JPH07103093B2 - フタロニトリル系化合物およびその製造方法 - Google Patents
フタロニトリル系化合物およびその製造方法Info
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- JPH07103093B2 JPH07103093B2 JP368489A JP368489A JPH07103093B2 JP H07103093 B2 JPH07103093 B2 JP H07103093B2 JP 368489 A JP368489 A JP 368489A JP 368489 A JP368489 A JP 368489A JP H07103093 B2 JPH07103093 B2 JP H07103093B2
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- phthalonitrile
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
- C09B47/00—Porphines; Azaporphines
- C09B47/04—Phthalocyanines abbreviation: Pc
- C09B47/06—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide
- C09B47/067—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide from phthalodinitriles naphthalenedinitriles, aromatic dinitriles prepared in situ, hydrogenated phthalodinitrile
- C09B47/0675—Preparation from carboxylic acids or derivatives thereof, e.g. anhydrides, amides, mononitriles, phthalimide, o-cyanobenzamide from phthalodinitriles naphthalenedinitriles, aromatic dinitriles prepared in situ, hydrogenated phthalodinitrile having oxygen or sulfur linked directly to the skeleton
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、新規なフタロニトリル系化合物に関し、光記
録媒体、光カード、レーザプリンター、近赤外線吸収フ
ィルター、保護眼鏡などのオプトエレクトロニクス材料
として用いられる新規フタロシアニン化合物の中間体と
して利用される。
録媒体、光カード、レーザプリンター、近赤外線吸収フ
ィルター、保護眼鏡などのオプトエレクトロニクス材料
として用いられる新規フタロシアニン化合物の中間体と
して利用される。
3,4,5,6−アリールチオフタロニトリル、3,6−ジアルコ
キシフタロニトリルは公知であるが、選択的位置にアル
コキシ基と、これ以外の置換基を有するフタロニトリル
系化合物およびその製造方法は現在知られていない。
キシフタロニトリルは公知であるが、選択的位置にアル
コキシ基と、これ以外の置換基を有するフタロニトリル
系化合物およびその製造方法は現在知られていない。
本発明は選択的位置にアルコキシ基とアリールチオ基を
有する新規なフタロニトリル系化合物及びその製造方法
を提供するものである。
有する新規なフタロニトリル系化合物及びその製造方法
を提供するものである。
本発明の第１の発明は、式（Ｉ） 〔式（Ｉ）中、Ｒは直鎖又は分岐のアルキル基を表わ
し、Ｒ′は未置換又は置換アリール基を表わす。〕で表
わされるフタロニトリル系化合物である。
し、Ｒ′は未置換又は置換アリール基を表わす。〕で表
わされるフタロニトリル系化合物である。
本発明の第２の発明は式（Ｉ）で表わされる化合物の製
造方法であって、 一般式（II） 〔式（II）中、Ｒは直鎖又は分岐のアルキル基を表わ
す。〕で表わされる3,6−ジアルコキシ−4,5−ジクロロ
フタロニトリルと一般式（III） Ｒ′SH （III） 〔式（III）中、Ｒ′は未置換又は置換アリール基を表
わす。〕で表わされる化合物を塩基の存在下で反応させ
て製造する方法である。
造方法であって、 一般式（II） 〔式（II）中、Ｒは直鎖又は分岐のアルキル基を表わ
す。〕で表わされる3,6−ジアルコキシ−4,5−ジクロロ
フタロニトリルと一般式（III） Ｒ′SH （III） 〔式（III）中、Ｒ′は未置換又は置換アリール基を表
わす。〕で表わされる化合物を塩基の存在下で反応させ
て製造する方法である。
式（Ｉ），（II）中のＲの直鎖のアルキル基の例として
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピン基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、オクチル基、ドデシル基などが挙げられ、分岐のア
ルキル基の例としては、iso−プロピル基、iso−アルミ
基、2,2−ジメチルプロピル基、２−エチルヘキシル
基、3,5,5−トリメチルヘキシル基などが挙げられる。
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピン基、ｎ−ブチル
