JPH08211577A - ハロゲン化銀カラー写真感光材料及びその処理方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】色再現性、鮮鋭度、保存性に優れたハロゲン化
銀写真感光材料およびその処理方法を提供する。 【構成】支持体上にそれぞれ少なくとも一層以上の青感
性層、緑感性層及び赤感性層を有するハロゲン化銀カラ
ー写真感光材料において、該感光材料を構成する少なく
とも一層に下記一般式（Ｉ）で表される化合物の少なく
とも一種と一般式（II）で表される化合物の少なくとも
一種を含有することを特徴とする。 一般式（Ｉ） Ｒｅｄ−（Ｌ）ｎ−（Ｇ）ｍ−（Ｔｉｍｅ）ｔ−Ｘ 【化１】

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はハロゲン化銀カラー写真
感光材料に関し更に詳しくは色再現性及び鮮鋭度に優
れ、かつ保存性に優れる感光材料に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ハロゲン化銀写真感光材料におけ
る色再現性や鮮鋭度等高画質に対する要求は従来にも増
して高まっており、さらに感光材料の保存性においても
改良が求められている。色再現性や鮮鋭度を改善する目
的でＤＩＲ化合物を用いることは現在一般に用いられて
いる。カラー現像主薬酸化体とのカップリング反応によ
ってイメージワイズに現像抑制剤を放出し発色色素を形
成するＤＩＲカプラーはその発色色素が主カプラーから
得られた色素と異なる場合色濁りとなり、色再現上好ま
しくない。一方無呈色のＤＩＲ化合物としては現像主薬
酸化体と反応により現像抑制剤を放出する化合物として
は例えば特開平６−１９０７８号に記載のＤＩＲハイド
ロキノン化合物、もしくは特開昭６４−８８４５１号に
記載のＤＩＲヒドラジド化合物がある。

【０００３】またハロゲン化銀カラー写真感光材料では
異なる感色性層間の好ましくない色汚染による色再現の
悪化を防止する方法として例えば特開平３−１６４７３
５号に記載のヒドラジン系化合物を用いる方法が提案さ
れている。ところがこれらの化合物は色汚染防止の効果
はあるものの高温高湿条件化での空気酸化による劣化で
の効果半減、非感色性層に隣接するハロゲン化銀乳剤層
の高温高湿条件化での写真性の変動を大きくする等の問
題があった。

【０００４】ＤＩＲハイドロキノン化合物と色汚染防止
のヒドラジン系化合物を併用する方法は特開平５−２２
４３６７号に記載されており、この方法により高温高湿
条件化での感度の変動を小さく出来ることが記載されて
いる。この方法で感度の変動はある程度改善するが不十
分であり、さらに高温高湿下の保存で発色濃度が低下す
るという問題があることがわかった。この問題は高ｐＨ
の処理液を用いる場合特に顕著であり改善が望まれてい
た。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的は
色再現性、鮮鋭度に優れたハロゲン化銀カラー写真感光
材料を提供することである。

【０００６】本発明の第二の目的は保存性の優れたハロ
ゲン化銀写真感光材料を提供することである。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は以下の手
段により解決された。支持体上にそれぞれ少なくとも一
層以上の青感性層、緑感性層及び赤感性層を有するハロ
ゲン化銀カラー写真感光材料において、該感光材料を構
成する少なくとも一層に下記一般式（Ｉ）で表される化
合物の少なくとも一種と一般式（II）で表される化合物
の少なくとも一種を含有することを特徴とするハロゲン
化銀カラー写真感光材料。 一般式（Ｉ） Ｒｅｄ−（Ｌ）ｎ−（Ｇ）ｍ−（Ｔｉｍｅ）ｔ−Ｘ 式中、Ｒｅｄは酸化還元母核またはその前駆体を表し、
写真現像処理中に酸化されることによってはじめて−
（Ｔｉｍｅ）ｔ−Ｘが離脱することを可能ならしめる原
子団を表す。ＴｉｍｅはＲｅｄの酸化体より離脱した後
Ｘを放出する基を表し、Ｘは現像抑制剤を表す。Ｌは二
価の連結基を表し、Ｇは酸性基を表す。ｎｍ、ｔはそれ
ぞれ０または１を表す。ただし、ｎ＝１のとき、ｍ＝０
であることはない。 一般式（II）

【０００８】

【化２】

【０００９】式（II）において、Ｒ²¹はアリール基又は
ヘテロ環基を表し、Ｒ²²はアルキル基、シクロアルキル
基、アリール基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を
表しＡ²¹およびＡ²²は、水素原子またはアルカリにより
離脱しうる基を表し、ｍは１、２あるいは３を表し、ｎ
は０、１あるいは２を表し、ｍとｎの合計は３であり、
ｎが２のとき２つのＲ²²は同じであっても異なっていて
もよく、互いに連結してＰ原子を含む環状構造を形成し
てもよく、Ｘはイオウ原子又は酸素原子を表し、Ｒ²¹ま
たはＲ²²で結合して、２量体以上の多量体を形成しても
よい。ただしＲ²¹、はｐ位にアシルアミノ基が置換した
フェニル基であることはない。

【００１０】次に一般式（Ｉ）について詳細に説明す
る。

【００１１】Ｒｅｄで示される酸化還元母核としては、
Ｋｅｎｄａｌｌ−Ｐｅｌｚ則に従うものであればよい。
例えばハイドロキノン、カテコール、ｐ−アミノフェノ
ール、ｏ−アミノフェノール、１，２−ナフタレンジオ
ール、１，４−ナフタレンジオール、１，６−ナフタレ
ンジオール、１，２−アミノナフトール、１，４−アミ
ノナフトール、１，６−アミノナフトール、没食子酸エ
ステル、没食子酸アミド、ヒドラジン、ヒドロキシルア
ミン、ピラゾリドン又はレダクトンがあげられる。

【００１２】これらの酸化還元母核が有するアミノ基は
炭素数１〜２５のスルホニル基、または炭素数１〜２５
のアシル基で置換されていることが好ましい、スルホニ
ル基としては置換または無置換の脂肪族スルホニル基、
あるいは芳香族スルホニル基があげられる。またアシル
基としては置換または無置換の脂肪族アシル基あるいは
芳香族アシル基があげられる。Ｒｅｄの酸化還元母核上
の水酸基またはアミノ基は、現像処理時に脱保護可能な
保護基で保護されていてもよい。保護基の例としては、
炭素数１〜２５のものであればよく、例えばアシル基、
アルコキシカルボニル基、カルバモイル基、さらには特
開昭５９−１９７０３７号、同５９−２０１０５７号に
記載されている保護基があげられる。さらにこの保護基
は、可能な場合は以下に述べるＲｅｄの置換基と互いに
結合して、５、６、あるいは７員環を形成してもよい。

【００１３】Ｒｅｄで表される酸化還元母核は置換可能
な位置が置換基で置換されていてもよい。これら置換基
の例としては、炭素数２５以下のものであればよく、例
えばアルキル基、アリール基、アルキルチオ基、アリー
ルチオ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アミノ
基、アミド基、スルホンアミド基、アルコキシカルボニ
ルアミノ基、ウレイド基、カルバモイル基、アルコキシ
カルボニル基、スルファモイル基、スルホニル基、シア
ノ基、ハロゲン原子、アシル基、カルボキシル基、スル
ホ基、ニトロ基、複素環残基などが挙げられる。これら
の置換基はさらに以上述べた置換基で置換されていても
よい。またこれらの置換基は、それぞれ可能な場合は、
互いに結合して飽和あるいは不飽和の炭素環、または飽
和あるいは不飽和の複素環を形成してもよい。

【００１４】Ｒｅｄの好ましい例としては、ハイドロキ
ノン、カテコール、ｐ−アミノフェノール、ｏ−アミノ
フェノール、１，４−ナフタレンジオール、１，４−ア
ミノナフトール、没食子酸エステル、没食子酸アミド、
ヒドラジンなどがあげられる。Ｒｅｄとして特に好まし
いものは、ハイドロキノン、カテコール、ｐ−アミノフ
ェノール、ｏ−アミノフェノール、ヒドラジンであり、
最も好ましくはハイドロキノン及びヒドラジンである。

【００１５】Ｌは２価の連結基を表し、好ましくはアル
キレン、アルケニレン、アリーレン、オキシアルキレ
ン、オキシアリーレン、アミノアルキレンオキシ、アミ
ノアルケニルオキシ、アミノアリーレンキシおよび酸素
原子が挙げられる。

【００１６】Ｇは酸性基を表し、好ましくは−ＣＯ−、
−ＣＯ−ＣＯ−、−ＣＳ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂ −、−
Ｐ（＝Ｏ）（ＯＲ¹ ）−又は−Ｃ（＝ＮＲ² ）−であ
る。ここでＲ¹ はアルキル、アリール、又は複素環であ
り、Ｒ² は水素原子又はＲ¹ と同義である。Ｇとして好
ましくは、−ＣＯ−、−ＣＯ−ＣＯ−、−Ｐ（＝Ｏ）
（ＯＲ¹ ）−、又は−Ｃ（＝ＮＲ² ）−であり、更に好
ましくは、−ＣＯ−、−ＣＯ−ＣＯ−であり、最も好ま
しくは−ＣＯ−である。

【００１７】ｎ、ｍは０又は１であり、Ｒｅｄの種類に
よってどちらが好ましいかは異なる。例えばＲｅｄがハ
イドロキノン、カテコール、アミノフェノール、ナフタ
レンジオール、アミノナフトール、没食子酸類の場合に
は、ｎ＝０が好ましく、より好ましくはｎ＝ｍ＝０であ
る。Ｒｅｄがヒドラジン、ヒドロキシルアミンの場合
は、ｎ＝０、ｍ＝１が好ましく、Ｒｅｄがピラリドンの
場合ｎ＝ｍ＝１が好ましい。

【００１８】式（Ｉ）で表されるＤＩＲ化合物のうち、
下記式（III)ないし（Ｖ）で表される化合物が好まし
い。式（III)

【００１９】

【化３】

【００２０】式（III)中、Ｒ¹¹はＲ¹⁴−Ｎ（Ｒ¹⁶）ＣＯ
Ｎ（Ｒ¹⁵）−、Ｒ¹⁴ＯＣＯＮ（Ｒ¹⁵）−、Ｒ¹⁴ＳＯ₂ Ｎ
（Ｒ¹⁵）−、Ｒ¹⁴−Ｎ（Ｒ¹⁶）ＳＯ₂ Ｎ（Ｒ¹⁵）−、ま
たはＲ¹⁷ＣＯＮＨ−を表す。ここでＲ¹⁴はアルキル基、
アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複素環
基を表し、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は水素原子、アルキル基、また
はアリール基を表し、Ｒ¹⁷はカルボニル基に隣接する炭
素原子にヘテロ原子が置換されていない炭素数２以上の
アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基
あるいは複素環基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は水素原子また
はハメットの置換基定数σ_p が０．３以下の置換基を表
し、Ｂはハイドロキノン母核酸化体より離脱後Ｘを放出
する基を表し、Ｘは現像抑制剤残基を表し、ｋは整数を
表し、Ａ及びＡ′は水素原子またはアルカリで除去され
得る基を表す。 式（IV）

