FI119400B

FI119400B - Menetelmä prosessin säätämiseksi

Info

Publication number: FI119400B
Application number: FI20030381A
Authority: FI
Inventors: Seppo Olavi Heimala; Kari Saloheimo; Heikki Laurila; Kari Pulkkinen; Mikko Lyyra
Original assignee: Outotec Oyj
Priority date: 2003-03-14
Filing date: 2003-03-14
Publication date: 2008-10-31
Also published as: FI20030381A; CN1761874A; FI20030381A0; CA2518795A1; US20060216827A1; AU2004219922A1; AU2004219922B9; PE20040793A1; WO2004081552A1; AR043591A1; AU2004219922B2; ZA200507145B

Description

119400

MENETELMÄ PROSESSIN SÄÄTÄMISEKSI

Tämä keksintö kohdistuu menetelmään prosessin säätämiseksi, jolla menetelmällä saadaan selville raaka-aineen koostumusta riittävällä tarkkuudella olen-5 naisen jatkuvasti prosessiolosuhteissa.

Eri prosesseille on kehitetty lukuisia säätöprosesseja. Tämä koskee sekä py-rometallurgisia että luonteeltaan hydrometallurgisia prosesseja. Pitkä kokemus on osoittanut, että useat säätömenetelmät tuottavat hyvän tuloksen, mutta vain 10 niin kauan kuin syötteen koostumus on olennaisesti vakio tai muutoin tunnettu. Raaka-aineiden laadun tullessa vaihtelevammaksi, yleensä heikommaksi, pro-sessisäädöt eivät enää pysy ajan tasalla. Tunnetut prosesseihin sopivat menetelmät ovat joko liian hitaita tai sitten erilaiset kidemuodot, liukoisuudet tai muut fysikaalis-kemialliset tekijät ovat estäneet prosessien säädön kannalta riittävän 15 tarkan ja nopean, suoraan prosessista tapahtuvan syötteen laadun seurannan. Tällaisia menetelmiä ovat olleet mm. erilaiset syötteen pitoisuusanalyyseihin, pH-mittauksiin, redox-potentiaalimittauksiin, ja röntgendiffraktioon perustuvat sekä inerttiä elektrodia käyttävät menetelmät.

• S

20 Useimmat prosessit ovat heterogeenisiin pintareaktioihin perustuvia. Siten hy- • * vin pieni muutos suoraan syötteen laadussa tai epäsuorasti syötteen koostu- • · ·*"; musmuutoksen seurauksena voi aiheuttaa suuren muutoksen prosessissa.

« · · ·’·*: Kiinto- ja sulafaasissa jo muutaman ppb.n tai ppm.n pitoisuus jotain kompo- • · nenttia voi olla merkittävä, jos komponentti rikastuu esimerkiksi käsiteltävien ··♦ 25 partikkelien pinnoille.

• Φ · • * · • · .···. Samoin nestefaaseista käytännön prosessiolosuhteissa on todettu, että pro- • ♦ sessi voi käyttäytyä eri tavoin, jos tietyt ionit, molekyylit tms. ovat läsnä neste- • · · • · \.I# faasissa mikrogrammaa litrassa (pg/l) tai milligrammaa litrassa (mg/l) suuruisina • · 30 pitoisuuksina. Lietteessä nämä voivat olla osin sekä liuosfaasissa että samalla ··· myös adsorboituneena kiintofaasipartikkelien pinnoille. Erikseen voidaan mainita luonteeltaan polymeeriset ja/tai kolloidaaliset pii-, hiili-, rikki-, arseeni- ja se- 2 119400 leenipitoiset yhdisteet ja useat muut monella eri valenssilla toimivien alkuaineiden muodostamat yhdisteet. Lisäksi tulee huomioida, että prosessin säätöön vaikuttavat komponentit eivät tule pelkästään syötteistä, vaan useasti jo prosessin alussa on prosessikiertoja, joissa kierrätetään prosessissa käytettyä vet-5 tä. Tällaiset kierrot yhdessä syötelaadun muutosten kanssa ovat todellinen haaste ei-lineaaristen yhteisvaikutusten takia, kun tarkastellaan nopeaa ja tarkkaa prosessien ennakoivaa säätöä.