基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル
基、オクチル基、ドデシル基などが挙げられ、分岐のア
ルキル基の例としては、iso−プロピル基、iso−アルミ
基、2,2−ジメチルプロピル基、２−エチルヘキシル
基、3,5,5−トリメチルヘキシル基などが挙げられる。
式（Ｉ），（III）中のＲ′の未置換又は置換アリール
基の例としては、フェニル基、４−tert−ブチルフェニ
ル基、４−ニトロフェニル基、α−ナフチル基、β−ナ
フチル基などが挙げられる。
基の例としては、フェニル基、４−tert−ブチルフェニ
ル基、４−ニトロフェニル基、α−ナフチル基、β−ナ
フチル基などが挙げられる。
また塩基としてはKOH,NaOH,K2CO3,Na2CO3,KHCO3,NaHC
O3,CH3COONaなどが挙げられる。
O3,CH3COONaなどが挙げられる。
前記反応は溶媒中で行われる。用いる溶媒の例として
は、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリ
ドンなどの非プロトン性極性溶媒が挙げられ、これは単
独又は水との混合系で用いることができその含水率は30
％以下が好ましい。また使用する溶媒の量は化合物（I
I）１モルに対し100ml〜100lであり、好ましくは１〜10
lである。
は、アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノンなどのケトン系溶媒、ジメチルホルム
アミド、N,N−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホ
キシド、ジメチルイミダゾリジノン、Ｎ−メチルピロリ
ドンなどの非プロトン性極性溶媒が挙げられ、これは単
独又は水との混合系で用いることができその含水率は30
％以下が好ましい。また使用する溶媒の量は化合物（I
I）１モルに対し100ml〜100lであり、好ましくは１〜10
lである。
この反応で使用する式（III）で表される化合物の量
は、化合物（II）に対して1.5〜4.0モル比、好ましくは
1.8〜2.5モル比であり、塩基の使用量は化合物（II）に
対して1.5〜4.0モル比、好ましくは1.8〜2.5モル比であ
る。反応温度は０℃〜溶媒の還流温度であり、好ましく
は50℃〜溶媒の還流温度である。反応時間は５分〜４時
間が好ましい。また化合物（II）は化合物（IV）と一般
式（Ｖ） 〔式（Ｖ）中のＲは、式（II）中のＲと同一の意味を表
わし、ＸはF,Cl,Br,Iなどのハロゲン原子またはｐ−ト
ルエンスルホニルオキシ基などのアリールスルホニルオ
キシ基を表わす。〕で表わされる化合物をK2CO3などの
塩基の存在下、反応させることにより得ることができ
る。
は、化合物（II）に対して1.5〜4.0モル比、好ましくは
1.8〜2.5モル比であり、塩基の使用量は化合物（II）に
対して1.5〜4.0モル比、好ましくは1.8〜2.5モル比であ
る。反応温度は０℃〜溶媒の還流温度であり、好ましく
は50℃〜溶媒の還流温度である。反応時間は５分〜４時
間が好ましい。また化合物（II）は化合物（IV）と一般
式（Ｖ） 〔式（Ｖ）中のＲは、式（II）中のＲと同一の意味を表
わし、ＸはF,Cl,Br,Iなどのハロゲン原子またはｐ−ト
ルエンスルホニルオキシ基などのアリールスルホニルオ
キシ基を表わす。〕で表わされる化合物をK2CO3などの
塩基の存在下、反応させることにより得ることができ
る。
本発明のフタロニトリル化合物から誘導されるフタロシ
アニンは、樹脂上に薄膜を形成させると、既知のフタロ
シアニンの薄膜と比較してすぐれた反射率を示す。
アニンは、樹脂上に薄膜を形成させると、既知のフタロ
シアニンの薄膜と比較してすぐれた反射率を示す。
〔実施例〕 以下本発明を実施例により、さらに詳細に説明する。
実施例中の部および％はすべて重量部、重量％を示す。
実施例−１ KOH 12.3部、チオフェノール24.2部、水53部よりなる混
合物に3,6−ジオクチルオキシ−4,5−ジクロルフタロニ
トリル45.3部とアセトン400部よりなる溶液を50℃以下
で滴下した。その後55〜60℃で２時間加熱攪拌した。反
応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行い、濃縮後カラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、3,6−ジオクチル
オキシ−4,5−ジフェニルチオフタロニトリル54.1部
（収率90％）を得た。
合物に3,6−ジオクチルオキシ−4,5−ジクロルフタロニ
トリル45.3部とアセトン400部よりなる溶液を50℃以下
で滴下した。その後55〜60℃で２時間加熱攪拌した。反
応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行い、濃縮後カラ
ムクロマトグラフィーにより精製し、3,6−ジオクチル
オキシ−4,5−ジフェニルチオフタロニトリル54.1部
（収率90％）を得た。
元素分析 C36H44N2O2S2 Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値（％） 71.96 7.38 4.66 10.67 実測値（％） 71.71 7.24 4.70 10.49 NMR（CDCl3）δ:7.17（s,10H）,4.08（t,4H）,2.00〜0.