【００２１】

【化４】

【００２２】式（IV）中、Ｑ¹ は少なくとも一個のヘテ
ロ原子を含み、結合する炭素原子とともに５員環以上の
複素環を形成するに必要な原子群を表し、Ｒ²¹はハイド
ロキノン母核に置換可能な基を表し、Ｂ、Ｘ、ｋ、Ａ及
びＡ′は式（III)で述べたものと同義である。 式（Ｖ）

【００２３】

【化５】

【００２４】式（Ｖ）中、Ｗは−Ｎ（Ｒ³³）−Ｎ
（Ｒ³⁴）−（Ｊ）ｎ−Ｒ³⁵、−Ｎ（Ｒ³⁶）−Ｏ−（Ｊ）
ｎ−Ｒ³⁷、−Ｃ（Ｏ）Ｒ³³を表す。Ｂ、Ｘ、ｋ、Ａ及び
Ａ´は一般式（ＩＩＩ）で述べたものと同義である。Ｒ
³²及びＲ³³は水素原子またはハメットの置換基定数σp
が０．３以下の置換基を表わす。Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁶は水
素原子、またはアルキル基を表し、Ｊは−ＣＯ−または
−ＳＯ2−であり、ｎは０または１であり、Ｒ³⁵、Ｒ³⁷
はアルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アミノ
基、アラルキル基、アルケニル基、アリール基、または
複素環基を表す。Ｒ³⁸はアルコキシ基、アリーロキシ
基、アミノ基、ヒドラジノ基を表す。

【００２５】本発明の式（III)についてさらに詳細に説
明する。Ｒ¹¹はＲ¹⁴−Ｎ（Ｒ¹⁶）ＣＯＮ（Ｒ¹⁵）−、Ｒ
¹⁴ＯＣＯＮ（Ｒ¹⁵）−、Ｒ¹⁴ＳＯ₂ Ｎ（Ｒ¹⁵）−、Ｒ¹⁴
−Ｎ（Ｒ¹⁶）ＳＯ₂ Ｎ（Ｒ¹⁵）−またはＲ¹⁷ＣＯＮＨ−
を表す。ここでＲ¹⁴は置換あるいは無置換のアルキル基
（炭素数１〜３０、例えばメチル、エチル、イソプロピ
ル、デシル、ヘキサデシル、ｔ−ブチル、シクロヘキシ
ル、ベンジル）、置換あるいは無置換のアルケニル基
（炭素数２〜３０、例えば１−ブテニル、１−オクタデ
セニル）、置換あるいは無置換のアルキニル基（炭素数
２〜３０、例えばエチニル、１−オクチニル）、置換あ
るいは無置換のアリール基（炭素数６〜３０、例えばフ
ェニル、ナフチル、３−ドデカンアミドフェニル、３−
ヘキサデカンスルホンアミドフェニル、４−ドデシルオ
キシフェニル）、または複素環基（Ｎ，Ｏ，Ｓ，Ｓｅの
ヘテロ原子の少なくとも一つを含む５員ないし２０員の
もので、例えば４−ピリジル、２−フリル、ピロロ、２
−チアゾリル、２−オキサゾリル、２−イミダゾリル、
トリアゾリル、テトラゾリル、ベンゾトリアゾリル、モ
ルホリニル）を表す。Ｒ¹⁴で表わされる基が置換基を有
する場合、その置換基としては、例えばアルキル基、ア
リール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキル
チオ基、アリールチオ基、カルボン酸アミド基、スルフ
ォン酸アミド基、アルコキシカルボニルアミノ基、ウレ
イド基、アルバモイル基、アルコキシカルボニル基、ス
ルファモイル基、スルホニル基、シアノ基、ハロゲン原
子、アシル基、水酸基、カルボキシル基、スルホ基、ニ
トロ基または複素環基があげられる。

【００２６】Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は同じでも異なっていても
よく、水素原子またはＲ¹⁴で示されたものを例として挙
げることができる。

【００２７】Ｒ¹⁵として好ましくは水素原子である。

【００２８】Ｒ¹⁷はカルボニル基に隣接する炭素原子に
ヘテロ原子が置換されていない炭素数２以上の置換ある
いは無置換のアルキル基（好ましくは炭素数２〜３０、
例えばエチル、ノニル、ペンタデシル、イソプロピル、
ｔ−ブチル、１−ヘキシルノニル、３−（２，５−ジ−
ｔ−ペンチルフェノキシ）プロピル、シクロヘキシル、
ベンジル）、置換あるいは無置換のアルケニル基（炭素
数２〜３０、例えばビニル、１−オクテニル、２−フェ
ニルビニル）、置換あるいは無置換のアルキニル基（炭
素数２〜３０、例えばエチニル、フェニルエチニル）、
置換または無置換のアリール基（炭素数６〜３０、例え
ばフェニル、ナフチル、３，５−ビス（オクタデカンア
ミド）フェニル、２−ヘキサデカンスルホンアミドフェ
ニル、４−ドデシルオキシフェニル）、または複素環基
（Ｎ，Ｏ，Ｓ，Ｓｅのヘテロ原子の少なくとも一つを含
む５員ないし２０員のもので、例えば３−ピリジル、２
−フリル、３−チアゾリル、ベンゾトリアゾリル、ベン
ズイミダゾリル）を表す。

【００２９】Ｒ¹⁷で表わされる基が置換基を有する場合
は、その置換基としては、Ｒ¹⁴の説明で述べた置換基が
あげられる。式（Ｉ）中のＲ¹²およびＲ¹³としては、水
素原子またはハメットの置換基定数σ_p が０．３以下の
置換基を表し、それらの例としてはアルキル基（炭素数
１〜３０、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−
ブチル、デシル、ヘキサデシル、シクロヘキシル、ベン
ジル、ｔ−オクチル）、アリール基（炭素数６〜３０、
例えばフェニル、ナフチル）、アルコキシ基（炭素数１
〜３０、例えばメトキシ、ヘキシルオキシ、ヘキサデシ
ルオキシ、２−ドデシルオキシ、ベンジルオキシ）、ア
リールオキシ基（炭素数６〜３０、例えばアェノキシ、
ナフトキシ）、アルキルチオ基（炭素数１〜３０、例え
ばメチルチオ、ヘキシルチオ、ドデシルチオ、ベンジル
チオ）、アリールチオ基（炭素数６〜３０、例えばフェ
ニルチオ、ナフチルチオ、２−ブチルオキシ−５−ｔ−
オクチルフェニル）、アミド基（炭素数１〜３０、例え
ばアセトアミド、ブタンアミド、ヘキサデカンアミド、
ベンズアミド）、スルホンアミド基（炭素数１〜３０、
例えばメタンスルホンアミド、オクタンスルホンアミ
ド、ヘキサデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド）、ウレイド基（炭素数１〜３０、例えば３−メチ
ルウレイド、３−ドデシルウレイド、３−フェニルウレ
イド）、ウレタン基（炭素数２〜３０、例えばメトキシ
カルボニルアミノ、デシルオキシカルボニルアミノ、フ
ェノキシカルボニルアミノ）、スルファモイルアミノ基
（炭素数３０以下、例えば３−メチルスルファモイルア
ミノ、３−フェニルスルファモイルアミノ）、ハロゲン
原子（例えば塩素、臭素、フッ素）、ヒドロキシ基また
は−（Ｂ）_k −Ｘがあげられる。

【００３０】Ｒ¹²およびＲ¹³は置換基を有していてもよ
く、それらの置換基の例としては、Ｒ¹⁴で説明した置換
基をあげることができる。

【００３１】次に式（IV）について詳細に説明する。

【００３２】式（IV）のＱ¹ は、少なくとも１個のヘテ
ロ原子を含む２価の基であり、それらの例としては、ア
ミド結合、二価のアミノ基、エーテル結合、チオエーテ
ル結合、イミノ結合、スルホニル基、カルボニル基、ア
ルキレン基、アルケニレン基などが挙げられ、これらの
うちの複数を組み合せた基でもよく、これらは更に置換
基を有していてもよい。ただし、Ｑ¹ にエーテル結合を
含む場合は、５員環であることはない。

【００３３】Ｑ¹ で完成した複素環の例としては以下の
ものがあげられる。

【００３４】

【化６】

【００３５】

【化７】

【００３６】Ｒ²¹はハイドロキノン母核に置換可能な基
であるが、具体的には一般式（IV）のＲ¹³で述べた基の
他に、置換または無置換のアシル基（好ましくは炭素数
１〜３０である。例えばアセチル、オクタノイル、ベン
ゾイル、クロロアセチル、３−カルボキシプロピオニ
ル、オクタデカノイル）、置換または無置換のアルコキ
シカルボニル基（好ましくは炭素数２〜３０である。例
えばメトキシカルボニル、オクチルオキシカルボニル、
フェノキシカルボニル、オクタデシロキシカルボニル、
メトキシエトキシカルボニル）、置換または無置換のカ
ルバモイル基（好ましくは炭素数１〜３０である。例え
ば、カルバモイル、Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−ヘ
キサデシルカルバモイル、Ｎ−｛３−（２，４−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ペンチルフェノキシ）プロピル｝、Ｎ−フェニ
ルカルバモイル、Ｎ−（３−ドデシルオキシブチル）、
ピロリジノカルボニル）、置換または無置換のスルファ
モイル基（好ましくは炭素数０〜３０である。例えばス
ルファモイル、ジブチルスルファモイル）、置換または
無置換のスルホニル基（好ましくは炭素数１〜３０であ
る。例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル、
ｐ−ドデシルベンゼンスルホニル）または複素環基
（Ｎ，Ｏ，Ｓ，Ｓｅの少なくとも一つを含む５員ないし
２０員のものある。例えば５−テトラゾリル、２−ベン
ズオキサゾリル、２−チアゾリル、２−イミダゾリル、
２−ピリジル、モルホリノ）があげられる。本発明の式
（Ｖ）についてを更に詳細に説明する。式中、Ｗは−Ｎ
（Ｒ³³)−Ｎ（Ｒ³⁴)−（Ｊ) _n −Ｒ³⁵、−Ｎ（Ｒ³⁶）−
Ｏ−（Ｊ）_n −Ｒ³⁷、−Ｃ（Ｏ）Ｒ³⁸を表わす。Ｒ³¹、
Ｒ³²は水素原子又はハメットの置換基定数σ_p が０．３
以下の置換基を表わす（これらの置換基としては例え
ば、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリール
ロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アシルア
ミノ基、スルホンアミド基、ハロゲン原子、水酸基、ア
ミノ基等が挙げられる）。Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁶は水素原子
又はアルキル基（炭素数１〜１０。例えばメチル、エチ
ル、オクチル）を表わし、Ｊは−ＣＯ−又は−ＳＯ₂ −
であり、ｎは０又は１であり、Ｒ³⁵、Ｒ³⁷はアルキル基
（炭素数１〜２０。例えばメチル、ヘキシル、オクタデ
シル）、アルコキシ基（炭素数１〜２０。例えばメトキ
シ、ブトキシ、ドデシロキシ）、アミノ基（炭素数０〜
２０。例えばアミノ、オクチルアミノ、ジブチルアミ
ノ）、アラルキル基（炭素数７〜２０。例えばベンジ
ル、フェネチル）、アルケニル基（炭素数３〜２０。例
えばアリル）、アリール基（炭素数６〜２０。例えばフ
ェニル、ナフチル）又は複素環基（炭素数２〜２０。例
えばピリジル、フリル）を表わす。Ｒ³⁸はアルコキシ基
（炭素数１〜２０。例えばメトキシ、ブトキシ、エイコ
シロキシ）、アリーロキシ基（炭素数６〜２０。例えば
フェノキシ、１−ナフチロキシ）、アミノ基（炭素数０
〜２０。例えばアミノ、オクチルアミノ、ジブチルルア
ミノ）、ヒドラジノ基（炭素数０〜２０。例えばヒドラ
ジノ、Ｎ−ドデシルヒドラジノ）を表わす。上記で説明
した基は更に別の置換基、例えばアルキル基、アルコキ
シ基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アリーロキシ
基、アミド基、アシル基、アルコキシカルボニル基、カ
ルバモイル基、水酸基、カルボキシル基、シアノ基等で
置換されていても良い。

