JPH08208530A - フタルイミド化合物のフタロイル基の除去方法 - Google Patents
フタルイミド化合物のフタロイル基の除去方法Info
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- JPH08208530A JPH08208530A JP3897895A JP3897895A JPH08208530A JP H08208530 A JPH08208530 A JP H08208530A JP 3897895 A JP3897895 A JP 3897895A JP 3897895 A JP3897895 A JP 3897895A JP H08208530 A JPH08208530 A JP H08208530A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】フタルイミド化合物のフタロイル基を効率よく
除去する。 【構成】フタロイル基で保護されたアミノ基を有する化
合物を、ヒドラジンと酸で処理することによりフタロイ
ル基を除去する方法。 【効果】フタロイル基を緩和な条件下で効率よく除去で
きるため、目的化合物を高収率でかつ安価に得ることが
できる。
除去する。 【構成】フタロイル基で保護されたアミノ基を有する化
合物を、ヒドラジンと酸で処理することによりフタロイ
ル基を除去する方法。 【効果】フタロイル基を緩和な条件下で効率よく除去で
きるため、目的化合物を高収率でかつ安価に得ることが
できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、アミノ基の保護基の除
去方法に関する。芳香族基から低級アルキレン基を介し
てアミノ基を有する化合物は、医薬品またはその中間体
として有用な化合物である。このような化合物の例はき
わめて多数存在するけれども、例えば、式［ＩＩ］
去方法に関する。芳香族基から低級アルキレン基を介し
てアミノ基を有する化合物は、医薬品またはその中間体
として有用な化合物である。このような化合物の例はき
わめて多数存在するけれども、例えば、式［ＩＩ］
【化４】 ［式中、Ｘは単結合、−Ｏ−、または直鎖もしくは分岐
低級アルキレン基を表し、ＣＯＯＲは保護されたカルボ
キシル基を表す。］で示される化合物は、特開平７−２
８５５号公報に記載されたＮ−メチル−Ｄ−アスパラギ
ン酸型グルタミン酸受容体グリシン部位拮抗薬の中間体
などとして有用である。
低級アルキレン基を表し、ＣＯＯＲは保護されたカルボ
キシル基を表す。］で示される化合物は、特開平７−２
８５５号公報に記載されたＮ−メチル−Ｄ−アスパラギ
ン酸型グルタミン酸受容体グリシン部位拮抗薬の中間体
などとして有用である。
【０００２】
【従来の技術】アミノ基を有する化合物の合成に際して
は、アミノ基が保護された中間体を用いて反応を進行さ
せる場合が多い。特に第一級アミノ基の選択的な保護基
として、またガブリエル（Ｇａｂｒｉｅｌ）法において
は１段階でフタロイル保護アミノ基が得られることか
ら、フタロイル基はこのような目的でよく用いられるア
ミノ基の保護基の一つである。フタロイル基の除去方法
として、従来、例えば、（１）酸と加熱する方法、
（２）アルカリ加水分解後、酸で加水分解する方法、
（３）ヒドラジンの水溶液またはアルコール溶液で処理
する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９７８，４３，２
３２０）、（４）フェニルヒドラジンおよび第三級アミ
ンと加熱する方法（Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．１
９５２，３５，２２３５）、（５）硫化ナトリウムで部
分加水分解後、ＤＣＣでフタルイソイミドを生成させた
後ヒドラジンで処理する方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．１９７５，９７，５５８２）、（６）水素化ホウ
素ナトリウムで処理した後酢酸と加熱する方法（Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．１９８４，２５，２０９
３）、（７）メタノール中メチルアミンと加熱する方法
（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８９，３８４）等が知られ
ている。しかしながら、酸に不安定なｔ−ブチルエステ
ル（例えば、後記式［Ｉａ］においてＲ＝ tBtの化合
物）や還元条件に不安定なニトロ基等の不安定な構造を
有する化合物からフタロイル基を除去する場合、従来法
では、目的物が分解したりあるいはフタロイル基の除去
が不完全であったりするため収率が低く、また操作が煩
雑である等の難点があった。
は、アミノ基が保護された中間体を用いて反応を進行さ
せる場合が多い。特に第一級アミノ基の選択的な保護基
として、またガブリエル（Ｇａｂｒｉｅｌ）法において
は１段階でフタロイル保護アミノ基が得られることか
ら、フタロイル基はこのような目的でよく用いられるア
ミノ基の保護基の一つである。フタロイル基の除去方法
として、従来、例えば、（１）酸と加熱する方法、
（２）アルカリ加水分解後、酸で加水分解する方法、
（３）ヒドラジンの水溶液またはアルコール溶液で処理
する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９７８，４３，２
３２０）、（４）フェニルヒドラジンおよび第三級アミ
ンと加熱する方法（Ｈｅｌｖ．Ｃｈｉｍ．Ａｃｔａ．１
９５２，３５，２２３５）、（５）硫化ナトリウムで部
分加水分解後、ＤＣＣでフタルイソイミドを生成させた
後ヒドラジンで処理する方法（Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓ
ｏｃ．１９７５，９７，５５８２）、（６）水素化ホウ
素ナトリウムで処理した後酢酸と加熱する方法（Ｔｅｔ
ｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．１９８４，２５，２０９
３）、（７）メタノール中メチルアミンと加熱する方法
（Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，１９８９，３８４）等が知られ
