JPH08209374A - ニッケル・コバルトの加圧浸出方法 - Google Patents

ニッケル・コバルトの加圧浸出方法

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JPH08209374A
JPH08209374A JP7312104A JP31210495A JPH08209374A JP H08209374 A JPH08209374 A JP H08209374A JP 7312104 A JP7312104 A JP 7312104A JP 31210495 A JP31210495 A JP 31210495A JP H08209374 A JPH08209374 A JP H08209374A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 スラリー中の硫化物からNi・Coを浸出す
る方法を提供する。 【解決手段】 硫化物沈降物から、Ni及びCoを加圧
浸出する方法において、圧力容器の中に硫化物沈降物の
水性スラリーを投入し、酸化還元触媒としての銅の存在
下、制御した酸化還元電位の予め決めた値400〜55
0mV(Ag/AgCl)、120〜160℃の温度、
過大気圧で、水性スラリーを塩素で浸出することから成
り、かつ予め決めた酸化還元電位及び温度は、加圧浸出
の間、Coを少なくとも80%溶解し、かつイオウ10
%未満を硫酸塩まで酸化する値であり、かつ適切な酸化
還元電位測定プローブを使用しながら圧力容器内の酸化
還元電位を連続的に測定することによって、かつ圧力容
器の中に塩素の所要量を連続的又は断続的に注入して前
記浸出操作が完了するまで酸化還元電位を予め決めた値
に保持することによって酸化還元電位を制御する、上記
加圧浸出方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、制御した酸化還元
電位条件下、塩素で、硫化ニッケル及び硫化コバルトを
加圧浸出することに関する。一層詳しくは、本発明は、
針ニッケル鉱(millerite) (NiS)が主なニッケル化
合物であり、コバルト−針ニッケル鉱(cobalt-millerit
e)(CoS)が主なコバルト化合物であり、しかも、銅
含有量が低く、通常、0.5%未満であり、一方、イオ
ウ含有量は高く、通常、30〜40%の範囲であり、こ
れらの沈降物は浸出が困難であるような、硫化物沈降物
の加圧浸出に関する。
【0002】
【従来の技術】ラテライト鉱石は、ニッケル、コバル
ト、鉄、アルミニウム、マグネシウム及びケイ素の酸化
物を通常含有しているように知られている。これらの鉱
石の湿式冶金処理には、硫酸及びアンモニアの浸出が含
まれる。このとき、ニッケル及びコバルトを主として含
有する浸出貴液(pregnant leach solution) からのH2
S沈降によって、硫化物沈降物が得られる。この沈降物
中において、針ニッケル鉱(NiS)は主なニッケル化
合物であり、コバルト−針ニッケル鉱(CoS)は主な
コバルト化合物である。その沈降物中のイオウ含有量は
高く、約30〜40%である。
【0003】硫化物マット(sulphide matte)は、ニッケ
ル、コバルト、銅、鉄、及び他の非鉄金属を含有する硫
化物沈降物を溶解することによって得られる、乾式冶金
の生成物である。このマット中における主なニッケル成
分はNi3 2 であり、イオウ含有量は約17〜25%
である。硫化物沈降物を浸出することは硫化物マットを
浸出することよりもかなり困難であると言う事は周知で
ある。
【0004】1975年4月29日の米国特許第3,8
80,653号明細書に開示される通り、大気圧下での
塩素浸出方法は上述の型の硫化物沈降物を浸出するには
不十分であることが分かっている。その特許明細書に開
示される最適条件(即ち、飽和甘汞電極で測定した酸化
還元電位450mV(S.C.E)かつ100℃以上で
5〜6時間)で浸出した場合でも、ニッケルは80%以
下、及びコバルトは40%以下しか溶解しなかった。大
気圧条件下、酸化還元電位を500mVまで増大して