【００３７】式（III)ないし（Ｖ）におけるＡ，Ａ′，
ＢおよびＸについて詳細に説明する。式（III)ないし
（Ｖ）においてＡおよびＡ′がアルカリにより除去され
うる基（以下、プレカーサー基という）を表すとき、該
基の好ましいものとしてアシル基、アルコキシカルボニ
ル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、
イミドイル基、オギザリル基、スルホニル基などの加水
分解されうる基、米国特許第４，００９，０２９号に記
載の逆マイケル反応を利用した型のプレカーサー基、米
国特許第４，３１０，６１２号に記載の環開裂反応の
後、発生したアニオンを分子内求核基として利用する型
のプレカーサー基、米国特許第３，６７４，４７８号、
同３，９３２，４８０号もしくは同３，９９３，６６１
号に記載のアニオンが共役系を介して電子移動しこれに
より開裂反応を起こさせるプレカーサー基、米国特許第
４，３３５，２００号に記載の環開裂後反応したアニオ
ンの電子移動により開裂反応を起こさせるプレカーサー
基または米国特許第４，３６３，８６５号、同４，４１
０，６１８号に記載のイミドメチル基を利用したプレカ
ーサー基が挙げられる。

【００３８】式（III)ないし（Ｖ）においてＢで表され
る基は、ハイドロキノン母核が現像時に現像主薬酸化体
により酸化されキノン体となった後、−（Ｂ）_k −Ｘと
して放出され、さらにその後Ｘを放出しうる２価の基を
表し、タイミング調節機能を有していてもよく、また、
もう一分子の現像主薬酸化体と反応してＸを放出するカ
プラーとなる基、あるいは酸化還元基であってもよい。
ここでｋが０の場合は、Ｘが直接ハイドロキノン母核に
結合している場合を意味し、ｋが２以上の場合には、同
じかあるいは異なる２つ以上のＢの組合せを表す。

【００３９】Ｂがタイミング調節機能を有する基である
場合、例えば米国特許第４，２４８，９６２号、同第
４，４０９，３２３号、英国特許第２，０９６，７８３
号、米国特許第４，１４６，３９６号、特開昭５１−１
４６８２８号、特開昭５７−５６８３７号に記載されて
いるものがあげられる。Ｂは、これらに記載されている
ものから選ばれる二つ以上のものを組合せたものでもよ
い。タイミング調節基の好ましい例としては以下のもの
があげられる。 （１）ヘミアセタールの開裂反応を利用する基：例え
ば、米国特許第４，１４６，３９６号、特開昭６０−２
４９１４８号及び同６０−２４９１４９号に記載があ
る。 （２）分子内求核置換反応を利用して開裂反応を起こさ
せる基：例えば米国特許第４，２４８，９６２号に記載
のタイミング基が挙げられる。 （３）共役系に沿った電子移動反応を利用して開裂反応
を起こさせる基：例えば米国特許第４，４０９，３２３
号または同４，４２１，８４５号にこのタイミング基の
記載がある。 （４）エステルの加水分解による開裂反応を利用する
基：例えばこの基は西独公開特許第２，６２６，３１５
号に記載のある連結基である。 （５）イミノケタールの開裂反応を利用する基：例えば
この基は米国特許第４，５４６，０７３号に記載のある
連結基である。

【００４０】Ｂで表される基が、カプラーあるいは酸化
還元基である例としては、以下のものが挙げられる。

【００４１】カプラーとしては、例えばフェノール型カ
プラーの場合では、水酸基の水素原子を除いた酸素原子
でハイドロキノン母核と結合しているものである。ま
た、５−ピラゾロン型カプラーの場合には、５−ヒドロ
キシピラゾールに互変異性した型のヒドロキシ基から水
素原子を除いた酸素原子でハイドロキノン核と結合して
いるものである。これらは各々ハイドロキノン核より脱
離して初めてカプラーとして機能し、現像薬酸化体と反
応してそれらのカップリング位に結合したＸを放出す
る。

【００４２】Ｂがカプラーである場合の好ましい例とし
ては、下記式（Ｃ−１）ないし（Ｃ−４）があげられ
る。

【００４３】

【化８】

【００４４】式中、Ｖ₁ およびＶ₂ は置換基を表し、Ｖ
₃ ，Ｖ₄ ，Ｖ₅ およびＶ₆ は窒素原子または置換もしく
は無置換のメチン基を表し、Ｖ₇ は置換基を表し、ｘは
０ないし４の整数を表し、ｘが複数のときＶ₇ は同じも
のまたは異なるものを表し、２つのＶ₇ が連結して環を
形成してもよい。Ｖ₈ は−ＣＯ−基、−ＳＯ₂ −基、酸
素原子または置換イミノ基を表し、Ｖ₉ は−Ｖ₈ −Ｎ−
Ｃ＝Ｃ−とともに５員ないし８員環を構成するための非
金属原子群を表し、Ｖ₁₀は水素原子または置換基を表
す。ここで＊はハイドロキノン核へ結合する位置を表わ
し、また＊＊はＸへ結合する位置を表わす。

【００４５】式（III)ないし（Ｖ）においてＢで表され
る基が酸化還元基である場合、好ましくは下記式（Ｒ−
１）で表される。 式（Ｒ−１）

【００４６】

【化９】

【００４７】式中、ＰおよびＱはそれぞれ独立に酸素原
子または置換もしくは無置換のイミノ基を表し、ｎ個の
Ｘ′およびＹの少なくとも１個は−Ｘを置換基として有
するメチン基を表し、その他のＸ′およびＹは置換もし
くは無置換のメチン基または窒素原子を表し、ｎは１な
いし３の整数を表し（ｎ個のＸ′、ｎ個のＹは同じもの
もしくは異なるものを表す）、Ａは水素原子またはアル
カリにより除去されうる基を表し、式（III)ないし式
（Ｖ）におけるＡと同じ意味を持つ。ここでＰ，Ｘ′，
Ｙ，ＱおよびＡのいずれか２つの置換基が２価基となっ
て連結し環を形成する場合も包含される。例えば（Ｘ′
＝Ｙ）_n がベンゼン環、ピリジン環などを形成する場合
である。

【００４８】式（Ｒ−１）で表される基において特に好
ましい基は下記式（Ｒ−２）または（Ｒ−３）で表され
るものである。

【００４９】

【化１０】

【００５０】式中、＊印はハイドロキノン母核と結合す
る位置を表し、＊＊印はＸと結合する位置を表す。Ｒ⁶⁴
は置換基を表し、ｒは０，１ないし３の整数を表す。ｒ
が２以上のとき２つ以上のＲ⁶⁴は同じでも異なっていて
もよく、また２つのＲ⁶⁴が隣接する炭素上の置換基であ
るときにはそれぞれ２価基となって連結し環状構造を表
す場合も包含する。

【００５１】Ｒ⁶⁴としては式（IV）のＲ²¹で述べたもの
があげられる。

【００５２】次にＸについて説明する。

【００５３】Ｘは現像抑制剤残基を意味する。Ｘの好ま
しい例としては、式（Ｘ−１）で示される複素環に結合
するメルカプト基を有する化合物、あるいは式（Ｘ−
２）で示されるイミノ銀を生成可能な複素環化合物があ
げられる。

【００５４】

【化１１】

【００５５】式中、Ｚ₁ は単環もしくは縮合環の複素環
を形成するに必要な非金属原子群を表し、Ｚ₂ はＮとと
もに単環もしくは縮合環の複素環を形成するのに必要な
非金属原子群を表す。これらの複素環は置換基を有して
もよく、＊はＢに結合する位置を表す。Ｚ₁ およびＺ₂
で形成される複素環として更に好ましくは、ヘテロ原子
として窒素、酸素、硫黄、セレンのうち少なくとも一種
を含有する５員ないし８員の複素環であり、最も好まし
くは５員又は６員の複素環である。

【００５６】Ｚ₁ で示される複素環の例としては、例え
ばアゾール類（例えばテトラゾール、１，２，４−トリ
アゾール、１，２，３−トリアゾール、１，３，４−チ
アジアゾール、１，３，４−オキサジアゾール、１，３
−チアゾール、１，３−オキサゾール、イミダゾール、
ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンズイミダ
ゾール、ピロール、ピラゾール、インダゾール）、アザ
インデン類（例えばテトラザインデン、ペンタザインデ
ン、トリアザインデン）、アジン類（例えばピリミジ
ン、トリアジン、ピラジン、ピリダジン）があげられ
る。

【００５７】Ｚ₂ で示される複素環の例としては、例え
ばトリアゾール類（例えば１，２，４−トリアゾール、
ベンゾトリアゾール、１，２，３−トリアゾール）、イ
ンダゾール、ベンズイミダゾール、アザインデン類（例
えばテトラザインデン、ペンタアザインデン）、テトラ
ゾールがあげられる。

【００５８】式（Ｘ−１）及び（Ｘ−２）で表される現
像抑制剤は、その複素環置換基を有していてもよく、該
置換基としては以下のものが好ましい。

【００５９】すなわちＲ₇₇基、Ｒ₇₈Ｏ−基、Ｒ₇₇Ｓ−
基、Ｒ₇₇ＯＣＯ−基、Ｒ₇₇ＯＳＯ₂ −基、ハロゲン原
子、シアノ基、ニトロ基、Ｒ₇₇ＳＯ₂ −基、Ｒ₇₈ＣＯ−
基、Ｒ₇₇ＣＯＯ−基、Ｒ₇₇ＳＯ₂ Ｎ（Ｒ₇₈）−基、Ｒ₇₈
Ｎ（Ｒ₇₉）ＳＯ₂ −基、Ｒ₇₈Ｎ（Ｒ₇₉）ＣＯ−基、Ｒ₇₇
Ｃ（Ｒ₇₈）＝Ｎ−基、Ｒ₇₇Ｎ（Ｒ₇₈）−基、Ｒ₇₈ＣＯＮ
（Ｒ₇₉）−基、Ｒ₇₇ＯＣＯＮ（Ｒ₇₈）−基、Ｒ₇₈Ｎ（Ｒ
₇₉）ＣＯＮ（Ｒ₈₀）−基またはＲ₇₇ＳＯ₂ Ｏ−基が挙げ
られる。ここでＲ₇₇は脂肪族基、芳香族基または複素環
基を表し、Ｒ₇₈，Ｒ₇₉およびＲ₈₀は脂肪族基、芳香族
基、複素環基または水素原子を表す。一分子中にＲ₇₇，
Ｒ₇₈，Ｒ₇₉およびＲ₈₀が２個以上あるとき、これらが連
結して環（例えばベンゼン環）を形成してもよい。