ている。しかしながら、酸に不安定なｔ−ブチルエステ
ル（例えば、後記式［Ｉａ］においてＲ＝ tBtの化合
物）や還元条件に不安定なニトロ基等の不安定な構造を
有する化合物からフタロイル基を除去する場合、従来法
では、目的物が分解したりあるいはフタロイル基の除去
が不完全であったりするため収率が低く、また操作が煩
雑である等の難点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、アミノ基の
保護基の新規な除去方法を提供するものである。さらに
詳しくは、フタロイル基で保護されたアミノ基を有する
化合物が、例えば、ｔ−ブチルエステルやニトロ基等の
不安定な構造を有する化合物である場合でも、目的物の
分解を伴うことなく、保護基の除去を効率よく行うこと
ができる新規な方法を提供するものである。
保護基の新規な除去方法を提供するものである。さらに
詳しくは、フタロイル基で保護されたアミノ基を有する
化合物が、例えば、ｔ−ブチルエステルやニトロ基等の
不安定な構造を有する化合物である場合でも、目的物の
分解を伴うことなく、保護基の除去を効率よく行うこと
ができる新規な方法を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、フタロ
イル基で保護されたアミノ基を有する化合物から保護基
を除去して対応するアミノ化合物を得るには、ヒドラジ
ンと触媒量の酸で処理することにより実施することがで
きる。本発明で用いる酸としては、強酸性または弱酸性
の有機酸または無機酸をいずれも使用することができ、
このような酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、
酪酸等の低級アルカン酸、クエン酸等のヒドロキシ置換
低級アルカン酸、クロロ酢酸等のハロゲノ置換低級アル
カン酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロゲノ低級アルカ
ン酸、安息香酸、サリチル酸等の無置換または置換安息
香酸、メタンスルホン酸等の低級アルカンスルホン酸、
ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の低級
アルキル基またはハロゲン原子で置換されていてもよい
ベンゼンスルホン酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、硫
酸、塩酸等の鉱酸等があげられる。
イル基で保護されたアミノ基を有する化合物から保護基
を除去して対応するアミノ化合物を得るには、ヒドラジ
ンと触媒量の酸で処理することにより実施することがで
きる。本発明で用いる酸としては、強酸性または弱酸性
の有機酸または無機酸をいずれも使用することができ、
このような酸としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、
酪酸等の低級アルカン酸、クエン酸等のヒドロキシ置換
低級アルカン酸、クロロ酢酸等のハロゲノ置換低級アル
カン酸、トリフルオロ酢酸等のトリハロゲノ低級アルカ
ン酸、安息香酸、サリチル酸等の無置換または置換安息
香酸、メタンスルホン酸等の低級アルカンスルホン酸、
ｐ−トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の低級
アルキル基またはハロゲン原子で置換されていてもよい
ベンゼンスルホン酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、硫
酸、塩酸等の鉱酸等があげられる。
【０００５】酸は無水物の形であっても水和物の形であ
ってもよく、水溶液の形であってもよい。また、酸は、
例えば、パラトルエンスルホン酸ピリジン塩のような塩
の形であってもよい。一方ヒドラジンについてもその無
水物の形であっても水和物の形であってもよく、水溶液
の形であってもよい。また、ヒドラジンと酸は、いかな
る形態でも使用できる。例えば、ヒドラジンと酸を混合
物として使用してもよく、あるいは、塩、複塩、錯体、
付加物等を含むこれら両成分で構成される化合物の形態
で用いてもよい。このような化合物の形態の例として
は、例えば、ヒドラジンとヒドラジン塩酸塩との混合
物、ヒドラジンとパラトルエンスルホン酸ピリジン塩と
の混合物などがあげられる。また、いかなる形態で使用
する場合であっても、ヒドラジンはフタロイル基を除去
しうるに足る量を使用すれば良く、通常原料化合物に対
し１．５〜１０当量、とりわけ２〜６当量であるのが好
ましい。一方、酸の使用量は、使用する酸の酸性度にも
よるが、一般的にフタロイル基をヒドラジンが攻撃して
できる中間体をプロトン化できうる量を使用すれば良
く、通常原料化合物に対し０．０１〜１当量、とりわけ
０．０１〜０．５当量であるのが好ましい。
ってもよく、水溶液の形であってもよい。また、酸は、
例えば、パラトルエンスルホン酸ピリジン塩のような塩
の形であってもよい。一方ヒドラジンについてもその無
水物の形であっても水和物の形であってもよく、水溶液
の形であってもよい。また、ヒドラジンと酸は、いかな
る形態でも使用できる。例えば、ヒドラジンと酸を混合
物として使用してもよく、あるいは、塩、複塩、錯体、
付加物等を含むこれら両成分で構成される化合物の形態
で用いてもよい。このような化合物の形態の例として
は、例えば、ヒドラジンとヒドラジン塩酸塩との混合
物、ヒドラジンとパラトルエンスルホン酸ピリジン塩と
の混合物などがあげられる。また、いかなる形態で使用
する場合であっても、ヒドラジンはフタロイル基を除去
しうるに足る量を使用すれば良く、通常原料化合物に対
し１．５〜１０当量、とりわけ２〜６当量であるのが好
ましい。一方、酸の使用量は、使用する酸の酸性度にも
よるが、一般的にフタロイル基をヒドラジンが攻撃して
できる中間体をプロトン化できうる量を使用すれば良
く、通常原料化合物に対し０．０１〜１当量、とりわけ
０．０１〜０．５当量であるのが好ましい。
【０００６】本発明の反応は、特に限定されないが溶媒
の存在下、０℃〜１００℃、通常は２０℃〜８０℃の範
囲が適当である。溶媒としては、反応に不活性な溶媒で
あればいずれも使用することができ、とりわけ、極性溶
媒が好ましい。極性溶媒としては、例えば、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン等の有機溶媒か、またはこ