も、ニッケル及びコバルトの溶解はほとんど改善されな
かったが、硫酸塩まで酸化したイオウの割合は有意に増
大した。そのことはあまり望ましいことではない。
【0005】従って、硫化物沈降物からニッケル及びコ
バルトの回収を増大するためには、酸浸出工程より前に
バイ焼してニッケル及びコバルトの酸化物を生成するよ
うな、又は、溶解してニッケル及びコバルトのマットを
生成するような、乾式冶金の前処理が通常、必要であ
る。しかし、そのような前処理は、全工程の操業費及び
資本費を増加させる。
【0006】米国特許第4,828,809号明細書に
は、ニッケル及び銅を含有する硫化物マット(nickel- a
nd copper-bearing sulphidic matte)の塩素による加圧
浸出が開示されている。その明細書で、前記マットは、
圧力釜(オートクレーブ)の中で、140〜150℃の
温度、3〜4気圧(45〜60psi)で浸出される。
酸化還元電位は310〜320mV(S.E.C)に制
御される。この方法も、前述のような硫化物沈降物には
不十分であることが分かった。この方法によると、銅よ
りもニッケルの溶解が優位となり、かつ、コバルトは十
分に溶解しないからである。実際、本出願人等は、既知
の多数の浸出方法を試みて前述の硫化物沈降物を浸出し
た。しかし、どの浸出方法でもコバルトの溶解は60%
以上にならなかった。ニッケルの溶解は幾分大きかった
が、通常80%未満であった。これは明らかに満足でき
るものではない。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
の一つは、スラリー中に存在する、イオウが弱く酸化さ
れた硫化物からニッケル及びコバルトの溶解を大きくす
る浸出方法を提供することにある。
【0008】本発明の他の目的は、乾式冶金の前処理を
必要とせず、それによって全操作のコストをかなり低減
するような硫化物沈降物の浸出方法を提供することにあ
る。
【0009】本発明の他の目的及び利点は、それらに関
する以下の記載から明らかにする。
【0010】
【課題を解決するための手段】硫化物沈降物から、ニッ
ケル及びコバルトを加圧浸出する方法において、圧力容
器の中に前記硫化物沈降物の水性スラリーを投入し、次
いで、酸化還元触媒としての銅の存在下、制御した酸化
還元電位の予め決めた値400〜550mV(Ag/A
gCl)(即ち、Ag/AgCl照合電極基準で測定し
て)、120〜160℃の温度、過大気圧(over-atmosp
heric)で、前記水性スラリーを塩素で浸出することから
成り、しかも、前記の予め決めた酸化還元電位及び前記
温度は、前記加圧浸出の間、コバルトを少なくとも80
%溶解し、かつ、イオウ10%未満を硫酸塩まで酸化す
るような値であり、かつ、適切な酸化還元電位測定プロ
ーブを使用しながら前記圧力容器内の酸化還元電位を連
続的に測定することによって、かつ、前記圧力容器の中
に塩素の所要量を連続的又は断続的に注入して前記浸出
操作が本質的に完了するまで前記酸化還元電位を前記の
予め決めた値に保持することによって、前記酸化還元電
位を制御する、上記加圧浸出方法を、本発明は本質的に
提供する。
【0011】本発明の方法によって浸出した硫化物沈降
物は、詳しく言えば、乾式冶金の前処理を行わない従来
の塩素浸出工程によっては十分に浸出することのできな
いものである。それら硫化物沈降物は、NiS、CoS
及び少量のCu(通常は、0.5重量%未満である。)
を含有する。そのニッケル含有量は通常50%以上であ
り、コバルト含有量は5%の範囲である。そのような沈
降物の水性スラリーを圧力容器の中に投入する。この圧
力容器は、通常、塩素の腐食作用に耐え得るようにチタ
ンで作った圧力釜である。前記沈降物は通常、既に溶解
ニッケルを含有している、ニッケル電解採取からの使用
済みの電解液又はアノード液の中でスラリー化してい
る。このスラリーのパルプ濃度は通常、15〜40%で
ある。前記沈降物のpHは通常、使用済みの電解液のp
H、即ち1〜2である。3〜4より大きいpHでは、ニ
ッケル及びコバルトは沈降し、従って、そのpHがこれ
らの値以下に維持されると言う事は周知である。これ