Prosessien seurantaan on kehitetty tarkempia ja luotettavampia menetelmiä, 10 kuten CA-patentti 1222581. Tässä menetelmässä käytetään olennaisena osana aktiivielektrodeja, jotka on valmistettu pääsääntöisesti samoista mineraaleista kuin itse raaka-aineessakin on käsiteltävässä prosessivaiheessa. CA-patentissa 1222581 kuvattua mittaus- ja säätömenetelmää on kehitetty edelleen US-patentissa 5108495 kuvatulla tavalla, jossa käytetään hyväksi impe-15 danssianalyysia. US-patentin 5108495 mukaisesti parannetussa mittauskontrol-limenetelmässä mittaukseen ja prosessisäätöön saadaan mukaan kineettiset tekijät ja lisäksi fysikaaliset tekijät hyvin spesifisellä tavalla esimerkiksi mineraa-likohtaisesti. US-patentin 5108495 mukainen menetelmä on hyvin informatiivi- ..... nen, herkkä ja tarkka hyvin lukuisilla ja erilaisilla tekniikan alueella niin pintare- • · ..... 20 aktioiden kuin nestefaasien, sulafaasien ja kiintofaasienkin reaktioiden ja ilmiöi- • · ♦ • · :v. den mittaamisessa ja ohjauksessa. Nyt kuitenkin prosessien syötemateriaalien • «* .*··. entistä suuremmat laadun vaihtelut ovat asettaneet prosessiseurannalle ja ··· säädölle lisävaateita.

• · • · · · ♦ * • · * · · 25 Keksinnön tarkoituksena poistaa tekniikan tason mukaisia haittapuolia ja ai-kaansaada entistä parempi mittauksen ja säädön mahdollistava menetelmä, f”: jolla saadaan selville raaka-aineen koostumus riittävällä tarkkuudella olennai- sen jatkuvasti prosessiolosuhteissa prosessille, jossa on pintareaktiot ovat pro- • · * .·*·. sessin hallitseva osa kuten esimerkiksi liuotus-, saostus-, vaahdotus-, laskeu-

• · 1 » I

»·· \ 30 tumis-, suodatus- ja flokkulaatioprosesseissa. Keksinnön olennaiset tunnus- merkit selviävät oheisista patenttivaatimuksista.

• ♦ 119400 3

Keksinnön mukaisesti mitataan eri raaka-ainetyyppien aiheuttamaa vaikutusta mineraalikohtaisin potentiaaleihin ja impedanssispektreihin prosessin toiminta-alueella ja sen lähialueella. Tällä tavoin voidaan tunnistaa raaka-aine ja raaka-aineessa tapahtuvat koostumusmuutokset ja koostumusmuutoksista aiheutuvat 5 muut ominaisuusmuutokset. Samalla saadaan selville, kuinka laaja alue on eri tekijöiden osalta prosessissa käytettävissä.

Keksinnön mukaisessa menetelmässä prosessin säätämiseksi käytetään ainakin yhtä työelektrodia ja ainakin yhtä esimerkiksi hopeakloridi(AgCI)-tyyppistä 10 vertailuelektrodia. Työelektrodi on valmistettu kiinteästä tai pulverimaisesta materiaalista. Työelektrodi voi myös olla sulaa tai nestemäistä materiaalia. Työ-elektrodi voi olla regeneroitava, kuten CA-patentissa 1222581 on kuvattu, tai kertakäyttöinen, jolloin elektrodiin syötetään kontrolloidusti uutta työelektrodin valmistusmateriaalia, kuten pulveria, kiinteää materiaalia tai nestemäistä sulaa 15 materiaalia, jolloin työelektrodi regeneroidaan korvaamalla menetelmässä kulunut työelektrodin materiaali uudella materiaalilla.