れらと水との混合溶媒があげられる。
の存在下、０℃〜１００℃、通常は２０℃〜８０℃の範
囲が適当である。溶媒としては、反応に不活性な溶媒で
あればいずれも使用することができ、とりわけ、極性溶
媒が好ましい。極性溶媒としては、例えば、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシエタン等の有機溶媒か、またはこ
れらと水との混合溶媒があげられる。
【０００７】本発明方法により、例えば、無置換または
場合により置換されていてもよいＮ−アルキルフタルイ
ミド、Ｎ−アラルキルフタルイミド、Ｎ−アリールフタ
ルイミド等のフタルイミド化合物から、各々対応するア
ミノ化合物を得ることができる。例えば、一般式［Ｉ］
場合により置換されていてもよいＮ−アルキルフタルイ
ミド、Ｎ−アラルキルフタルイミド、Ｎ−アリールフタ
ルイミド等のフタルイミド化合物から、各々対応するア
ミノ化合物を得ることができる。例えば、一般式［Ｉ］
【０００８】
【化５】 ［式中、Ａは場合により置換されていてもよい芳香族基
を表し、Ａｌｋは単結合または直鎖もしくは分岐低級ア
ルキレン基を表す。］で示される化合物をヒドラジンと
酸で処理することにより、一般式Ｈ2 Ｎ−Ａｌｋ−Ａ
［式中、ＡおよびＡｌｋは前記と同じ意味を表す。］で
示されるアミノ化合物を得ることができる。
を表し、Ａｌｋは単結合または直鎖もしくは分岐低級ア
ルキレン基を表す。］で示される化合物をヒドラジンと
酸で処理することにより、一般式Ｈ2 Ｎ−Ａｌｋ−Ａ
［式中、ＡおよびＡｌｋは前記と同じ意味を表す。］で
示されるアミノ化合物を得ることができる。
【０００９】芳香族基はアリール基またはヘテロアリー
ル基であってよく、単環式、二環式または三環式の例が
あげられる。そのような芳香族基は、場合により例えば
１、２、３または４個の置換基を有していてもよい。ア
リール基としては（Ｃ6 〜Ｃ20）アリール基、例えばフ
ェニル、ナフチル、ビフェニルおよびビナフチル等があ
げられる。ヘテロアリール基としては（Ｃ1〜Ｃ9 ）ヘ
テロアリール基、具体的にはフェニルまたはナフチル等
のアリール基の１個以上のＣＨ基が窒素原子で置換され
ており、そして／またはその中の少なくとも２個の隣接
ＣＨ基が硫黄原子、酸素原子またはＮＨ基で置換されて
５員の芳香族環を形成しているような（Ｃ1 〜Ｃ9 ）ヘ
テロアリール基があげられる。好ましいヘテロアリール
基は下記のとおりである。
ル基であってよく、単環式、二環式または三環式の例が
あげられる。そのような芳香族基は、場合により例えば
１、２、３または４個の置換基を有していてもよい。ア
リール基としては（Ｃ6 〜Ｃ20）アリール基、例えばフ
ェニル、ナフチル、ビフェニルおよびビナフチル等があ
げられる。ヘテロアリール基としては（Ｃ1〜Ｃ9 ）ヘ
テロアリール基、具体的にはフェニルまたはナフチル等
のアリール基の１個以上のＣＨ基が窒素原子で置換され
ており、そして／またはその中の少なくとも２個の隣接
ＣＨ基が硫黄原子、酸素原子またはＮＨ基で置換されて
５員の芳香族環を形成しているような（Ｃ1 〜Ｃ9 ）ヘ
テロアリール基があげられる。好ましいヘテロアリール
基は下記のとおりである。
【００１０】フラニル、チエニル、ピロリル、イミダゾ
リル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキ
サゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジ
ニル、インドリル、インダゾリル、キノリル、イソキノ
リル、フタラジニル、キノキサニル、キナゾリニル、シ
ンノリニル、ベンゾチエニル、ピリダゾピリジル、ピリ
ダゾピリミジニル、ピリジノチエニルおよびイミダゾピ
リジル。特に好ましいＡの例としては置換されていても
よいフェニル、ナフチルがあげられる。
リル、ピラゾリル、トリアゾリル、テトラゾリル、オキ
サゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、ピリジル、ピラジニル、ピリミジニル、ピリダジ
ニル、インドリル、インダゾリル、キノリル、イソキノ
リル、フタラジニル、キノキサニル、キナゾリニル、シ
ンノリニル、ベンゾチエニル、ピリダゾピリジル、ピリ
ダゾピリミジニル、ピリジノチエニルおよびイミダゾピ
リジル。特に好ましいＡの例としては置換されていても
よいフェニル、ナフチルがあげられる。
【００１１】適当な置換基は基本的には、それ自体ヒド
ラジンに感受性でない慣用の置換基全てである。このよ
うな置換基としては例えば、水酸基、低級アルキル基、
アミノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、
低級アルキルアミノ基、メルカプト基、低級アルキルチ
オ基、アミジノ基、グアニジノ基、カルバモイル基、チ
オカルバモイル基、スルファモイル基、カルバモイルオ
キシ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基、オキソ基、チオキ
ソ基、ハロゲノ基、ニトロ基、シクロアルキル基、アリ
ール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、置換ア
リール基（例えばハロゲンでモノ−またはジ−置換され
たフェニル基等）、ヘテロアリール基（例えば、ピロリ
ジニル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリニル基、
ピリジル基等）、ＣＯＯＲ1 で置換された直鎖または分
岐低級アルキル基、ＣＯＯＲ1 で置換された直鎖または
分岐低級アルケニル基、ＣＯＯＲ1 で置換された直鎖ま
たは分岐低級アルキルオキシ基およびＣＯＯＲ1 で置換
された直鎖または分岐低級アルケニルオキシ基等があ
る。ここでＲ1 は水素原子またはカルボキシル基の保護
基を表す。
ラジンに感受性でない慣用の置換基全てである。このよ
うな置換基としては例えば、水酸基、低級アルキル基、
アミノ低級アルキル基、低級アルコキシ基、アミノ基、
低級アルキルアミノ基、メルカプト基、低級アルキルチ
オ基、アミジノ基、グアニジノ基、カルバモイル基、チ
オカルバモイル基、スルファモイル基、カルバモイルオ
キシ基、カルボキシル基、低級アルコキシカルボニル
基、アラルキルオキシカルボニル基、オキソ基、チオキ
