
法は、まず基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成
し、これをパターンニングすることにより単色のパター
ンを得る。さらにこの工程を３回繰り返すことにより
Ｒ、Ｇ、Ｂのカラーフィルタ層を得る。
【０００５】第３の方法として電着法がある。この方法
は、まず基板上に透明基板をパターニングする。つぎに
顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬し第１
の色を電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂ
の着色層を形成し、最後に焼成する。
は、まず基板上に透明基板をパターニングする。つぎに
顔料、樹脂、電解液等の入った電着塗装液に浸漬し第１
の色を電着する。この工程を３回繰り返してＲ、Ｇ、Ｂ
の着色層を形成し、最後に焼成する。
【０００６】第４の方法として、熱硬化性樹脂に顔料を
分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂを
塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色層を
形成するものである。また、いずれの方法においても着
色層上に保護層を形成するのが一般的である。
分散させ、印刷を３回繰り返すことによりＲ、Ｇ、Ｂを
塗り分けた後、樹脂を熱硬化させることにより着色層を
形成するものである。また、いずれの方法においても着
色層上に保護層を形成するのが一般的である。
【０００７】従来の方法に共通している点は、Ｒ、Ｇ、
Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必
要があり、コスト高になることである。また、工程が多
いほど歩留まりが低下するという問題を有している。さ
らに、電着法においては、形成可能なパターン形状が限
定されるため、現状の技術では、ＴＦＴ用には適用困難
である。また、印刷法は、解像性が悪いためファインピ
ッチのパターンの形成には不向きである。さらに、着色
層の表面には、凹凸が生じてしまうので、その凹凸をな
くす加工をしないとＴＦＴ以上に平坦性が必要とされて
いるＳＴＮや、ＦＬＣに適用するのは難しい。
Ｂの３色を着色するために同一の工程を３回繰り返す必
要があり、コスト高になることである。また、工程が多
いほど歩留まりが低下するという問題を有している。さ
らに、電着法においては、形成可能なパターン形状が限
定されるため、現状の技術では、ＴＦＴ用には適用困難
である。また、印刷法は、解像性が悪いためファインピ
ッチのパターンの形成には不向きである。さらに、着色
層の表面には、凹凸が生じてしまうので、その凹凸をな
くす加工をしないとＴＦＴ以上に平坦性が必要とされて
いるＳＴＮや、ＦＬＣに適用するのは難しい。
【０００８】これらの欠点を補うべく、インクジェット
を用いたカラーフィルタの製造方法として、特開昭５９
−７５２０５号、特開昭６３−２３５９０１号、特開平
１−２１７３２０号、特開平４−１２３００５号等の提
案がある。これらは、前記従来の方法とは異なりＲ、
Ｇ、Ｂの各色のインクをフィルタ基板にノズルにより噴
射し、インクをフィルタ基板上で乾燥させて着色層を形
成させるものである。この方法によればＲ、Ｇ、Ｂの各
色層の形成を一度に行うことができ、さらにインクの使
用量にも無駄が生じないため大幅な生産性の向上、コス
トダウン等の効果を得ることができる。しかしながら、
インクジェット方式によりインクドットで着色層を形成
する場合には、インクの吐出量に多少のばらつきがある
ため、そのまま硬化させてしまうとインク着色層の表面
に凹凸が生じ、層の膜厚が均一にならない。このように
表面に凹凸があると、ＴＦＴなどの液晶ディスプレイに
組み込んだ場合、光の透過率がばらつき、コントラスト
が悪くなり、色ムラの原因となる。インク着色層の表面
の凹凸を平坦化する方法としては、特開昭６４−５７２
０２号、特開平１−２０６３０４号等の提案があるが、
インクジェット方式を用いる方法には十分とはいえな
い。
を用いたカラーフィルタの製造方法として、特開昭５９
−７５２０５号、特開昭６３−２３５９０１号、特開平
１−２１７３２０号、特開平４−１２３００５号等の提
案がある。これらは、前記従来の方法とは異なりＲ、
Ｇ、Ｂの各色のインクをフィルタ基板にノズルにより噴
射し、インクをフィルタ基板上で乾燥させて着色層を形