Keksinnön mukaisessa menetelmässä käytettävät työelektrodi ja vertailuelekt-roni on sijoitettu ainakin yhteen mittakennoon siten, että jokaisessa mittaken- • · 20 nossa on ainakin yksi työelektrodi ja ainakin yksi vertailuelektrodi. Mittakenno • · * on asennettu edullisesti joko itse prosessivirtaan tai prosessivirrasta erotettuun näytevirtaan, joka on analysoitavissa erillisen näyteanalysaattorin avulla. Mitta- • · :v. kennoon syötetään prosessiin tai yksittäiseen prosessivaiheeseen menevää • * .***. raaka-ainetta sekä tarvittaessa reagensseja prosessin edulliseksi toteuttami- ··· 25 seksi. Mittakennoon syötetään lisäksi ennalta määrätty määrä ainakin yhtä :*·*: komponenttia, jonka aiheuttamia muutoksia mitataan mittakennossa prosessiin • · tai yksittäiseen prosessivaiheeseen menevässä raaka-aineessa tapahtuvien : v. vaihteluiden määrittämiseksi ja raaka-ainekoostumuksen tunnistamiseksi. Raa- • · ka-aineesta mahdollisesti mitattujen vaihteluiden perusteella prosessia sääde- ··· *. 30 tään prosessiolosuhteiden muuttamiseksi halutulle tasolle muutosvaikutuksen ··· ][[[. eliminoimiseksi. Prosessin säätämiseksi keksinnön mukaisesti vaadittavia mit- • tauksia eri ominaisuuksissa tapahtuvien muutosten selvittämiseksi ovat edulli- 119400 4 sesti ainakin happo-emästasapainon määritys pH-mittauksena, hapetus-pelkistystasapainon mittaus sähkökemiallisen potentiaalin avulla sekä lämpötila, jossa prosessi tai yksittäinen prosessivaihe suoritetaan. Lisäksi voidaan tarvittaessa määrittää aikafunktiolla käsiteltävän materiaalin viive prosessissa. 5 Edelleen mittauksissa on edullista huomioida joko prosessiin lisätyt tai prosessissa syntyvät kompleksin muodostajat. Kompleksin muodostajille on ominaista, että kompleksin muodostajat voivat vaikuttaa prosessin kulkuun suuresti jo hyvin pieninä, vaikeasti havaittavina pitoisuuksina. Keksinnön mukaisessa menetelmässä raaka-aineesta syntyvän tai sen laadun analysoimiseksi lisätyn 10 kompleksoivan reagenssin pitoisuuden ja laadun seurantaan käytetään vähintään kahdella mineraalielektrodilla tai inertillä elektrodilla saatujen mittaustulosten eroja.

Jotta raaka-aineen vaihtelut ja vaihteluiden seuraukset eri ominaisuuksissa voi-15 daan huomioida prosessia säädettäessä, on edullista, että mittauksia suoritetaan prosessin eri mittauspisteissä niin, että ainakin yksi mittaustulos saadaan kaikille muuttujille. Tietysti tällöin yksittäisessä mittapisteessä pyritään rajoittumaan pienimpään mahdolliseen muuttujamäärään säilyttämällä silti riittävä luo- . tettavuustaso.

• » 20 v.: Keksinnön mukaisessa menetelmässä käytettävässä mittakennossa, jonka ·· · : kautta raaka-ainetta syötetään, tulee olla siis ainakin yksi työelektrodina toimiva • · * • · *···* mineraalielektrodi, ainakin yksi vertailuelektrodi sekä edullisesti elektrodit ·· # * • · · tiettyjen aineiden, kuten kokoojien ja sulfidien, sähkökemialliseen • · **··* 25 potentiaalimittaukseen, kun mittakennoon syötetään samalla esimerkiksi jotain ... hapetinta, pelkistintä, happoa, emästä ja/tai kompleksin muodostajaa. Mineraa- • ♦ · lielektrodit sinänsä on valmistettu halutun seurattavan raaka-aineen sisältämis- • · ♦ · tä mineraaleista. Tällöin seuraamalla muutoksia mineraalielektrodien «* · • · · :# potentiaaleissa ja pintojen rakenteissa sekä liukoisten aineiden pitoisuuksia • ♦ *·;·* 30 esimerkiksi määrittämällä niiden pelkistys- tai hapetusvirtoihin liittyvät ..IV virtapiikkien pinta-alat saadaan määritettyä halutussa raaka-aineessa tapahtuvat muutokset, joita käytetään hyväksi edelleen prosessin säätämisessä. On luonnollista, että mittauskennosta voidaan tarvittaessa 119400 5 reagenssien lisäyksen aikana seurata myös joitain muita tunnettujen tekniikoiden mukaisia muuttujia, kuten sähkönjohtavuutta, lämpötilaa, värimuutoksia, pH-muutoksia, mahdollista kaasujen kehitystä, viskositeettimuutoksia, magneettisuusmuutoksia, muutoksia sameudessa, 5 muutoksia laskeutumisnopeudessa, voimakkaan ultraäänen aiheuttamia sähköisiä efektejä pintavarausten liikkuessa (= elektrokineettisiä ilmiöitä) ns. zeta-potentiaalia jne. Lisäksi on mahdollista suorittaa eri muuttujien pitoisuus-mittauksia, joilla tarkoitetaan tietyn reagenssimäärän raaka-aineessa aiheuttaman pH-muutoksen, sähkökemiallisen potentiaalimuutoksen, zeta-potentiaali-10 muutoksen mittaamista sellaisenaan tai muuttujan aikamuutoksen rekisteröintiä. Näin prosessiin syötettävästä raaka-aineesta saadaan selville etukäteen suurella tarkkuudella ja olennaisen jatkuvasti syötteen koostumustekijät. Syöttämällä saatu informaatio yhdistettyihin seuranta-säätötietokoneohjelmiin prosessi saadaan säädettyä olennaisen jatkuvasti raaka-aineen koostumusta ja 15 taloutta ajatellen optimiolosuhteisiin.