ソ基、ハロゲノ基、ニトロ基、シクロアルキル基、アリ
ール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、置換ア
リール基（例えばハロゲンでモノ−またはジ−置換され
たフェニル基等）、ヘテロアリール基（例えば、ピロリ
ジニル基、フリル基、チエニル基、イミダゾリニル基、
ピリジル基等）、ＣＯＯＲ1 で置換された直鎖または分
岐低級アルキル基、ＣＯＯＲ1 で置換された直鎖または
分岐低級アルケニル基、ＣＯＯＲ1 で置換された直鎖ま
たは分岐低級アルキルオキシ基およびＣＯＯＲ1 で置換
された直鎖または分岐低級アルケニルオキシ基等があ
る。ここでＲ1 は水素原子またはカルボキシル基の保護
基を表す。
【００１２】また、−ＣＯＯＲ1 が保護されたカルボキ
シル基である場合、当該カルボキシル基の保護基として
は、例えば、医薬品のプロドラッグに使用しうる基かま
たは合成工程で除去しうる基等があげられる。プロドラ
ッグに使用しうる基としては、例えば生体内で代謝を受
け加水分解されるエステル残基等があげられ、このよう
な基としては、例えば、式−Ｚ−ＯＣＯＲ2 、−Ｚ−Ｏ
ＣＯ2 Ｒ2 または−Ｚ−Ｏ−Ｒ2 （式中、Ｚは低級アル
キレン基を、Ｒ2 は低級アルキル基、シクロアルキル
基、低級アルケノイル基、低級アルコキシ低級アルキル
基または低級アルカノイルオキシ低級アルキル基を表
す。）で示される基があげられる。かかる基の具体例と
しては、例えば、低級アルカノイルオキシ低級アルキル
基、シクロアルキルカルボニルオキシ低級アルキル基、
低級アルケノイルオキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シ低級アルカノイルオキシ低級アルキル基、低級アルカ
ノイルオキシ低級アルコキシ低級アルキル基、低級アル
コキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ
低級アルキル基、低級アルコキシカルボニルオキシ低級
アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル
オキシ低級アルキル基があげられる。一方、合成工程で
除去しうる基としては、例えば、低級アルキル基、低級
アルケニル基、ハロゲノ低級アルキル基、ニトロベンジ
ル基、低級アルコキシベンズヒドリル基があげられる。
シル基である場合、当該カルボキシル基の保護基として
は、例えば、医薬品のプロドラッグに使用しうる基かま
たは合成工程で除去しうる基等があげられる。プロドラ
ッグに使用しうる基としては、例えば生体内で代謝を受
け加水分解されるエステル残基等があげられ、このよう
な基としては、例えば、式−Ｚ−ＯＣＯＲ2 、−Ｚ−Ｏ
ＣＯ2 Ｒ2 または−Ｚ−Ｏ−Ｒ2 （式中、Ｚは低級アル
キレン基を、Ｒ2 は低級アルキル基、シクロアルキル
基、低級アルケノイル基、低級アルコキシ低級アルキル
基または低級アルカノイルオキシ低級アルキル基を表
す。）で示される基があげられる。かかる基の具体例と
しては、例えば、低級アルカノイルオキシ低級アルキル
基、シクロアルキルカルボニルオキシ低級アルキル基、
低級アルケノイルオキシ低級アルキル基、低級アルコキ
シ低級アルカノイルオキシ低級アルキル基、低級アルカ
ノイルオキシ低級アルコキシ低級アルキル基、低級アル
コキシ低級アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシ
低級アルキル基、低級アルコキシカルボニルオキシ低級
アルキル基、低級アルコキシ低級アルコキシカルボニル
オキシ低級アルキル基があげられる。一方、合成工程で
除去しうる基としては、例えば、低級アルキル基、低級
アルケニル基、ハロゲノ低級アルキル基、ニトロベンジ
ル基、低級アルコキシベンズヒドリル基があげられる。
【００１３】本発明の方法がきわめて有用であると認め
られる原料化合物としては例えば、式［Ｉａ］
られる原料化合物としては例えば、式［Ｉａ］
【化６】 ［式中、ＸおよびＣＯＯＲは前記と同じ意味を表す。］
で示される化合物があげられる。当該カルボキシル基の
保護基としては、前記−ＣＯＯＲ1 の場合と同様に、例
えば、医薬品のプロドラッグに使用しうる基かまたは合
成工程で除去しうる基等があげられる。上記式［Ｉａ］
のフタロイル化合物からは、前記式［ＩＩ］のアミノ化
合物を得ることができる。
で示される化合物があげられる。当該カルボキシル基の
保護基としては、前記−ＣＯＯＲ1 の場合と同様に、例
えば、医薬品のプロドラッグに使用しうる基かまたは合
成工程で除去しうる基等があげられる。上記式［Ｉａ］
のフタロイル化合物からは、前記式［ＩＩ］のアミノ化
合物を得ることができる。
【００１４】本発明において、低級アルキル基、低級ア
ルキレン基および低級アルコキシ基としては、炭素数１
〜６、とりわけ炭素数１〜４のものがあげられ、低級ア
ルカノイル基および低級アルケニル基としては、炭素数
２〜７、とりわけ炭素数２〜５のものがあげられ、低級
アルケノイル基およびシクロアルキル基としては、炭素
数３〜８、とりわけ炭素数３〜６のものがあげられ、低
級アルカン酸としては、炭素数１〜８、とりわけ炭素数
２〜５のものがあげられ、低級アルカンスルホン酸とし
ては、炭素数１〜６、とりわけ炭素数１〜４のものがあ
げられる。
ルキレン基および低級アルコキシ基としては、炭素数１
〜６、とりわけ炭素数１〜４のものがあげられ、低級ア
ルカノイル基および低級アルケニル基としては、炭素数
２〜７、とりわけ炭素数２〜５のものがあげられ、低級
アルケノイル基およびシクロアルキル基としては、炭素
数３〜８、とりわけ炭素数３〜６のものがあげられ、低
級アルカン酸としては、炭素数１〜８、とりわけ炭素数
２〜５のものがあげられ、低級アルカンスルホン酸とし
ては、炭素数１〜６、とりわけ炭素数１〜４のものがあ
げられる。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、フタロイル基で保護さ
れたアミノ基を有する化合物が、例えば、ニトロ基、ｔ
−ブチルエステル等の不安定な構造を有する化合物であ
る場合でも、フタロイル基を緩和な条件下で効率よく除
去できるため、当該化合物を分解することなく目的物を
高収率でかつ容易に得ることができる。従って、本発明
方法は、アミノ基の保護基の除去方法として、工業的に