は、ニッケル電解採取操作からの通常のアノード液又は
使用済み電解液を単に使用することによって、容易に達
成することができる。
【0012】前記の圧力容器中で維持されている過大気
圧は通常、使用温度に依存する蒸気圧よりもほんの僅か
に大きい。その温度は、炉等の適切な加熱装置の手段に
よって望ましい水準に維持される。この様にして、13
0℃の温度により、約40psi(約2.7気圧)の蒸
気圧が生じる。そのような条件下、圧力釜中で維持され
ている圧力は、圧力釜へ塩素を注入すれば、約50ps
i(約3.4気圧)になる。この圧力は、浸出操作の
間、必ずしも安定又は一定ではなく、ある程度変動す
る。
【0013】酸化還元触媒として、銅を使用する。銅
は、触媒効果を得るのに十分な量、使用する。銅は、次
の反応による浸出操作の間、絶えず還元され、かつ酸化
される。 2Cu2+ + NiS → Ni2+ + 2Cu+
+ S0 2Cu+ + Cl2 → 2Cu2+ + 2Cl-
【0014】銅の濃度は通常、約5g/リットル〜25
g/リットルであるべきである。もし、十分な銅が当初
の沈殿物中に存在するならば、銅を添加する必要はない
かも知れない。しかし、この種の沈殿物には通常、銅は
ほとんど含まれていないので、通常幾らかの銅を添加し
てその反応に触媒作用を与える。実際、この目的のため
に、後続の浸出溶液から取り除かれた銅を加圧浸出へ再
循環し、そうすることによって酸化還元触媒として使用
することができる。
【0015】酸化還元電位は、予め決めた値400〜5
50mV(Ag/AgCl)(即ち、Ag/AgCl照
合電極基準で測定して)を有する。この酸化還元電位
は、S.C.E.基準で測定すれば、幾分異なる。適切
な酸化還元電位測定プローブは通常、測定用電極(例え
ば、白金製の)、及び照合電極(例えば、Ag/AgC
l電極又はS.C.E.電極)から成る。本発明におい
て出願人は、照合電極としてAg/AgClを使用し
た。本発明の目的のための、満足のいく酸化還元測定プ
ローブは、例えば、ブロードリ−ジェイムズ社(カリフ
ォルニア州サンタ・アナ)のレドックス・フェルムプロ
ーブ(Redox Fermprobe) である。
【0016】任意の硫化物沈殿物のための最も適切な酸
化還元電位は、実験によって決定される。最も適切な酸
化還元電位とは、ニッケル及びコバルトを満足できる程
度に溶解し、かつ容器中に存在するイオウを最小限に酸
化するような電位である。同一の浸出条件下では通常、
ニッケルはコバルトよりも一層大きい程度まで溶解す
る。従って、出願人等はコバルトの望ましい最小溶解は
少なくとも80%、好ましくは90%以上であると決定
した。このことにより、ニッケルの溶解は一層大きくな
る。そのような溶解は、400〜550mVという一定
の酸化還元電位で起きる。そのとき、過大気圧、及び1
20〜160℃の温度で浸出される。一層大きい酸化還
元電位及び一層高い温度では、一層多くのNi及びCo
が溶解する。しかし、一層多くのイオウが硫酸塩まで酸
化される。しかし、この後者の酸化は、できるだけ最小
にすべきであり、少なくとも10%以下、好ましくは2
〜6%に維持されるべきである。
【0017】このように、実験によって、酸化還元電位
と温度との最も望ましい組合わせが得られ、Ni及びC
oの満足できる溶解とイオウの弱い酸化とが達成され
る。最も好ましくは、酸化還元電位が450〜500m
V(Ag/AgCl)、かつ温度が130〜150℃に
維持されることである。
【0018】圧力容器又は圧力釜内で、測定用プローブ
及びミリボルト目盛りの適切なメータを使用しながら、
酸化還元電位を連続的に測定することによって、かつ、
必要量の塩素を圧力釜の中に注入することにより酸化還
元電位を予め決めた値に絶えず維持して、酸化還元電位
を予め選定した値に保持することによって、酸化還元電
位を予め決めた一定値に維持する。工業的操作におい
て、この制御はコンピュータによって行うことができ
る。浸出操作が本質的に完了するまで、この酸化還元電
位はそのように維持する。浸出操作が本質的に完了する
のは、酸化還元電位が安定するようになり、かつ、酸化