【００６０】式（Ｘ−１）で示される化合物の例として
は、例えば置換あるいは無置換のメルカプトアゾール類
（例えば１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール、
１−プロピル−５−メルカプトテトラゾール、１−ブチ
ル−５−メルカプトテトラゾール、２−メチルチオ−５
−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール、３−メチ
ル−４−フェニル−５−メルカプト−１，２，４−トリ
アゾール、１−（４−エチルカルバモイルフェニル）−
２−メルカプトイミダゾール、２−メルカプトベンズオ
キサゾール、２−メルカプトベンズイミダゾール、２−
メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンズオ
キサゾール、２−フェニル−５−メルカプト−１，３，
４−オキサジアゾール、１−｛３−（３−メチルウレイ
ド）フェニル｝−５−メルカプトテトラゾール、１−
（４−ニトロフェニル）−５−メルカプトテトラゾー
ル、５−（２−エチルヘキサノイルアミノ）−２−メル
カプトベンズイミダゾール）、置換あるいは無置換のメ
ルカプトアザインデン類（例えば、６−メチル−４−メ
ルカプト−１，３，３ａ，７−テトラアザインデン、
４，６−ジメチル−２−メルカプト−１，３，３ａ，７
−テトラアザインデン）、置換あるいは無置換のメルカ
プトピリミジン類（例えば２−メルカプトピリミジン、
２−メルカプト−４−メチル−６−ヒドロキシピリミジ
ン）などがある。

【００６１】イミノ銀を形成可能な複素環化合物として
は、例えば置換あるいは無置換のトリアゾール類（例え
ば、１，２，４−トリアゾール、ベンゾトリアゾール、
５−メチルベンゾトリアゾール、５−ニトロベンゾトリ
アゾール、５−ブロモベンゾトリアゾール、５−ｎ−ブ
チルベンゾトリアゾール、５，６−ジメチルベンゾトリ
アゾール）、置換あるいは無置換のインダゾール類（例
えばインダゾール、５−ニトロインダゾール、３−ニト
ロインダゾール、３−クロロ−５−ニトロインダゾー
ル）、置換あるいは無置換のベンズイミダゾール類（例
えば５−ニトロベンズイミダゾール、５，６−ジクロロ
ベンズイミダゾール）があげられる。

【００６２】またＸは式（III)ないし式（Ｖ）のＢから
脱離して、いったん現像抑制性 を有する化合物となっ
た後、更にそれが現像液成分とある種の化学反応をおこ
して実質的に現像抑制性を有しないか、あるいは著しく
減少した化合物に変化するものであってもよい。このよ
うな化学反応を受ける官能基としては、例えばエステル
基、カルボニル基、イミノ基、アンモニウム基、マイケ
ル付加受容基、あるいはイミド基などがあげられる。

【００６３】このような失活型現像抑制剤の例として
は、例えば米国特許第４，４７７，５６３号、特開昭６
０−２１８６４４号、同６０−２２１７５０号、同６０
−２３３６５０号、または同６１−１１７４３号に記載
のある現像抑制剤残基が挙げられる。

【００６４】これらのうちでも、特にエステル基を有す
るものが好ましい。具体的には、例えば１−（３−フェ
ノキシカルボニルフェニル）−５−メルカプトテトラゾ
ール、１−（４−フェノキシカルボニルフェニル）−５
−メルカプトテトラゾール、１−（３−マレインイミド
フェニル）−５−メルカプトテトラゾール、５−フェノ
キシカルボニルベンゾトリアゾール、５−（４−シアノ
フェノキシカルボニル）ベンゾトリアゾール、２−フェ
ノキシカルボニルメチルチオ−５−メルカプト−１，
３，４−チアジアゾール、５−ニトロ−３−フェノキシ
カルボニルイミダゾール、５−（２，３−ジクロロプロ
ピルオキシカルボニル）ベンゾトリアゾール、１−（４
−ベンゾイルオキシフェニル）−５−メルカプトテトラ
ゾール、５−（２−メタンスルホニルエトキシカルボニ
ル）−２−メルカプトベンゾチアゾール、５−シンナモ
イルアミノベンゾトリアゾール、１−（３−ビニルカル
ボニルフェニル）−５−メルカプトテトラゾール、５−
スクシンイミドメチルベンゾトリアゾール、２−｛４−
スクシンイミドフェニル｝−５−メルカプト−１，３，
４−オキサジアゾール、６−フェノキシカルボニル−２
−メルカプトベンズオキサゾール、２−（１−メトキシ
カルボニルエチルチオ）−５−メルカプト−１−３，４
−チアジアゾール、２−ブトキシカルボニルメトキシカ
ルボニルメチルチオ−５−メルカプト−１，３，４−チ
アジアゾール、２−（Ｎ−ヘキシルカルバモイルメトキ
シカルボニルメチルチオ）−５−メルカプト−１，３，
４−チアジアゾール、５−ブトキシカルボニルメトキシ
カルボニルベンゾトリアゾールがあげられる。

【００６５】Ｘとして好ましくは、メルカプトアゾール
類及びベンゾトリアゾール類である。メルカプトアゾー
ルとしてはメルカプトテトラゾール類及び５−メルカプ
ト−１，３，４−チアジアゾール類及び５−メルカプト
−１，３，４−オキサジアゾール類が更に好ましい。

【００６６】Ｘとして最も好ましくは５−メルカプト−
１，３，４−チアジアゾール類である。

【００６７】式（III)ないし式（Ｖ）において、ｋは好
ましくは０，１または２である。

【００６８】式（III)で示される化合物の中で、好まし
い化合物は下記式（IIIa）で示される化合物である。

【００６９】式（IIIa）

【００７０】

【化１２】

【００７１】式（IIIa）においてＲ¹¹，Ｂ，Ｘ，Ａ，
Ａ′およびｋは式 (III)のそれらと同じ意味を持つ。

【００７２】式（IIIa）において好ましいＲ¹¹はＲ¹⁴−
Ｎ（Ｒ¹⁶）ＣＯＮ（Ｒ¹⁵）−およびＲ¹⁴ＯＣＯＮ
（Ｒ¹⁵）−であり、Ｒ¹⁴，Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は前述と同じ
意味を持つ。また式（IIc)において好ましいｋは０また
は１である。

【００７３】式 (III)ないし式（Ｖ）においてＡおよび
Ａ′は好ましくは水素原子である。

【００７４】式 (III)においてＱ¹ は好ましくは−Ｎ
（Ｒ²⁸）−ＣＯ−Ｑ² −で表され、Ｑ² の例としては二
価のアミノ基、エーテル結合、チオエーテル結合、アル
キレン基、エチレン結合、イミノ結合、スルホニル基、
カルボニル基、アリーレン基、二価の複素環基、これら
の複数を組み合せた基が挙げられる。

【００７５】Ｒ²⁸は水素原子、アルキル基、アリール基
または複素環基であり、置換基を有してもよい。Ｒ²⁸と
して好ましくは水素原子である。式（IV）において、Ｒ
²¹としては、水素原子またはハメットの置換基定数σ_p
で０以上の置換基が好ましい。

【００７６】Ｑ¹ を含む複素環の環員数としては５ない
し７員環が好ましく、その中でも下記式（IVａ）で示さ
れる化合物がさらに好ましい。

【００７７】式（IVａ）

【００７８】

【化１３】

【００７９】式（IVａ）において、Ｑ² は前述と同じ意
味を持ちＲ²¹，Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｘおよびｋは式（IV）と
同義である。

【００８０】式（IIIa）のＲ¹¹がＲ¹⁷ＣＯＮＨ−である
とき、以下に示す式（IIIb）および（IIIc）である場合
が好ましい。

【００８１】式（IIIb）

【００８２】

【化１４】

【００８３】式（IIIc）

【００８４】

【化１５】

【００８５】式中、Ｒ⁴⁴，Ｒ⁴⁵は置換基を表し、ｎ′は
２以上の整数、ｓは１なしい５の整数を表し、ｓが２以
上の時、Ｒ³⁵はそれぞれ同じであっても異なっていても
よい。Ａ，Ａ′，Ｂ，Ｘおよびｋは式（III)のそれらと
同義である。

【００８６】Ｒ⁴⁴およびＲ⁴⁵としては、例えば式（III)
がＲ¹⁴の有する置換基として述べたものがあげられる。
またこれらの置換基はさらに置換されていてもよい。式
(IIIb)において、好ましいＲ⁴⁴は炭素数５ないし３０の
置換基であり、ｎ′として好ましくは２ないし５であ
る。式(IIIc)において、Ｒ⁴⁵の炭素数は５ないし３０で
あることが好ましい。

【００８７】以下に一般式（Ｉ）で表される化合物の具
体例を示すが、本発明で用いうる化合物はこれらに限定
されるわけではない。

【００８８】

【化１６】

【００８９】

【化１７】

【００９０】

【化１８】

【００９１】

【化１９】

【００９２】

【化２０】

【００９３】

【化２１】

【００９４】

【化２２】

【００９５】

【化２３】

【００９６】

【化２４】

【００９７】

【化２５】

【００９８】

【化２６】

【００９９】

【化２７】

【０１００】

【化２８】

【０１０１】

【化２９】

【０１０２】

【化３０】

【０１０３】

【化３１】

【０１０４】

【化３２】

【０１０５】

【化３３】

【０１０６】

【化３４】

【０１０７】

【化３５】

【０１０８】

【化３６】

【０１０９】

【化３７】

【０１１０】

【化３８】

【０１１１】

【化３９】

【０１１２】

【化４０】

【０１１３】

【化４１】

【０１１４】

【化４２】

【０１１５】

【化４３】

【０１１６】

【化４４】

【０１１７】

【化４５】

【０１１８】

【化４６】

【０１１９】

【化４７】

【０１２０】

【化４８】

【０１２１】

【化４９】

【０１２２】

【化５０】

【０１２３】

【化５１】

【０１２４】

【化５２】

【０１２５】

【化５３】

【０１２６】

【化５４】

【０１２７】

【化５５】

【０１２８】

【化５６】

【０１２９】

【化５７】

【０１３０】

【化５８】

【０１３１】本発明の式（Ｉ）で示される化合物は、特
開昭４９−１２９５３６号、同５２−５７８２８号、同
６０−２１０４４号、同６０−２３３６４２号、同６０
−２３３６４８号、同６１−１８９４６号、同６１−１
５６０４３号、同６１−２１３８４７号、同６１−２３
０１３５号、同６１−２３６５４９号、同６２−６２３
５２号、同６２−１０３６３９号、米国特許第３，３７
９，５２９号、同３，６２０，７４６号、同４，３３
２，８２８号、同４，３７７，６３４号、同４，６８
４，６０４号、特願平２−２１１２７、特願平２−２１
１２８、特願平２−２１１２９等に記載の方法に準じて
合成できる。また、本発明による一般式（Ｖ）で表され
る化合物は、特開平３−２２６７４４号、同３−２２６
７４５号、特開平４−２３８３４６号、同４−２３８３
４７号等に記載の方法に準じて合成することができる。