有利な方法である。
れたアミノ基を有する化合物が、例えば、ニトロ基、ｔ
−ブチルエステル等の不安定な構造を有する化合物であ
る場合でも、フタロイル基を緩和な条件下で効率よく除
去できるため、当該化合物を分解することなく目的物を
高収率でかつ容易に得ることができる。従って、本発明
方法は、アミノ基の保護基の除去方法として、工業的に
有利な方法である。
【００１６】
【実施例】次に実施例をあげて本発明を更に詳細に説明
するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。 実施例１ ３−アミノメチル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチ
ルエステルの合成
するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるもの
ではない。 実施例１ ３−アミノメチル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチ
ルエステルの合成
【化７】 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した２０００ｍｌ
四つ口フラスコに、３−フタルイミドメチル−６−ニト
ロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル３２．５ｇ（７
８．８ｍｍｏｌｅ）、パラトルエンスルホン酸一水和物
１．４９ｇ（７．８３ｍｍｏｌｅ）、６０％ヒドラジン
水溶液２６．２８ｇ（３１５ｍｍｏｌｅ）およびテトラ
ヒドロフラン９７６ｇを加え、窒素雰囲気下、６０℃で
５時間加熱撹拌して反応を行った。反応の初期にヒドラ
ジン付加物の生成が、また反応が進行するにつれてフタ
ル酸ヒドラジドの生成が確認された。室温まで冷却後、
トルエン４８６ｇおよび５％炭酸カリウム水溶液４８６
ｇを加えて撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を
水４８６ｇで洗浄した後、減圧濃縮して３−アミノメチ
ル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２
２．２ｇ（９９．７％）を得た。
四つ口フラスコに、３−フタルイミドメチル−６−ニト
ロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル３２．５ｇ（７
８．８ｍｍｏｌｅ）、パラトルエンスルホン酸一水和物
１．４９ｇ（７．８３ｍｍｏｌｅ）、６０％ヒドラジン
水溶液２６．２８ｇ（３１５ｍｍｏｌｅ）およびテトラ
ヒドロフラン９７６ｇを加え、窒素雰囲気下、６０℃で
５時間加熱撹拌して反応を行った。反応の初期にヒドラ
ジン付加物の生成が、また反応が進行するにつれてフタ
ル酸ヒドラジドの生成が確認された。室温まで冷却後、
トルエン４８６ｇおよび５％炭酸カリウム水溶液４８６
ｇを加えて撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を
水４８６ｇで洗浄した後、減圧濃縮して３−アミノメチ
ル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２
２．２ｇ（９９．７％）を得た。
【００１７】実施例２ ３−アミノメチル−６−ニトロフェニル酢酸メチルエス
テルの合成
テルの合成
【化８】 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した１０００ｍｌ
四つ口フラスコに、３−フタルイミドメチル−６−ニト
ロフェニル酢酸メチルエステル６．３６ｇ（１８．０ｍ
ｍｏｌｅ）、パラトルエンスルホン酸一水和物３８０ｍ
ｇ（２ｍｍｏｌｅ）、ヒドラジン一水和物２．２５ｇ
（４．５０ｍｍｏｌｅ）およびテトラヒドロフラン３５
０ｍｌを加え、窒素雰囲気下、６０℃で５時間加熱撹拌
して反応を行った。反応の初期にヒドラジン付加物の生
成が、また反応が進行するにつれてフタル酸ヒドラジド
の生成が確認された。室温まで冷却後、酢酸エチル３５
０ｍｌ、５％硫酸水素カリウム水溶液３５０ｍｌを加え
分液した。さらに有機層を５％硫酸水素カリウム水溶液
１００ｍｌで２回抽出した。水層を１つにまとめ炭酸カ
リウム２７．５ｇを加え塩基性にした後、酢酸エチル−
テトラヒドロフラン（１：１）の混合液５００ｍｌで抽
出した。さらに酢酸エチル−テトラヒドロフラン（１：
１）の混合液２００ｍｌで８回抽出を繰り返した。有機
層を一つにまとめ飽和食塩水４８６ｇで洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過を行い、減圧濃縮して
３−アミノメチル−６−ニトロフェニル酢酸メチルエス
テル３．３１ｇ（８２．４％）を得た。
四つ口フラスコに、３−フタルイミドメチル−６−ニト
ロフェニル酢酸メチルエステル６．３６ｇ（１８．０ｍ
ｍｏｌｅ）、パラトルエンスルホン酸一水和物３８０ｍ
ｇ（２ｍｍｏｌｅ）、ヒドラジン一水和物２．２５ｇ
（４．５０ｍｍｏｌｅ）およびテトラヒドロフラン３５
０ｍｌを加え、窒素雰囲気下、６０℃で５時間加熱撹拌
して反応を行った。反応の初期にヒドラジン付加物の生
成が、また反応が進行するにつれてフタル酸ヒドラジド
の生成が確認された。室温まで冷却後、酢酸エチル３５
０ｍｌ、５％硫酸水素カリウム水溶液３５０ｍｌを加え
分液した。さらに有機層を５％硫酸水素カリウム水溶液
１００ｍｌで２回抽出した。水層を１つにまとめ炭酸カ
リウム２７．５ｇを加え塩基性にした後、酢酸エチル−
テトラヒドロフラン（１：１）の混合液５００ｍｌで抽
出した。さらに酢酸エチル−テトラヒドロフラン（１：
１）の混合液２００ｍｌで８回抽出を繰り返した。有機
層を一つにまとめ飽和食塩水４８６ｇで洗浄した後、無
水硫酸マグネシウムで乾燥、濾過を行い、減圧濃縮して
３−アミノメチル−６−ニトロフェニル酢酸メチルエス
テル３．３１ｇ（８２．４％）を得た。
【００１８】参考例１および２
【化９】
【００１９】参考例１ ３−ヒドロキシメチル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−
ブチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した１０００ｍｌ
四つ口フラスコに、３−ヒドロキシ−４−ニトロベンジ
