JP2002107528A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画素部をインク吐出法により形成した場合で
あってもその表面が平坦であり、かつ各画素部の厚みが
均一であるカラーフィルタの製造方法を提供することを
主目的とするものである。 【解決手段】 上記目的を達成するために、本発明は、
吐出法によりインクを透明基板上に付着させて、複数色
の画素部を所定のパターンで形成する画素部形成工程を
少なくとも有し、かつ上記画素部形成工程で形成された
画素部が凸状となるカラーフィルタの製造方法におい
て、上記画素部形成工程の後に凸状である画素部を平坦
化する画素部平坦化工程を行うことを特徴とするカラー
フィルタの製造方法を提供する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、画素部をインクジ
ェット方式等の吐出法で形成した場合でも、平坦な画素
部を得ることができる、カラー液晶表示装置に好適なカ
ラーフィルタの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、パーソナルコンピューターの発
達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴
い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレ
イの需要が増加する傾向にある。しかしながら、このカ
ラー液晶ディスプレイが高価であることから、コストダ
ウンの要求が高まっており、特にコスト的に比重の高い
カラーフィルタに対するコストダウンの要求が高い。

【０００３】このようなカラーフィルタにおいては、通
常赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、および青（Ｂ）の３原色の着色
パターンを備え、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素に
対応する電極をＯＮ、ＯＦＦさせることで液晶がシャッ
タとして作動し、Ｒ、Ｇ、およびＢのそれぞれの画素を
光が通過してカラー表示が行われるものである。

【０００４】このようなカラーフィルタの製造方法の中
に、例えば濡れ性の異なるパターンが形成された基材上
の親液性の領域にインクジェット方式によりインクを噴
射して付着させることにより画素部を形成し、カラーフ
ィルタを得る方法がある（特開平１１−３３７７２６
号）。このような方法は、上記通常赤（Ｒ）、緑
（Ｇ）、および青（Ｂ）の３原色の着色パターンを同時
に着色することができ、工程を簡略化することができる
という利点があることから、カラーフィルタの製造方法
としては有用である。

【０００５】しかしながら、このような方法では、親液
性の領域にインクを濡れ性の差を利用して付着させるこ
とから、必然的に画素部の中心部分が凸状となる形状で
形成される。このように凸状となっていると、画素部内
での色むらが生じる可能性があるという問題がある。ま
た、インクジェット方式等のインク吐出法により画素部
を形成した場合、各色の吐出量に差がある可能性があ
り、画素部間で厚みが異なってしまう場合がある。この
ような場合は、画素部によって着色むらが生じることに
なり好ましくなく、さらにセルギャップが不均一になる
という不具合も生じる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
に鑑みてなされたもので、画素部をインク吐出法により
形成した場合であってもその表面が平坦であり、かつ各
画素部の厚みが均一であるカラーフィルタの製造方法を
提供することを主目的とするものである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は請求項１において吐出法によりインクを透
明基板上に付着させて、複数色の画素部を所定のパター
ンで形成する画素部形成工程を少なくとも有し、かつ上
記画素部形成工程で形成された画素部が凸状となるカラ
ーフィルタの製造方法において、上記画素部形成工程の
後に凸状である画素部を平坦化する画素部平坦化工程を
行うことを特徴とするカラーフィルタの製造方法を提供
する。

【０００８】このように、本発明は、画素部形成工程の
後に画素部平坦化工程を行うものであるので、吐出法に
より画素部を形成したカラーフィルタであっても、画素
部表面が平坦であり、画素部内で色むらが生じることが
ない。また、画素部平坦化工程により各画素部の厚みを
一定とすることが可能であるので、画素部による着色む
らがなく、かつセルギャップを均一とすることが可能と
なる。

【０００９】上記請求項１に記載された発明において
は、請求項２に記載するように、さらに、遮光部を形成
する工程を有するものであってもよい。本発明のカラー
フィルタの製造方法は、遮光部を有するカラーフィルタ
であっても、遮光部を有さないカラーフィルタであって
も適用可能だからである。

【００１０】上記請求項１または請求項２に記載された
発明においては、請求項３に記載するように、上記凸状
の画素部を半硬化状態とした後、上記画素部平坦化工程
を行うことが好ましい。画素部が未硬化の状態もしくは
硬化した状態では、精度良く画素部平坦化工程を行うこ
とができないからである。

【００１１】さらに、上記請求項１から請求項３までの
いずれかの請求項に記載された発明においては、請求項
４に記載するように、上記画素部平坦化工程を、凸状の
画素部を上方から圧力を加えて平坦化する工程とするこ
とができる。この場合、請求項５に記載するように上記
凸状の画素部を上方から圧力を加えて平坦化する工程
が、円筒形状圧力ロールを用いた工程もしくは平面状プ
レスを用いた工程であることが好ましい。

【００１２】一方、上記請求項１から請求項３までのい
ずれかの請求項に記載された発明においては、請求項６
に記載するように、上記画素部の平坦化工程が、凸状の
画素部の上方を除去することにより平坦化する工程とす
ることもできる。この場合、請求項７に記載するよう
に、上記凸状の画素部の上方を除去することにより平坦
化する工程が、ドクターブレードを用いて画素部上方を
掻き取る工程、もしくは請求項８に記載するように、上
記凸状の画素部の上方を除去することにより平坦化する
工程が、カッターを用いて画素部上方を切り取る工程で
あることが好ましい。

【００１３】上記請求項１から請求項８までのいずれか
の請求項に記載された発明は、請求項９に記載するよう
に、上記吐出法が、インクジェット方式によるものであ
ることが好ましい。インクジェット方式でインクを付着
させるようにすれば、位置精度良くインクを付着させる
ことが可能となり、得られるカラーフィルタの品質を向
上させることができるからである。

【００１４】上記請求項１から請求項９までのいずれか
の請求項に記載された発明においては、請求項１０に記
載するように、上記画素部形成工程が、透明基板上に表
面の濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層を形
成し、この濡れ性可変層上の親インク性領域にインクを
付着して形成する工程であることが好ましく、中でも請
求項１１に記載するように、上記濡れ性可変層が、少な
くとも光触媒とバインダとからなる光触媒含有層であ
り、かつエネルギーの照射により液体との接触角が低下
するように濡れ性が変化する層であることが好ましい。

【００１５】このような層を形成することにより、エネ
ルギーのパターン照射等を行うことにより容易にこの層
の濡れ性を変化させ、液体との接触角の小さい親インク
性領域を形成とすることができ、例えば画素部が形成さ
れる部分のみ容易に親インク性領域とすることが可能と
なる。したがって、効率的にカラーフィルタが製造で
き、コスト的に有利となるからである。

【００１６】本発明に用いられる光触媒含有層は、上述
したように少なくとも光触媒とバインダとからなるもの
であるが、このうち光触媒は、請求項１２に記載するよ
うに酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸
化スズ（ＳｎＯ₂）、チタン酸ストロンチウム（ＳｒＴ
ｉＯ₃）、酸化タングステン（ＷＯ₃）、酸化ビスマス
（Ｂｉ₂Ｏ₃）、および酸化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）から選択され
る１種または２種以上の物質であることが好ましい。中
でも請求項１３に記載するように酸化チタン（Ｔｉ
Ｏ₂）であることが好ましい。これは、酸化チタンのバ
ンドギャップエネルギーが高いため光触媒として有効で
あり、かつ化学的にも安定で毒性もなく、入手も容易だ
からである。

【００１７】また、請求項１１から請求項１３までのい
ずれかの請求項に記載されたカラーフィルタにおいて、
光触媒含有層を構成する他の成分であるバインダは、請
求項１４に記載するように、Ｙ_nＳｉＸ_(4-n)（ここで、
Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミ
ノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘはアルコ
キシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３までの整数
である。）で示される珪素化合物の１種または２種以上
の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオル
ガノポリシロキサンであることが好ましい。