【０１３２】本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、同
一層及び／または異なる２層以上の層において、２種以
上混合して用いてもよい。

【０１３３】式（Ｉ）で表される化合物は、任意の乳剤
層または非感光性層のどちらに添加してもよい。また両
方に添加してもよい。好ましくは、乳剤層及び該乳剤層
に隣接する非感光性層に添加するか、又は両層のどちら
か一方に添加して用いる場合である。より好ましくは感
光性乳剤層に添加して用いる場合である。

【０１３４】式（Ｉ）で表される化合物の添加量として
は、好ましくは０．００１〜０．２mmol／m²、より好ま
しくは、０．０１〜０．１mmol／m²の範囲である。

【０１３５】次に一般式（II）で表される化合物につい
て詳細に説明する。

【０１３６】一般式（II）において、Ｒ²¹のアリール基
およびヘテロ環基は、置換基を有していてもよく、アリ
ール基としては、好ましくは炭素数６から３０のもので
具体的にはフェニル基、ナフチル基などであり、ヘテロ
環基としては、好ましくは３〜８員環で、ヘテロ原子と
しては酸素原子、窒素原子または硫黄原子を含むもので
あり、具体的には２−ピリジル、２−フリル、２−ベン
ゾオキサゾリル、２−チエニルなどである。Ｒ²¹として
特に好ましいものはフェニル基である。

【０１３７】Ｒ²¹が置換基を有する場合、その置換基と
しては、具体的にはアルキル基、アリール基、アシルア
ミノ基（炭素数２〜６０。例えば、アセチルアミノ、ｎ
−ブタノイルアミノ、オクタノイルアミノ、２−ヘキサ
デカノイルアミノ、２−（２′，４′−ジ−ｔ−アミル
フェノキシ）ブタノイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニ
コチノイルアミノ）、アルコキシ基（炭素数１〜６０。
例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ、ｎ−オクチル
オキシ、ヘキサデシルオキシ、２−メトキシエトキ
シ）、アリールオキシ基（炭素数６〜６０。例えば、フ
ェノキシ、２，４−ｔ−アミルフェノキシ、４−ｔ−ブ
チルフェノキシ、ナフトキシ）、アルキルチオ基（炭素
数１〜６０。例えば、メチルチオ、エチルチオ、ブチル
チオ、ヘキサデシルチオ）、アリールチオ基（炭素数６
〜６０。例えば、フェニルチオ、４−トデシルオキシフ
ェニルチオ）、アシル基（炭素数１〜６０。例えば、ア
セチル、ベンゾイル、ブタノイル、ドデカノイル）、ス
ルホニル基（炭素数１〜６０。例えば、メタンスルホニ
ル、ブタンスルホニル、トルエンスルホニル）、スルホ
ニルアミノ基（炭素数１〜６０。、メタンスルホニルア
ミノ、フェニルスルホニルアミノ）、シアノ基、カルバ
モイル基（炭素数１〜６０。例えば、Ｎ，Ｎ−ジシクロ
ヘキシルカルバモイル）またはスルファモイル基（炭素
数０〜６０。例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイ
ル）、カルボキシル基、ハロゲン原子及びヒドロキシル
基が挙げられる。

【０１３８】これらの置換基は更にこれらの置換基で置
換されていてもよく、また可能な場合は、これらの置換
基が互いに連結して環を形成していても良い。

【０１３９】Ｒ²²がアルキル基を表す場合、置換もしく
は無置換のアルキル基であり、好ましくは炭素数１〜６
０のもので具体的には、メチル、エチル、プロピル、is
o −ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシル、ノニ
ル、ウンデシル、ペンタデシル、ｎ−ヘキサデシル、３
−デカンアミドプロピル等である。Ｒ²²がシクロアルキ
ル基を表す場合、置換または無置換のシクロアルキル基
であり、好ましくは炭素数３〜６０のもので具体的に
は、シクロプロピル、１−エチルシクロプロピル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル等である。Ｒ²²がアルコキ
シ基の場合、そのアルキル部位は具体的にはＲ²²で説明
したアルキル基及びシクロアルキル基と同義である。Ｒ
²²が炭素数７以上のアリールオキシ基の場合、そのアリ
ール部位は具体的にはＲ²¹で説明したアリール基及びそ
の置換基と同義である。

【０１４０】Ｒ²²の置換基としては前記Ｒ²¹に関して列
挙した置換基が適用できる。置換基として好ましくはア
ルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基
及びヒドロキシル基であり、さらに好ましい基としては
アルキル基、アルコキシ基及びアシル基である。

【０１４１】Ａ²¹及びＡ²²は水素原子であることが好ま
しいが、加水分解する基を表す場合には、具体的にはス
ルホニル基、アシル基、オキザリル基などが好ましい。

【０１４２】Ｘは酸素原子あるいはイオウ原子を表す
が、酸素原子であることがより好ましい。

【０１４３】Ｒ²¹及びＲ²²のうち少なくとも一つはその
中にカプラー等の不動性写真用添加剤において常用され
ているバラスト基が組み込まれているのが好ましい。バ
ラスト基は８以上の炭素数を有する写真性に対して不活
性な基であり、例えばアルキル基、アルコキシ基、アリ
ール基、アリールオキシ基、アミド基、ウレイド基、ス
ルホンアミド基、エステル基、スルホニル基、アシル
基、ヒドロキシ基など及びこれらの基の組み合わせから
なるものの中から選ぶことができる。

【０１４４】式（II）で示される化合物群の中で、好ま
しい化合物群は、式（II−Ａ）である。 式（II−Ａ）

【０１４５】

【化５９】

【０１４６】式（II−Ａ）においてＲ²³は、前記、一般
式（II）のＲ²¹が有する置換基として列挙したものが挙
げられるが、置換位置がｐ位のアシルアミノ基であるこ
とはない。

【０１４７】式（II−Ａ）において、Ｒ²²が無置換のフ
ェニル基である場合、Ｒ²³はｐ位の置換あるいは無置換
ベンゼンスルフォンアミド基でないことが好ましい。

【０１４８】式（II−Ａ）において、ｒは、１から５の
整数を表し、ｒが２以上の時、複数のＲ²³は同じであっ
ても異なっていてもよく、隣接したＲ²³が互いに結合し
て環状構造を形成してもよい。

【０１４９】式（II−Ａ）のＲ²²、ｍ及びｎは、それぞ
れ前記一般式（II）のＲ²²、ｍ及びｎと同じ意味を持
つ。

【０１５０】式（II−Ａ）で表される化合物群の中で、
式（II−Ｂ）で表される化合物群がさらに好ましい。 式（II−Ｂ）

【０１５１】

【化６０】

【０１５２】式（II−Ｂ）のＲ²⁴は、アルキル基、シク
ロアルキル基、あるいはアリール基を表し、それらは式
（II−Ａ）のＲ²²で示された基の中のアルキル基、シク
ロアルキル基、およびアリール基と同じ意味を持つ。

【０１５３】式（II−Ｂ）のＲ²³およびｒは、式（II−
Ａ）のＲ²³およびｒと同義であり、Ｒ²³のうちの少なく
とも一つが、アルコキシ基あるいはスルフォンアミド基
であることが好ましい。

【０１５４】式（II−Ｂ）においてｐ位に置換したＲ²³
が、置換あるいは無置換のベンゼンスルフォンアミド基
である場合には、２つのＲ²²が共同して、Ｐを含む５か
ら８員環の構造を形成することが好ましい。

【０１５５】本発明の式（II）に含まれる化合物の具体
例を以下に挙げるが、本発明がこれらに限定されるもの
ではない。

【０１５６】

【化６１】

【０１５７】

【化６２】

【０１５８】

【化６３】

【０１５９】

【化６４】

【０１６０】

【化６５】

【０１６１】

【化６６】

【０１６２】本発明の化合物は以下に示す合成例および
それに準ずる方法により合成することができる。

【０１６３】１．例示化合物（１）の合成 １−ビス（ドデカオキソ）ホスホリオ−２−ｐ−フェニ
ルスルホニルアミノフェニルヒドラジン（１）の合成

【０１６４】オキシ塩化リン４．６mlのヘキサン３０ml
溶液に室温下、ｎ−ドデカノール２２．７mlとトリエチ
ルアミン２１mlのヘキサン１２ml溶液を徐々に滴下し
た。そのまま２時間攪拌したのち、ｐ−フェニルスルホ
ニルアミノフェニルヒドラジンの１，５−ナフタレンジ
スルホン酸塩１６．３ｇとトリエチルアミン７．０mlを
添加し、室温で３時間攪拌した。反応液を水２００mlに
加え、常法に従って酢酸エチルで抽出した。抽出液を濃
縮し、残渣をシリカゲルカラムクロマト（ｎ−ヘキサン
／酢酸エチル）で精製し、エタノールで晶析し乾燥後、
例示化合物（１）を得た（収量２０．２ｇ、収率６１
％）。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃) ０．９０（ｔ，６Ｈ） １．２５（ｍ，３６Ｈ） １．
５６（ｍ，４Ｈ） ４．００（ｍ，４Ｈ） ４．８０（ｄ，１Ｈ） ５．
４１（ｓ，１Ｈ） ６．６２（ｓ，１Ｈ） ６．２８（ｄ，２Ｈ） ６．
９２（ｄ，２Ｈ） ７．４０（ｍ，３Ｈ） ７．７５（ｍ，２Ｈ）

【０１６５】２．例示化合物（８）の合成

【０１６６】アセトニトリル５０ml中にヒドラジン塩酸
塩Ａ７．０ｇを分散し、室温でジエチルリン酸クロリド
３．０mlとトリエチルアミン３．６mlを添加し、室温で
５時間攪拌した。反応液を水１００mlに加え、常法に従
って酢酸エチルで抽出した。抽出液を濃縮し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマト（ｎ−ヘキサン／酢酸エチル）
で精製し、エタノールで晶析し乾燥後、例示化合物
（８）を得た（収量６．６ｇ、収率８０％）。¹ Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃) ０．５５（ｓ，９Ｈ） ０．９０（ｔ，３Ｈ） １．２
５（ｍ，１８Ｈ） １．５０（ｓ，６Ｈ） １．９５（ｍ，２Ｈ） ４．２
０（ｍ，６Ｈ） ４．２５（ｄ，１Ｈ） ５．３０（ｓ，１Ｈ） ６．２
０（ｍ，３Ｈ） ６．９２（ｍ，３Ｈ） ７．４５（ｍ，１Ｈ） ７．２
０（ｍ，１Ｈ）