還元電位を予め選定した値に保持するための塩素を更に
添加する必要が全くなくなったときである。これは、本
質的に反応が完了したことを意味し、本発明の場合は通
常、2時間未満で起こる。
【0019】次いで、本発明の加圧浸出方法を使用して
いる浸出溶液の中に溶解したニッケル及びコバルトは、
溶液の精製、電解採取等の従来の諸方法によって更に処
理し回収し、純粋なニッケル金属及びコバルト金属を生
成することができる。単体イオウを浸出残渣から取り出
す。
【0020】図1は、全体工程の他の諸工程と関連して
使用する、本発明の加圧浸出10を説明する。既に上述
したように、硫化物沈降物は加圧浸出10にかける。加
圧浸出10において、酸化還元電位は11で制御し、1
2でCl2 を注入することによって、予め決めた値40
0〜550mV(Ag/AgCl基準で測定して)に維
持する。この加圧浸出の中の温度は120〜160℃に
維持する。119℃はイオウの融点であり、加圧浸出の
中の温度はこの温度より高くなくてはならないことに注
目すべきである。一方、あまり高い温度では、イオウの
粘性は非常に高くなり、かつ操作が困難である。これ
が、上記温度範囲を使用する理由である。
【0021】硫化物沈降物は、電解採取操作17からの
使用済み電解液を用いてスラリー化される。その硫化物
沈降物は、既にその中に溶解しているNiを含有してい
る。
【0022】加圧浸出が完了した後、13で固体−液体
の分離を行う。13において、固体は残渣に相当する。
その残渣からイオウが回収される。また、液体は貴液(p
regnant solution) に相当する。その貴液は最初、銅除
去の工程14に供される。得られた銅は、必要ならば、
酸化還元触媒として加圧浸出10へ再循環することがで
きる。
【0023】次いで、銅を除去した後、鉄、亜鉛等、他
の不純物を除去することによってNi−Co含有溶液を
15で精製する。次いで、コバルトの分離を溶媒抽出に
よって行う。次いで、電解採取17及び18を行い、そ
れぞれ純粋なニッケル及びコバルトの析出物を生成す
る。既に前述した通り、Ni電解採取からの使用済み電
解液(1〜2のpHを有する。)を使用して、加圧浸出
10のために硫化物沈降物をスラリー化することができ
る。Ni及びCoの電解採取から生成した塩素ガスも、
加圧浸出10のために使用することができる。
【0024】図2は、図1の加圧浸出操作10の中で実
施する制御装置を説明する。その加圧浸出操作は、圧力
容器又は圧力釜20の中で行う。その圧力容器又は圧力
釜の中へ硫化物沈降物のスラリー22を投入する。次い
で、その圧力容器又は圧力釜をカバー24で密閉する。
圧力容器は通常、チタン製圧力釜であって、撹拌機26
を有し、浸出溶液中で固体が拡散した状態を保持する。
炉28も装備し、圧力釜を加熱し、かつ炉内のスラリー
を予め決めた温度120〜160℃に保持する。この温
度は熱電対36で測定する。圧力は圧力ゲージ30で測
定するが、通常、25〜90psi(約1.7〜6.0
気圧)の範囲である。
【0025】酸化還元電位は、ミリボルト目盛りにセッ
トしたpHメータ等のmV測定メータを使用して測定す
る。白金電極とAg/AgCl照合電極とから成る複合
電極又はプローブ34は、電位を測定するために使用す
る。次いで、信号(signals)を使用し、管40を通して
酸化還元電位を望ましい値に維持するのに十分な量の塩
素を注入するためのバルブ38を制御する。こうするこ
とによって、圧力釜内の酸化還元電位はすこぶる正確に
制御される。商業的操業においてならば、加圧浸出は、
酸化還元電位のコンピュータ制御による連続的基準に基
づいて実施することができる。当然ながらスラリー22
にも、導かれる操作に触媒作用を与えるのに十分な量の
銅が含有されている事は記述されるべきである。しか
し、溶液中の銅濃度は、従来の塩素浸出方法における銅
濃度よりもかなり低い。従来の塩素浸出方法では、しば
しば50g/リットルまで達し得る。本発明によると、
その濃度は通常、5〜25g/リットルの範囲である。
【0026】次の実施例によって、本発明を更に説明す
る。
