JPH081922B2 - ウェハ−保持装置 - Google Patents

ウェハ−保持装置

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JPH081922B2
JPH081922B2 JP3007945A JP794591A JPH081922B2 JP H081922 B2 JPH081922 B2 JP H081922B2 JP 3007945 A JP3007945 A JP 3007945A JP 794591 A JP794591 A JP 794591A JP H081922 B2 JPH081922 B2 JP H081922B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、半導体装置の製造工
程においてウェハ−をサセプタ−へ自動的に装着又は離
脱する場合に使用して好適なウェハ−保持装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】一般に半導体を製造する処理工程の中
で、ウェハ−の表面に薄膜を形成するエピタキシャル工
程がある。このエピタキシャル工程は、先ずカ−ボン製
のサセプタ−に形成されたウェハ−支持溝へウェハ−を
装着し、反応炉中で加熱して所定のガスを供給して所望
の薄膜を形成させる。この場合、サセプタ−へのウェハ
−の着脱は、ウェハ−保持装置を用いて行なわれる。
【0003】この種のウェハ−保持装置は、従来、図7
に示すように構成され、動作時には移送ア−ム6の先端
に固定されたチャック本体5は、ウェハ−7を待機させ
てある待機ステ−ション9とサセプタ−2との間を移動
し、ウェハ−7を移送する。ウェハ−7の保持は、チャ
ック本体5にエア−シリンダ−4を介して取付けられた
チャック爪3により行ない、サセプタ−2のウェハ−支
持溝8へのウェハ−7の着脱は、チャック爪3をエア−
シリンダ−4により開閉することにより行なう。チャッ
ク爪3のウェハ−保持位置とサセプタ−2のウェハ−支
持溝8内のウェハ−7載置位置とは、予め移送ア−ム6
の停止位置をサセプタ−2側に合わせて設定してあり、
固定された位置である。
【0004】尚、図7中の符号1は、例えば6角形に配
置された6個のサセプタ−2を支持する支持プレ−トで
ある。
【0005】上記のような従来のウェハ−保持装置で
は、移送ア−ム6の先端にチャック本体5を固定して、
サセプタ−2のウェハ−支持溝8へのウェハ−7の着脱
を行なうように構成されている。この場合、サセプタ−
2側でのチャック爪3に保持されたウェハ−7の位置は
常に一定である。
【0006】ところが、サセプタ−2は6角形の支持プ
レ−ト1の外周を囲むように吊り下げられて配置され、
ウェハ−7の着脱は支持プレ−ト1を回転させて順次6
個のサセプタ−2に対して行なう。サセプタ−2と支持
プレ−ト1は、その製造過程において僅かづつではある
が、加工誤差を生じる。このため、サセプタ−2側での
チャック爪3に保持されたウェハ−7の位置に対して、
サセプタ−2のウェハ−支持溝8は前述の理由により常
に一定ではなく、個々のサセプタ−2により若干の位置
ずれを生じる。
【0007】この位置ずれにより、装着時にはウェハ−
7がウェハ−支持溝8の規定位置へ装着されない。この
結果、サセプタ−2とウェハ−7が密着しないで空間が
生じ、ウェハ−7がウェハ−支持溝8から外れて落下
し、破損することがある。又、離脱時にはチャック爪3
にウェハ−7が保持出来ず、この場合もウェハ−7が落
下し破損する。
【0008】通常、ウェハ−7とサセプタ−2面とは密
着した状態で薄膜形成の処理を行なうことが望ましく、
空間を生じるとウェハ−7上に形成された薄膜に異常を
来たし不良となる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】この発明は、上記事情
に鑑みなされたもので、サセプタ−の位置に若干のずれ
が生じても、ウェハ−支持溝内へのウェハ−の着脱を安
定且つ確実に行ない得るようにしたウェハ−保持装置を
提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】この発明は、ウェハ−が
着脱自在に固定されるウェハ−支持溝を有するサセプタ
−と、チャック本体にエア−シリンダ−を介して移動自
在に設けられ上記ウェハ−の外縁部を保持する複数のチ
ャック爪と、上記チャック本体を所定位置に移送する移
送ア−ムと、上記ウェハ−支持溝に対する上記チャック
爪の位置を自動的に補正する自動位置補正手段とを具備
することを特徴とするウェハ−保持装置である。
【0011】そして、自動位置補正手段は、上記移送ア
−ムと上記チャック本体との間に介在され移送ア−ムに
対してチャック本体が自在に動く自在支持機構と、上記
チャック本体に取付けられ上記チャック爪と上記ウェハ
−支持溝との間隔を検出する検出手段と、この検出手段
により検出された検出信号を演算処理して上記移送ア−
ムに上記ウェハ−支持溝に対する上記チャック爪の傾き
と奥行きの補正信号を与える演算処理回路とからなって
いる。
【0012】
【作用】この発明によれば、自動位置補正手段を有して
いるので、サセプタ−の位置に若干のずれが生じても、