ルアルコール１６．９ｇ（１００ｍｍｏｌｅ）、炭酸カ
リウム２０．７３ｇ（１５０ｍｍｏｌｅ）、ブロモ酢酸
ｔ−ブチルエステル１９．５ｇ（９８ｍｍｏｌｅ）、酢
酸エチル１５０ｍｌおよびアセトン２１０ｍｌを加え、
窒素雰囲気下、６０℃で５時間加熱撹拌して反応を行っ
た。放冷後酢酸エチル１３０ｍｌと水１７０ｍｌを加え
て撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を飽和食塩
水１７０ｇで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濾過を行い、減圧濃縮して３−ヒドロキシメチル−
６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２７．０
３ｇ（９５．２％純度９６．０％）を得た。このものは
特に精製せずに次の反応に用いた。
ブチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した１０００ｍｌ
四つ口フラスコに、３−ヒドロキシ−４−ニトロベンジ
ルアルコール１６．９ｇ（１００ｍｍｏｌｅ）、炭酸カ
リウム２０．７３ｇ（１５０ｍｍｏｌｅ）、ブロモ酢酸
ｔ−ブチルエステル１９．５ｇ（９８ｍｍｏｌｅ）、酢
酸エチル１５０ｍｌおよびアセトン２１０ｍｌを加え、
窒素雰囲気下、６０℃で５時間加熱撹拌して反応を行っ
た。放冷後酢酸エチル１３０ｍｌと水１７０ｍｌを加え
て撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を飽和食塩
水１７０ｇで洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濾過を行い、減圧濃縮して３−ヒドロキシメチル−
６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２７．０
３ｇ（９５．２％純度９６．０％）を得た。このものは
特に精製せずに次の反応に用いた。
【００２０】参考例２ （１）３−フタルイミドメチル−６−ニトロフェノキシ
酢酸ｔ−ブチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した１０００ｍｌ
四つ口フラスコに、３−ヒドロキシ−６−ニトロフェノ
キシ酢酸ｔ−ブチルエステル３０．７２ｇ（１０８ｍｍ
ｏｌｅ）、トリエチルアミン１３．１８ｇ（１３０ｍｍ
ｏｌｅ）およびトルエン３０７ｇを加え、撹拌しながら
窒素雰囲気下、５〜１０℃で塩化メタンスルホニル１
３．６５ｇ（１１９ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと滴下し
た。滴下終了後さらに３０分間５〜１０℃で撹拌を続け
た。反応液に５％硫酸水素カリウム水溶液４６０ｇを加
え撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を水４６０
ｇついで飽和食塩水４６０ｇで洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濾過を行い、トルエンを減圧留去し
て３−メタンスルホニルオキシメチル−６−ニトロフェ
ノキシ酢酸ｔ−ブチルエステルの濃トルエン溶液６１ｇ
を得た。
酢酸ｔ−ブチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した１０００ｍｌ
四つ口フラスコに、３−ヒドロキシ−６−ニトロフェノ
キシ酢酸ｔ−ブチルエステル３０．７２ｇ（１０８ｍｍ
ｏｌｅ）、トリエチルアミン１３．１８ｇ（１３０ｍｍ
ｏｌｅ）およびトルエン３０７ｇを加え、撹拌しながら
窒素雰囲気下、５〜１０℃で塩化メタンスルホニル１
３．６５ｇ（１１９ｍｍｏｌｅ）をゆっくりと滴下し
た。滴下終了後さらに３０分間５〜１０℃で撹拌を続け
た。反応液に５％硫酸水素カリウム水溶液４６０ｇを加
え撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を水４６０
ｇついで飽和食塩水４６０ｇで洗浄した後、無水硫酸マ
グネシウムで乾燥、濾過を行い、トルエンを減圧留去し
て３−メタンスルホニルオキシメチル−６−ニトロフェ
ノキシ酢酸ｔ−ブチルエステルの濃トルエン溶液６１ｇ
を得た。
【００２１】（２）撹拌機、温度計および還流冷却管を
付した２０００ｍｌ四つ口フラスコに、この３−メタン
スルホニルオキシメチル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ
−ブチルエステルの濃トルエン溶液６１ｇ、フタルイミ
ドカリウム１９．８４ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド６５０ｇを加え、窒素雰囲気下３５〜４０℃にて
２時間撹拌した。その後トルエン６５０ｇおよび水６５
０ｇを加え撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を
５％硫酸水素カリウム水溶液６５０ｇついで飽和食塩水
６５０ｇで洗浄した後、内温６０℃以下でトルエンを約
４８０ｍｌ減圧留去した。撹拌しながらこの濃縮液にノ
ルマルヘキサン１６５ｇをゆっくりと加えるとスラリー
状の溶液が得られた。この溶液を撹拌しながら内温が５
０〜６０℃になるまで加熱し、再結晶を行った。５℃ま
で冷却して３０分撹拌した後に結晶を濾取し、５０％ト
ルエン−ノルマルヘキサン溶液１００ｇで洗浄した後、
減圧乾燥を行い３−フタルイミドメチル−６−ニトロフ
ェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル３７．７２ｇ（８４．
７％純分９７．２％）を得た。
付した２０００ｍｌ四つ口フラスコに、この３−メタン
スルホニルオキシメチル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ
−ブチルエステルの濃トルエン溶液６１ｇ、フタルイミ
ドカリウム１９．８４ｇおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド６５０ｇを加え、窒素雰囲気下３５〜４０℃にて
２時間撹拌した。その後トルエン６５０ｇおよび水６５
０ｇを加え撹拌した。水層と有機層を分液し、有機層を
５％硫酸水素カリウム水溶液６５０ｇついで飽和食塩水
