JPH0819077B2 - フタロニトリル化合物およびその製造方法 - Google Patents
フタロニトリル化合物およびその製造方法Info
- Publication number
- JPH0819077B2 JPH0819077B2 JP1097603A JP9760389A JPH0819077B2 JP H0819077 B2 JPH0819077 B2 JP H0819077B2 JP 1097603 A JP1097603 A JP 1097603A JP 9760389 A JP9760389 A JP 9760389A JP H0819077 B2 JPH0819077 B2 JP H0819077B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- parts
- formula
- compound
- compound represented
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
- C09B47/04—Phthalocyanines abbreviation: Pc
- C09B47/06—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide
- C09B47/067—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide from phthalodinitriles naphthalenedinitriles, aromatic dinitriles prepared in situ, hydrogenated phthalodinitrile
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はオプトエレクトロニクス材料としての光記録
媒体、光カード、レーザープリンター、近赤外線吸収フ
ィルター、保護眼鏡などに用いられる新規フタロシアニ
ン化合物の中間体として有用なフタロニトリル化合物、
およびその製造方法に関する。
媒体、光カード、レーザープリンター、近赤外線吸収フ
ィルター、保護眼鏡などに用いられる新規フタロシアニ
ン化合物の中間体として有用なフタロニトリル化合物、
およびその製造方法に関する。
3,6−ジアルコキシフタロニトリルおよび3,6−ジアル
コキシ−4,5−ジクロロフタロニトリルは公知である
が、これらは３位および６位のアルコキシ基が同一置換
基であり、３位および６位の置換基が互いに異なるフタ
ロニトリルおよびその製造方法は知られていない。
コキシ−4,5−ジクロロフタロニトリルは公知である
が、これらは３位および６位のアルコキシ基が同一置換
基であり、３位および６位の置換基が互いに異なるフタ
ロニトリルおよびその製造方法は知られていない。
本発明の目的は、３位および６位に異なるアルコキシ
基を導入した新規フタロニトリル化合物、および該フタ
ロニトリル化合物の選択的製造方法を提供することであ
る。
基を導入した新規フタロニトリル化合物、および該フタ
ロニトリル化合物の選択的製造方法を提供することであ
る。
本発明は、一般式（Ｉ） ［式（Ｉ）中、R1およびR2は炭素数１〜20の炭素数１〜
20の直鎖、分岐または環状アルキル基、アルコキシアル
キル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルアミノアルキ
ル基、アルキルチオアルキル基およびアルケニル基を表
わし、R1およびR2は互いに異なる置換基であり、Ｘは水
素原子またはハロゲン原子を表わす］で示されるフタロ
ニトリル化合物であり、該フタロニトリル化合物を得る
ために、式（II） ［式（II）中、R1およびＸは式（Ｉ）中のR1およびＸと
同一の意味を表わす］で示される化合物と一般式（II
I） R2Y （III） ［式中R2は式（Ｉ）中のR2と同一の意味を表わし、Ｙは
ハロゲン原子を表わす。］で示される化合物を、N,N−
ジメチルアセトアミド中、塩基の存在下で反応させるこ
とを特徴とする該フタロニトリル化合物の製造方法であ
る。
20の直鎖、分岐または環状アルキル基、アルコキシアル
キル基、ヒドロキシアルキル基、アルキルアミノアルキ
ル基、アルキルチオアルキル基およびアルケニル基を表
わし、R1およびR2は互いに異なる置換基であり、Ｘは水
素原子またはハロゲン原子を表わす］で示されるフタロ
ニトリル化合物であり、該フタロニトリル化合物を得る
ために、式（II） ［式（II）中、R1およびＸは式（Ｉ）中のR1およびＸと
同一の意味を表わす］で示される化合物と一般式（II
I） R2Y （III） ［式中R2は式（Ｉ）中のR2と同一の意味を表わし、Ｙは
ハロゲン原子を表わす。］で示される化合物を、N,N−
ジメチルアセトアミド中、塩基の存在下で反応させるこ
とを特徴とする該フタロニトリル化合物の製造方法であ
る。
式（Ｉ）、（II）および（III）中のR1およびR2の未
置換または置換アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オク
チル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、iso−
ブチル基、iso−アミル基、iso−ヘキシル基、２−エチ
ルヘキシル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基などの炭素数１−20の直鎖、分岐または環状
の炭化水素基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
メトキシエチル基、メトキシブチル基、エトキシエトキ
シエチル基などのアルコキシアルキル基、ヒドロキシエ
チル基などのヒドロキシアルキル基、メチルアミノメチ
ル基、ジメチルアミノエチル基などのアルキルアミノア
ルキル基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、
メチルチオエチル基などのアルキルチオアルキル基、ア
リル基、クロチル基、３−メチル−２−ブテニル基など
のアルケニル基などが挙げられる。
置換または置換アルキル基としては、例えば、メチル
基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペ
ンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オク
チル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、iso−