成させるものである。この方法によればＲ、Ｇ、Ｂの各
色層の形成を一度に行うことができ、さらにインクの使
用量にも無駄が生じないため大幅な生産性の向上、コス
トダウン等の効果を得ることができる。しかしながら、
インクジェット方式によりインクドットで着色層を形成
する場合には、インクの吐出量に多少のばらつきがある
ため、そのまま硬化させてしまうとインク着色層の表面
に凹凸が生じ、層の膜厚が均一にならない。このように
表面に凹凸があると、ＴＦＴなどの液晶ディスプレイに
組み込んだ場合、光の透過率がばらつき、コントラスト
が悪くなり、色ムラの原因となる。インク着色層の表面
の凹凸を平坦化する方法としては、特開昭６４−５７２
０２号、特開平１−２０６３０４号等の提案があるが、
インクジェット方式を用いる方法には十分とはいえな
い。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明は上記問題点を
解決するものでインク着色層表面の凹凸をなくし、精度
の高いカラーフィルタを提供するものであり、従来法の
有する耐熱性、耐溶剤性、解像度等の必要性を満足し、
かつインクジェット適性をも満足し、しかも工程の短縮
された安価なカラーフィルタの製造方法を提供するもの
である。
解決するものでインク着色層表面の凹凸をなくし、精度
の高いカラーフィルタを提供するものであり、従来法の
有する耐熱性、耐溶剤性、解像度等の必要性を満足し、
かつインクジェット適性をも満足し、しかも工程の短縮
された安価なカラーフィルタの製造方法を提供するもの
である。
【００１０】
【課題を解決するための手段】かかる目的は次に示す手
段によって達成することができる。即ち、本発明は基板
の一面に形成した受容層に複数種の微少着色部を配列し
てなるカラーフィルタの製造方法において、少なくとも
下記（Ａ）〜（Ｄ） （Ａ）基板上にインク受容層を形成する工程、（Ｂ）イ
ンクジェット方式により受容層を着色する工程、（Ｃ）
受容層を平坦化する工程、（Ｄ）熱処理または、光照射
により完全に硬化させる工程、の各工程を有することを
特徴とするカラーフィルタの製造方法を提案するもので
あって、（Ａ）基板上にインク受容層を形成する工程が
基板上に光照射または熱処理によりインクの吸収性およ
び濡れ性の低下する樹脂材料からなる受容層を形成し、
次いで受容層に熱処理または光照射を施すものであるカ
ラーフィルタの製造方法、インクジェット方式により着
色した受容層を着色する工程と、受容層を平坦化する工
程との間に受容層を半硬化させる工程を有するカラーフ
ィルタの製造方法、インクジェット方式により着色した
受容層を平坦化する際に、ローラーにより圧力をかけて
平坦化させる工程を有するカラーフィルタの製造方法、
インクジェット方式により着色した受容層を平坦化する
際に、プレスにより圧力をかけて平坦化させる工程を有
するカラーフィルタの製造方法、インクジェット方式に
より着色した受容層を平坦化する際に、エアーを吹き付
けて加圧し、平坦化させる工程を有するカラーフィルタ
の製造方法、インクジェット方式により着色した受容層
を平坦化する際に、レーザービームを照射し平坦化させ
る工程を有するカラーフィルタの製造方法を含む。ま
た、本発明は前記の製造方法により製造されたカラーフ
イルタを提案するものである。
段によって達成することができる。即ち、本発明は基板
の一面に形成した受容層に複数種の微少着色部を配列し
てなるカラーフィルタの製造方法において、少なくとも
下記（Ａ）〜（Ｄ） （Ａ）基板上にインク受容層を形成する工程、（Ｂ）イ
ンクジェット方式により受容層を着色する工程、（Ｃ）
受容層を平坦化する工程、（Ｄ）熱処理または、光照射
により完全に硬化させる工程、の各工程を有することを
特徴とするカラーフィルタの製造方法を提案するもので
あって、（Ａ）基板上にインク受容層を形成する工程が
基板上に光照射または熱処理によりインクの吸収性およ
び濡れ性の低下する樹脂材料からなる受容層を形成し、
次いで受容層に熱処理または光照射を施すものであるカ
ラーフィルタの製造方法、インクジェット方式により着
色した受容層を着色する工程と、受容層を平坦化する工
程との間に受容層を半硬化させる工程を有するカラーフ
ィルタの製造方法、インクジェット方式により着色した
受容層を平坦化する際に、ローラーにより圧力をかけて
平坦化させる工程を有するカラーフィルタの製造方法、
インクジェット方式により着色した受容層を平坦化する