Keksinnön mukaista menetelmää voidaan soveltaa edullisesti esimerkiksi liuotus-, saostus-, vaahdotus-, laskeutumis-, suodatus- ja flokkulaatioprosessien syötteen laadun seurantaan. Tällöin määrältään tunnettuun syötevirtaan lisä- • » 20 tään mitattava määrä happoa tai emästä, pelkistintä tai hapetinta, kompleksin- * · · • ♦ muodostajaa. Mittakennon avulla seurataan lisäyksen mahdollisesti aikaan- * · • · .**·. saamaa muutosta esimerkiksi pH:ssa, sähkönjohtavuudessa, värissä, magneet- ··· :v. tisuudessa, elektrokineettisissä potentiaaleissa, sähkökemiallisissa potentiaa- • · leissa, viskositeetissa, liukoisuuksissa, kaasun muodostuksessa. Kun lisäksi ·· · 25 käytetään hyväksi mineraalikohtaista ns. impedanssispektriseurantaa, impe- :***: danssianalyysia, saadaan prosessiin syötettävän materiaalin koostumuksessa • · ;***; tapahtuvat muutokset edullisesti määritettyä.

* • · · • » · • · * * .·*·. Käyttämällä mineraalielektrodeja yhdessä impedanssianalyysin ja edellä * · · 30 mainittujen muiden menetelmien kanssa prosessisyötteen laadun vaihteluja voidaan seurata suoraan ja jatkuvasti prosessisäädölle edullisella tavalla.

• ·

Samalla saadaan selville prosessin säädöllä käytettävissä olevien 119400 6 prosessimuuttujien, kuten pH, lämpötila, toiminta-alueiden laajuus. Keksinnön mukaisessa menetelmässä impedanssiarvojen määrityksiin elektrodeilta käytetään alle 300 Hz:n, edullisesti 100 Hz:n taajuutta.

5 Käyttämällä keksinnön mukaista menetelmää voidaan myös seurata kiertävien prosessivirtojen ja syötteen laadun vaihtelun aiheuttamia yhteisvaikutuksia ja sitä kautta syötteen laadun vaihtelua. Keksinnön mukainen menetelmä sopii laajaan valikoimaan erilaisia prosesseja käytetystä lämpötilasta ja paineesta riippumatta. Tämä tarkoittaa mm. normaalipainetta käyttäviä prosesseja, auto-10 klaaviprosesseja, suolasulaprosesseja ja pyrometallurgisia prosesseja.

Keksinnön mukaista menetelmää kuvataan seuraavassa oheisen esimerkin mukaisesti, johon esimerkkiin on valittu hydratoitunut nikkelisulfidimalmi, jollaisia on maailmalla runsaasti.

15

Oheiseen esimerkkiin liittyy myös piirustus, jossa kuvio 1 esittää esimerkin taulukossa 1 mainittuja arvoja eri malmityypeille Z’-Z"-koordinaatistossa, kun pH on alussa 3,5.

