JPH08203461A

JPH08203461A - 荷電粒子ビーム装置

Info

Publication number: JPH08203461A
Application number: JP7007919A
Authority: JP
Inventors: Hideo Todokoro; 秀男戸所; Sadao Terakado; 貞夫寺門; Toshio Kubo; 俊男久保; Masabumi Kanetomo; 正文金友; Hidekazu Seya; 英一瀬谷; Masakazu Sugaya; 昌和菅谷
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1995-01-23
Filing date: 1995-01-23
Publication date: 1996-08-09

Abstract

(57)【要約】【構成】荷電子ビーム装置本体とベースプレートの間に
防振具を設置する。【効果】音等の外乱で共振して発生したベースプレート
の振動が荷電子ビーム装置本体に伝わることを防振具に
よって遮断することができ、音等の外乱に強い荷電子ビ
ーム装置となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は荷電粒子ビーム装置に係
り、特に、音等の外乱に対して強い構成とした装置に関
する。

【０００２】

【従来の技術】図２に従来の荷電粒子ビーム装置（この
例では走査形電子顕微鏡である）の構成を示す。ここで
は走査形電子顕微鏡を例にして説明する。走査形電子顕
微鏡装置の本体１５は電子を発生しこれを収束して試料
上を走査する電子ビームカラム１，ステージを内蔵した
試料室２，電子ビームカラム１を真空排気するイオンポ
ンプ９，１０，試料室２を真空排気するターボ分子ポン
プ７，試料を試料室内に導入するためのローダ室３とこ
れを真空排気するターボ分子ポンプ８で構成されてい
る。本体１５は試料室２に設けられた固定ねじ１３でベ
ースプレート５に固定されている。このベースプレート
５は防振具１１を介して架台６に載っている。防振具１
１はスプリングコイルで床１２からの振動がベースプレ
ートに伝わらないようになっている。このため、防振具
１１と防振具１１が支えている荷重とで作る共振周波数
を低くして、できるかぎり低周波の床振動をも遮断する
ように作られている。通常の共振周波数は数Ｈｚであ
る。図中の４は試料送り装置で自動的に試料をローダ室
３に送りこむ装置で、半導体のウエハを試料とする場合
には一般的に用いられている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、この構成では
防振具１１は床１２からの振動に対して有効に働くが、
音等の外乱は直接にベースプレート５と本体１５に作用
してしまうため効果がない。特に、ベースプレート５は
本体と試料送り装置４を乗せる大きさを必要とするた
め、ベースプレート５自体の共振周波数が１００Ｈｚ前
後になり、音の外乱に共振し、本体に振動を与えてしま
う欠点があった。ベースプレート５の厚みを増して共振
周波数を上げることも可能であるが、ベースプレート５
が重くなり過ぎるため実施は困難である。

【０００４】本発明の目的はこのような欠点を解消し
て、音等の外乱に対応できる現実的な荷電子ビーム装置
を提供することにある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】上述の欠点を解決するた
め、本発明は、本体を防振具を介してベースプレートに
固定することである。ここで本体と防振具で作られる共
振周波数はベースプレート自体の共振周波数よりも低い
周波数に設定する。

【０００６】

【作用】この構成にするとベースプレートの音等の外乱
による共振振動が本体に伝わらないことから音等の外乱
に強い構成となる。

【０００７】

【実施例】本発明の実施例を図１を用いて説明する。電
子ビームカラム１，試料室２，イオンポンプ９，１０，
ローダ室３，ターブ分子ポンプ７，８からなる本体１５
が本体防振具１４を介してベースプレート５に固定され
ている。本体防振具１４の共振周波数は２０Ｈｚに設定
されている。試料送り装置４はベースプレート５の上設
置されている。ベースプレート５は防振具１１に載り、
床からの振動を遮断している。防振具１１の共振周波数
は２Ｈｚに設定されている。一般的なベースプレートの
大きさは１ないし２ｍ²で、厚さは３０mm程度である。
このようなベースプレートの共振周波数は５０ないし２
００Ｈｚの範囲になる。本体防振具１４の共振周波数は
２０Ｈｚに設定されていることから、ベースプレート５
が外乱により共振した振動は本体防振具１４で遮断され
る。