際に、プレスにより圧力をかけて平坦化させる工程を有
するカラーフィルタの製造方法、インクジェット方式に
より着色した受容層を平坦化する際に、エアーを吹き付
けて加圧し、平坦化させる工程を有するカラーフィルタ
の製造方法、インクジェット方式により着色した受容層
を平坦化する際に、レーザービームを照射し平坦化させ
る工程を有するカラーフィルタの製造方法を含む。ま
た、本発明は前記の製造方法により製造されたカラーフ
イルタを提案するものである。
【００１１】以下、本発明を図面を参照して更に詳細に
説明する。図１中５は基板である。基板５はガラス、プ
ラスチック等が好ましい。
説明する。図１中５は基板である。基板５はガラス、プ
ラスチック等が好ましい。
【００１２】まず図１（ａ）に示すようブラックマトリ
クス６が形成された基板５上に光照射および熱処理によ
りインク吸収性および濡れ性を低下し得る樹脂材料から
なるインク受容層７を形成する。樹脂材料を例えばエチ
ルセルソロブ等の溶剤と混合して受容層７用コート剤を
調整し、スピンコート、ロールコート、ディップコート
等適宜塗布方法により乾燥厚み０．５μｍ〜５μｍ程度
に形成する。光照射および熱処理によりインクの吸収性
および濡れ性を低下し得る樹脂としてはアクリル酸とメ
チルメタクリレートとヒドロキシエチルメタクリレート
とＮ−メチロ−ルアクリルアミドの二元系共重体等が挙
げられる。これ等の樹脂に添加される他の添加剤として
は光開始剤としてトリフェニルスルフォニウムトリフラ
−ト、ジフェニルヨ−ドニウムトリフラ−ト等のオニウ
ム塩等が挙げられる。
クス６が形成された基板５上に光照射および熱処理によ
りインク吸収性および濡れ性を低下し得る樹脂材料から
なるインク受容層７を形成する。樹脂材料を例えばエチ
ルセルソロブ等の溶剤と混合して受容層７用コート剤を
調整し、スピンコート、ロールコート、ディップコート
等適宜塗布方法により乾燥厚み０．５μｍ〜５μｍ程度
に形成する。光照射および熱処理によりインクの吸収性
および濡れ性を低下し得る樹脂としてはアクリル酸とメ
チルメタクリレートとヒドロキシエチルメタクリレート
とＮ−メチロ−ルアクリルアミドの二元系共重体等が挙
げられる。これ等の樹脂に添加される他の添加剤として
は光開始剤としてトリフェニルスルフォニウムトリフラ
−ト、ジフェニルヨ−ドニウムトリフラ−ト等のオニウ
ム塩等が挙げられる。
【００１３】次にこの受容層７に光照射および熱処理を
施し、非着色部すなわちブラックマトリクス６上の樹脂
のインク吸収性および濡れ性を低下させる。光照射の手
段としては特に限られるものではなく、超高圧水銀ラン
プキセノンー水銀ランプ等が挙げられ、光照射条件は１
〜 ５００ｍＪ／ｃｍ2 程度である。また熱処理はホッ
トプレート、オーブン等の手段が挙げられ、１００℃〜
１５０℃、３０〜１８０秒行えばよい。
施し、非着色部すなわちブラックマトリクス６上の樹脂
のインク吸収性および濡れ性を低下させる。光照射の手
段としては特に限られるものではなく、超高圧水銀ラン
プキセノンー水銀ランプ等が挙げられ、光照射条件は１
〜 ５００ｍＪ／ｃｍ2 程度である。また熱処理はホッ
トプレート、オーブン等の手段が挙げられ、１００℃〜
１５０℃、３０〜１８０秒行えばよい。
【００１４】次いでインクジェット方式を用いて受容層
７にＲ、Ｇ、Ｂの各色を所望のパターンに従って着色す
る（図１（ｂ））。インクは染料系、顔料系共に用いる
ことが可能である。インクジェット方式としてはエネル
ギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェッ
トタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェットタ
イプ等が使用可能である。なお、着色はＲ、Ｇ、Ｂを同
時に行っても別々に行ってもいずれでもよい。
７にＲ、Ｇ、Ｂの各色を所望のパターンに従って着色す
る（図１（ｂ））。インクは染料系、顔料系共に用いる
ことが可能である。インクジェット方式としてはエネル
ギー発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェッ
トタイプ、あるいは圧電素子を用いたピエゾジェットタ
イプ等が使用可能である。なお、着色はＲ、Ｇ、Ｂを同
時に行っても別々に行ってもいずれでもよい。
【００１５】次に前記のように着色した基板５をオーブ
ン等で５０℃〜１２０℃、１〜３０分加熱し、受容層７
