JPH08209371A - 洗浄装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 代替洗浄液使用時に必要となる高圧スプレー
洗浄方法等の洗浄能力を補う洗浄法を用いる場合におい
ても、洗浄室で発生したミストや臭気を洗浄装置外に流
出させないインライン型の洗浄装置を提供すること。 【構成】 被洗浄物を洗浄する洗浄手段を有する洗浄室
と、前記被洗浄物を前記洗浄室に搬入する搬入口と、前
記被洗浄物を洗浄室より搬出する搬出口と、前記被洗浄
物を前記洗浄室に搬入および搬出する搬送手段とを具備
するインライン型の洗浄装置であって、前記洗浄室の搬
入口より洗浄装置の外へ流出する霧および臭気を滞留さ
せる前記搬入口より続く搬入室と、前記洗浄室の搬出口
より洗浄装置の外へ流出する霧および臭気と前記被洗浄
物に残留する洗浄液を蒸発させる前記搬出口より続く搬
出室と、前記搬入室および前記搬出室から洗浄中に発生
する霧および臭気の外部への排出量を調整する排出量調
整手段とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、インライン型の洗浄装
置に関し、特に、洗浄室で発生した洗浄液の霧（以
下、”ミスト”と記す。）および臭気が洗浄装置外へ流
出することを低減する技術に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、プリント基板や電子部品等の洗浄
においては、洗浄液としてフロンあるいは１．１．１ト
リクロロエタン等の塩素系有機溶剤が使用されてきた。

【０００３】これらの洗浄液は、洗浄力が非常に高いた
め、洗浄工法として浸漬洗浄法等の比較的ミストが発生
しにくい洗浄方式が用いられてきたため、洗浄室全体の
局所排気を行うだけで十分であった。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記洗
浄液は大気中のオゾン層の破壊や地下水などの汚染が指
摘され、世界的に使用が禁止される方向にあり、洗浄力
の弱い代替洗浄液を用いて高圧スプレー洗浄する方法が
考えられる。

【０００５】この洗浄方法では、従来のフロン等による
洗浄方法に比べて洗浄力が弱いため、高圧を加えて洗浄
力を高めているので、ミストや臭気が多量に発生する。

【０００６】これにより、ミストや臭気が洗浄装置外へ
流出して、人や機器類に有害な作業環境汚染が生じると
いう問題がある。

【０００７】本発明の目的は、グリコール系の高級アル
コール、Ｄモネリン等の代替洗浄液を用いて高圧スプレ
ー洗浄しても、洗浄室で発生したミストや臭気が洗浄装
置外に流出するのを低減することができるインライン型
の洗浄装置を提供することにある。

【０００８】本発明の前記目的と新規な特徴は、本明細
書の記述及び添付図面によって明らかになるであろう。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
下記のとおりである。

【００１０】被洗浄物を洗浄する洗浄手段を有する洗浄
室と、前記被洗浄物を前記洗浄室に搬入する搬入口と、
洗浄後の前記被洗浄物を洗浄室より搬出する搬出口と、
前記被洗浄物を前記洗浄室に搬入および前記洗浄室より
搬出する搬送手段とを具備するインライン型の洗浄装置
であって、前記洗浄室の搬入口より洗浄装置の外へ流出
する霧および臭気を滞留させる前記搬入口より続く搬入
室と、前記洗浄室の搬出口より洗浄装置の外へ流出する
霧および臭気と前記被洗浄物に残留する洗浄液を蒸発さ
せる前記搬出口より続く搬出室と、前記搬入室および前
記搬出室から洗浄中に発生する霧および臭気の外部への
排出量を調整する排出量調整手段とを具備する。

【００１１】

【作用】前述した手段によれば、搬送手段により被洗浄
物が洗浄室に運ばれてくると、洗浄手段が作動し前記被
洗浄物の洗浄を開始する。

【００１２】この時、多量のミストおよび臭気が発生す
るが、その大半は洗浄室内に留まることになり、その一
部が洗浄室に設けられた被洗浄物の搬入および搬出を行
う搬入口あるいは搬出口より流出して、搬入室および搬
出室に流れ込むことになる。