【００１８】上記請求項１１から請求項１４までのいず
れかの請求項においては、請求項１５に記載するよう
に、上記光触媒含有層上における表面張力４０ｍＮ／ｍ
の液体との接触角が、エネルギーが照射されていない部
分において１０度以上であり、エネルギーが照射された
部分において１０度未満であることが好ましい。エネル
ギーが照射されていない部分は、撥インク性が要求され
る部分であることから、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体と
の接触角が１０度未満である場合は、撥インク性が十分
でなく、インクが残存する可能性が生じるため好ましく
ない。また、エネルギーが照射された部分の表面張力４
０ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以上である場合
は、この部分でのインクの広がりが劣る可能性があり、
画素部での色抜け等が生じる可能性があるからである。

【００１９】本発明においては、請求項１６に記載する
ように、上記請求項１から請求項１５までのいずれかの
請求項に記載の方法により製造されたことを特徴とする
カラーフィルタを提供する。このようなカラーフィルタ
は、画素部表面が平坦であり、画素部内で色むらが生じ
ることがない。また、各画素部の厚みを一定とすること
が可能であるので、画素部による着色むらがなく、かつ
セルギャップを均一とすることが可能となる。

【００２０】さらに本発明においては、請求項１７に記
載するように、透明基板と、この透明基板上に吐出法に
よりインクを付着させて、複数色が所定のパターンで形
成されてなる画素部とを少なくとも有し、上記各画素部
の厚みの差が、±０．５μｍの範囲内であることを特徴
とするカラーフィルタを提供する。本発明のカラーフィ
ルタは、このように各画素部の厚みの差が小さいので、
画素部による着色むらがなく、かつセルギャップが均一
な液晶表示装置を提供することができるという利点を有
する。

【００２１】このようなカラーフィルタは、請求項１８
に記載するように、遮光部を有するものであってもよ
し、また請求項１９に記載するように、上述したように
インクジェット法により形成されたものであることが好
ましい。

【００２２】さらに、上記請求項１６から請求項１９ま
でに記載された発明においては、請求項２０に記載する
ように、工程の簡便性より、上記画素部がＵＶ硬化性イ
ンクにより形成されたことが好ましい。

【００２３】本発明においては、請求項２１に記載する
ように、請求項１６から請求項２０までのいずれかの請
求項に記載のカラーフィルタと、これに対向する基板と
を有し、両基板間に液晶化合物を封入してなることを特
徴とするカラー液晶表示装置を提供する。このような、
カラー液晶表示装置は、上述したようなカラーフィルタ
の利点、すなわち、画素部による着色むらがなく、かつ
セルギャップが均一であるという利点を有するものであ
る。

【００２４】

【発明の実施の形態】Ａ．カラーフィルタの製造方法 以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について詳細
に説明する。本発明のカラーフィルタの製造方法は、吐
出法によりインクを透明基板上に付着させて、複数色の
画素部を所定のパターンで形成する画素部形成工程を少
なくとも有し、かつ上記画素部形成工程で形成された画
素部が凸状となるカラーフィルタの製造方法において、
上記画素部形成工程の後に凸状である画素部を平坦化す
る画素部平坦化工程を有することを特徴とするものであ
る。

【００２５】本発明は、上述したように画素部平坦化工
程を有するものであるので、画素部内もしくは画素部間
における着色むらを防止することができ、さらにセルギ
ャップを一定に保つことができる。まず、この画素部平
坦化工程について詳しく説明する。

【００２６】１．画素部平坦化工程 本発明における画素部平坦化工程は、大きく分けて二つ
の方法により行うことができる。その内の第１の方法は
凸状である画素部を上方から圧力を加えて平坦化する方
法であり、第２の方法は凸状の画素部の上方を除去する
方法である。

【００２７】上記第１の方法である上方から圧力を加え
る方法としては、線圧もしくは面圧により均一に凸状の
画素部を押圧することが可能な方法であれば特に限定さ
れるものではない。線圧により圧力を加える方法として
は、例えば円筒状圧力ロールを用いる方法等を挙げるこ
とができる。また面圧により圧力を加える方法としては
平面状のプレスを用いる方法等を挙げることができる。

【００２８】これらの方法において、例えば円筒状圧力
ロール表面もしくは平面状のプレス表面等の画素部と接
触する部分については、接触した画素部が粘着しないよ
うな材料を用いることが好ましい。

【００２９】具体的には、ジメチルポリシロキサンと、
ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレー
ト、ブチルメタクリレート、２−イソシアネートエチ
ル、あるいはメタクリレートから選ばれる少なくとも１
種の共重合物、あるいはジメチルポリシロキサン、メチ
ルフェニルポリシロキサン、またはメチルフロロポリシ
ロキサン等を挙げることができる。これらの物質の分子
量は重量平均分子量で１０００００ないし１０００００
０であることが好ましい。

【００３０】そして、このようなシリコーン系共重合体
においては、損失正接ｔａｎδが、０．０１〜０．２で
あることが好ましく、また、複素弾性率が、１０⁶〜１
０⁷ｄｙｎｅ／ｃｍ²であることが好ましい。さらに、臨
界表面張力は、１７〜３７ｄｙｎｅ／ｃｍであることが
好ましく、２０〜２６ｄｙｎｅ／ｃｍであることがより
好ましい。

【００３１】また、円筒状圧力ロール表面もしくは平面
状のプレス表面等の画素部と接触する部分に、フィルム
等を介在させて画素部の凸部を押圧し、平坦化が終了し
た後フィルムを除去するような方法であってもよい。こ
のような方法に用いることができるフィルムとしては、
例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネー
ト、ポリフェニレンサルファイド、ポリイミド、ポリエ
チレンナフタレート、ポリ塩化ビニル、ポリエーテルス
ルホン、ポリアミドイミド、ポリアミド、芳香族ポリア
ミド等を挙げることができる。

【００３２】一方、上記第２の方法である凸状の画素部
の上方を除去する方法としては、具体的には、ドクター
ブレードを用いて画素部上方を掻き取る方法、カッター
を用いて画素部上方を切り取る方法、さらには研磨によ
り画素部上方を削り取る方法等を挙げることができる。

【００３３】本発明における画素部平坦化工程において
は、平坦化の方法によっても異なるものであるが、画素
部を半硬化状態とした後、画素部平坦化工程を行うこと
が好ましい。具体的には、画素部のインクの粘度を、５
００ｃｐｓ〜３０００００ｃｐｓの範囲内とした後に、
画素部平坦化工程を行うことが好ましい。

【００３４】特に、上記画素部平坦化工程が凸状である
画素部を上方から圧力を加えて平坦化する第１の方法で
ある場合は、画素部が半硬化状態であることがより好ま
しく、この場合の粘度としては、上記範囲の中でも１０
００ｃｐｓ〜２００００ｃｐｓの範囲内であることが好
ましい。

【００３５】この場合の半硬化状態のインクの粘度の測
定方法は、半硬化状態としたインクをドクターブレード
あるいはスクリーン印刷用スキージでかき集めて、Ｒ型
粘度計（例えば、東機産業（株）製、RE500U）にて測定
する方法が採られる。測定条件としては、ずり速度：１
０ｓ^-1で測定を行う。

【００３６】２．画素部形成工程 本発明のカラーフィルタの製造方法は、上述した画素部
平坦化工程を有する点に特徴を有するものであるが、そ
の前提条件として、吐出法によりインクを透明基板上に
付着させて、複数色の画素部を所定のパターンで形成す
る画素部形成工程を少なくとも有するカラーフィルタの
製造方法であり、かつこの画素部形成工程で形成された
画素部が凸状となるカラーフィルタの製造方法に適用さ
れる。

【００３７】（吐出法）本発明でいう吐出法としては、
例えばマイクロシリンジ、ディスペンサー、インクジェ
ット、針先より画素部形成用インクを電界などの外部刺
激により飛ばす方法、外部刺激により振動するピエゾ素
子などの振動素子を用いて素子より画素部形成用インク
を飛ばす方法、針先に付着させた画素部形成用インクを
基材表面に付着させる方法等を挙げることができる。

【００３８】本発明では、上述した吐出法の中でも、塗
布の正確性および迅速性等の観点からインクジェット方
式で画素部を形成することが好ましい。この場合用いら
れるインクジェット装置としては、特に限定されるもの
ではないが、帯電したインクを連続的に噴射し磁場によ
って制御する方法、圧電素子を用いて間欠的にインクを
噴射する方法、インクを加熱しその発泡を利用して間欠
的に噴射する方法等の各種の方法を用いたインクジェッ
ト装置を用いることができる。