を半硬化させる（図１（ｃ））。ここに半硬化とはイン
クを乾燥させて受容層上に色素が定着した状態をいう。
ン等で５０℃〜１２０℃、１〜３０分加熱し、受容層７
を半硬化させる（図１（ｃ））。ここに半硬化とはイン
クを乾燥させて受容層上に色素が定着した状態をいう。
【００１６】次いで半硬化した受容層７に基板５が破損
しない程度の圧力を加え、平坦化する。平坦化する手段
として金属ローラー１０による加圧（図１（ｄ））、プ
レス１１による加圧（図２）、エアーノズル１２による
高圧のエアー吹き付け（図３）、レーザー発射装置１４
によるレーザービーム照射（図４）等の手段が適用でき
る。平坦化とは ±０．２μｍ以内の平坦度合いをい
う。
しない程度の圧力を加え、平坦化する。平坦化する手段
として金属ローラー１０による加圧（図１（ｄ））、プ
レス１１による加圧（図２）、エアーノズル１２による
高圧のエアー吹き付け（図３）、レーザー発射装置１４
によるレーザービーム照射（図４）等の手段が適用でき
る。平坦化とは ±０．２μｍ以内の平坦度合いをい
う。
【００１７】最後にオーブン等で１５０℃〜２５０℃、
１ 分〜１２０分加熱して完全に硬化させることにより
膜厚のバラツキの少ないカラーフィルタが得られる（図
１ｅ）。
１ 分〜１２０分加熱して完全に硬化させることにより
膜厚のバラツキの少ないカラーフィルタが得られる（図
１ｅ）。
【００１８】以下に本発明を実施例に基づき説明する。
【００１９】
実施例１ まず、ブラックマトリクスの形成されたガラス基板上に
光および、熱によりインクの吸収性および濡れ性の低下
する樹脂材料からなる下記組成からなる共重合体１３０
ｇ及びトリフェニルスルフォニウムトリフラート５．２
ｇをエチルセルソロブ８７０ｇに溶解してなるインク受
容層をスピンコートにより１．０μｍ程度の厚さで形成
する。（図１（ａ））次に、この受容層に４０ｊ／ｍ2
（２５４ｎｍ）のエネルギー量の光照射およびホットプ
レートで １２０℃６０秒の熱処理を施し、非着色部分
すなわちブラックマトリクス上の樹脂のインク吸収性お
よび濡れ性を低下させた。そして、インクジェット方式
を用いて受容層にＲ、Ｇ、Ｂの各色を所望のパターンに
従って着色をするが、インクは一般に用いられている染
料系を用い、インクジェット方式としては、エネルギー
発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタ
イプを用いた。（図１（ｂ））着色はＲ、Ｇ、Ｂを同時
に着色した。さらに、５０℃のオーブンで２分間加熱し
受容層を半硬化させた。（図１（ｃ））次に半硬化した
受容層を、クロムメッキした金属製のローラーでガラス
基板を破損しない圧力（ ０．５ｋｇ／ｃｍ2 ）を加え
て平坦化すると受容層表面の段差を０．１μｍ以下にす
ることができた。（図１（ｄ））最後に２００℃のオー
ブンに入れて完全に硬化させて、カラーフィルタを得
た。（図１（ｅ））この結果、基板表面の凹凸がなくな
り、ＴＦＴ以上に平坦性が要求されるＳＴＮや、ＦＬＣ
にこのカラーフィルタを組み込めば、高精細の液晶カラ
ーディスプレイが製造できる。
光および、熱によりインクの吸収性および濡れ性の低下
する樹脂材料からなる下記組成からなる共重合体１３０
ｇ及びトリフェニルスルフォニウムトリフラート５．２
ｇをエチルセルソロブ８７０ｇに溶解してなるインク受
容層をスピンコートにより１．０μｍ程度の厚さで形成
する。（図１（ａ））次に、この受容層に４０ｊ／ｍ2
（２５４ｎｍ）のエネルギー量の光照射およびホットプ
レートで １２０℃６０秒の熱処理を施し、非着色部分
すなわちブラックマトリクス上の樹脂のインク吸収性お
よび濡れ性を低下させた。そして、インクジェット方式
を用いて受容層にＲ、Ｇ、Ｂの各色を所望のパターンに
従って着色をするが、インクは一般に用いられている染
料系を用い、インクジェット方式としては、エネルギー
発生素子として電気熱変換体を用いたバブルジェットタ
イプを用いた。（図１（ｂ））着色はＲ、Ｇ、Ｂを同時
に着色した。さらに、５０℃のオーブンで２分間加熱し
受容層を半硬化させた。（図１（ｃ））次に半硬化した
受容層を、クロムメッキした金属製のローラーでガラス
基板を破損しない圧力（ ０．５ｋｇ／ｃｍ2 ）を加え
て平坦化すると受容層表面の段差を０．１μｍ以下にす
ることができた。（図１（ｄ））最後に２００℃のオー
ブンに入れて完全に硬化させて、カラーフィルタを得
た。（図１（ｅ））この結果、基板表面の凹凸がなくな