【０００８】試料送り装置４とローダ室３間は１mm以下
の機械精度が要求されるが、２０Hzに共振周波数を持つ
本体防振具１４は位置ずれが小さく容易に１mm以下の機
械的な位置精度が得られる。

【０００９】本発明の要点は低周波の振動を含む床振動
はベースプレート５の下に置かれた防振具１１で遮断
し、外乱で起こるベースプレート５の中間の周波数の振
動は本体防振具１４で遮断することである。さらに数値
で具体的に言うならば、防振具１１の共振周波数は１０
Ｈｚ未満とし、防振具１４の共振周波数は１０Ｈｚ以上
とする。

【００１０】図３は本発明の他の実施例である。図１の
実施例では音等の外乱によるベースプレート５の振動を
本体防振具１４によって遮断した。しかし、本体１５に
直接に入る外乱については対策がなされていない。この
実施例では、音を遮断するカバー１６を設けている。カ
バー１６はベースプレート５に固定されているため音等
の外乱によってカバー１６が振動しても本体１５を振動
させることはない。

【００１１】なお、これまでの説明は走査形電子顕微鏡
に適用した例で説明したが、本発明は電子ビームやイオ
ン等の荷電粒子ビーム装置に適用できる。

【００１２】

【発明の効果】本発明によれば、荷電子ビーム装置の本
体１５とベースプレート５の間に防振具を設けることに
より、音等による外乱によるベースプレート５の振動が
本体１５に伝わることを防止でき、振動のない安定した
走査像を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】従来の荷電子ビーム装置の構成と問題点の説明
図。

【図２】本発明の実施例の構成の説明図。

【図３】本発明の他の実施例の説明図。

【符号の説明】

１…電子ビームカラム、２…試料室、３…ローダ室、４
…試料送り装置、５…ベースプレート、６…架台、７，
８…ターボ分子ポンプ、９，１０…イオンポンプ、１１
…防振具、１２…床、１３…固定ねじ、１４…本体防振
具、１５…本体、１６…カバー。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者金友正文東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者瀬谷英一東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内 (72)発明者菅谷昌和東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地株式会社日立製作所中央研究所内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】荷電粒子ビームカラムと、ステージを内蔵
した試料室と、前記荷電粒子ビームカラムと前記試料室
を真空排気する排気装置から構成される荷電粒子ビーム
装置本体と荷電粒子ビーム装置本体を搭載するベースプ
レートと、前記ベースプレートを支持する架台とからな
る装置において、前記荷電粒子ビーム装置本体と前記ベ
ースプレートの間および前記ベースプレートと架台の間
の２箇所に振動を遮断するための防振具を備えたことを
特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項２】荷電粒子ビーム装置本体とベースプレート
の間の振動を遮断するための防振具の共振周波数が前記
ベースプレートと架台の間に設けた防振具の共振周波数
よりも高く設定されていることを特徴とする荷電粒子ビ
ーム装置。
【請求項３】荷電粒子ビーム装置本体とベースプレート
の間の振動を遮断するための防振具の共振周波数が１０
Ｈｚ以上に設定され、前記ベースプレートと架台の間に
設けた防振具の共振周波数が１０Ｈｚ未満に設定されて
いることを特徴とする荷電粒子ビーム装置。
【請求項４】ベースプレート上に搭載された荷電粒子ビ
ームカラム，試料室，排気装置の一部分を覆うためのカ
バーが前記ベースプレートに固定して組み立てられ、前
記荷電粒子ビームカラム，前記試料室，前記排気装置に
接触していないことを特徴とする荷電粒子ビーム装置。