【００３９】なお、本発明でいう「インクを透明基板上
に付着させて、」とは、透明基板上に直にインクを付着
させる場合のみならず、透明基板上に何らかの層が形成
され、その上にインクを付着させる場合をも含む意味で
ある。

【００４０】（画素部）このようにして、吐出法により
形成される画素部は、通常、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、およ
び青（Ｂ）の３色で形成される。この画素部における着
色パターン、着色面積は任意に設定することができる。

【００４１】このような画素部を形成する場合は、上述
したように吐出法の中でもインクジェット方式によるこ
とが好ましいが、このインクジェット方式に用いられる
インクとしては、大きく水性、油性に分類される。本発
明においてはいずれのインクであっても用いることがで
きるが、表面張力の関係から水をベースとした水性のイ
ンクが好ましい。

【００４２】本発明で用いられる水性インクには、溶媒
として、水単独または水及び水溶性有機溶剤の混合溶媒
を用いることがきる。一方、油性インクにはへッドのつ
まり等を防ぐために高沸点の溶媒をベースとしたものが
好ましく用いられる。このようなインクジェット方式の
インクに用いられる着色剤は、公知の顔料、染料が広く
用いられる。また、分散性、定着性向上のために溶媒に
可溶・不溶の樹脂類を含有させることもできる。その
他、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界
面活性剤などの界面活性剤；防腐剤；防黴剤；ｐＨ調整
剤；消泡剤；紫外線吸収剤；粘度調整剤：表面張力調整
剤などを必要に応じて添加しても良い。

【００４３】また、通常のインクジェット方式のインク
は適性粘度が低いためバインダ樹脂を多く含有できない
が、インク中の着色剤粒子を樹脂で包むかたちで造粒さ
せることで着色剤自身に定着能を持たせることができ
る。このようなインクも本発明においては用いることが
できる。さらに、所謂ホットメルトインクやＵＶ硬化性
インクを用いることもできる。

【００４４】本発明においては、中でもＵＶ硬化性イン
クを用いることが好ましい。ＵＶ硬化性インクを用いる
ことにより、インクジェット方式により着色して画素部
を形成後、ＵＶを照射することにより、素早くインクを
硬化させることができ、すぐに次の工程に送ることがで
きる。したがって、効率よくカラーフィルタを製造する
ことができるからである。

【００４５】このようなＵＶ硬化性インクは、プレポリ
マー、モノマー、光開始剤及び着色剤を主成分とするも
のである。プレポリマーとしては、ポリエステルアクリ
レート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレ
ート、ポリエーテルアクリレート、オリゴアクリレー
ト、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、
シリコンアクリレート等のプレポリマーのいずれかを特
に限定することなく用いることができる。

【００４６】モノマーとしては、スチレン、酢酸ビニル
等のビニルモノマー；ｎ−ヘキシルアクリレート、フェ
ノキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマ
ー；ジエチレングリコールジアクリレート、１，６−ヘ
キサンジオールジアクリレート、ヒドロキシピペリン酸
エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリス
トールヘキサアクリレート等の多官能アクリルモノマー
を用いることができる。上記プレポリマー及びモノマー
は単独で用いても良いし、２種以上混含しても良い。

【００４７】光重合開始剤は、イソブチルベンゾインエ
ーテル、イソプロピルベンゾインエーテル、ベンゾイン
エチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、１−フェ
ニル−ｌ，２−プロパジオン−２−オキシム、２，２−
ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ベンジル、
ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエトキシ
アセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フ
ェニルプロパン−１−オン、ベンゾフェノン、クロロチ
オキサントン、２−クロロチオキサントン、イソプロピ
ルチオキサントン、２−メチルチオキサントン、塩素置
換ベンゾフェノン、ハロゲン置換アルキル−アリルケト
ン等の中から所望の硬化特性、記録特性が得られるもの
を選択して用いることができる。その他必要に応じて脂
肪族アミン、芳香族アミン等の光開始助剤；チオキサン
ソン等の光鋭感剤等を添加しても良い。

【００４８】（凸状の画素部について）また、本発明は
上記画素部形成工程で形成された上記画素部が凸状とな
る場合に適用される。ここで、画素部が凸状となると
は、画素部形成工程終了時の画素部の周囲の平均高さに
比較して、内側の最も高い部位が少なくとも１μｍ以
上、好ましくは２μｍ以上高い場合を示すものである。
この程度の高さの差がなければ、上述した画素部平坦化
工程を行う必要性があまり高くないからである。

【００４９】このように、吐出法によりインクを透明基
板上に付着させて画素部を形成し、さらに形成された画
素部が凸状となる画素部形成法としては種々のものがあ
り、本発明では特に特定の画素部形成方法に限定される
ものではない。具体的な方法としては、例えば、画素部
を形成する前に予め画素部が形成される画素部形成部周
囲に凸部を形成し、この凸部により囲まれた画素部形成
部内に吐出法によりインクを付着させる方法、透明基板
上に外部刺激により濡れ性が変化する濡れ性可変層を形
成し、外部刺激をパターン状に加えて濡れ性を変化さ
せ、濡れ性の良好な部分に吐出法によりインクを付着さ
せて画素部を形成する方法等を挙げることができる。

【００５０】本発明においては、特に上述した外部刺激
により濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層を
形成し、この上に画素部を形成する方法が好ましい。こ
の方法によればパターン状に外部刺激を加えることによ
り、容易に濡れ性の異なるパターンを形成することが可
能であり、この内の濡れ性の良好な部分に吐出法でイン
クを付着させるだけで効率的に画素部を形成することが
できるからである。

【００５１】以下、このような濡れ性可変層について説
明する。

【００５２】（濡れ性可変層）本発明において用いられ
る濡れ性可変層は、その表面の濡れ性を、外からの刺
激、例えば物理的刺激、化学的刺激等により変化させる
ことができる層であれば特に限定されるものではない。
例えば、酸またはアルカリ等により表面の粗さの状態が
変化し、濡れ性が変化する層等であってもよいし、また
紫外線や可視光、さらには熱等のエネルギーの照射によ
り濡れ性可変層内の物質が変化して濡れ性が変化する層
等であってもよい。

【００５３】また濡れ性の変化に関しては、刺激が加え
られる前が液体との接触角が大きく、刺激が加えられた
後に液体との接触角が小さくなるように変化するような
濡れ性可変層であってもよいし、また逆に刺激が加えら
れる前が液体との接触角が小さく、刺激が加えられた後
に液体との接触角が大きく変化するような濡れ性可変層
であってもよい。

【００５４】（光触媒含有層）本発明においては、この
濡れ性可変層が、エネルギーの照射により液体との接触
角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層であ
ることが好ましい。このように、露光（本発明において
は、光が照射されたことのみならず、エネルギーが照射
されたことをも意味するものとする。）により液体との
接触角が低下するように濡れ性が変化する光触媒含有層
を設けることにより、エネルギーのパターン照射等を行
うことにより容易に濡れ性を変化させ、液体との接触角
の小さい親インク性領域とすることができ、例えば画素
部が形成される部分のみ容易に親インク性領域とするこ
とが可能となる。したがって、効率的にカラーフィルタ
が製造でき、コスト的に有利となるからである。なお、
この場合のエネルギーとしては、通常紫外光を含む光が
用いられる。

【００５５】ここで、親インク性領域とは、液体との接
触角が小さい領域であり、吐出法によるインク等に対す
る濡れ性の良好な領域をいうこととする。また、撥イン
ク性領域とは、液体との接触角が大きい領域であり、吐
出法によるインク等に対する濡れ性が悪い領域をいうこ
ととする。

【００５６】上記光触媒含有層は、露光していない部分
においては、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が
１０度以上、好ましくは表面張力３０ｍＮ／ｍの液体と
の接触角が１０度以上、特に表面張力２０ｍＮ／ｍの液
体との接触角が１０度以上であることが好ましい。これ
は、露光していない部分は、本発明においては撥インク
性が要求される部分であることから、液体との接触角が
小さい場合は、撥インク性が十分でなく、インクが残存
する可能性が生じるため好ましくないからである。