り、ＴＦＴ以上に平坦性が要求されるＳＴＮや、ＦＬＣ
にこのカラーフィルタを組み込めば、高精細の液晶カラ
ーディスプレイが製造できる。
【００２０】共重合体の組成 アクリル酸 ３重量部 メチルメタアクリレート ２３重量部 ヒドロキシエチルメタクリレート ５４重量部 Ｎ−メチロ−ルアクリルアミド ２０重量部 なお、本実施例では基板として一般的なガラスを用いた
が、カラーフィルタとして必要な特性を有するものであ
れば、特に限定はしない。
が、カラーフィルタとして必要な特性を有するものであ
れば、特に限定はしない。
【００２１】また着色はＲ、Ｇ、Ｂを同時に行っても別
々に行っても特に問題はない。ローラーに加える圧力
は、受容層を半硬化させる程度に関係するのでその都度
適正な圧力を加える事が望ましい。インクは染料系だけ
でなく、インクジェットにより吐出可能であれば使用で
きる。ローラーの材質は、受容層以上の剛性があれば、
ゴム、樹脂等も使用できる。
々に行っても特に問題はない。ローラーに加える圧力
は、受容層を半硬化させる程度に関係するのでその都度
適正な圧力を加える事が望ましい。インクは染料系だけ
でなく、インクジェットにより吐出可能であれば使用で
きる。ローラーの材質は、受容層以上の剛性があれば、
ゴム、樹脂等も使用できる。
【００２２】実施例２ 実施例１と同様の手順でガラス基板上に受容層を形成
し、インクジェット方式により着色した後、半硬化させ
た。ここで、半硬化した受容層をプレスすることにより
平坦化した。（図２）プレスの圧力は実施例１と同様に
基板を破損しない程度で、均一に加圧できる機械を用い
た。最後に２００℃のオーブンで完全に硬化させる。こ
れにより表面段差が０．１〜０．２μｍ以下のカラーフ
ィルタができた。
し、インクジェット方式により着色した後、半硬化させ
た。ここで、半硬化した受容層をプレスすることにより
平坦化した。（図２）プレスの圧力は実施例１と同様に
基板を破損しない程度で、均一に加圧できる機械を用い
た。最後に２００℃のオーブンで完全に硬化させる。こ
れにより表面段差が０．１〜０．２μｍ以下のカラーフ
ィルタができた。
【００２３】実施例３ 実施例１と同様の手順でガラス基板上に受容層を形成
し、インクジェット方式により着色した後、半硬化させ
た。ここで、半硬化した受容層に至近距離（５ｍｍ程
度）から高圧（ ５ｋｇ／ｃｍ2 ）のエアーを吹き付け
平坦化した。（図３）エアーのノズルの脇に、ギャップ
センサを取り付けておき、このギャップセンサにより
０．３μｍ以上の凹凸を検出し、その部分にエアーを吹
き付ける。エアーの圧力は凹凸の度合いにより可変にし
てある。最後に２００℃のオーブンで完全に硬化させ
た。これにより表面段差が０．１〜０．２μｍ以下のカ
ラーフィルタができた。
し、インクジェット方式により着色した後、半硬化させ
た。ここで、半硬化した受容層に至近距離（５ｍｍ程
度）から高圧（ ５ｋｇ／ｃｍ2 ）のエアーを吹き付け
平坦化した。（図３）エアーのノズルの脇に、ギャップ
センサを取り付けておき、このギャップセンサにより
０．３μｍ以上の凹凸を検出し、その部分にエアーを吹
き付ける。エアーの圧力は凹凸の度合いにより可変にし
てある。最後に２００℃のオーブンで完全に硬化させ
た。これにより表面段差が０．１〜０．２μｍ以下のカ
ラーフィルタができた。
【００２４】実施例４ 実施例１と同様の手順でガラス基板上に受容層を形成
し、インクジェット方式により着色した後、半硬化させ
た。ここで、半硬化した受容層にレーザービームを照射
して平坦化した。（図４）このレーザー照射装置の脇に
ギャップセンサを取り付けておき、ギャップセンサが
０．３μｍ以上の凹凸を検出し、その部分にレーザービ
ームを照射しアブレージョンによって凹凸を除去し平坦
化する。最後に２００℃のオーブンで完全に硬化させ
た。これにより表面段差が０．１〜０．２μｍ以下のカ
ラーフィルタができた。
し、インクジェット方式により着色した後、半硬化させ
た。ここで、半硬化した受容層にレーザービームを照射
して平坦化した。（図４）このレーザー照射装置の脇に
ギャップセンサを取り付けておき、ギャップセンサが
０．３μｍ以上の凹凸を検出し、その部分にレーザービ
ームを照射しアブレージョンによって凹凸を除去し平坦
化する。最後に２００℃のオーブンで完全に硬化させ
た。これにより表面段差が０．１〜０．２μｍ以下のカ
ラーフィルタができた。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板上に形成されたインク受容層にインクジェットを用