【００１３】しかしながら、洗浄中は前記排気調整手段
が排気量を増やすので、洗浄装置外へミストおよび臭気
が流出することを低減できる。

【００１４】このように、ミストおよび臭気を大量に発
生させる洗浄手段を有する洗浄室の開口部である搬入口
あるいは搬出口より流出した分を、前記洗浄室の開口部
に設けた搬入室あるいは搬出室で受け、排気調整手段が
排気量を増加させることにより、前記ミストおよび臭気
が洗浄装置外へ流出することを低減することができる。

【００１５】

【実施例】以下、本発明の構成について、実施例ととも
に説明する。

【００１６】なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一符号を付け、その繰り
返しの説明は省略する。

【００１７】（実施例１）図１は本発明の実施例１の洗
浄装置の概略構成を示す図である。

【００１８】本実施例１の洗浄装置は、図１に示すよう
に、被洗浄物であるプリント基板１０１を洗浄するため
の洗浄槽（洗浄室）１０２と、前記洗浄槽１０２で発生
したミストおよび臭気の内、洗浄槽１０２の搬入口から
流出した分を滞留させる搬入室１０３と、洗浄槽１０２
の搬出口から流出した分を滞留させると同時に、プリン
ト基板１０１に付着した洗浄液を蒸発させるための搬出
室１０４とから構成されている。

【００１９】前記洗浄槽１０２の底面部には、水系で特
にミスト化しやすい、例えばグリコール系の高級アルコ
ールであるポリオキシアルキレンアルキルエーテル、あ
るいはＤリモネン等の代替洗浄液１０５が貯溜されてお
り、この代替洗浄液１０５をポンプ１０６により圧力を
かけ、搬送コンベア１０７で搬送されてきたプリント基
板１０１にスプレーノズル１０８より噴出することによ
り、プリント基板１０１を洗浄する構成となっている。

【００２０】一方、前記搬入室１０３の入口、すなわち
洗浄装置の搬入口には、代替洗浄液１０５に対して耐性
のある薄い樹脂材料を用いたカーテン１０９が、前記搬
入室１０３の出口にあたる洗浄室１０２との間には前記
カーテン１０９と同じ材質のカーテン１１０が取付けら
れている。

【００２１】前記搬出室１０４の入口にあたる洗浄槽１
０２との間には前記カーテン１０９と同じ材質のカーテ
ン１１１が、前記搬出室１０４の出口、すなわち洗浄装
置の搬出口には前記カーテン１０９と同じ材質のカーテ
ン１１２が取付けられている。

【００２２】さらに、搬入室１０３には局所排気装置１
１３が、搬出室１０４には局所排気装置１１４がそれぞ
れ接続されている。

【００２３】前記局所排気装置１１３には排気量を調節
するためのダンパー１１５が設けられており、センサ１
１６の信号にもとづきＣＰＵ１１７が出す指示でアクチ
ュエータ１１８を動作させ、このアクチュエータ１１８
に接続されるダンパー１１５の開閉量を調節することに
より、排気量の調節を行う。

【００２４】局所排気装置１１４も同様であり、ＣＰＵ
１１７の指示によりアクチュエータ１１９を動作させ、
このアクチュエータ１１９に接続されるダンパー１２０
の開閉量を調節することにより、排気量の調節を行う。

【００２５】さらに、前記搬入室１０３および搬出室１
０４の底面には、これらの部屋に滞留し、液化した代替
洗浄液１０５を洗浄槽１０２に液戻りさせるための還流
孔１２１が設けられている。

【００２６】次に、図１にもとづき、本実施例１の洗浄
装置の動作について説明する。

【００２７】まず、洗浄装置に投入されたプリント基板
１０１が搬送コンベア１０７によりセンサ１１６の位置
にまで運ばれてくると、センサ１１６はＣＰＵ１１７に
検出信号を送出する。

【００２８】この結果、まずＣＰＵ１１７はセンサ１１
６と搬送コンベア１０７の搬送スピードから、プリント
基板１０１が洗浄槽１０２に入るまでの時間とでるまで
の時間ををそれぞれ算出する。