【００５７】また、上記光触媒含有層は、露光すると液
体との接触角が低下して、表面張力４０ｍＮ／ｍの液体
との接触角が１０度未満、好ましくは表面張力５０ｍＮ
／ｍの液体との接触角が１０度以下、特に表面張力６０
ｍＮ／ｍの液体との接触角が１０度以下となるような層
であることが好ましい。露光した部分の液体との接触角
が高いと、この部分でのインクの広がりが劣る可能性が
あり、画素部での色抜け等が生じる可能性があるからで
ある。

【００５８】なお、ここでいう液体との接触角は、種々
の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器（協
和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて測定（マイク
ロシリンジから液滴を滴下して３０秒後）し、その結果
から、もしくはその結果をグラフにして得たものであ
る。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する
液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を
用いた。

【００５９】本発明の光触媒含有層は、少なくとも光触
媒とバインダとから構成されていることが好ましい。こ
のような層とすることにより、光照射によって光触媒の
作用で臨界表面張力を高くすることが可能となり、液体
との接触角を低くすることができる。

【００６０】このような光触媒含有層における、後述す
るような酸化チタンに代表される光触媒の作用機構は、
必ずしも明確なものではないが、光の照射によって生成
したキャリアが、近傍の化合物との直接反応、あるい
は、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有
機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。

【００６１】本発明において濡れ性可変層として光触媒
含有層を用いた場合、光触媒により、バインダの一部で
ある有機基や添加剤の酸化、分解等の作用を用いて、露
光部の濡れ性を変化させて親インク性とし、非露光部と
の濡れ性に大きな差を生じさせることができる。よっ
て、吐出法によるインクとの受容性（親インク性）およ
び反撥性（撥インク性）を高めることによって、品質の
良好でかつコスト的にも有利なカラーフィルタを得るこ
とができる。

【００６２】また、本発明においてこのような光触媒含
有層を用いた場合、この光触媒含有層が少なくとも光触
媒とフッ素とを含有し、さらにこの光触媒含有層表面の
フッ素含有量が、光触媒含有層に対しエネルギーを照射
した際に、上記光触媒の作用によりエネルギー照射前に
比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されて
いてもよい。

【００６３】このような特徴を有するカラーフィルタに
おいては、エネルギーをパターン照射することにより、
容易にフッ素の含有量の少ない部分からなるパターンを
形成することができる。ここで、フッ素は極めて低い表
面エネルギーを有するものであり、このためフッ素を多
く含有する物質の表面は、臨界表面張力がより小さくな
る。したがって、フッ素の含有量の多い部分の表面の臨
界表面張力に比較してフッ素の含有量の少ない部分の臨
界表面張力は大きくなる。これはすなわち、フッ素含有
量の少ない部分はフッ素含有量の多い部分に比較して親
インク性領域となっていることを意味する。よって、周
囲の表面に比較してフッ素含有量の少ない部分からなる
パターンを形成することは、撥インク性域内に親インク
性領域のパターンを形成することとなる。

【００６４】したがって、このような光触媒含有層を用
いた場合は、エネルギーをパターン照射することによ
り、撥インク性領域内に親インク性領域のパターンを容
易に形成することができるので、この親インク性領域の
みに画素部等を形成することが容易に可能となり、品質
の良好なカラーフィルタとすることができる。

【００６５】上述したような、フッ素を含む光触媒含有
層中に含まれるフッ素の含有量は、エネルギーが照射さ
れて形成されたフッ素含有量が低い親インク性領域にお
けるフッ素含有量は、エネルギー照射されていない部分
のフッ素含有量を１００とした場合に１０以下、好まし
くは５以下、特に好ましくは１以下であることが好まし
い。

【００６６】このような範囲内とすることにより、エネ
ルギー照射部分と未照射部分との親インク性に大きな違
いを生じさせることができる。したがって、このような
光触媒含有層に画素部等を形成することにより、フッ素
含有量が低下した親インク性領域のみに正確に画素部等
を形成することが可能となり、精度良くカラーフィルタ
を得ることができるからである。なお、この低下率は重
量を基準としたものである。

【００６７】このような光触媒含有層中のフッ素含有量
の測定は、一般的に行われている種々の方法を用いるこ
とが可能であり、例えばＸ線光電子分光法（X-ray Phot
oelectron Spectroscopy, ESCA(Electron Spectroscop
y for Chemical Analysis)とも称される。）、蛍光Ｘ線
分析法、質量分析法等の定量的に表面のフッ素の量を測
定できる方法であれば特に限定されるものではない。

【００６８】本発明で使用する光触媒としては、光半導
体として知られる例えば酸化チタン（ＴｉＯ₂）、酸化
亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、チタン酸スト
ロンチウム（ＳｒＴｉＯ₃）、酸化タングステン（Ｗ
Ｏ₃）、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）、および酸化鉄（Ｆ
ｅ₂Ｏ₃）を挙げることができ、これらから選択して１種
または２種以上を混合して用いることができる。

【００６９】本発明においては、特に酸化チタンが、バ
ンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性も
なく、入手も容易であることから好適に使用される。酸
化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明で
はいずれも使用することができるが、アナターゼ型の酸
化チタンが好ましい。アナターゼ型酸化チタンは励起波
長が３８０ｎｍ以下にある。

【００７０】このようなアナターゼ型酸化チタンとして
は、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル
（石原産業（株）製ＳＴＳ−０２（平均粒径７ｎｍ）、
石原産業（株）製ＳＴ−Ｋ０１）、硝酸解膠型のアナタ
ーゼ型チタニアゾル（日産化学（株）製ＴＡ−１５（平
均粒径１２ｎｍ））等を挙げることができる。

【００７１】光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効
果的に起こるので好ましく、平均粒径か５０ｎｍ以下が
好ましく、２０ｎｍ以下の光触媒を使用するのが特に好
ましい。また、光触媒の粒径が小さいほど、形成された
光触媒含有層の表面粗さが小さくなるので好ましく、光
触媒の粒径が１００ｎｍを越えると光触媒含有層の中心
線平均表面粗さが粗くなり、光触媒含有層の非露光部の
撥インク性が低下し、また露光部の親インク性の発現が
不十分となるため好ましくない。

【００７２】本発明のカラーフィルタは、上述したよう
に光触媒含有層表面にフッ素を含有させ、この光触媒含
有層表面にエネルギーをパターン照射することにより光
触媒含有層表面のフッ素含有量を低下させ、これにより
撥インク性領域中に親インク性領域のパターンを形成
し、ここに画素部等を形成して得られるカラーフィルタ
であってもよい。この場合であっても、光触媒として上
述したような二酸化チタンを用いることが好ましいが、
このように二酸化チタンを用いた場合の、光触媒含有層
中に含まれるフッ素の含有量としては、Ｘ線光電子分光
法で分析して定量化すると、チタン（Ｔｉ）元素を１０
０とした場合に、フッ素（Ｆ）元素が５００以上、この
ましくは８００以上、特に好ましくは１２００以上とな
る比率でフッ素（Ｆ）元素が光触媒含有層表面に含まれ
ていることが好ましい。

【００７３】フッ素（Ｆ）が光触媒含有層にこの程度含
まれることにより、光触媒含有層上における臨界表面張
力を十分低くすることが可能となることから表面におけ
る撥インク性を確保でき、これによりエネルギーをパタ
ーン照射してフッ素含有量を減少させたパターン部分に
おける表面の親インク性領域との濡れ性の差異を大きく
することができ、最終的に得られるカラーフィルタの品
質を向上させることができるからである。

【００７４】さらに、このようなカラーフィルタにおい
ては、エネルギーをパターン照射して形成される親イン
ク領域におけるフッ素含有量が、チタン（Ｔｉ）元素を
１００とした場合にフッ素（Ｆ）元素が５０以下、好ま
しくは２０以下、特に好ましくは１０以下となる比率で
含まれていることが好ましい。