【０１６７】本発明の化合物は２種以上併用して用いて
もよい。また本発明の化合物の使用においては、ハイド
ロキノン誘導体や本発明のヒドラジン誘導体と併用して
もよい。一般式（II）で表わされる化合物は、高沸点有
機溶媒に溶解し、ゼラチン水溶液中に乳化分散して用い
ることができるほか、有機溶媒に溶解しそのまま塗布液
に添加、あるいは、ラテックス等のポリマーに含浸する
など公知の方法で用いることができる。一般式（II）で
表される化合物は二種以上組み合わせて用いてもよい。
また例えば感光材料中の保護層、感光性ハロゲン化銀乳
剤層、実質的に感度をもたない非感光性の中間層、フィ
ルター層、下塗り層、アンチハレ−ション層の少なくと
も一層に含有させて用いることができるが、感光性乳剤
層及び／または二つの感光性乳剤層（感色性は同じでも
異なっていてもよい）の間の中間層に用いることが好ま
しく、該中間層に用いることが最も好ましい。

【０１６８】一般式（II）で示される化合物の感材中へ
の総添加量は、１×１０^-7〜１×１０^-1 mol／m²、好ま
しくは１×１０^-6〜３×１０^-3 mol／m²より好ましくは
１×１０^-5〜８×１０^-4 mol／m²である。

【０１６９】また、本発明のハロゲン化銀カラー写真感
光材料はハロゲン化銀溶剤を含む現像液で現像処理を行
って画像形成を行うのが好ましい。

【０１７０】本発明のハロゲン化銀カラー写真感光材料
は好ましくはハロゲン化銀カラー反転感光材料である。

【０１７１】本発明のハロゲン化銀写真乳剤、およびそ
れを用いたハロゲン化銀写真感光材料に用いることので
きる種々の技術や無機・有機の素材については一般には
リサーチ・ディスクロージャーNo. ３０８１１９（１９
８９年）に記載されたものを用いることができる。

【０１７２】これに加えて、より具体的には、例えば、
本発明のハロゲン化銀写真乳剤が適用できるカラー写真
感光材料に用いることができる技術および無機・有機素
材については、欧州特許第４３６，９３８Ａ２号の下記
の箇所及び下記に引用の特許に記載されている。

【０１７３】 項 目 該 当 箇 所 １）層構成 第１４６頁３４行目〜第１４７頁２５行目 ２）ハロゲン化銀乳剤 第１４７頁２６行目〜第１４８頁１２行目に記載の ものが本発明の乳剤と併用することができる。 ３）イエローカプラー 第１３７頁３５行目〜第１４６頁３３行目、第１４ ９頁２１行目〜２３行目 ４）マゼンタカプラー 第１４９頁２４行目〜第２８行目；欧州特許第４２ １，４５３Ａ１号の第３頁５行目〜第２５頁５５行 目 ５）シアンカプラー 第１４９頁２９行目〜３３行目；欧州特許第４３２ ，８０４Ａ２号の第３頁２８行目〜第４０頁２行目 ６）ポリマーカプラー 第１４９頁３４行目〜３８行目；欧州特許第４３５ ，３３４Ａ２号の第１１３頁３９行目〜第１２３頁 ３７行目 ７）カラードカプラー 第５３頁４２行目〜第１３７頁３４行目、第１４９ 頁３９行目〜４５行目 ８）その他の機能性 第７頁１行目〜第５３頁４１行目、第１４９頁４６ カプラー 行目〜第１５０頁３行目；欧州特許第４３５，３３ ４Ａ２号の第３頁１行目〜第２９頁５０行目 ９）防腐・防黴剤 第１５０頁２５行目〜２８行目 10) ホルマリン 第１４９頁１５行目〜１７行目 スカベンジャー 11) その他の添加剤 第１５３頁３８行目〜４７行目；欧州特許第４２１ ，４５３Ａ１号の第７５頁２１行目〜第８４頁５６ 行目、第２７頁４０行目〜第３７頁４０行目 12) 分散方法 第１５０頁４行目〜２４行目 13) 支持体 第１５０頁３２行目〜３４行目；特開平６−５１４ ３７号の第１頁１行目〜第１４頁３３行目 14) 膜厚・膜物性 第１５０頁３５行目〜４９行目 15) 発色現像工程 第１５０頁５０行目〜第１５１頁４７行目 16) 脱銀工程 第１５１頁４８行目〜第１５２頁５３行目 17) 自動現像機 第１５２頁５４行目〜第１５３頁２行目 18) 水洗・安定工程 第１５３頁３行目〜３７行目

【０１７４】

【実施例】以下、本発明を実施例によって具体的に説明
するが、本発明はこれに限定されるものではない。 実施例１ 試料１０１の作製 下塗りを施した厚み１２７μの三酢酸セルロースフィル
ム支持体上に、下記の組成の各層より成る多層カラー感
光材料を作製し、試料１０１とした。数字はm²当りの添
加量を表す。なお添加した化合物の効果は記載した用途
に限らない。 第１層：ハレーション防止層 黒色コロイド銀 0.20 ｇ ゼラチン 1.90 ｇ 紫外線吸収剤Ｕ−１ 0.10 ｇ 紫外線吸収剤Ｕ−３ 0.040ｇ 紫外線吸収剤Ｕ−４ 0.10 ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−１ 0.10 ｇ 染料Ｅ−１の微結晶固体分散物 0.10 ｇ 第２層：中間層 ゼラチン 0.40 ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｃ 5.0 mg 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−３ 0.10 ｇ 染料Ｄ−４ 0.80mg 第３層：中間層 表面及び内部をかぶらせた微粒子沃臭化銀乳剤（平均粒径０．０６μｍ、 変動係数１８％、ＡｇＩ含量１モル％） 銀量 0.050ｇ 黄色コロイド銀 銀量 0.030ｇ ゼラチン 0.40 ｇ

【０１７５】第４層：低感度赤感性乳剤層 乳剤Ａ 銀量 0.20 ｇ 乳剤Ｂ 銀量 0.30 ｇ ゼラチン 0.80 ｇ カプラーＣ−１ 0.15 ｇ カプラーＣ−２ 0.050ｇ カプラーＣ−３ 0.050ｇ カプラーＣ−９ 0.050ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｃ 5.0 mg 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−２ 0.10 ｇ 添加物Ｐ−１ 0.10 ｇ

【０１７６】第５層：中感度赤感性乳剤層 乳剤Ｂ 銀量 0.15 ｇ 乳剤Ｃ 銀量 0.30 ｇ ゼラチン 0.80 ｇ カプラーＣ−１ 0.20 ｇ カプラーＣ−２ 0.050ｇ カプラーＣ−３ 0.20 ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−２ 0.10 ｇ 添加物Ｐ−１ 0.10 ｇ

【０１７７】第６層：高感度赤感性乳剤層 乳剤Ｄ 銀量 0.40 ｇ ゼラチン 1.10 ｇ カプラーＣ−１ 0.30 ｇ カプラーＣ−２ 0.20 ｇ カプラーＣ−３ 0.65 ｇ 添加物Ｐ−１ 0.10 ｇ

【０１７８】第７層：中間層 ゼラチン 0.60 ｇ 添加物Ｍ−１ 0.30 ｇ 混色防止剤Ｃｐｄ−Ｉ 2.6 mg 染料Ｄ−５ 0.020ｇ 染料Ｄ−６ 0.010ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−１ 0.020 ｇ

【０１７９】 第８層：中間層 表面及び内部をかぶらせた沃臭化銀乳剤（平均粒径０．０６μｍ、変動係 数１６％、ＡｇＩ含量０．３モル％) 銀量 0.030ｇ 黄色コロイド銀 銀量 0.020ｇ ゼラチン 1.00 ｇ 添加物Ｐ−１ 0.20 ｇ 混色防止剤Ｃｐｄ−Ａ 0.10 ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｃ 0.10 ｇ

【０１８０】第９層：低感度緑感性乳剤層 乳剤Ｅ 銀量 0.15 ｇ 乳剤Ｆ 銀量 0.20 ｇ 乳剤Ｇ 銀量 0.20 ｇ ゼラチン 0.50 ｇ カプラーＣ−４ 0.10 ｇ カプラーＣ−７ 0.050ｇ カプラーＣ−８ 0.10 ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｂ 0.030ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｄ 0.020ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｅ 0.020ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｆ 0.040ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｌ 0.020ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−１ 0.10 ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−２ 0.10 ｇ

【０１８１】第１０層：中感度緑感性乳剤層 乳剤Ｇ 銀量 0.30 ｇ 乳剤Ｈ 銀量 0.10 ｇ ゼラチン 0.60 ｇ カプラーＣ−４ 0.070ｇ カプラーＣ−７ 0.050ｇ カプラーＣ−８ 0.050ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｂ 0.030ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｄ 0.020ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｅ 0.020ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｆ 0.050ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｌ 0.050ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−２ 0.010ｇ

【０１８２】第１１層：高感度緑感性乳剤層 乳剤Ｉ 銀量 0.50 ｇ ゼラチン 1.00 ｇ カプラーＣ−４ 0.20 ｇ カプラーＣ−７ 0.10 ｇ カプラーＣ−８ 0.050ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｂ 0.070ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｅ 0.030ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｆ 0.035ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｌ 0.020ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−１ 0.020ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−２ 0.020ｇ

【０１８３】第１２層：中間層 ゼラチン 0.60 ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｊ 0.050ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−１ 0.050ｇ

【０１８４】第１３層：イエローフィルター層 黄色コロイド銀 銀量 0.020ｇ ゼラチン 1.10 ｇ 混色防止剤Ｃｐｄ−Ａ 0.010ｇ 化合物Ｃｐｄ−Ｌ 0.010ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−１ 0.010ｇ 染料Ｅ−２の微結晶固体分散物 0.080ｇ 染料Ｅ−３の微結晶固体分散物 0.010ｇ

【０１８５】第１４層：中間層 ゼラチン 0.60 ｇ

【０１８６】第１５層：低感度青感性乳剤層 乳剤Ｊ 銀量 0.20 ｇ 乳剤Ｋ 銀量 0.30 ｇ ゼラチン 0.80 ｇ カプラーＣ−５ 0.25 ｇ カプラーＣ−６ 0.05 ｇ カプラーＣ−１０ 0.40 ｇ

【０１８７】第１６層：中感度青感性乳剤層 乳剤Ｌ 銀量 0.25 ｇ 乳剤Ｍ 銀量 0.25 ｇ ゼラチン 0.90 ｇ カプラーＣ−５ 0.10 ｇ カプラーＣ−６ 0.10 ｇ カプラーＣ−１０ 0.60 ｇ

【０１８８】第１７層：高感度青感性乳剤層 乳剤Ｎ 銀量 0.35 ｇ 乳剤Ｏ 銀量 0.20 ｇ ゼラチン 1.20 ｇ カプラーＣ−５ 0.20 ｇ カプラーＣ−６ 0.20 ｇ カプラーＣ−１０ 0.45 ｇ 高沸点有機溶媒Ｏｉｌ−２ 0.10 ｇ

【０１８９】第１８層：第１保護層 ゼラチン 0.70 ｇ 紫外線吸収剤Ｕ−１ 0.20 ｇ 紫外線吸収剤Ｕ−２ 0.050ｇ 紫外線吸収剤Ｕ−５ 0.30 ｇ ホルマリンスカベンジャー Ｃｐｄ−Ｈ 0.40 ｇ 染料Ｄ−１ 0.15 ｇ 染料Ｄ−２ 0.050ｇ 染料Ｄ−３ 0.10 ｇ