【００２９】次に、局所排気装置１１３，１１４の排気
量を洗浄中に必要となる１立方メートル／分とするため
に、ＣＰＵ１１７はアクチュエータ１１８，１１９にダ
ンパー１１５，１２０の開口命令を出す。

【００３０】これにより、アクチュエータ１１８，１１
９の動作量に応じてダンパー１１５，１２０が開口し、
洗浄装置の運転準備時の排気量よりも多くすることによ
り、洗浄槽１０２内の圧力上昇および気体流れによっ
て、洗浄装置外へのミストおよび臭気の流出を低減す
る。

【００３１】前記算出されたプリント基板１０１が洗浄
槽１０２に到達するまでの時間（約１分）経過後に洗浄
ポンプ１０６に駆動信号を送出する。

【００３２】すると、洗浄ポンプ１０６が作動し、代替
洗浄液１０５がスプレーノズル１０８よりプリント基板
１０１に高圧で吹き付けられることになり、浸漬工法を
用いるよりも洗浄力は増すこととなるが、このために大
量のミストおよび臭気が発生する。

【００３３】しかしながら、洗浄槽１０２は搬入口側の
カーテン１１０および搬出室側のカーテン１１１により
搬入室１０３および搬出室１０４と分離されているた
め、プリント基板１０１の洗浄により大量に発生したミ
ストおよび臭気の大部分は洗浄槽１０２に滞留すること
になる。

【００３４】このとき、一部のミストおよび臭気は洗浄
槽１０２から続く搬入室１０３あるいは搬出室１０４に
流出することになるが、この搬入室１０３の搬入口には
カーテン１０９、搬出室１０４の搬出口にはカーテン１
１２がそれぞれ設けられている。

【００３５】このため、搬入室１０３に流出したミスト
および臭気は前記カーテン１０９により洗浄装置の外側
と分離されているために、洗浄装置外へ流出する前に局
所排気装置１１３により排気されることになり、洗浄装
置外への流出を低減できる。

【００３６】同様に、搬出室１０４に流出したミストお
よび臭気は局所排気装置１１４により排出されるため、
洗浄装置外へ流出するのを低減できる。

【００３７】そして、プリント基板１０１が洗浄槽１０
２を出るタイミングでスプレー洗浄を終了とするが、こ
のとき洗浄室１０２内はミストおよび臭気が充満してい
るためミストが収まるために必要となる所定時間（約１
分）経過後、ダンパー１１５，１２０を洗浄終了時の微
開口に戻す。

【００３８】さらに、搬入室１０３および搬出室１０４
に流出したミストおよび臭気の内で、液化した分は液戻
り用の還流孔１２１より再び洗浄槽１０２に還流する。

【００３９】以上説明したように、本実施例１によれ
ば、洗浄槽１０２の搬入口に搬入室１０３を、搬出口に
搬出室１０４をそれぞれ設け、さらにその搬入口あるい
は搬出口にカーテン１１０〜１１２を設け、洗浄装置の
気密性を高めることにより、高圧スプレー洗浄に伴い発
生するミストおよび臭気が洗浄装置外へ流出することを
低減できる。

【００４０】（実施例２）図２は本発明の実施例２の洗
浄装置の概略構成を示す図である。

【００４１】本実施例２は、前記実施例１の洗浄槽１０
２の搬入口に搬入室を、搬出口に搬出室をそれぞれ３室
づつ設けた他の実施例である。

【００４２】次に、前記実施例１と相違する部分につい
て説明する。

【００４３】図２の２０１〜２０３は搬入口側の搬入室
であり、２０４〜２０６は搬出口側の搬出室である。

【００４４】そして、搬入室２０１には局所排気装置１
１３が、搬出室２０６には局所排気装置１１４がそれぞ
れ接続されており、さらには、洗浄槽１０２から一番離
れた搬入室２０１の被洗浄物であるプリント基板１０１
が搬入されてくる搬入口は、樹脂性のカーテン２０７に
より搬入室２０１からミストおよび臭気が流出しないよ
うになっている。

【００４５】また、２０８は洗浄室から２番目に遠い搬
入室２０２と前記搬入室２０１を仕切る樹脂性のカーテ
ンであり、２０９は前記搬入室２０２と洗浄槽１０２に
一番近い搬入室２０３とを仕切る樹脂性のカーテンであ
る。