, ,1 20 Kun menetelmän mukaista tekniikkaa sovellettiin tämän nikkelimalmin eri • · · • · « .1/. malmityyppien määrityksiin, saatiin tulokset, jotka on yhdistetty taulukkoon 1.

• ·

Keksinnön mukainen muutosvaikutus aiheutettiin rikkihapolla ja pelkistävällä • · :·!♦. rikkivedyllä. Taulukossa 1 Z’, Z” ja AR tarkoittavat NiS-pohjaisella • · • .···. mineraalielektrodilla raaka-ainelietteestä4mpedanssianalyysillä 5 mV:n pulssia • · · 25 ja 10 Hz:n taajuutta käyttäen saatuja vastusarvoja ohmeina. Näissä Z’ tarkoittaa ·1·1; reaaliosaa, Z” kapasitanssiin ja induktanssiin liittyviä imaginääriosia.

• ¥ :1"· Menetelmän mukainen NiS-pohjaisen mineraalielektrodin pinnan reaktiovastus • · · :!1. (Z’ pieni taajuus - Z’ iS0 taajuus) on taulukossa 1 merkitty AR:llä, jonka yksikkönä on • · • ·

.·1·. ohmi. NiS-pohjaisen mineraalielektrodin sähkökemiallisen potentiaalin E

• · · *. 30 yksikkönä taulukossa 1 on mV mitattuna AgCI/Ag-vertailuelektrodilla.

I«1 • · · 119400 7 q< 55 o ^ t*·^ CC rn ^ O Cl ^ so* v? vf ^ ^

lJ

g 2g;gf;f;S5 S

a, _-— ------*---- -tf

5 «©2© ©o f*»® S

^ w ^222^^+°+^

S · » K

* -________________——____05 ^ ti- ro os o as vn £i & r*, t}- ro oo as t-~ oc "ϊγ ^2 u-> en Os t-* £> 22 2 £3

to \d tt oa oo ^ *7! LZ

q, ,_ os ν,ο Ό 00 (N «N t^r q95 H O Tf fO 0\ oo ^ ro 01 & vo vo irT vT Tf Tf -¾- ^ - “ - -

ei ££322^- ^ SS

< 2 2 2 2^°^^ as g _ & ------------------ E 1/1

-«ω g § g g s s s £ S

b.ew c ^ ~ ^ ^ ~ -r s

ίΛ O

. «------------------;& * tt -g· oo so o° r— i0 2 *3 r, moor-ooascs N rs <o <N γί ^^ —* —a

^ ___________________-____— K

** ~ ro a\ *-* ϋ £3 2 i£ .m »o w"i os r- as o os so Ζξ

™ tnLororOrofslfN fN

^ s —..........— —----—----------“— O —, qö r- o <o m rr o r^ <j* o 5 S5 γ-j ^ ^ m ^ ““ a J & vO se <n vs ^ ^ ^ ^ 3 s g gssgagss ^ ^C — — - - ~~~ x, H E ω oggSSSS^'s «jjW ^ --< γν <N <“M rN <N ^ § -------------------1 ···*· F Os ·— Tj- m f>t ^ Λ ·· ΓΛ vo V) CC <N ^ Os Γ"· N fO fN —1 <N <N *“« — ’“1 • · * # ------1------* • · · • * ··· * τΤ Ό Ό s£, 00 |0 J£ • · · Li vo 00 — oo o ^ o as **· ^ vOOTj-fO^l^^ ^ • « ·· _______—— —— —— —-— — - • · • _ * λ oo co m <N o? Πί Σ7Ϊ o s EC — ©„ ^ °o as^ ” ·· · taJ o. a. scT so un vo" tT Tj- tT ^ • · · w ^ fc* • · ... ----------------------------------- • m ··· d ^^rsj^asöro o ·· S ^^do^ooHoo oo^: ·· . ^ o • · * .£ --- ------------—---------U3 o O o o o o o S a

**" <-0 *— <o — CN <N | ‘S

·· · vj * * :- • · pL ^ • · 5*· £r p.