ブチル基、iso−アミル基、iso−ヘキシル基、２−エチ
ルヘキシル基、3,5,5−トリメチルヘキシル基、シクロ
ヘキシル基などの炭素数１−20の直鎖、分岐または環状
の炭化水素基、メトキシメチル基、エトキシメチル基、
メトキシエチル基、メトキシブチル基、エトキシエトキ
シエチル基などのアルコキシアルキル基、ヒドロキシエ
チル基などのヒドロキシアルキル基、メチルアミノメチ
ル基、ジメチルアミノエチル基などのアルキルアミノア
ルキル基、メチルチオメチル基、エチルチオメチル基、
メチルチオエチル基などのアルキルチオアルキル基、ア
リル基、クロチル基、３−メチル−２−ブテニル基など
のアルケニル基などが挙げられる。
式（Ｉ）および（II）中のＸ、および（III）中のＹ
のハロゲン原子の例としては、F,Cl,Br,Iなどが挙げら
れる。
のハロゲン原子の例としては、F,Cl,Br,Iなどが挙げら
れる。
本発明においては、反応溶媒としてN,N−ジメチルア
セトアミドを用い、塩基の存在下、一般式（II）の化合
物と一般式（III）の化合物を反応させることにより、
選択的に異なるアルコキシ基を有する一般式（Ｉ）で示
される3,6−ジアルコキシフタロニトリル化合物を製造
することができるものである。
セトアミドを用い、塩基の存在下、一般式（II）の化合
物と一般式（III）の化合物を反応させることにより、
選択的に異なるアルコキシ基を有する一般式（Ｉ）で示
される3,6−ジアルコキシフタロニトリル化合物を製造
することができるものである。
本発明において用いられる塩基としては、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナト
リウムなどの塩が挙げられる。
ム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナト
リウムなどの塩が挙げられる。
反応で使用される化合物（III）の量は、化合物（I
I）に対して、0.5〜20モル当量、好ましくは1.0〜5.0モ
ル当量である。塩基の使用量は化合物（II）に対して0.
5〜20モル当量であり、好ましくは、1.0〜5.0モル当量
である。反応温度は０℃から反応溶媒のN,N−ジメチル
アセトアミドの還流温度の範囲であり、好ましくは15℃
から90℃の範囲である。N,N−ジメチルアセトアミドの
使用量は化合物（II）に対して１〜20重量倍、好ましく
は２〜５重量倍である。
I）に対して、0.5〜20モル当量、好ましくは1.0〜5.0モ
ル当量である。塩基の使用量は化合物（II）に対して0.
5〜20モル当量であり、好ましくは、1.0〜5.0モル当量
である。反応温度は０℃から反応溶媒のN,N−ジメチル
アセトアミドの還流温度の範囲であり、好ましくは15℃
から90℃の範囲である。N,N−ジメチルアセトアミドの
使用量は化合物（II）に対して１〜20重量倍、好ましく
は２〜５重量倍である。
また化合物（II）は1,2−ジシアノ−4,5−ジクロロハ
イドロキノンとハロゲン化アルキルを塩基の存在下、反
応させることにより得ることができる。
イドロキノンとハロゲン化アルキルを塩基の存在下、反
応させることにより得ることができる。
以下、実施例により、さらに詳細に説明する。
（実施例１） 下記構造式（II-1）で示される化合物29.9部と 炭酸カリウム27.6部とN,N−ジメチルアセトアミド72部
よりなる混合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した
後、ｎ−アミルブロマイド30.2部を60℃で加え、その後
昇温して80℃で20時間加熱攪拌した後、水600部中に排
出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、濃縮後、カ
ラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝5:2）し、下記構造
式（I-1）で示される化合物32.5部（収率88％）を得
た。
よりなる混合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した
後、ｎ−アミルブロマイド30.2部を60℃で加え、その後
昇温して80℃で20時間加熱攪拌した後、水600部中に排
出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、濃縮後、カ
ラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝5:2）し、下記構造
式（I-1）で示される化合物32.5部（収率88％）を得
た。
元素分析 C18H22N2O2Cl2 C H N Cl 計算値（％） 58.54 6.01 7.59 19.20 実測値（％） 58.48 5.98 7.55 19.14 赤外吸収スペクトル:2230cm-1（−Ｃ≡Ｎに基く） MSスペクトル:MW＝369 （実施例２） 構造式（II-1）で示される化合物29.9部と炭酸カリウ
ム27.6部とN,N−ジメチルアセトアミド72部よりなる混
合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した後、１−ブ
ロモ−２−メチルプロパン41.1部を60℃で加え、その後
昇温して80℃で20時間加熱攪拌した後、水600部中に排
出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、濃縮後、カ
ラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝5:2）し、下記構造
式（I-2）で示される化合物29.1部（収率82％）を得
た。
ム27.6部とN,N−ジメチルアセトアミド72部よりなる混
合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した後、１−ブ
ロモ−２−メチルプロパン41.1部を60℃で加え、その後
昇温して80℃で20時間加熱攪拌した後、水600部中に排
出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、濃縮後、カ
ラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝5:2）し、下記構造
式（I-2）で示される化合物29.1部（収率82％）を得
た。