６５０ｇで洗浄した後、内温６０℃以下でトルエンを約
４８０ｍｌ減圧留去した。撹拌しながらこの濃縮液にノ
ルマルヘキサン１６５ｇをゆっくりと加えるとスラリー
状の溶液が得られた。この溶液を撹拌しながら内温が５
０〜６０℃になるまで加熱し、再結晶を行った。５℃ま
で冷却して３０分撹拌した後に結晶を濾取し、５０％ト
ルエン−ノルマルヘキサン溶液１００ｇで洗浄した後、
減圧乾燥を行い３−フタルイミドメチル−６−ニトロフ
ェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル３７．７２ｇ（８４．
７％純分９７．２％）を得た。
【００２２】参考例３
【化１０】 （１）３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル−６−ニト
ロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した５００ｍｌ四
つ口フラスコに、実施例１で得た３−アミノメチル−６
−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２２．２ｇ
（７８．６ｍｍｏｌｅ）のトルエン溶液２００ｇを加
え、窒素雰囲気下、撹拌しながら４０℃以下でジ−ｔ−
ブチルジカーボネート１８．８６ｇ（８６．４ｍｍｏｌ
ｅ）のトルエン溶液４０ｇをゆっくりと滴下した。滴下
終了後更に３０分間撹拌を続けた後、トルエン約１６０
ｇを内温６０℃以下で減圧留去した。撹拌しながらこの
濃縮液にノルマルヘキサン１３５ｇをゆっくりと加える
とスラリー状の溶液が得られた。この溶液を撹拌しなが
ら内温が５０〜６０℃になるまで加熱し、再結晶を行っ
た。５℃まで冷却して３０分撹拌した後に濾過を行い、
３０％トルエン−ノルマルヘキサン溶液４０ｇで洗浄し
た後、減圧乾燥を行い３−ｔ−ブトキシカルバモイルメ
チル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２
４．５１ｇ（８１．５％）を得た。
ロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した５００ｍｌ四
つ口フラスコに、実施例１で得た３−アミノメチル−６
−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２２．２ｇ
（７８．６ｍｍｏｌｅ）のトルエン溶液２００ｇを加
え、窒素雰囲気下、撹拌しながら４０℃以下でジ−ｔ−
ブチルジカーボネート１８．８６ｇ（８６．４ｍｍｏｌ
ｅ）のトルエン溶液４０ｇをゆっくりと滴下した。滴下
終了後更に３０分間撹拌を続けた後、トルエン約１６０
ｇを内温６０℃以下で減圧留去した。撹拌しながらこの
濃縮液にノルマルヘキサン１３５ｇをゆっくりと加える
とスラリー状の溶液が得られた。この溶液を撹拌しなが
ら内温が５０〜６０℃になるまで加熱し、再結晶を行っ
た。５℃まで冷却して３０分撹拌した後に濾過を行い、
３０％トルエン−ノルマルヘキサン溶液４０ｇで洗浄し
た後、減圧乾燥を行い３−ｔ−ブトキシカルバモイルメ
チル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２
４．５１ｇ（８１．５％）を得た。
【００２３】（２）３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチ
ル−６−アミノフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル 窒素雰囲気下、酢酸エチル２９０ｇに、３−ｔ−ブトキ
シカルバモイルメチル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−
ブチルエステル２９ｇ（７５．８mmol）、１０％パラジ
ウム炭素（吸湿品）２．９ｇを加え、反応容器内を水素
ガス置換した。２０℃にて２時間撹拌後、反応容器内を
窒素ガス置換し触媒をセライト濾去した。触媒を酢酸エ
チル８７ｇで洗浄後あわせた溶液を減圧下濃縮し、約１
１６ｇの目的物を含む酢酸エチル溶液とした。この濃縮
液にヘキサン４３５ｇを加え、５℃まで冷却し、３０分
間撹拌した後に濾過を行った。結晶を１６％酢酸エチル
−ヘキサン溶液８７ｇで洗浄した後、減圧乾燥を行うこ
とにより３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル−６−ア
ミノフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２５．１ｇを得
た（収率９４．０％）。
ル−６−アミノフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル 窒素雰囲気下、酢酸エチル２９０ｇに、３−ｔ−ブトキ
シカルバモイルメチル−６−ニトロフェノキシ酢酸ｔ−
ブチルエステル２９ｇ（７５．８mmol）、１０％パラジ
ウム炭素（吸湿品）２．９ｇを加え、反応容器内を水素
ガス置換した。２０℃にて２時間撹拌後、反応容器内を
窒素ガス置換し触媒をセライト濾去した。触媒を酢酸エ
チル８７ｇで洗浄後あわせた溶液を減圧下濃縮し、約１
１６ｇの目的物を含む酢酸エチル溶液とした。この濃縮
液にヘキサン４３５ｇを加え、５℃まで冷却し、３０分
間撹拌した後に濾過を行った。結晶を１６％酢酸エチル
−ヘキサン溶液８７ｇで洗浄した後、減圧乾燥を行うこ
とにより３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル−６−ア
ミノフェノキシ酢酸ｔ−ブチルエステル２５．１ｇを得
た（収率９４．０％）。
【００２４】参考例４
【化１１】 （１）３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル−６−ニト
ロフェニル酢酸メチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した１００ｍｌ四
つ口フラスコに、実施例２で得た３−アミノメチル−６
−ニトロフェニル酢酸メチルエステル２．７５ｇ（１
２．３ｍｍｏｌｅ）のジクロロメタン溶液３０ｍｌを加
え、室温窒素雰囲気下、撹拌しながらジ−ｔ−ブチルジ
カーボネート２．４２ｇ（１１．１ｍｍｏｌｅ）をゆっ
くりと加えた。３０分間撹拌を続けた後、５％硫酸水素