ウェハ−を破損させることなく、ウェハ−支持溝内への
ウェハ−の着脱を安定且つ確実に行なうことが出来る。
【0013】
【実施例】以下、図面を参照して、この発明の一実施例
を詳細に説明する。
【0014】この発明によるウェハ−保持装置は図1乃
至図3に示すように構成され、図1はウェハ−保持装置
の全体を示す断面図、図2は自在支持機構付近を示す平
面図、図3は組立て式のサセプタ−を示す斜視図であ
る。
【0015】先ず、サセプタ−から説明すると、このサ
セプタ−は図3に示すように構成され、ハンガ−棒11
の一端には、多角形例えば6角形にして側面にフック1
2が一体に突設された支持プレ−ト13が固定されてい
る。この支持プレ−ト13の側面を囲むように略矩形状
のサセプタ−14がフック12に係止され、吊り下げら
れて配置されている。各サセプタ−14には、それぞれ
4個の凸部15を有する円形のウェハ−支持溝16が複
数例えば3個形成されており、図1から明らかなように
凸部15は後述のチャック爪に対応してウェハ−支持溝
16の主要部より深く形成されている。
【0016】尚、図示していないが、この実施例でも従
来例と同様にウェハ−の待機ステ−ション(図7の符号
9参照)が存在している。
【0017】さて図1に示すように、上記のサセプタ−
14と待機ステ−ションとの間でウェハ−17を移送さ
せるために、移送ア−ム18が回動自在に配設されてい
る。この移送ア−ム18の先端には、自在支持機構19
を介してチャック本体20が取付けられている。このチ
ャック本体20には、図2からも明らかなように対角線
上に4個のエア−シリンダ−21が組み込まれており、
この各エア−シリンダ−21にはそれぞれチャック爪2
2が取付けられ、エア−シリンダ−21を動作させるこ
とによりチャック爪21のV溝部にウェハ−17を保持
している。
【0018】更に、このチャック本体20には、チャッ
ク爪22とサセプタ−14との間隔を検出する検出手段
が設けられている。この検出手段は、4個のエア−シリ
ンダ−21の間に位置して突出するようにチャック本体
20に取付けられたギャップセンサ−支持片23と、こ
のギャップセンサ−支持片23に支持されたギャップセ
ンサ−24とその先端のセンシングピン25からなって
いる。
【0019】次に、自在支持機構19について説明する
と、移送ア−ム18の先端には移送ア−ム固定板26が
固定されている。この移送ア−ム固定板26には、支持
ピン27を介して支持板28が所定方向に回動自在に支
持され、復帰スプリング29により元の位置に復帰する
ように構成されている。この場合、移送ア−ム固定板2
6の側壁にはベアリング30が埋設されており、このベ
アリング30に支持板28に突設された支持ピン27が
固定されている。従って、この支持ピン27を支点に、
支持板28は所定方向に回動自在になっている。更に、
支持板28には上記のチャック本体20に取付けられた
支持杆31が所定方向に回動自在に支持され、支持板2
8とチャック本体20との間には復帰スプリング32が
設けられ、チャック本体20が元の位置に復帰するよう
に構成されている。この結果、チャック本体20は4個
の支持ピン27を結ぶ交点33(図2参照)を中心とし
て円周のどの方向に対しても、傾き得るようになってお
り、サセプタ−14に対して常に平行に摺動することが
出来る。
【0020】半導体製造のエピタキシャル工程におい
て、この発明のウェハ−保持装置を使用してサセプタ−
14に形成されたウェハ−支持溝16へウェハ−17を
装着するには、図示しない待機ステ−ションにあるウェ
ハ−17をチャック爪22で保持し、移送ア−ム18を
操作してサセプタ−14のウェハ−支持溝16へ移送す
る。この時、センシングピン25をサセプタ−14の表
面に接触されることにより、サセプタ−14の位置が検
出され、この検出信号を演算処理回路で演算処理して、
移送ア−ム18にウェハ−支持溝16に対するチャック
爪22の傾きと奥行きの補正信号を与え、自在支持機構
19を介してサセプタ−14とチャック爪22の間隔を
常に一定に保つことが出来る。自在支持機構19は上述
のように構成されているため、サセプタ−14のウェハ
−支持溝16に対するウェハ−17の傾きと奥行きの位
置を自動的に補正することが出来る。
【0021】(他の実施例)上記実施例では、ウェハ−
支持溝16に対するチャック爪22の位置の傾きと奥行
きを自動的に補正していたが、この他の実施例では、傾
き・奥行きに加え上下左右方向の補正を行なっている。
【0022】即ち、この他の実施例は図4乃至図6に示
すように構成され、上記実施例と同一箇所は同一符号を
付すことにして、上記実施例と異なる点についてのみ説
明する。先ず、図6に示すようにサセプタ−14には、
上部つまり支持プレ−ト13の近くにフック34が一体
に突設されると共に、各ウェハ−支持溝16の近くにそ
れぞれ位置検出孔35が穿設されている。
【0023】更に、この位置検出孔35に対応して、図
4及び図5に示すように移送ア−ム18には、支持腕3
6を介して位置検出孔35を検出する手段例えばCCD
カメラ37が支点38を中心に回動自在に取付けられ、
このCCDカメラ37は演算処理回路(図示せず)に接
続されている。
【0024】尚、この他の実施例でも、上記実施例にお