いて着色し、受容層を熱により半硬化させ、実施例で示
したような方法によって平坦化してから完全に硬化させ
るので、表面の凹凸がないカラーフィルタの製造が可能
になる。しかも、インクジェットを用いて製造するカラ
ーフィルタは、製造の工程を簡略化することができるの
で、コストも削減できる。また、インクジェットを用い
る上で問題となっていた表面の凹凸を、平坦化すること
が可能になったので、ＴＦＴ以上に平坦性が必要とされ
るＳＴＮや、ＦＬＣ等にも適用が容易になり、供給範囲
が大幅に拡大される。
基板上に形成されたインク受容層にインクジェットを用
いて着色し、受容層を熱により半硬化させ、実施例で示
したような方法によって平坦化してから完全に硬化させ
るので、表面の凹凸がないカラーフィルタの製造が可能
になる。しかも、インクジェットを用いて製造するカラ
ーフィルタは、製造の工程を簡略化することができるの
で、コストも削減できる。また、インクジェットを用い
る上で問題となっていた表面の凹凸を、平坦化すること
が可能になったので、ＴＦＴ以上に平坦性が必要とされ
るＳＴＮや、ＦＬＣ等にも適用が容易になり、供給範囲
が大幅に拡大される。
【図１】図１（ａ），（ｂ），（ｃ），（ｄ），（ｅ）
は本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程
説明図である。
は本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を示す工程
説明図である。
【図２】本発明におけるプレスにより平坦化する工程を
示す図である。
示す図である。
【図３】本発明におけるエアーにより平坦化する工程を
示す図である。
示す図である。
【図４】本発明におけるレーザービームにより平坦化す
る工程を示す図である。
る工程を示す図である。
５ 基板 ６ ブラックマトリクス ７ インク受容層 ８ インクジェットヘッド ９ 熱 １０ ローラー １１ プレス １２ エアーノズル １３ ギャップセンサ １４ レーザー発射装置 １５ ギャップセンサ
Claims (8)
- 【請求項１】 基板の一面に形成したインク受容層に複
数種の微少着色部を配列してなるカラーフィルタの製造
方法において、少なくとも下記（Ａ）〜（Ｄ） （Ａ）基板上にインク受容層を形成する工程、 （Ｂ）インクジェット方式により受容層を着色する工
程、 （Ｃ）受容層を平坦化する工程、 （Ｄ）熱処理または、光照射により完全に硬化させる工
程、の各工程を有することを特徴とするカラーフィルタ
の製造方法。 - 【請求項２】 （Ａ）基板上にインク受容層を形成する
工程が、基板上に、光照射または熱処理によりインクの
吸収性および濡れ性の低下する樹脂材料からなる受容層
を形成し、次いで受容層に熱処理または光照射を施すも
のである請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。 - 【請求項３】 インクジェット方式により受容層を着色
する工程と、受容層を平坦化する工程との間に受容層を
半硬化させる工程を有する請求項１に記載のカラーフィ
ルタの製造方法。 - 【請求項４】 インクジェット方式により着色した受容
層を平坦化する際に、ローラーにより圧力をかけて平坦
化させる工程を有する請求項１に記載のカラーフィルタ
の製造方法。 - 【請求項５】 インクジェット方式により着色した受容
層を平坦化する際に、プレスにより圧力をかけて平坦化
させる工程を有する請求項１に記載のカラーフィルタの
製造方法。 - 【請求項６】 インクジェット方式により着色した受容
層を平坦化する際に、エアーを吹き付けて加圧し、平坦
化させる工程を有する請求項１に記載のカラーフィルタ
の製造方法。 - 【請求項７】 インクジェット方式により着色した受容
層を平坦化する際に、レーザービームを照射し平坦化さ
せる工程を有する請求項１に記載のカラーフィルタの製
造方法。 - 【請求項８】 請求項１ないし６のいずれか１項に記載
のカラーフイルタの製造方法により製造されたことを特