【００４６】また、２１０は前記搬入室２０３と洗浄槽
１０２を仕切る樹脂性のカーテンである。

【００４７】同様に、２１１は洗浄槽１０２と搬出室２
０４とを、２１２は搬出室２０４と搬出室２０５とを、
２１３は搬出室２０５と搬出室２０６とを、２１４は搬
出室２０６と本実施例２の洗浄装置の外部とを仕切る樹
脂性のカーテンである。

【００４８】次に、図２にもとづき、本実施例２の洗浄
装置の動作について説明すると、予め設定されたスピー
ドで移動する搬送コンベア１０７で搬送される被洗浄物
であるプリント基板１０１がセンサ１１６の下を通過す
ると、まず、ＣＰＵ１１７は現在の搬送コンベア１０７
のスピードから、被洗浄物であるプリント基板１０１が
洗浄槽１０２に入る時間および洗浄槽１０２を出る時間
を計算する。

【００４９】この後、ＣＰＵ１１７は洗浄時に発生する
ミストおよび臭気の排出を行うのに十分となる排気流量
を確保するために、微開口であったダンパー１１５，１
２０を開放とするよう、アクチュエータ１１８，１１９
に開口命令を出す。

【００５０】搬送コンベア１０７によりプリント基板１
０１が洗浄槽１０２まで運ばれてくると、前記計算結果
にもとづきＣＰＵ１１７はプリント基板１０１を洗浄す
るために洗浄ポンプ１０６を動作させる。

【００５１】これにより、代替洗浄液１０５はスプレー
ノズル１０８よりプリント基板１０１に高圧で吹き付け
られることとなり、浸漬工法よりも洗浄力が増すことと
なるが、この時に大量のミストおよび臭気が発生するこ
ととなる。

【００５２】しかしながら、このミストおよび臭気は、
例えば搬入口側では樹脂性のカーテン２１０により洗浄
槽１０２の入り口がふさがれることになるため、そのほ
とんどが洗浄槽１０２内に滞留することになる。

【００５３】一方、前記カーテン２１０より漏れたミス
トおよび臭気は、カーテン２０９により前室２０２と２
０３が分離されているためにそのほとんどが前室２０３
内に滞留することになる。

【００５４】さらに、カーテン２０８より漏れたミスト
および臭気はカーテン２０７により装置の外部と分離さ
れているために、前室２０１から装置外へ流出すること
はなく、さらに排気装置１１３により外部へ排出される
ことになる。

【００５５】搬出口側でも同様に、搬出室２０４に漏れ
てくるミストおよび臭気はカーテン２１１によりほとん
どなくなる。

【００５６】さらに、搬出室２０５，２０６へと洗浄槽
１０２から遠くなるに従い、前記搬入口側と同様に漏れ
は更に少なくなり、最後は排気装置１１４により外部に
放出されることとなるために、洗浄装置の周りにミスト
および臭気が漏れることはなくなる。

【００５７】さらに他の効果として、プリント基板１０
１に洗浄によって付着した洗浄液が搬出室２０４，２０
５，２０６を移動する間に蒸発してしまうために、プリ
ント基板１０１に残留した代替洗浄液１０５が原因とな
る臭気をなくすことが可能である。

【００５８】また、本実施例２において、搬入室および
搬出室をそれぞれ３部屋づつ設けたが、２部屋以上の複
数部屋でもよいことは言うまでもなく、さらに、搬入室
および搬出室をそれぞれ１室づつ設け、それぞれの内部
で２部屋以上に分割してもよい。

【００５９】以上説明したように、本実施例２によれ
ば、洗浄槽１０２に搬入室および搬出室をそれぞれ３室
づつ（２０１〜２０３と２０４〜２０６）と、洗浄装置
の搬入口となる搬入室２０１と搬出口となる搬出室２０
６のそれぞれに局所排気装置１１３，１１４を設け、さ
らに搬入室、搬出室および洗浄槽１０２との仕切りにカ
ーテン（２０７〜２１３）を設け、各部屋毎の気密性を
増加させることにより、洗浄槽１０２で発生したミスト
および臭気を洗浄槽１０２により近い部屋で多く滞留さ
せることにより、高圧スプレー洗浄に伴い発生するミス
トおよび臭気が洗浄装置外へ流出することを低減でき
る。