元素分析 C17H20N2O2Cl2 C H N Cl 計算値（％） 57.47 5.67 7.89 19.96 実測値（％） 57.44 5.36 7.91 19.92 赤外吸収スペクトル:2220cm-1（−Ｃ≡Ｎに基く） MSスペクトル:MW＝355 （実施例３） 下記構造式（II-2）で示される化合物34.1部と 炭酸カリウム27.6部とN,N−ジメチルアセトアミド72部
よりなる混合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した
後、iso−アミルブロマイド30.2部を60℃で加え、その
後昇温して80℃で20時間加熱攪拌した後、水600部中に
排出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、濃縮後、
カラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝5:2）し、下記構
造式（I-3）で示される化合物32.5部（収率88％）を得
た。
よりなる混合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した
後、iso−アミルブロマイド30.2部を60℃で加え、その
後昇温して80℃で20時間加熱攪拌した後、水600部中に
排出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、濃縮後、
カラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝5:2）し、下記構
造式（I-3）で示される化合物32.5部（収率88％）を得
た。
元素分析 C21H28N2O2Cl2 C H N Cl 計算値（％） 61.31 6.86 6.81 17.24 実測値（％） 61.26 6.81 6.77 17.21 赤外吸収スペクトル:2230cm-1（−Ｃ≡Ｎに基く） MSスペクトル:MW＝411 （実施例４） 下記構造式（II-3）で示される化合物27.3部と 炭酸カリウム27.6部とN,N−ジメチルアセトアミド72部
よりなる混合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した
後、２−エチルヘキシルブロマイド38.6部を60℃で加
え、その後昇温して80℃で30時間加熱攪拌した後、水60
0部中に排出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、
濃縮後、カラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝1:1）
し、下記構造式（I-4）で示される化合物32.3部（収率8
4％）を得た。
よりなる混合溶液を反応容器中に入れ、60℃に加熱した
後、２−エチルヘキシルブロマイド38.6部を60℃で加
え、その後昇温して80℃で30時間加熱攪拌した後、水60
0部中に排出した。これを酢酸エチルを用いて抽出し、
濃縮後、カラム精製（ヘキサン：酢酸エチル＝1:1）
し、下記構造式（I-4）で示される化合物32.3部（収率8
4％）を得た。
元素分析 C18H22N2O3Cl2 C H N Cl 計算値（％） 56.11 5.76 7.27 18.40 実測値（％） 56.06 5.75 7.24 18.37 赤外吸収スペクトル:2225cm-1（−Ｃ≡Ｎに基く） MSスペクトル:MW＝385 （実施例５） 構造式（II-1）で示される化合物29.9部と炭酸カリウ
ム27.6部とN,N−ジメチルアセトアミド72部よりなる混
合溶液を反応容器中に入れ、１−ブロモ−３−メチル−
２−ブテン14.9部を加え、その後20℃で20時間加熱攪拌
した後、水600部中に排出した。これを酢酸エチルを用
いて抽出し、濃縮後、カラム精製（ヘキサン：酢酸エチ
ル＝5:2）し、下記構造式（I-5）で示される化合物29.4
部（収率80％）を得た。
ム27.6部とN,N−ジメチルアセトアミド72部よりなる混
合溶液を反応容器中に入れ、１−ブロモ−３−メチル−
２−ブテン14.9部を加え、その後20℃で20時間加熱攪拌
した後、水600部中に排出した。これを酢酸エチルを用
いて抽出し、濃縮後、カラム精製（ヘキサン：酢酸エチ
ル＝5:2）し、下記構造式（I-5）で示される化合物29.4
部（収率80％）を得た。
元素分析 C18H20N2O2Cl2 C H N Cl 計算値（％） 58.87 5.49 7.63 19.31 実測値（％） 58.83 5.51 7.60 19.26 赤外吸収スペクトル:2230cm-1（−Ｃ≡Ｎに基く） MSスペクトル:MW＝367 （実施例６〜16） 一般式（II）および一般式（III）で表わされ、表１
に示す置換基を有する化合物を用いてフタロニトリル化
合物を合成した。合成時の反応条件、収率を表１に示
す。
に示す置換基を有する化合物を用いてフタロニトリル化
合物を合成した。合成時の反応条件、収率を表１に示
す。
R2Y （III） 〔発明の効果〕 本発明により、副生成物を生ずることなく目的の一般
式（Ｉ）で示される化合物のみを高純度かつ高収率で得
ることができるようになった。また、このフタロニトリ
ル系化合物は色材の中間体としての価値も大きいもので
ある。
式（Ｉ）で示される化合物のみを高純度かつ高収率で得
ることができるようになった。また、このフタロニトリ
ル系化合物は色材の中間体としての価値も大きいもので
ある。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） ［式（Ｉ）中、R1およびR2は炭素数１〜20の直鎖、分岐
または環状アルキル基、アルコキシアルキル基、ヒドロ
キシアルキル基、アルキルアミノアルキル基、アルキル
チオアルキル基およびアルケニル基を表わし、R1および
R2は互いに異なる置換基であり、Ｘは水素原子またはハ
ロゲン原子を表わす］で示されるフタロニトリル化合
物。 - 【請求項２】式（II） ［式（II）中、R1およびＸは式（Ｉ）中のR1およびＸと
同一の意味を表わす］で示される化合物と一般式（II
I） R2Y （III） ［式中R2は式（Ｉ）中のR2と同一の意味を表わし、Ｙは
ハロゲン原子を表わす。］で示される化合物を、N,N−
ジメチルアセトアミド中、塩基の存在下で反応させるこ