【００７５】光触媒含有層中のフッ素の含有率をこの程
度低減することができれば、画素部等を形成するために
は十分な親インク性を得ることができ、上記エネルギー
が未照射である部分の撥インク性との濡れ性の差異によ
り、画素部等を精度良く形成することが可能となり、品
質の良好なカラーフィルタを得ることができる。

【００７６】本発明において、光触媒含有層に使用する
バインダは、主骨格が上記の光触媒の光励起により分解
されないような高い結合エネルギーを有するものが好ま
しく、例えば、（１）ゾルゲル反応等によりクロロまた
はアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強
度を発揮するオルガノポリシロキサン、（２）撥水牲や
撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポ
リシロキサン等を挙げることができる。

【００７７】上記の（１）の場合、一般式： Ｙ_nＳｉＸ_(4-n) （ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化
合物の１種または２種以上の加水分解縮合物もしくは共
加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであるこ
とが好ましい。なお、ここでＹで示される基の炭素数は
１〜２０の範囲内であることが好ましく、また、Ｘで示
されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロ
ポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。

【００７８】具体的には、メチルトリクロルシラン、メ
チルトリブロムシラン、メチルトリメトキシシラン、メ
チルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシ
ラン、メチルトリｔ−ブトキシシラン；エチルトリクロ
ルシラン、エチルトリブロムシラン、エチルトリメトキ
シシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソ
プロポキシシラン、エチルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ
−プロピルトリクロルシラン、ｎ−プロピルトリブロム
シラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｎ−プロピ
ルトリエトキシシラン、ｎ−プロピルトリイソプロポキ
シシラン、ｎ−プロピルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−
ヘキシルトリクロルシラン、ｎ−へキシルトリブロムシ
ラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシル
トリエトキシシラン、ｎ−へキシルトリイソプロポキシ
シラン、ｎ−へキシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−デ
シルトリクロルシラン、ｎ−デシルトリブロムシラン、
ｎ−デシルトリメトキシシラン、ｎ−デシルトリエトキ
シシラン、ｎ−デシルトリイソプロポキシシラン、ｎ−
デシルトリｔ−ブトキシシラン；ｎ−オクタデシルトリ
クロルシラン、ｎ−オクタデシルトリブロムシラン、ｎ
−オクタデシルトリメトキシシラン、ｎ−オクタデシル
トリエトキシシラン、ｎ−オクタデシルトリイソプロポ
キシシラン、ｎ−オクタデシルトリｔ−ブトキシシラ
ン；フェニルトリクロルシラン、フェニルトリブロムシ
ラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエト
キシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェ
ニルトリｔ−ブトキシシラン；テトラクロルシラン、テ
トラブロムシラン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシラン、テトラブトキシシラン、ジメトキシジエト
キシシラン；ジメチルジクロルシラン、ジメチルジブロ
ムシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエト
キシシラン；ジフェニルジクロルシラン、ジフェニルジ
ブロムシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニ
ルジエトキシシラン；フェニルメチルジクロルシラン、
フェニルメチルジブロムシラン、フェニルメチルジメト
キシシラン、フェニルメチルジエトキシシラン；トリク
ロルヒドロシラン、トリブロムヒドロシラン、トリメト
キシヒドロシラン、トリエトキシヒドロシラン、トリイ
ソプロポキシヒドロシラン、トリｔ−ブトキシヒドロシ
ラン；ビニルトリクロルシラン、ビニルトリブロムシラ
ン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシ
ラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリｔ
−ブトキシシラン；トリフルオロプロピルトリクロルシ
ラン、トリフルオロプロピルトリブロムシラン、トリフ
ルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロ
ピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリイ
ソプロポキシシラン、トリフルオロプロピルトリｔ−ブ
トキシシラン；γ−グリシドキシプロピルメチルジメト
キシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキ
シシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリイソプロポキシシラン、γ
−グリシドキシプロピルトリｔ−ブトキシシラン；γ−
メタアクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ
−メタアクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−
メタアクリロキシプロピルトリイソプロポキシシラン、
γ−メタアクリロキシプロピルトリｔ−ブトキシシラ
ン；γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
アミノプロピルメチルジエトキシシラン、γ−アミノプ
ロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエ
トキシシラン、γ−アミノプロピルトリイソプロポキシ
シラン、γ−アミノプロピルトリｔ−ブトキシシラン；
γ−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、γ−
メルカプトプロピルメチルジエトキシシラン、γ−メル
カプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルト
リイソプロポキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリ
ｔ−ブトキシシラン；β−（３，４−エポキシシクロヘ
キシル）エチルトリメトキシシラン、β−（３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン；お
よび、それらの部分加水分解物；および、それらの混合
物を使用することができる。

【００７９】また、バインダとして、特にフルオロアル
キル基を含有するポリシロキサンが好ましく用いること
ができ、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの
１種または２種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合
物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤と
して知られたものを使用することができる。

【００８０】ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（Ｏ
ＣＨ₃）₃；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₆ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ
（ＯＣＨ₃）₃；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₈ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓ
ｉ（ＯＣＨ₃）₃；ＣＦ₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ
₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ
₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ₃（ＯＣ
Ｈ₃）₂；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₄ＣＨ₂ＣＨ₂ＳｉＣＨ
₃（ＯＣＨ₃）₂；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₆ＣＨ₂ＣＨ₂
Ｓｉ ＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；（ＣＦ₃）₂ＣＦ（ＣＦ₂）₈
ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ ＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（Ｃ₆Ｈ₄）
Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₃（Ｃ₆
Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ₂）₅
（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ₃（ＣＦ
₂）₇（Ｃ₆Ｈ₄）Ｃ₂Ｈ₄ＳｉＣＨ₃（ＯＣＨ₃）₂；ＣＦ
₃（ＣＦ₂）₃ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；ＣＦ₃
（ＣＦ₂）₅ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；ＣＦ
₃（ＣＦ₂）₇ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；ＣＦ₃
（ＣＦ₂）₉ＣＨ₂ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣＨ₂ＣＨ₃）₃；ＣＦ
₃（ＣＦ₂）₇ＳＯ₂Ｎ（Ｃ₂Ｈ₅）Ｃ₂Ｈ₄ＣＨ₂Ｓｉ（ＯＣ
Ｈ₃）₃

【００８１】上記のようなフルオロアルキル基を含有す
るポリシロキサンをバインダとして用いることにより、
光触媒含有層の非露光部の撥インク性が大きく向上し、
遮光部用塗料やインクジェット方式用インクの付着を妨
げる機能を発現する。

【００８２】また、上記の（２）の反応性シリコーンと
しては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げ
ることができる。

【００８３】

【化１】

【００８４】ただし、ｎは２以上の整数であり、Ｒ¹，
Ｒ²はそれぞれ炭素数１〜１０の置換もしくは非置換の
アルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキ
ル基であり、モル比で全体の４０％以下がビニル、フェ
ニル、ハロゲン化フェニルである。また、Ｒ¹、Ｒ²がメ
チル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好
ましく、モル比でメチル基が６０％以上であることが好
ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少
なくとも１個以上の水酸基等の反応性基を有する。

【００８５】また、上記のオルガノポリシロキサンとと
もに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしな
い安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合して
もよい。

【００８６】本発明のカラーフィルタにおいては、この
ようにオルガノポリシロキサン等の種々のバインダを光
触媒含有層に用いることができる。本発明においては、
上述したように、このようなバインダおよび光触媒を含
む光触媒含有層にフッ素を含有させ、エネルギーをパタ
ーン照射することにより光触媒含有層表面のフッ素を低
減させ、これにより撥インク性領域内に親インク性領域
を形成するようにしてもよい。この際、光触媒含有層中
にフッ素を含有させる必要があるが、このようなバイン
ダを含む光触媒含有層にフッ素を含有させる方法として
は、通常高い結合エネルギーを有するバインダに対し、
フッ素化合物を比較的弱い結合エネルギーで結合させる
方法、比較的弱い結合エネルギーで結合されたフッ素化
合物を光触媒含有層に混入させる方法等を挙げることが
できる。このような方法でフッ素を導入することによ
り、エネルギーが照射された場合に、まず結合エネルギ
ーが比較的小さいフッ素結合部位が分解され、これによ
りフッ素を光触媒含有層中から除去することができるか
らである。