【０１９０】 第１９層：第２保護層 コロイド銀 銀量 0.10mg 微粒子沃臭化銀乳剤（平均粒径０．０６μｍ、ＡｇＩ含量１モル％） 銀量 0.10 ｇ ゼラチン 0.40 ｇ

【０１９１】 第２０層：第３保護層 ゼラチン 0.40 ｇ ポリメチルメタクリレート（平均粒径1.5 μ） 0.10 ｇ メチルメタクリレートとアクリル酸の４：６の共重合体 （平均粒径1.5 μ） 0.10 ｇ シリコーンオイル 0.030ｇ 界面活性剤Ｗ−１ 3.0 mg 界面活性剤Ｗ−２ 0.030ｇ

【０１９２】また、すべての乳剤層には上記組成物の他
に添加剤Ｆ−１〜Ｆ−８を添加した。さらに各層には上
記組成物の他にゼラチン硬化剤Ｈ−１及び塗布用、乳化
用界面活性剤Ｗ−３、Ｗ−４、Ｗ−５、Ｗ−６を添加し
た。更に防腐、防黴剤としてフェノール、１，２−ベン
ズイソチアゾリン−３−オン、２−フェノキシエタノー
ル、フェネチルアルコール、ｐ−安息香酸ブチルエステ
ルを添加した。 有機固体分散染料の分散物の調整 染料Ｅ−１を以下の方法で分散した。即ち、メタノール
を３０％含む染料のウェットケーキ１４３０ｇに水及び
ＢＡＳＦ社製 Pluronic Ｆ８８（エチレンオキシド−プ
ロピレンオキシド ブロック共重合体）２００ｇを加え
て攪拌し、染料濃度６％のスラリーとした。次に、アイ
メックス（株）製ウルトラビスコミル（ＵＶＭ−２）に
平均粒径０．５mmのジルコニアビースを１７００ml充填
し、スラリーを通して周速約１０ m／sec 、吐出量０．
５１／min で８時間粉砕した。ビーズを濾過して除き、
水を加えて染料濃度３％に希釈した後、安定化のために
９０℃で１０時間加熱した。得られた染料微粒子の平均
粒径は０．６０μｍであり、粒径の分布の広さ（粒径標
準偏差×１００／平均粒径）は１８％であった。

【０１９３】同様にして、染料Ｅ−２、Ｅ−３の固体分
散物を得た。平均粒径は０．５４μｍおよび０．５６μ
ｍであった。

【０１９４】

【表１】

【０１９５】

【表２】

【０１９６】

【表３】

【０１９７】

【化６７】

【０１９８】

【化６８】

【０１９９】

【化６９】

【０２００】

【化７０】

【０２０１】

【化７１】

【０２０２】

【化７２】

【０２０３】

【化７３】

【０２０４】

【化７４】

【０２０５】

【化７５】

【０２０６】

【化７６】

【０２０７】

【化７７】

【０２０８】

【化７８】

【０２０９】

【化７９】

【０２１０】

【化８０】

【０２１１】（試料１０２〜１２２の作製）試料１０１
において、第２層、第４層、第７層、第９層、第１１層
に一般式（Ｉ）で表される本発明の化合物を表４に示す
ように各層にm²当たり１．０×１０^-5モル添加し、さら
に第８層、第１３層に添加した混色防止剤Ｃｐｄ−Ａの
代わりに、比較化合物Ａ〜Ｄ、一般式（II）で表される
本発明の化合物を表４に示すように等モル置き換えし、
さらに／または同化合物を第６層、第１１層、第１７層
に表４に示すように各層m²当たり０．０３ミリモル添加
した以外は試料１０１と同様にして試料１０２〜１２２
を作製した。

【０２１２】

【表４】

【０２１３】

【化８１】

【０２１４】（試料１０２から１２２の評価） １．色再現性 このようにして作製した試料１０１〜１２２を３５ｍｍ
サイズのパトローネ形態に加工し、マクベス社製カラー
チェッカーを被写体として実技撮影を行い、下記の現像
処理を行った。得られた実技サンプルの色再現性を５人
の評価者により５段階で評価した結果を表５に示した。

【０２１５】

【表５】

【０２１６】表５より本発明の感光材料は色再現性に優
れていることが分かる。 ２．エッジ効果 実施例１で作製した試料１０１〜１２２についてエッジ
効果を測定した。エッジ効果は軟Ｘ線を１ｍｍ、２０μ
ｍの線幅のスリットを通して試料に照射後、実施例１と
同様に現像処理した後緑フィルターを通してミクロ濃度
計で測定し２０μｍ／１ｍｍの比をとってエッジ効果の
値とし、結果を表６に示した。

【０２１７】

【表６】

【０２１８】表６より本発明の感光材料は大きくエッジ
効果がかかることがわかる。

【０２１９】３．保存性 実施例１で作製した試料１０１〜１２２についてその保
存性を評価するために、これらの試料を暗所で２５℃相
対湿度６８％の条件（Ａ条件）および４５℃相対湿度８
０％の条件（Ｂ条件）でそれぞれ１４日間保存した後、
くさび形フィルターを通して白色露光を与え、実施例１
と同様の現像処理を施した。結果は赤感性感度の相対感
度で表しＡ条件に対しＢ条件の相対感度が何％低下した
かを表７に示した。ここで相対感度とはシアン濃度のカ
ブリ＋２．５の濃度を与える露光量の逆数である。さら
にＡ条件のシアン最大濃度からＢ条件のシアン最大濃度
を差し引いた値を、表７に合わせて示した。表７より色
再現性とエッジ効果では良好な性能を示した比較例の試
料１０６では高温高湿化での感度の低下はまだ大きい。
本発明の感光材料は高温高湿化で感度変化が小さいだけ
でなく最大発色濃度の変化も小さく、保存安定性に特に
優れていることが分かる。

【０２２０】

【表７】

【０２２１】 処理工程 時間 温 度 タンク容量 補充量 第一現像 ６分 38 ℃ 12リットル 2200ミリリットル／m² 第一水洗 ２分 38 ℃ 4リットル 7500ミリリットル／m² 反 転 ２分 38 ℃ 4リットル 1100ミリリットル／m² 発色現像 ６分 38 ℃ 12リットル 2200 リリットル／m² 前漂白 ２分 38 ℃ 4リットル 1100ミリリットル／m² 漂 白 ６分 38 ℃ 12リットル 220ミリリットル／m² 定 着 ４分 38 ℃ 8リットル 1100ミリリットル／m² 第二水洗 ４分 38 ℃ 8リットル 7500ミリリットル／m² 最終リンス １分 25 ℃ 2リットル 1100ミリリットル／m²

【０２２２】各処理液の組成は以下の通りであった。 〔第一現像液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 ニトリロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチレンホスホン 酸・５ナトリウム塩 1.5g 1.5g ジエチレントリアミン五酢酸・５ナトリウム塩 2.0g 2.0g 亜硫酸ナトリウム 30g 30g ハイドロキノン・モノスルホン酸カリウム 20g 20g 炭酸カリウム 15g 20g 重炭酸ナトリウム 12g 15g １−フェニル−４−メチル−４−ヒドロキシ メチル−３−ピラゾリドン 1.5g 2.0g 臭化カリウム 2.5g 1.4g チオシアン酸カリウム 1.2g 1.2g ヨウ化カリウム 2.0mg − ジエチレングリコール 13g 15g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル ｐＨ 9.60 9.60 ｐＨは硫酸又は水酸化カリウムで調整した。

【０２２３】 〔反転液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 ニトリロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチレンホスホン 酸・５ナトリウム塩 3.0g タンク液に同じ 塩化第一スズ・２水塩 1.0g ｐ−アミノフェノール 0.1g 水酸化ナトリウム 8g 氷酢酸 15ミリリットル 水を加えて 1000ミリリットル ｐＨ 6.00 ｐＨは酢酸又は水酸化ナトリウムで調整した。

【０２２４】 〔発色現像液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 ニトリロ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチレンホスホン 酸・５ナトリウム塩 2.0g 2.0g 亜硫酸ナトリウム 7.0g 7.0g リン酸３ナトリウム・１２水塩 36g 36g 臭化カリウム 1.0g ヨウ化カリウム 90mg 水酸化ナトリウム 3.0g 3.0g シトラジン酸 1.5g 1.5g Ｎ−エチル−Ｎ−（β−メタンスルホンアミドエチ ル）−３−メチル−４−アミノアニリン・３／２ 硫酸・１水塩 11g 11g ３，６−ジチアオクタン−１，８−ジオール 1.0g 1.0g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル ｐＨ 11.80 12.00 ｐＨは硫酸又は水酸化カリウムで調整した。

【０２２５】 〔前漂白〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 エチレンジアミン４酢酸・２ナトリウム塩・ ２水塩 8.0g 8.0g 亜硫酸ナトリウム 6.0g 8.0g １−チオグリセロール 0.4g 0.4g ホルムアルデヒド重亜硫酸ナトリウム付加物 30g 35g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル ｐＨ 6.30 6.10 ｐＨは酢酸又は水酸化ナトリウムで調整した。

【０２２６】 〔漂白液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 エチレンジアミン４酢酸・２ナトリウム塩・ ２水塩 2.0g 4.0g エチレンジアミン４酢酸・Fe(III) ・アンモ ニウム・２水塩 120g 240g 臭化カリウム 100g 200g 硝酸アンモニウム 10g 20g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル ｐＨ 5.70 5.50 ｐＨは硝酸又は水酸化ナトリウムで調整した。

【０２２７】 〔定着液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 チオ硫酸アンモニウム 80g タンク液に同じ 亜硫酸ナトリウム 5.0g 〃 重亜硫酸ナトリウム 5.0g 〃 水を加えて 1000ミリリットル 〃 ｐＨ 6.60 ｐＨは酢酸又はアンモニア水で調整した。

【０２２８】 〔安定液〕 〔タンク液〕 〔補充液〕 1,2−ベンゾイソチアゾリン−３−オン 0.02g 0.03g ポリオキシエチレン−ｐ−モノノニルフェニル エーテル（平均重合度１０） 0.3 g 0.3 g ポリマレイン酸（平均分子量2,000) 0.1 g 0.15g 水を加えて 1000ミリリットル 1000ミリリットル ｐＨ 7.0 7.0