徴とするカラーフィルタ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2792895A JPH08220335A (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | カラーフィルタの製造方法及びカラーフイルター |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2792895A JPH08220335A (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | カラーフィルタの製造方法及びカラーフイルター |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08220335A true JPH08220335A (ja) | 1996-08-30 |
Family
ID=12234559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2792895A Pending JPH08220335A (ja) | 1995-02-16 | 1995-02-16 | カラーフィルタの製造方法及びカラーフイルター |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08220335A (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002107528A (ja) * | 2000-09-29 | 2002-04-10 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
| JP2003057432A (ja) * | 2001-08-08 | 2003-02-26 | Ind Technol Res Inst | カラーフィルタの製造用インクジェットプリント装置及びその方法 |
| US7183023B2 (en) * | 2003-04-07 | 2007-02-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for manufacturing color filter |
| JP2010102063A (ja) * | 2008-10-23 | 2010-05-06 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルタ基板の修正方法およびカラーフィルタ |
| US7739981B2 (en) | 2005-05-13 | 2010-06-22 | Seiko Epson Corporation | Liquid droplet ejection apparatus, method for forming pattern, and method for manufacturing electro-optic device |
| JP2010217927A (ja) * | 2010-06-25 | 2010-09-30 | Dainippon Printing Co Ltd | カラーフィルタの製造方法 |
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| CN103439825A (zh) * | 2013-09-05 | 2013-12-11 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 膜层铺设装置及使用该装置的膜层铺设方法 |
| WO2016051860A1 (ja) * | 2014-09-30 | 2016-04-07 | 日本写真印刷株式会社 | 凹凸面に加飾する加飾品の製造方法、凹凸面に加飾を施した加飾品と描画品の製造方法 |
| JP2016190236A (ja) * | 2016-06-10 | 2016-11-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | インクヘッド |
-
1995
- 1995-02-16 JP JP2792895A patent/JPH08220335A/ja active Pending
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| JP2016190236A (ja) * | 2016-06-10 | 2016-11-10 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | インクヘッド |
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