【実施例】湿式冶金処理によって生成し、かつ本発明の
方法を説明するために、この決して制限されない実施例
の中で使用した、ニッケル及びコバルトの硫化物は、次
の組成を有する。
【0027】
【表1】
【0028】浸出試験を2リットルチタン製圧力釜の中
で実施した。典型的には、ニッケル及びコバルトの硫化
物250g(水を約17重量%含有している)を、水溶
液1.6リットル中で塩素を用いて2時間浸出した。そ
の水溶液は通常、ニッケル電解採取からの、約30g/
リットルのNi、種々の濃度の銅、及び平衡量の塩素イ
オン(初期pHは1.5)を含有するアノード液であっ
た。圧力釜内部の酸化還元電位は、Ag/AgCl照合
電極を基準としてインシトゥ(in situ ) で測定し、既
に前述したように必要な場合は、塩素ガスを添加するこ
とによって制御した。浸出の間に測定した圧力は、25
〜60psi(約1.7〜4.0気圧)の範囲であり、
これは温度に依存した。試験結果を表2にまとめる。イ
オウの硫酸塩までの酸化は、硫酸塩残量からの理論的に
導いたことに注意すべきである。
【0029】
【表2】 * この場合、450gの硫化物を1.6リットルの溶液中で使用した。
【0030】試験1〜3から分かるように、420mV
から450mVへの酸化還元電位の増加によって、ニッ
ケル及びコバルトの抽出率はかなり改善される。しか
し、酸化還元電位が更に500mVまで増加すると、抽
出率は僅かに減少する。また、イオウの酸化は、酸化還
元電位420〜450mVでは同程度である(4.8
%)。しかし、まだ許容範囲内ではあるが、酸化還元電
位500mVでは実質的に高くなっている(6.7
%)。
【0031】温度は加圧浸出に大きな影響を及ぼす。1
20℃以下の温度では、塩素の消耗に基づき、満足でき
ない反応速度となっている(試験4)。ニッケル及びコ
バルトの結果としての溶解度は、130℃で得られるも
のよりかなり低い。イオウの融点は119℃であるの
で、圧力釜中で生じている浸出反応は、120℃以上の
温度でのイオウの状態変化に有利であるように思える。
【0032】温度が130℃から140℃に増大したと
き(試験2及び8)、ニッケル及びコバルトの溶解度、
並びにイオウの酸化は同程度となる。
【0033】試験5では、一層大きいパルプ濃度(45
0g対250g固体)を使用したが、他の実験条件は試
験2の条件と類似させた。ニッケル及びコバルトの溶解
度は一層大きく、かつイオウの酸化は一層小さかった。
その結果によって、パルプ濃度が増大すれば加圧浸出は
プラスの効果が得られることが分かる。
【0034】加圧浸出に及ぼす銅触媒の影響は、試験
2、6及び7から見出だせる。試験6のように、銅を含
有していない溶液を使用したとき、酸化還元電位は不安
定であり、かつ、対応するニッケル及びコバルトの溶解
度は著しく減少する。銅を約5g/リットル添加すれば
(試験7)、浸出の間測定される酸化還元電位の変動は
消去され、かつ、ニッケル及びコバルトの溶解はかなり
増大する。銅を約20g/リットルまで更に増加すると
(試験2)、ニッケル、コバルト両者の溶解度は僅かに
増加する。
【0035】本発明の幾つかの好ましい具体例を参考に
しながら、本発明を説明してきたが、当業者は、本発明
の本質から逸脱することなく、又は特許請求の範囲の範
囲内で、自明な改良・変形、変形物又は適応した形態を
作ることができることは理解されるべである。
【図面の簡単な説明】
添付図を参照して本発明を説明する。
【図1】本発明の加圧浸出を使用する方法の具体例を示
す、概略的流れ図である。
【図2】本発明の加圧浸出に使用した実験的圧力容器の
概略図である。
【符号の説明】
10 加圧浸出 11 酸化還元制御装置 12 塩素注入 13 固体・液体の分離 14 Cu除去 15 溶液の精製 16 Coの分離 17 Niの電解採取 18 Coの電解採取 20 圧力容器(又は圧力釜) 22 スラリー 24 カバー 26 撹拌機 28 炉 30 圧力ゲージ 32 電圧計 34 複合電極(又はプローブ) 36 熱電対 38 バルブ 40 管

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 硫化物沈降物から、ニッケル及びコバル