【０２２９】実施例２ １）支持体 本実施例で用いた支持体は、下記の方法により作製し
た。市販のポリエチレン−２，６−ナフタレートポリマ
ー１００重量部と紫外線吸収剤としてTinuvin P.326
（チバ・ガイギーCiba−Geigy 社製）２重量部とを常法
により乾燥した後、３００℃にて溶融後、Ｔ型ダイから
押し出し１４０℃で３．０倍の縦延伸を行い、続いて１
３０℃で３．０倍の横延伸を行い、さらに２５０℃で６
秒間熱固定して厚さ９０μｍのＰＥＮフィルムを得た。
さらに、その一部を直径２０cmのステンレス巻き芯に巻
付けて、１１０℃、４８時間の熱履歴を与えた。 ２）下塗層の塗設 上記支持体は、その両面にコロナ放電処理、ＵＶ放電処
理、さらにグロー放電処理、および火焔処理をした後、
それぞれの面に下記組成の下塗液を塗布して、下塗層を
延伸時高温面側に設けた。コロナ放電処理はピラーPill
ar社製ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡモデルを
用い、３０cm幅支持体を２０ｍ／分で処理する。このと
き、電流・電圧の読み取り値より、被処理物は０．３７
５ＫＶ・Ａ・分／m²の処理がなされた。処理時の放電周
波数は、９．６ＫＨｚ、電極と誘電体ロールのギャップ
クリアランスは、１．６mmであった。又ＵＶ放電処理
は、７５℃で加熱しながら放電処理した。さらにグロー
放電処理は、円柱電極で３０００Ｗで３０秒間照射し
た。 ゼラチン 3 ｇ 蒸留水 25 ml ソジウム α−スルホ−ジ−２−エチルヘキシル サクシネート 0.05ｇ ホルムアルデヒド 0.02ｇ サリチル酸 0.1 ｇ ジアセチルセルロース 0.5 ｇ ｐ−クロロフェノール 0.5 ｇ レゾルシン 0.5 ｇ クレゾール 0.5 ｇ （CH₂ ＝CHSO₂CH₂CH₂NHCO)₂CH₂ 0.2 ｇ トリメチロールプロパンのアジリジン３倍モル付加物 0.2 ｇ トリメチロールプロパン−トルエンジイソシアナート の３倍モル付加物 0.2 ｇ メタノール 15 ml アセトン 85 ml ホルムアルデヒド 0.01ｇ 酢酸 0.01ｇ 濃塩酸 0.01ｇ

【０２３０】３）バック層の塗設 下塗後の上記支持体の片方の面に、バック層として下記
組成の帯電防止層、磁気記録層、および滑り層を塗設し
た。 ３−１）帯電防止層の塗設 ３−１−１）導電性微粒子分散液（酸化スズ−酸化アン
チモン複合物分散液）の調製 塩化第二スズ水和物２３０重量部と三塩化アンチモン２
３重量部をエタノール３０００重量部に溶解し、均一溶
液を得た。この溶液に、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液
を前記溶液のｐＨが３になるまで滴下し、コロイド状酸
化第二スズと酸化アンチモンの共沈澱を得た。得られた
共沈澱を５０℃に２４時間放置し、赤褐色のコロイド状
沈澱を得た。

【０２３１】赤褐色コロイド状沈澱を遠心分離により分
離した。過剰なイオンを除くため、沈澱に水を加え遠心
分離によって水洗した。この操作を３回繰り返し、過剰
イオンを除去した。過剰イオンを除去したコロイド状沈
澱２００重量部を水１５００重量部に再分散し、６５０
℃に加熱した焼成炉に噴霧し、青味がかった平均粒径
０．００５μｍの酸化スズ−酸化アンチモン複合物の微
粒子粉末を得た。この微粒子粉末の比抵抗は５Ω・cmで
あった。上記の微粒子粉末４０重量部と水６０重量部の
混合液をｐＨ７．０に調製し、攪拌機で粗分散の後、横
型サンドミル（商品名ダイノミル；ＷＩＬＬＹＡ．ＢＡ
Ｃ ＨＯＦＥＮＡＧ製）で滞留時間が３０分になるまで
分散して調製した。この時の二次凝集体の平均粒径は約
０．０４μｍであった。

【０２３２】３−１−２）導電性層の塗設 下記の処方による導電性層を乾燥膜厚が０．２μｍにな
るように塗布し、１１５℃で６０秒間乾燥した。 ３−１−１）で作製の導電性微粒子分散液 20 重量部 ゼラチン 2 重量部 水 27 重量部 メタノール 60 重量部 Ｐ−クロロフェノール 0.5 重量部 レゾルシン 2 重量部 ポリオキシエチレン ノニルフェニルエーテル 0.01重量部 得られた導電性膜の抵抗は、１０^8.0 （１００Ｖ）であ
り、優れた帯電防止性能を有するものであった。 ３−２）磁気記録層の塗設 磁性体Ｃｏ−被着γ−Fe₂O₃ （長軸０．１４μｍ、単軸
０．０３μｍの針状、比表面積４１m²／ｇ、飽和磁化８
９ emu／ｇ、表面は酸化アルミと酸化珪素でそれぞれFe
₂O₃ の２重量％で表面処理されている、保磁力930 Oe、
Fe⁺²／Fe⁺³比は６／９４）１１００ｇを水２２０ｇ及び
ポリ（重合度１６）オキシエチレンプロピル トリメト
キシシランのシランカップリング剤を１５０ｇ添加し
て、オープニーダーで３時間良く混練した。この粗分散
した粘性のある液を７０℃で１昼夜乾燥し、水を除去し
た後、１１０℃、１時間加熱して表面処理をした磁気粒
子を作製した。さらに以下の処方で、再びオープンニー
ダーにて混練した。

【０２３３】 上記表面処理済み磁気粒子 1000 ｇ ジアセチルセルロース 17 ｇ メチルエチルケトン 100 ｇ シクロヘキサノン 100 ｇ さらに、以下の処方でサンドミル（１／４Ｇ）で２００
rpm 、４時間微細分散した。 上記混練品 100 ｇ ジアセチルセルロース 60 ｇ メチルエチルケトン 300 ｇ シクロヘキサノン 300 ｇ さらにジアセチルセルロースと、硬化剤としてトリメチ
ロールプロパン−トルエンジイソシアナートの３倍モル
付加物をバインダーに対して２０ｗｔ％添加した。得ら
れた液の粘度が約８０ｃｐとなるように、等量のメチル
エチルケトンとシクロヘキサノンで希釈した。又、塗布
は、上記の導電性層の上にバーコーターで膜厚が１．２
μｍとなるように行なった。磁性体の量は６２mg／m²と
なるように塗布した。またマット剤としてシリカ粒子
（０．３μｍ）と研磨剤の酸化アルミ（０．５μｍ）を
それぞれ１０mg／m²となるように添加した。乾燥は１１
５℃、６分実施した（乾燥ゾーンのローラーや搬送装置
はすべて１１５℃となっている）。Ｘ−ライトのステー
タスＭでブルーフィルターを用いた時の、磁気記録層の
Ｄ^B の色濃度の増加分は、約０．１であった。また、磁
気記録層の飽和磁化モーメントは４．２ emu／m²、保磁
力923 Oe、角形比は６５％であった。

【０２３４】３−３）滑り層の調製 下記処方液を化合物の固形分塗布量が下記のようになる
ように塗布し、１１０℃で５分乾燥させて滑り層を得
た。 ジアセチルセルロース 25 mg／m² C₆H₁₃CH(OH)C₁₀H₂₀COOC₄₀H₈₁ (化合物a) 6 mg／m² C₅₀H₁₀₁O(CH₂CH₂O)₁₆H (化合物b) 9 mg／m² なお、化合物ａ／化合物ｂ（６：９）は、キシレンとプ
ロピレングリコールモノメチルエーテル（容量比１：
１）溶媒中で１０５℃に加熱、溶解し、この液を１０倍
量のプロピレングリコールモノメチルエーテル（２５
℃）に注加して微細分散液とした。さらに５倍量のアセ
トン中で希釈した後、高圧ホモジナイザー（２００気
圧）で再分散し、分散物（平均粒径０．０１μｍ）にし
てから添加して用いた。得られた滑り層の性能は、動摩
擦係数０．０６（５mmφのステンレス硬球、荷重１００
ｇ、スピード６cm／minute) 、静摩擦係数０．０７（ク
リップ法）であり、優れた特性を有する。また後述する
乳剤面との滑り特性も動摩擦係数０．１２であった。

【０２３５】４）感材層の塗設と評価 次に、前記で得られたバック層の反対側に、実施例１と
同じ感材層を重層塗布し、得られた試料に対し実施例１
と同様の評価を行ったところ本発明の効果は同様に発現
した。

【０２３６】実施例３ 特開平１−１５８４３１における実施例１の感光材料と
同じ構成の試料３０１を作成し、試料３０１の第５層、
第８層の混色防止剤（＊１０）を当モルの本発明の化合
物（１）に置き換え、さらに本発明の化合物 III−１を
第３層、第６層、第７層、第９層にm²あたり、１．０×
１０^-6モル添加した他は試料３０１と全く同様に試料３
０２を作成した。試料３０１、３０２に対し本特許の実
施例１と同じ評価を行った（現像処理は特開平１−１５
８４３１の実施例１記載のもの）ところ本発明の効果は
本特許の実施例１と同様に発現した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小野 三千夫 神奈川県南足柄市中沼210番地 富士写真 フイルム株式会社内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上にそれぞれ少なくとも一層以上
   の青感性層、緑感性層及び赤感性層を有するハロゲン化
   銀カラー写真感光材料において、該感光材料を構成する
   少なくとも一層に下記一般式（Ｉ）で表される化合物の
   少なくとも一種と一般式（II）で表される化合物の少な
   くとも一種を含有することを特徴とするハロゲン化銀カ
   ラー写真感光材料。 一般式（Ｉ） Ｒｅｄ−（Ｌ）ｎ−（Ｇ）ｍ−（Ｔｉｍｅ）ｔ−Ｘ 式中、Ｒｅｄは酸化還元母核またはその前駆体を表し、
   写真現像処理中に酸化されることによってはじめて−
   （Ｔｉｍｅ）ｔ−Ｘが離脱することを可能ならしめる原
   子団を表す。ＴｉｍｅはＲｅｄの酸化体より離脱した後
   Ｘを放出する基を表し、Ｘは現像抑制剤を表す。Ｌは二
   価の連結基を表し、Ｇは酸性基を表す。ｎｍ、ｔはそれ
   ぞれ０または１を表す。ただし、ｎ＝１のとき、ｍ＝０
   であることはない。 一般式（II） 【化１】 式（II）において、Ｒ²¹はアリール基又はヘテロ環基を
   表し、Ｒ²²はアルキル基、シクロアルキル基、アリール
   基、アルコキシ基またはアリーロキシ基を表し、Ａ²¹お
   よびＡ²²は、水素原子またはアルカリにより離脱しうる
   基を表し、ｍは１、２あるいは３を表し、ｎは０、１あ
   るいは２を表し、ｍとｎの合計は３であり、ｎが２のと
   き２つのＲ²²は同じであっても異なっていてもよく、互
   いに連結してＰ原子を含む環状構造を形成してもよく、
   Ｘはイオウ原子又は酸素原子を表し、Ｒ²¹またはＲ²²で
   結合して、２量体以上の多量体を形成してもよい。ただ
   しＲ²¹はｐ位にアシルアミノ基が置換したフェニル基で
   あることはない。
2. 【請求項２】 請求項１に記載のハロゲン化銀カラー写
   真感光材料の処理方法において、黒白現像処理後ｐＨ１
   １以上の発色現像処理液を用いて処理することを特徴と
   するハロゲン化銀カラー写真感光材料の処理方法。