けるチャック爪22とサセプタ−14との間隔を検出す
る検出手段を使用しているが、図4では便宜上図示を省
略しており、図5にギャップセンサ−支持片23、ギャ
ップセンサ−24を示している。
【0025】上記以外は上記実施例(図1及び図2)と
同様構成ゆえ、詳細な説明を省略する。
【0026】さて、この他の実施例では、動作時に初め
に移送ア−ム18を基準設定位置(ティ−チングポイン
ト)に移動して、カメラ37で位置検出孔35の画像を
演算処理回路に入力し、画像処理をして位置補正を行な
う。この場合、処理内容として先ず画像の2値化変換に
てX、Y座標値及び面積を算出して、基準面積との比較
を行なって画像入力状態の良否を確かめ、良いデ−タと
判定された場合、その座標より重心座標を求め、基準座
標点とのX、Y、θずれ量を移送ア−ム18に補正し
て、ウェハ−支持溝16に対して常にチャック爪22の
位置を中心に自動的に移動させることが出来る。
【0027】
【発明の効果】以上詳述したようにこの発明によれば、
サセプタ−の位置に若干のずれが生じても、ウェハ−を
破損させることなく、ウェハ−支持溝内へのウェハ−の
着脱を安定且つ確実に行なうことが出来る。
【0028】又、サセプタ−面とウェハ−裏面とが常に
密着した状態で装着出来る効果があることは言うまでも
ない。
【0029】更に、従来のウェハ−保持装置では、サセ
プタ−の位置ずれを少なくするために、支持プレ−トと
外周の個々のサセプタ−全てを一体にした構造のサセプ
タ−を使用しなければならなかったが、組立て式のサセ
プタ−に比べ、高価であることと、一部のウェハ−支持
溝に不具合が生じても全体を取り替えなければならない
という欠点がある。これに対し、この発明のウェハ−保
持装置を使用すれば、若干のサセプタ−の位置ずれは許
容出来るため、支持プレ−トと外周の個々のサセプタ−
が分離された組立て式のサセプタ−を使用出来る。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例に係るウェハ−保持装置を
示す断面図。
【図2】この発明のウェハ−保持装置の自在支持機構付
近を示す平面図。
【図3】組立て式のサセプタ−の一実施例を示す斜視
図。
【図4】この発明の他の実施例に係るウェハ−保持装置
を示す断面図。
【図5】この発明の他の実施例に係るウェハ−保持装置
の自在支持機構付近を示す平面図。
【図6】この発明の他の実施例における組立て式のサセ
プタ−を示す斜視図。
【図7】従来のウェハ−保持装置を示す断面図。
【符号の説明】
13…支持プレ−ト、14…サセプタ−、16…ウェハ
−支持溝、17…ウェハ−、18…移送ア−ム、19…
自在支持機構、20…チャック本体、21…エア−シリ
ンダ−、22…チャック爪、24…ギャップセンサ−、
25…センシングピン、26…移送ア−ム固定板、27
…支持ピン、28…支持板、29、32…復帰スプリン
グ、31…チャック本体支持杆、35…位置検出孔、3
7…CCDカメラ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/205

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハーが着脱自在に固定されるウェハ
    ー支持溝を有するサセプターと、 チャック本体にエアーシリンダーを介して移動自在に設
    けられ上記ウェハーの外縁部を保持する複数のチャック
    爪と、 上記チャック本体を所定位置に移送する移送アームと、 上記ウェハー支持溝に対する上記チャック爪の位置を自
    動的に補正すべく、上記移送アームと上記チャック本体
    との間に介在され移送アームに対してチャック本体が自
    在に動く自在支持機構と、上記チャック本体に取付けら
    れ上記チャック爪と上記ウェハー支持溝との間隔を検出
    する検出手段と、この検出手段により検出された検出信
    号を演算処理して上記移送アームに上記ウェハー支持溝
    に対する上記チャック爪の傾きと奥行きの補正信号を与
    える演算処理回路とからなる自動位置補正手段とを具備
    することを特徴とするウェハー保持装置。
  2. 【請求項2】 上記サセプターの上記ウェハー支持溝の
    近くに設けられた位置検出孔と、 この位置検出孔に対応して設けられたカメラとをさらに
    具備し、 このカメラにより位置検出孔を検出して得られた検出信
    号を上記演算処理回路にて演算処理し、上記移送アーム
    に上記ウェハー支持溝に対する上記チャック爪の上下左
    右方向の補正信号を与えることを特徴とする請求項
    載のウェハー保持装置。
  3. 【請求項3】 上記自在支持機構は、上記移送アームの
    先端に固定された移送アーム固定板と、 この移送アーム固定板に所定方向に回動自在にして且つ
    元の位置に復帰するように支持された支持板と、 この支持板に所定方向に回動自在にして且つ元の位置に
    復帰するように支持され上記チャック本体に固定された
    チャック本体支持杆とを具備することを特徴とする請求
    記載のウェハー保持装置。
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