【００８７】上記第１の方法、すなわち、高い結合エネ
ルギーを有するバインダに対し、フッ素化合物を比較的
弱い結合エネルギーで結合させる方法としては、上記オ
ルガノポリシロキサンにフルオロアルキル基を置換基と
して導入する方法等を挙げることができる。

【００８８】例えば、オルガノポリシロキサンを得る方
法として、上記（１）として記載したように、ゾルゲル
反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分
解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロ
キサンを得ることができる。ここで、この方法において
は、上述したように上記一般式： Ｙ_nＳｉＸ_(4-n) （ここで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニ
ル基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、
Ｘはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示
す。ｎは０〜３までの整数である。）で示される珪素化
合物の１種または２種以上を、加水分解縮合物もしくは
共加水分解縮合することによりオルガノポリシロキサン
を得るのであるが、この一般式において、置換基Ｙとし
てフルオロアルキル基を有する珪素化合物を用いて合成
することにより、フルオロアルキル基を置換基として有
するオルガノポリシロキサンを得ることができる。この
ようなフルオロアルキル基を置換基として有するオルガ
ノポリシロキサンをバインダとして用いた場合は、エネ
ルギーが照射された際、光触媒含有層中の光触媒の作用
により、フルオロアルキル基の炭素結合の部分が分解さ
れることから、光触媒含有層表面にエネルギーを照射し
た部分のフッ素含有量を低減させることができる。

【００８９】この際用いられるフルオロアルキル基を有
する珪素化合物としては、フルオロアルキル基を有する
ものであれば特に限定されるものではないが、少なくと
も１個のフルオロアルキル基を有し、このフルオロアル
キル基の炭素数が４から３０、好ましくは６から２０、
特に好ましくは６から１６である珪素化合物が好適に用
いられる。このような珪素化合物の具体例は上述した通
りであるが、中でも炭素数が６から８であるフルオロア
ルキル基を有する上記珪素化合物、すなわちフルオロア
ルキルシランが好ましい。

【００９０】本発明においては、このようなフルオロア
ルキル基を有する珪素化合物を上述したフルオロアルキ
ル基を有さない珪素化合物と混合して用い、これらの共
加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキサンとして用
いてもよいし、このようなフルオロアルキル基を有する
珪素化合物を１種または２種以上用い、これらの加水分
解縮合物、共加水分解縮合物を上記オルガノポリシロキ
サンとして用いてもよい。

【００９１】このようにして得られるフルオロアルキル
基を有するオルガノポリシロキサンにおいては、このオ
ルガノポリシロキサンを構成する珪素化合物の内、上記
フルオロアルキル基を有する珪素化合物が０．０１モル
％以上、好ましくは０．１モル％以上含まれていること
が好ましい。

【００９２】フルオロアルキル基がこの程度含まれるこ
とにより、光触媒含有層上の撥インク性を高くすること
ができ、エネルギーを照射して親インク性領域とした部
分との濡れ性の差異を大きくすることができるからであ
る。

【００９３】また、上記（２）に示す方法では、撥水牲
や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋することによ
りオルガノポリシロキサンを得るのであるが、この場合
も同様に、上述した一般式中のＲ¹，Ｒ²のいずれかもし
くは両方をフルオロアルキル基等のフッ素を含有する置
換基とすることにより、光触媒含有層中にフッ素を含ま
せることが可能であり、またエネルギーが照射された場
合に、シロキサン結合より結合エネルギーの小さいフル
オロアルキル基の部分が分解されるため、エネルギー照
射により光触媒含有層表面におけるフッ素の含有量を低
下させることができる。

【００９４】一方、後者の例、すなわち、バインダの結
合エネルギーより弱いエネルギーで結合したフッ素化合
物を導入させる方法としては、例えば、低分子量のフッ
素化合物を導入させる場合は、例えばフッ素系の界面活
性剤を混入する方法等を挙げることができ、また高分子
量のフッ素化合物を導入させる方法としては、バインダ
樹脂との相溶性の高いフッ素樹脂を混合する等の方法を
挙げることができる。

【００９５】本発明において光触媒含有層には上記の光
触媒、バインダの他に、界面活性剤を含有させることが
できる。具体的には、日光ケミカルズ（株）製ＮＩＫＫ
ＯＬＢＬ、ＢＣ、ＢＯ、ＢＢの各シリーズ等の炭化水素
系、デュポン社製ＺＯＮＹＬ ＦＳＮ、ＦＳＯ、旭硝子
（株）製サーフロンＳ−１４１、１４５、大日本インキ
化学工業（株）製メガファックＦ−１４１、１４４、ネ
オス（株）製フタージェントＦ−２００、Ｆ２５１、ダ
イキン工業（株）製ユニダインＤＳ−４０１、４０２、
スリーエム（株）製フロラードＦＣ−１７０、１７６等
のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤
を挙げることかでき、また、カチオン系界面活性剤、ア
ニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもで
きる。

【００９６】また、光触媒含有層には上記の界面活性剤
の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステ
ル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレー
ト、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹
脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポ
リカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイ
ミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポ
リプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸
ビニル、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイ
ミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリ
ン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマ
ー、ポリマー等を含有させることができる。

【００９７】光触媒含有層中の光触媒の含有量は、５〜
６０重量％、好ましくは２０〜４０重量％の範囲で設定
することができる。また、光触媒含有層の厚みは、０．
０５〜１０μｍの範囲内が好ましい。

【００９８】上記光触媒含有層は、光触媒とバインダを
必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布
液を調製し、この塗布液を塗布することにより形成する
ことができる。使用する溶剤としては、エタノール、イ
ソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好まし
い。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディッブコ
ート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法
により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型
の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理
を行うことにより光触媒含有層を形成することかでき
る。

【００９９】（透明基板）本発明のカラーフィルタの製
造方法に用いられる透明基板としては、従来よりカラー
フィルタに用いられているものであれば特に限定される
ものではないが、例えば石英ガラス、パイレックス（登
録商標）ガラス、合成石英板等の可とう性のない透明な
リジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板
等の可とう性を有する透明なフレキシブル材を用いるこ
とができる。この中で特にコーニング社製７０５９ガラ
スは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高
温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にア
ルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、ア
クティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用
のカラーフィルタに適している。本発明において、透明
基板は通常透明なものを用いるが、反射性の基板や白色
に着色した基板でも用いることは可能である。また、透
明基板は、必要に応じてアルカリ溶出防止用やガスバリ
ア性付与その他の目的の表面処理を施したものを用いて
もよい。

【０１００】３．その他 本発明のカラーフィルタの製造方法においては、その他
必要に応じて種々のカラーフィルタを構成する部材を製
造する工程を有するものであってもよい。

【０１０１】（遮光部形成工程）本発明のカラーフィル
タの製造方法においては、遮光部（ブラックマトリック
ス）を形成する遮光部形成工程を有するものであっても
よい。この遮光部形成工程は、上述した画素部形成工程
より前に行われてもよいし、画素部形成工程が行われた
後に行われてもよい。

【０１０２】このような遮光部形成工程としては、例え
ばスパッタリング法、真空蒸着法等により厚み１０００
〜２０００Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この
薄膜をパターニングすることにより形成される方法であ
ってもよく、このパターニングの方法としては、スパッ
タ等の通常のパターニング方法を用いることができる。

【０１０３】また、樹脂バインダ中にカーボン微粒子、
金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有
させた遮光部を形成する方法であってもよい。用いられ
る樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルア
ルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を
１種または２種以上混合したものや、感光性樹脂、さら
にはＯ／Ｗエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応
性シリコーンをエマルジョン化したもの等を用いること
ができる。このような樹脂製遮光部の厚みとしては、
０．５〜１０μｍの範囲内で設定することができる。こ
のよう樹脂製遮光部のパターニングの方法は、フォトリ
ソ法、印刷法等一般的に用いられている方法を用いるこ
とができる。