【００６０】さらに、洗浄装置の搬入口側では搬入室が
２０３，２０２，２０１の順番で、一方搬出口側でも搬
出室が２０４，２０５，２０６の順番で洗浄槽１０２か
ら遠くなるに従い、洗浄槽１０２から最も離れた搬入室
２０１および搬出室２０６では滞留するミストおよび臭
気の量が著しく減少するため、これらの部屋に設けた局
所排気装置１１３，１１４の排気能力小さくすることが
可能となる結果、局所排気装置のデミスターやスクラバ
ーといったミストトラップ設備の簡略化および小型化が
可能となり、システム全体の縮小化が図れるという効果
がある。

【００６１】以上、本発明者によってなされた発明を、
前記実施例に基づき具体的に説明したが、本発明は、前
記実施例に限定されるものではなく、その要旨を逸脱し
ない範囲において種々変更可能であることは勿論であ
る。

【００６２】例えば、前記実施例のカーテン２０７〜２
１４は樹脂製のカーテンとしたが洗浄液に対して耐腐食
性を有する薄い金属材料を用いたものでも、あるいは、
プリント基板１０１が通過するときのみ開閉する扉を設
けることによって、気密性を保持する。

【００６３】また、前記実施例においては、代替洗浄液
１０５としてグリコール系の高級アルコールあるいはＤ
リモネン等で説明したが、本発明の洗浄装置に使用され
る洗浄液はこれに限定されるものではなく、ミストある
いは臭気が発生しやすい他の洗浄液を用いた洗浄方法を
採用する洗浄装置においても適用可能である。

【００６４】さらには、前記実施例においては被洗浄物
としてプリント基板１０１を用いていたが、電子部品な
どの洗浄も可能である。

【００６５】

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記のとおりである。

【００６６】すなわち、代替洗浄液使用時に必要となる
高圧スプレー洗浄方法等の洗浄能力を補う洗浄法を用い
る場合においても、洗浄室で発生したミストや臭気が洗
浄装置外に流出することを低減できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例１の洗浄装置の概略構成を示す
図である。

【図２】本発明の実施例２の洗浄装置の概略構成を示す
図である。

【符号の説明】

１０１…プリント基板、１０２…洗浄槽、１０３，２０
１〜２０３…搬入室、１０４，２０４〜２０６…搬出
室、１０５…代替洗浄液、１０６…ポンプ、１０７…搬
送コンベア、１０８…スプレーノズル、１０９〜１１
２，２０７〜２１４…カーテン、１１３，１１４…局所
排気装置、１１５，１２０…ダンパー、１１６…セン
サ、１１７…ＣＰＵ、１１８，１１９…アクチュエー
タ、１２１…還流孔。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 被洗浄物を洗浄する洗浄手段を有する洗
   浄室と、前記被洗浄物を前記洗浄室に搬入する搬入口
   と、洗浄後の前記被洗浄物を洗浄室より搬出する搬出口
   と、前記被洗浄物を前記洗浄室に搬入および前記洗浄室
   より搬出する搬送手段とを具備するインライン型の洗浄
   装置であって、 前記洗浄室の搬入口より洗浄装置の外へ流出する霧およ
   び臭気を滞留させる前記搬入口より続く搬入室と、前記
   洗浄室の搬出口より洗浄装置の外へ流出する霧および臭
   気と前記被洗浄物に残留する洗浄液を蒸発させる前記搬
   出口より続く搬出室と、前記搬入室および前記搬出室か
   ら洗浄中に発生する霧および臭気の外部への排出量を調
   整する排出量調整手段とを具備することを特徴とするイ
   ンライン型の洗浄装置。
2. 【請求項２】 前記搬入室の搬入側開口部と前記搬出室
   の搬出側開口部に、それぞれ洗浄液の霧および臭気の流
   出を防ぐ耐腐食性遮断手段を具備することを特徴とする
   請求項１に記載のインライン型の洗浄装置。