**· 2 r, ojfNsoor^oo^} 2 «f «·· ____________—--------------- Ι Ϊ I^T ^-OolOOsO-J^i" ^

^ vOvoiCOTffSroOJ fN

• · · • · _ l__________________________ • · M* F— • a m . *5 E , + , + .+ < + ··· 5 e *ι«· ^ _ __ • ~ ”'" ^ - 1« s

L!_11 11 11 1 M 11 M 1 LI U

119400 8

Taulukossa 1 on esitetty saadut tulokset neljälle eri malmityypille; serpentiini amfiboli (SPAFK), talkki amfiboli (TLKAFK), sulfidipitoinen serpentiini (SSP) ja serpentiini (SP). Edellämainitut arvot (Z’,Z",AR ja E) on mitattu eri pH-arvoilla 3,5, 4, 5 ja 6, kun lietteeseen on lisätty vain rikkihappoa (-) ja kun lietteeseen on 5 lisätty myös natriumvetysulfidia (NaHS) (+). Taulukossa 1 on lisäksi mainittu pH-arvo eri mittausten jälkeen.

Käytettäessä indikaattorina vain neutraalihapon kulutusta pH:n funktiona voidaan tunnistaa malmin SP-malmityyppi, mutta ei muita malmissa esiintyviä 10 malmityyppejä. Sitä vastoin keksinnön mukaisesti taulukon osoittamalla tavalla käyttäen impedanssianalyysiä (Z’,Z”,AR), mineraalielektrodin potentiaalimittausta ja aiheuttamalla raaka-aineessa muutos rikkihapolla ja hapetus-pelkistystasapainoon vaikuttavalla reagenssilla, natriumvetysulfidilla (NaHS), kaikki esimerkkinä olevassa hydratoituneessa nikkelisulfidimalmissa 15 olevat malmityypit voidaan erottaa toisistaan. Lisäeroja saadaan käyttämällä muita menetelmän mukaisia mitattavia suureita. Taulukosta 1 nähdään, että pienin Z’ arvo saadaan malmin SP-malmityypillä ja suurin TLKAFK- malmityypillä. Vaikkakin prosessisäätöön tarvittavassa raaka-aineen tunnistuksessa tulee käyttää asianmukaisia monimuuttuja-ohjelmia, taulukon 1 .y. 20 esittämiä tuloksia eli eri malmityypeillä saatavia eroja voidaan havainnollistaa • · •v. tässä tapauksessa myös kaksiulotteisilla esityksillä, joista esimerkkinä on • · esitetty kuvio 1.

··« • · · • * · • · • «

Kuviossa 1 eri malmityypit erottuvat omiksi ryhmikseen Z-Z”-koordinaatistossa 25 sekä pelkän rikkihapon käytöllä että lisättäessä natriumvetysulfidia, NaHS, kun • \i pH on aluksi 3,5. On ymmärrettävää, että eri prosesseissa ja eri raaka-aineilla ·*.,.·* tehokkaimpia keksinnön mukaisen menetelmän tunnistetietojen antajia ovat eri •V. mineraalit eri yhdistelminä aiemmin mainittujen muiden mitattavien muuttujien • ·

:***: kanssa. Nyt esimerkin kohteena olevan hydratoituneen malmin yhteydessä NiS

*·· )·. 30 on eräs luontaisimmista mineraaleista. Erovaikutusten ilmaisijana Ni3S4- tyyppinen mineraali on kuitenkin ko. tapauksessa tehokkaampi.

Claims

119400

1. Menetelmä prosessin säätämiseksi, jossa menetelmässä ainakin osa prosessin raaka-aineesta johdetaan ainakin yhteen mittakennoon, joka sisältää ai- 5 nakin yhden työelektrodin ja ainakin yhden vertailuelektrodin, tunnettu siitä, että mittakennoon syötetään yhdessä raaka-aineen kanssa ainakin yhtä komponenttia, jonka aiheuttamia muutoksia raaka-aineen ominaisuuksissa mitataan mittakennossa olevan työelektrodin ja vertailuelektrodin avulla, ja että mittaustuloksia käytetään hyväksi raaka-ainekoostumuksen määrittämiseksi, ja että 10 määritetyn raaka-ainekoostumuksen avulla prosessia säädetään mahdollisen muutosvaikutuksen eliminoimiseksi.