【０１０４】（保護層形成工程）本発明のカラーフィル
タの製造方法においては、さらに画素部上に保護層を形
成する保護層形成工程を行ってもよい。この保護層は、
カラーフィルタを平坦化するとともに、画素部、あるい
は、画素部と光触媒含有層に含有される成分の液晶層へ
の溶出を防止するために設けられるものである。

【０１０５】保護層の厚みは、使用される材料の光透過
率、カラーフィルタの表面状態等を考慮して設定するこ
とができ、例えば、０．１〜２．０μｍの範囲で設定す
ることができる。保護層は、例えば、公知の透明感光性
樹脂、二液硬化型透明樹脂等の中から、透明保護層とし
て要求される光透過率等を有するものを用いて形成する
ことができる。

【０１０６】４．製造方法の一例 以下、図１を用いて、本発明のカラーフィルタの製造方
法の一例について説明する。

【０１０７】この例においては、まず遮光部１が形成さ
れた透明基板２が準備される（図１Ａ）。次いで、この
透明基板２の遮光部１が形成された側の表面に光触媒含
有層３が形成される。次いで、上記光触媒含有層３上の
画素部が形成される位置である画素部形成部のみに露光
されるように、マスク４を用いて露光を行う（図１
Ｂ）。光触媒含有層３上の画素部形成部は、露光されて
親インク性の画素部用露光部５とされる（図１Ｃ）。こ
の画素部用露光部５上に吐出法によりインク６を付着さ
せる（図１Ｄ）。ここで、インク６は必要に応じて半硬
化状態とされる。そして、インク６は、この例では平面
状のプレス７により押圧される（図１Ｅ）。最後にイン
ク６の硬化処理を施すことにより、平坦な画素部８が形
成される（図１Ｆ）。その後、必要に応じて透明電極
層、保護層等が形成されてカラーフィルタとされる。

【０１０８】Ｂ．カラーフィルタ 次に、本発明のカラーフィルタについて説明する。本発
明のカラーフィルタは、透明基板と、この透明基板上に
吐出法によりインクを付着させて、複数色が所定のパタ
ーンで形成されてなる画素部とを少なくとも有し、上記
各画素部の厚みの差が±０．５μｍの範囲内、好ましく
は±０．３μｍの範囲内、特に好ましくは±０．１μｍ
の範囲内であることを特徴とする。

【０１０９】本発明のカラーフィルタは、特に各画素部
の厚みの差が上述した範囲内であるので、カラー液晶表
示装置とした場合にセルギャップを均一とすることが可
能となり、また色むら等のない高品質なカラーフィルタ
とすることができる。

【０１１０】このような各画素部の厚みの差が少ないカ
ラーフィルタは、例えば上述したカラーフィルタの製造
方法により製造することができる。

【０１１１】なお、本発明のカラーフィルタの透明基
板、吐出法、および画素部等に関しては、上記カラーフ
ィルタの製造方法で説明したものと同様であるので、こ
こでの説明は省略する。また、カラーフィルタの製造方
法において説明したものと同様に、本発明のカラーフィ
ルタにおいても遮光部（ブラックマトリックス）が形成
されたものであってもよい。さらに、画素部が、インク
ジェット法により形成されていることが好ましい点、画
素部がＵＶ硬化性インクにより形成されていることが好
ましい点等に関しても、上記カラーフィルタの製造方法
で説明した通りである。

【０１１２】Ｃ．カラー液晶表示装置について 上述したカラーフィルタと、このカラーフィルタに対向
する対向基板とを組み合わせ、この間に液晶化合物を封
入することによりカラー液晶表示装置が形成される。こ
のようにして得られるカラー液晶表示装置は、本発明の
カラーフィルタが有する利点、すなわち、セルギャップ
を均一化することが可能であり、かつ色むら等の不具合
を低減することができるという利点を有するものであ
る。

【０１１３】なお、本発明は、上記実施形態に限定され
るものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明
の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同
一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いか
なるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。

【０１１４】

【実施例】以下、本発明について、実施例を通じてさら
に詳述する。

【０１１５】１．光触媒含有層の形成 イソプロピルアルコール３ｇとフルオロアルキルシラン
（トーケムプロダクツ（株）製、商品名：ＭＦ−１６０
Ｅ、Ｎ−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］−Ｎ
−エチルパーフルオロオクタンスルホンアミドのイソプ
ロピルエーテル５０重量％溶液）０．００１ｇ、酸化チ
タンゾル（石原産業（株）製、商品名：ＳＴ−Ｋ０１）
２ｇを混合し、１００℃で２０分間撹拌した。

【０１１６】この溶液を厚さ０．７ｍｍ、開口部が９０
μｍ×３００μｍで線幅３０μｍのクロム薄膜パターン
からなるブラックマトリックス（遮光部）を有するソー
ダガラス製の透明基板上にスピンコーティングによりコ
ートし、２０分間１５０℃で加熱後、厚さ０．１５μｍ
の光触媒含有層を得た。

【０１１７】この光触媒含有層の４０ｍＮ／ｍの濡れ指
数標準液（純正化学株式会社製）に対する接触角を接触
角測定器（協和界面科学（株）製ＣＡ−Ｚ型）を用いて
測定した結果、７０°であった。

【０１１８】次いで、この光触媒含有層表面に超高圧水
銀ランプにより２０ｍＷ／ｃｍ²（３６５ｎｍ）の照度
で紫外線照射を行った結果、４０ｍＮ／ｍの濡れ指数標
準液に対する接触角を０°になるまでに１２０秒要し
た。

【０１１９】２．画素部の形成 上記光触媒含有層が形成された透明基板を、赤色パター
ン、緑色パターン、および青色パターン用のマスクを介
して水銀灯（波長３６５ｎｍ）により照射（７０ｍＷ／
ｃｍ²で５０秒間）して、赤色パターン、緑色パター
ン、および青色パターンの照射部位を一括で親インク性
領域（水の接触角に換算して１０°以下）とした。

【０１２０】このマスク上の赤色パターン、緑色パター
ン、および青色パターンは隣接して形成されており、各
色のパターン間隔はブラックマトリックス線幅以下で形
成されている。

【０１２１】一方、１ｇのC.I.ピグメントレッド１６８
を、水系エマルジョンシリコーン（信越化学工業（株）
製、商品名：Ｋ−７６８）を水で３倍に希釈した水溶液
１０ｇに混合し、得られた混合物を３本ロールで練肉分
散した後、12000 r.p.m.で遠心分離を行い、その後、１
μｍのグラスフィルターで濾過した。得られた水性着色
樹脂溶液に、硬化触媒としてCatalyst PM-6A : Catalys
t PM-6B ＝４：６（信越化学工業（株）製）を０．１ｇ
添加して、赤色パターン用の塗布液（熱硬化性樹脂組成
物）を調製した。

【０１２２】次に、上記赤色パターン用塗布液を吐出ノ
ズルにより、光触媒含有層上の赤色パターンの親インク
性領域に選択的に滴下した。その後、１００℃、３０秒
間の加熱処理を施して赤色パターンを半硬化状態にし
た。

【０１２３】次に、１ｇのC.I.ピグメントブルー６０
を、水系エマルジョンシリコーン（信越化学工業（株）
製、商品名：Ｋ−７６８）を水で３倍に希釈した水溶液
１０ｇに混合し、上記赤色パターン用の塗布液と同様に
して、青色パターン用の塗布液（熱硬化性樹脂組成物）
を調製した。そして、上記青色パターン用塗布液を吐出
ノズルにより、光触媒含有層上の青色パターンの親イン
ク性領域に選択的に滴下した。その後、１００℃、３０
秒間の加熱処理を施して青色パターンを半硬化状態にし
た。

【０１２４】次に、１ｇのリオノールグリーン２Ｙ−３
０１（東洋インク製造（株）製）をポリビニルアルコー
ル（平均重合度１７５０、ケン化度８８モル％）の１０
重量％水溶液１０ｇに混合し、得られた混合物を３本ロ
ールで練肉分散した後、12000r.p.m.で遠心分離を行
い、その後、１μｍのグラスフィルターで濾過した。得
られた水性着色樹脂溶液に、架橋剤として重クロム酸ア
ンモニウムを１重量％添加して、緑色パターン用の塗布
液（感光性樹脂組成物）を調製した。