    トを加圧浸出する方法において、圧力容器の中に前記硫
    化物沈降物の水性スラリーを投入し、次いで、酸化還元
    触媒としての銅の存在下、制御した酸化還元電位の予め
    決めた値400〜550mV(Ag/AgCl)、12
    0〜160℃の温度、過大気圧で、前記水性スラリーを
    塩素で浸出することから成り、しかも、前記の予め決め
    た酸化還元電位及び前記温度は、前記加圧浸出の間、コ
    バルトを少なくとも80%溶解し、かつ、イオウ10%
    未満を硫酸塩まで酸化するような値であり、かつ、適切
    な酸化還元電位測定プローブを使用しながら前記圧力容
    器内の酸化還元電位を連続的に測定することによって、
    かつ、前記圧力容器の中に塩素の所要量を連続的又は断
    続的に注入して前記浸出操作が本質的に完了するまで前
    記酸化還元電位を前記の予め決めた値に保持することに
    よって、前記酸化還元電位を制御する、上記加圧浸出方
    法。
  2. 【請求項2】 硫化物沈降物が、主なニッケル化合物と
    してのNiSと、主なコバルト化合物としてのCoS
    と、0.5%未満の低含有量の銅と、30〜40%の範
    囲の高含有量のイオウとを含有する、請求項1に記載の
    方法。
  3. 【請求項3】 スラリーが、pHが約1〜2であるアノ
    ード液中における硫化物沈降物のスラリーである、請求
    項1又は2に記載の方法。
  4. 【請求項4】 スラリーのパルプ濃度を約15〜40%
    にする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 【請求項5】 銅を約5〜25g/リットルの濃度で存
    在させる、請求項1〜4のいずれか1項に記載の方法。
  6. 【請求項6】 酸化還元電位を450〜500mV(A
    g/AgCl)にする、請求項1〜5のいずれか1項に
    記載の方法。
  7. 【請求項7】 スラリーの温度を130〜150℃にす
    る、請求項1〜6のいずれか1項に記載の方法。
  8. 【請求項8】 圧力容器中の圧力を、任意の温度におけ
    る蒸気圧よりも僅かに大きくする、請求項1〜7のいず
    れか1項に記載の方法。
  9. 【請求項9】 圧力容器中の圧力を、温度に依存して2
    5〜90psi(1.7〜6.0気圧)にする、請求項
    8に記載の方法。
  10. 【請求項10】 酸化還元電位及び温度を制御して、コ
    バルトを少なくとも90%、Niを90%以上溶解し、
    かつ、イオウ2〜6%を硫酸塩まで酸化する、請求項1
    〜9のいずれか1項に記載の方法。
  11. 【請求項11】 圧力容器がチタン製圧力釜である、請
    求項1〜10のいずれか1項に記載の方法。
  12. 【請求項12】 加圧浸出操作を達成したとき、液体−
    固体の分離を行って浸出残渣から浸出溶液を分離し、次
    いで、イオウを前記浸出残渣から取り出し、一方、前記
    浸出溶液を、銅分離工程、溶液精製工程、コバルト分離
    工程、並びにニッケル及びコバルトの電解採取工程にか
    ける、請求項1〜11のいずれか1項に記載の方法。
  13. 【請求項13】 銅除去段階からの銅の少なくとも一部
    を加圧浸出操作へ再循環し、そこでの酸化還元触媒とし
    て使用する、請求項12に記載の方法。
  14. 【請求項14】 ニッケルの電解採取からの使用済み電
    解液を、加圧浸出操作へ再循環し、次いで、硫化物沈降
    物のスラリーを形成するために使用する、請求項12に
    記載の方法。
  15. 【請求項15】 ニッケル及び(又は)コバルトの電解
    採取から生成した塩素ガスを、加圧浸出操作へ再循環
    し、次いで、そこでの塩素反応物として使用する、請求
    項12に記載の方法。
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