とを特徴とする請求項１記載のフタロニトリル化合物の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1097603A JPH0819077B2 (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | フタロニトリル化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1097603A JPH0819077B2 (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | フタロニトリル化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02279665A JPH02279665A (ja) | 1990-11-15 |
| JPH0819077B2 true JPH0819077B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=14196806
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1097603A Expired - Lifetime JPH0819077B2 (ja) | 1989-04-19 | 1989-04-19 | フタロニトリル化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819077B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63254182A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Canon Inc | 強誘電性液晶素子 |
| JPH02273671A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-08 | Canon Inc | 液晶性化合物、これを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子 |
-
1989
- 1989-04-19 JP JP1097603A patent/JPH0819077B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63254182A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Canon Inc | 強誘電性液晶素子 |
| JPH02273671A (ja) * | 1989-04-14 | 1990-11-08 | Canon Inc | 液晶性化合物、これを含む液晶組成物およびこれを使用した液晶素子 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02279665A (ja) | 1990-11-15 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0717946A (ja) | アミノ置換されたチオエーテルの製造方法 | |
| JP5522447B2 (ja) | アゾ−ホウ素錯体化合物およびその製造方法 | |
| JPH0819077B2 (ja) | フタロニトリル化合物およびその製造方法 | |
| JPH05286982A (ja) | （ポリシラ）アルキル末端基を有する液晶 | |
| JPH0625165A (ja) | ２−メチル−４，４ａ−ジヒドロ−３Ｈ−カルバゾリウム塩及びそれらから誘導される染料 | |
| JP3196383B2 (ja) | スクアリリウム系化合物 | |
| JPH0791259B2 (ja) | フタロニトリル化合物の製造方法 | |
| JPS6352629B2 (ja) | ||
| JPH06263732A (ja) | シクロブテン系化合物，その製法並びにスクアリリウム系化合物の製造法 | |
| JP3254773B2 (ja) | スクアリリウム系化合物 | |
| EP3950675A1 (en) | Fluorescent compound, preparation method therefor, and use thereof | |
| JP2001089461A (ja) | テトラヒドロナフトジアゼピン類の製造方法及びスクアリリウム染料の製造方法 | |
| JP3213366B2 (ja) | ケイ皮酸誘導体 | |
| EP0408012B1 (en) | Organosilicon compounds and method for their preparation | |
| JP3588849B2 (ja) | ビススクアリリウム系化合物 | |
| JP4473025B2 (ja) | キノフタロン化合物 | |
| JP3583162B2 (ja) | フタロニトリル化合物、ジイミノイソインドリン化合物及びフタロシアニン近赤外線吸収剤並びにそれらの製造方法 | |
| JPH07103093B2 (ja) | フタロニトリル系化合物およびその製造方法 | |
| SU833964A1 (ru) | Способ получени производных 1,2- дигидРОпиРиМидиНА | |
| JP2006233181A (ja) | 紫外線遮蔽剤 | |
| JPH0791477B2 (ja) | ベンゾインドレニン系シアニン色素の製造方法 | |
| JPH0148267B2 (ja) | ||
| Pastor et al. | Nucleophilic subsitution at silicon: Synthesis of sterically-hindered bis (2, 6-di-t-butylaryloxy) silanes | |
| JPH05247358A (ja) | アリーリデン色素類の製造方法 | |
| JP2002338577A (ja) | 分子内架橋クラウンエーテル環を有するフタロシアニン誘導体及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080228 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090228 Year of fee payment: 13 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100228 Year of fee payment: 14 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term | ||
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100228 Year of fee payment: 14 |