【０１２５】次に、上記緑色パターン用塗布液を吐出ノ
ズルにより、光触媒含有層上の緑色パターンの親インク
性領域に選択的に滴下した。その後、１００℃、３０秒
間の加熱処理を行い、緑色パターンを半硬化状態にし
た。

【０１２６】３．画素部平坦化工程 次いで、ガラス基板上における上記半硬化状態の３色パ
ターンをロール圧：１ｋｇ／ｃｍ²、搬送速度：５ｍ／
ｍｉｎ、ロール表面温度：２３℃、の条件下のブランケ
ットロール中を通過させ、均一な線圧をガラス基板全面
に行き渡るように一定速度、一定圧力を加えて押し潰し
た。このブランケットロール表面の材質は、１ｍｍ厚の
フェニル−メチルシリコーンゴムであり、ゴム表面粗度
Ｒａ １μｍ以下、硬度５０〜８０°であった。上記着
色パターンの押し潰し後に、１８０℃、２０分間の硬化
処理を行い、ガラス基板上に画素部を形成した。

【０１２７】４．カラーフィルタの形成およびその評価 次に、保護層として二液混合型熱硬化剤（日本合成ゴム
（株）製、商品名：ＳＳ７２６５）をスピンコーターに
て着色層上に塗布し、２００℃、３０分間の硬化処理を
施して保護層を形成し、本発明のカラーフィルタを得
た。

【０１２８】得られたカラーフィルタは、画素部の色む
らのない高品質のものであった。また、各画素部間の厚
みの差を測定したところ、０．２μｍ以内であり、平坦
な表面を有するカラーフィルタであることが明らかとな
った。

【０１２９】

【発明の効果】本発明は、画素部形成工程の後に画素部
平坦化工程を有するものであるので、吐出法により画素
部を形成したカラーフィルタであっても、画素部表面が
平坦であり、画素部内で色むらが生じることがない。ま
た、画素部平坦化工程により各画素部の厚みを一定とす
ることが可能であるので、画素部による着色むらがな
く、かつセルギャップを均一とすることが可能となると
いう効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のカラーフィルタの製造方法の一例を説
明するための工程図である。

【符号の説明】

１…遮光部 ２…透明基板 ３…光触媒含有層 ６…インク ７…プレス ８…画素部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 全克 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 2C056 FB01 FB08 FD20 2H048 BA11 BA57 BA60 BA64 BB02 BB24 BB28 BB42 2H091 FA02Y FA34Y FB04 FC02 GA01 LA15 LA30

Claims (21)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 吐出法によりインクを透明基板上に付着
   させて、複数色の画素部を所定のパターンで形成する画
   素部形成工程を少なくとも有し、かつ前記画素部形成工
   程で形成された画素部が凸状となるカラーフィルタの製
   造方法において、前記画素部形成工程の後に凸状である
   画素部を平坦化する画素部平坦化工程を行うことを特徴
   とするカラーフィルタの製造方法。
2. 【請求項２】 さらに、遮光部を形成する工程を有する
   ことを特徴とする請求項１記載のカラーフィルタの製造
   方法。
3. 【請求項３】 前記凸状の画素部を半硬化状態とした
   後、前記画素部平坦化工程を行うことを特徴とする請求
   項１または請求項２に記載のカラーフィルタの製造方
   法。
4. 【請求項４】 前記画素部平坦化工程が、凸状の画素部
   を上方から圧力を加えて平坦化する工程であることを特
   徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの請求項
   に記載のカラーフィルタの製造方法。
5. 【請求項５】 前記凸状の画素部を上方から圧力を加え
   て平坦化する工程が、円筒形状圧力ロールを用いた工程
   もしくは平面状プレスを用いた工程であることを特徴と
   する請求項４に記載のカラーフィルタの製造方法。
6. 【請求項６】 前記画素部の平坦化工程が、凸状の画素
   部の上方を除去することにより平坦化する工程であるこ
   とを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれかの
   請求項に記載のカラーフィルタの製造方法。
7. 【請求項７】 前記凸状の画素部の上方を除去すること
   により平坦化する工程が、ドクターブレードを用いて画
   素部上方を掻き取る工程であることを特徴とする請求項
   ６記載のカラーフィルタの製造方法。
8. 【請求項８】 前記凸状の画素部の上方を除去すること
   により平坦化する工程が、カッターを用いて画素部上方
   を切り取る工程であることを特徴とする請求項６記載の
   カラーフィルタの製造方法。
9. 【請求項９】 前記吐出法が、インクジェット方式によ
   るものであることを特徴とする請求項１から請求項８ま
   でのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタの製造方
   法。
10. 【請求項１０】 前記画素部形成工程が、透明基板上に
    表面の濡れ性を変化させることができる濡れ性可変層を
    形成し、この濡れ性可変層上の親インク性領域にインク
    を付着して形成する工程であることを特徴とする請求項
    １から請求項９までのいずれかの請求項に記載のカラー
    フィルタの製造方法。
11. 【請求項１１】 前記濡れ性可変層が、少なくとも光触
    媒とバインダとからなる光触媒含有層であり、かつエネ
    ルギーの照射により液体との接触角が低下するように濡
    れ性が変化する層であることを特徴とする請求項１０記
    載のカラーフィルタの製造方法。
12. 【請求項１２】 前記光触媒が、酸化チタン（Ｔｉ
    Ｏ₂）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ₂）、チ
    タン酸ストロンチウム（ＳｒＴｉＯ₃）、酸化タングス
    テン（ＷＯ₃）、酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）、および酸
    化鉄（Ｆｅ₂Ｏ₃）から選択される１種または２種以上の
    物質であることを特徴とする請求項１１記載のカラーフ
    ィルタの製造方法。
13. 【請求項１３】 前記光触媒が酸化チタン（ＴｉＯ₂）
    であることを特徴とする請求項１２記載のカラーフィル
    タの製造方法。
14. 【請求項１４】 前記バインダが、Ｙ_nＳｉＸ_(4-n)（こ
    こで、Ｙはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル
    基、アミノ基、フェニル基またはエポキシ基を示し、Ｘ
    はアルコキシル基またはハロゲンを示す。ｎは０〜３ま
    での整数である。）で示される珪素化合物の１種または
    ２種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物で
    あるオルガノポリシロキサンであることを特徴とする請
    求項１１から請求項１３までのいずれかの請求項に記載
    のカラーフィルタの製造方法。
15. 【請求項１５】 前記光触媒含有層上における表面張力
    ４０ｍＮ／ｍの液体との接触角が、エネルギーが照射さ
    れていない部分において１０度以上であり、エネルギー
    が照射された部分において１０度未満であることを特徴
    とする請求項１１から請求項１４までのいずれかの請求
    項に記載のカラーフィルタの製造方法。
16. 【請求項１６】 前記請求項１から請求項１５までのい
    ずれかの請求項に記載の製造方法により製造されたこと
    を特徴とするカラーフィルタ。
17. 【請求項１７】 透明基板と、この透明基板上に吐出法
    によりインクを付着させて、複数色が所定のパターンで
    形成されてなる画素部とを少なくとも有し、前記各画素
    部の厚みの差が、±０．５μｍの範囲内であることを特
    徴とするカラーフィルタ。
18. 【請求項１８】 さらに遮光部を有することを特徴とす
    る請求項１７記載のカラーフィルタ。
19. 【請求項１９】 前記画素部が、インクジェット方式に
    より形成されたものであることを特徴とする請求項１７
    または請求項１８に記載のカラーフィルタ。
20. 【請求項２０】 前記画素部が、ＵＶ硬化性インクによ
    り形成されたことを特徴とする請求項１６から請求項１
    ９までのいずれかの請求項に記載のカラーフィルタ。
21. 【請求項２１】 請求項１６から請求項２０までのいず
    れかの請求項に記載のカラーフィルタと、これに対向す
    る基板とを有し、両基板間に液晶化合物を封入してなる
    ことを特徴とするカラー液晶表示装置。