2. Patenttivaatimuksen 1 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että komponentin syöttö mittakennoon yhdessä raaka-aineen kanssa suoritetaan olennaisen 15 jatkuvatoimisesti.

3. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknat därav, att inmatningen av komponenten utnyttjas vid bestämning av syrabasjämvikten som pH-mätning. 5

3. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että komponentin syöttöä käytetään hyväksi happo-emästasapainon määritykseen pH-mittauksena. • « 20 • · t » » · • ·

4. Förfarande enligt patentkrav 1 eller 2, kännetecknat därav, att inmatningen av komponenten utnyttjas vid mätning av redoxjämvikten med hjälp av den elektrokemiska potentialen. 10 5. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat därav, att som arbetselektrod i mätcellen används en elektrod framställd av ett mineral.

4. Patenttivaatimuksen 1 tai 2 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että kom- • · :***. ponentin syöttöä käytetään hyväksi hapetus-pelkistystasapainon mittaukseen ··« ·*·*. sähkökemiallisen potentiaalin avulla. • « • · · : : • · ·

5. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu j*\: siitä, että mittakennon työelektrodina käytetään mineraalista valmistettua elekt- ··· :.„i rodia. M · • · # • •

6. Förfarande enligt patentkrav 5, kännetecknat därav, att arbetselektroden är 15 framställd av ett mineral av samma slag som det mineral som det observerade rämaterialet innehäller.

6. Patenttivaatimuksen 5 mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että työelektrodi ··» 1 on valmistettu seurattavan raaka-aineen sisältämän mineraalin kaltaisesta mi- ···· neraalista. • · 119400

7. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että mittakennon työelektrodia käytetään impedanssianalyysin suorittamiseen.

8. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että prosessiin syötettävästä raaka-aineesta syntyvän analysoimiseksi lisätyn kompleksoivan reagenssin pitoisuuden seurantaan käytetään vähintään kahdella mineraalielektrodilla saatujen mittaustulosten eroja.

9. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen mukainen menetelmä, tunnettu siitä, että komponentin syöttö suoritetaan prosessivirtaan asennettuun mitta-kennoon.

10. Jonkin edellä olevan patenttivaatimuksen 1-8 mukainen menetelmä, tun-15 nettu siitä, että komponentin syöttö suoritetaan prosessivirrasta erotettuun näy-tevirtaan asennettuun mittakennoon. • · 20 1. Förfarande för regiering av en process, vid vilket förfarande ätminstone en • * del av rämaterialet vid processen leds tili ätminstone en mätcell, vilken innehal- • · ler ätminstone en arbetselektrod och ätminstone en jämförelseelektrod, känne-tecknat därav, att tili mätcellen inmatas tillsammans med rämaterialet ätmin-:.,.ί stone en komponent, av vilken förorsakade förändringar i rämaterialets egen- 25 skaper mäts med hjälp av arbetselektroden och jämförelseelektroden i mätcel- • · Ien, och att mätresultaten utnyttjas vid bestämning av rämaterialsammansätt- ··· ningen, och att processen regleras med hjälp av den bestämda rämaterial- Γ*.. sammansättningen för eliminering av eventuell ändringsverkan. * · • · • · ·»« 30 2. Förfarande enligt patentkrav 1, kännetecknat därav, att inmatningen av • · · *:·*: komponenten tili mätcellen tillsammans med rämaterialet utförs väsentligen kontinuerligt. 119400

7. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat där-av, att mätcellens arbetselektrod används för utförande av impedansanalys. • · i * « *.·.* 20 • t · • · » :#e;*

8. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat där- • · av, att för uppföljning av halten av komplexerande reagens som har tillsatts för • i « analys av det som uppstär av det tili processen inmatade rämaterialet används • ♦ ’"** skillnaderna mellan mätresultat erhällna med ätminstone tvä mineralelektroder. 25 v.:

9. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven, kännetecknat där- ··· • · *·;·' av, att inmatningen av komponenten utförs tili en mätcell som är installerad i ·· : *·· processflödet. ·♦· • · • · ·♦· f": 30

10. Förfarande enligt nägot av de föregäende patentkraven 1 - 8, känneteck- ·:··: nat därav, att inmatningen av komponenten utförs tili en mätcell installerad i ett provflöde som är ätskilt frän processflödet.