カリウム水溶液３５ｍｌを加え分液した。有機層を水、
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濾過を行い、減圧濃縮して粗３−ｔ−ブトキシカル
バモイルメチル−６−ニトロフェニル酢酸メチルエステ
ル３．８５ｇを得た。これをフラッシュシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（移動層ノルマルヘキサン：酢酸
エチル＝４：１〜１：１）で精製して３−ｔ−ブトキシ
カルバモイルメチル−６−ニトロフェニル酢酸メチルエ
ステル３．１１ｇ（７８．０％）を得た。
ロフェニル酢酸メチルエステル 撹拌機、温度計および還流冷却管を付した１００ｍｌ四
つ口フラスコに、実施例２で得た３−アミノメチル−６
−ニトロフェニル酢酸メチルエステル２．７５ｇ（１
２．３ｍｍｏｌｅ）のジクロロメタン溶液３０ｍｌを加
え、室温窒素雰囲気下、撹拌しながらジ−ｔ−ブチルジ
カーボネート２．４２ｇ（１１．１ｍｍｏｌｅ）をゆっ
くりと加えた。３０分間撹拌を続けた後、５％硫酸水素
カリウム水溶液３５ｍｌを加え分液した。有機層を水、
飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸マグネシウムで乾
燥、濾過を行い、減圧濃縮して粗３−ｔ−ブトキシカル
バモイルメチル−６−ニトロフェニル酢酸メチルエステ
ル３．８５ｇを得た。これをフラッシュシリカゲルカラ
ムクロマトグラフィー（移動層ノルマルヘキサン：酢酸
エチル＝４：１〜１：１）で精製して３−ｔ−ブトキシ
カルバモイルメチル−６−ニトロフェニル酢酸メチルエ
ステル３．１１ｇ（７８．０％）を得た。
【００２５】（２）３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチ
ル−６−アミノフェノキシ酢酸メチルエステル ３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル−６−ニトロフェ
ニル酢酸メチルエステルを参考例３（２）と同様に処理
することにより、３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル
−６−アミノフェノキシ酢酸メチルエステルを得ること
ができる。
ル−６−アミノフェノキシ酢酸メチルエステル ３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル−６−ニトロフェ
ニル酢酸メチルエステルを参考例３（２）と同様に処理
することにより、３−ｔ−ブトキシカルバモイルメチル
−６−アミノフェノキシ酢酸メチルエステルを得ること
ができる。
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 229/34 9450−4Ｈ
Claims (8)
- 【請求項１】 フタロイル基で保護されたアミノ基を有
する化合物をヒドラジンと酸で処理することにより、ア
ミノ化合物を得ることを特徴とする、フタロイル基の除
去方法。 - 【請求項２】 一般式［Ｉ］ 【化１】 ［式中、Ａは場合により置換されていてもよい芳香族基
を表し、Ａｌｋは単結合または直鎖もしくは分岐低級ア
ルキレン基を表す。］で示されるフタロイル化合物をヒ
ドラジンと酸で処理することにより、一般式Ｈ2 Ｎ−Ａ
ｌｋ−Ａ［式中、ＡおよびＡｌｋは前記と同じ意味を表
す。］で示されるアミノ化合物を得ることを特徴とす
る、請求項１記載の方法。 - 【請求項３】 Ａが場合により１、２、３または４個の
置換基で置換されていてもよい単環式、二環式もしくは
三環式アリールまたはヘテロアリール基である請求項１
記載の方法。 - 【請求項４】 Ａが場合により１、２、３または４個の
置換基で置換されていてもよいフェニル基である請求項
１記載の方法。 - 【請求項５】 Ａが場合により１、２、３または４個の
置換基で置換されていてもよいフェニル基であり、Ａｌ
ｋがメチレン基である請求項１記載の方法。 - 【請求項６】 一般式［Ｉａ］ 【化２】 ［式中、Ｘは単結合、−Ｏ−、または直鎖もしくは分岐
低級アルキレン基を表し、ＣＯＯＲは保護されたカルボ
キシル基を表す。］で示されるフタロイル化合物をヒド
ラジンと酸で処理することにより、一般式［ＩＩ］ 【化３】 ［式中、ＸおよびＣＯＯＲは前記と同じ意味を表す。］
で示されるアミノ化合物を得ることを特徴とする、請求
項１記載の方法。 - 【請求項７】 酸が鉱酸、カルボン酸またはスルホン酸
である請求項１、２、３、４、５または６記載の方法。 - 【請求項８】 フタロイル基で保護されたアミノ基を有
する化合物を、有機溶媒中、ヒドラジンと触媒量のパラ
トルエンスルホン酸で処理することによりアミノ化合物
を得ることを特徴とするフタロイル基の除去方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3897895A JPH08208530A (ja) | 1995-02-03 | 1995-02-03 | フタルイミド化合物のフタロイル基の除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3897895A JPH08208530A (ja) | 1995-02-03 | 1995-02-03 | フタルイミド化合物のフタロイル基の除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08208530A true JPH08208530A (ja) | 1996-08-13 |
Family
ID=12540249
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3897895A Pending JPH08208530A (ja) | 1995-02-03 | 1995-02-03 | フタルイミド化合物のフタロイル基の除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08208530A (ja) |
-
1995
- 1995-02-03 JP JP3897895A patent/JPH08208530A/ja active Pending
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