83（m,24H）,0.90（t,6H） IR（neat）cm-1:2230 実施例−２ KOH 12.3部、チオフェノール24.2部、水53部よりなる混
合物に3,6−ジｎ−ペンチルオキシ−4,5−ジクロルフタ
ロニトリル36.8部とアセトン400部よりなる溶液を50℃
以下で滴下した。その後55〜60℃で２時間加熱攪拌し
た。反応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行い、濃縮
後カラムクロマトグラフィーにより精製し、3,6−ジｎ
−ペンチルオキシ−4,5−ジフェニルチオフタロニトリ
ル46.0部（収率89％）得た。
83（m,24H）,0.90（t,6H） IR（neat）cm-1:2230 実施例−２ KOH 12.3部、チオフェノール24.2部、水53部よりなる混
合物に3,6−ジｎ−ペンチルオキシ−4,5−ジクロルフタ
ロニトリル36.8部とアセトン400部よりなる溶液を50℃
以下で滴下した。その後55〜60℃で２時間加熱攪拌し
た。反応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行い、濃縮
後カラムクロマトグラフィーにより精製し、3,6−ジｎ
−ペンチルオキシ−4,5−ジフェニルチオフタロニトリ
ル46.0部（収率89％）得た。
元素分析 C30H32N2O2S2 Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値（％） 69.73 6.24 5.42 12.41 実測値（％） 69.61 6.20 5.34 12.38 NMR（CDCl3）δ:7.13（S,10H）,4.07（t,4H）,2.00〜1.
03（m,12H）,0.89（t,6H） IR（neat）cm-1:2230 実施例−３ KOH 12.3部、チオフェノール24.2部、水53部よりなる混
合物に3,6−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）−4,5−ジ
クロルフタロニトリル45.2部とアセトン400部よりなる
溶液を50℃以下で滴下した。その後55〜60℃で２時間加
熱攪拌した。反応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行
い、濃縮後カラムクロマトグラフィーにより精製し、3,
6−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）−4,5−ジフェニル
チオフタロニトリル48.2部（収率80％）を得た。
03（m,12H）,0.89（t,6H） IR（neat）cm-1:2230 実施例−３ KOH 12.3部、チオフェノール24.2部、水53部よりなる混
合物に3,6−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）−4,5−ジ
クロルフタロニトリル45.2部とアセトン400部よりなる
溶液を50℃以下で滴下した。その後55〜60℃で２時間加
熱攪拌した。反応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行
い、濃縮後カラムクロマトグラフィーにより精製し、3,
6−ジ（２−エチルヘキシルオキシ）−4,5−ジフェニル
チオフタロニトリル48.2部（収率80％）を得た。
元素分析 C36H44N2O2S2 Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値（％） 71.96 7.38 4.66 10.67 実測値（％） 71.69 7.36 4.69 10.53 NMR（CDCl3）δ:7.17（s,10H）,4.04（d,4H）,1.97〜0.
66（m,18H）,0.97（t,6H）,0.87（t,6H） IR（neat）cm-1:2230 実施例−４ KOH 12.3部、チオフェノール24.2部、水53部よりなる混
合物に3,6−ジ（iso−アミルオキシ）−4,5−ジクロル
フタロニトリル36.8部とアセトン400部よりなる溶液を5
0℃以下で滴下した。その後55〜60℃で２時間加熱攪拌
した。反応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行い、濃
縮後カラムクロマトグラフィーにより精製し、3,6−ジ
（iso−アルミオキシ）−4,5−ジフェニルチオフタロニ
トリル49.3部（収率95％）を得た。
66（m,18H）,0.97（t,6H）,0.87（t,6H） IR（neat）cm-1:2230 実施例−４ KOH 12.3部、チオフェノール24.2部、水53部よりなる混
合物に3,6−ジ（iso−アミルオキシ）−4,5−ジクロル
フタロニトリル36.8部とアセトン400部よりなる溶液を5
0℃以下で滴下した。その後55〜60℃で２時間加熱攪拌
した。反応液を濃縮し、トルエンにより抽出を行い、濃
縮後カラムクロマトグラフィーにより精製し、3,6−ジ
（iso−アルミオキシ）−4,5−ジフェニルチオフタロニ
トリル49.3部（収率95％）を得た。
元素分析 C30H32N2O2S2 Ｃ Ｈ Ｎ Ｓ 計算値（％） 69.73 6.24 5.42 12.41 実測値（％） 69.71 6.19 5.39 12.42 NMR（CDCl3）δ:7.18（s,10H）,4.12（t,4H）,2.20〜1.
17（m,6H）,0.86（d,12H） IR（KBr）cm-1:2230 実施例５〜13 各実施例において、一般式（II） 中のＲが表−１に示される化合物と、一般式（III） Ｒ′SH （III） 中のＲ′が表−１に示される化合物より、一般式（Ｉ） のＲおよびＲ′がそれぞれ表−１に示される化合物を合
成した。使用した塩基の種類、反応の条件及び収率を表
−１に記す。
17（m,6H）,0.86（d,12H） IR（KBr）cm-1:2230 実施例５〜13 各実施例において、一般式（II） 中のＲが表−１に示される化合物と、一般式（III） Ｒ′SH （III） 中のＲ′が表−１に示される化合物より、一般式（Ｉ） のＲおよびＲ′がそれぞれ表−１に示される化合物を合
成した。使用した塩基の種類、反応の条件及び収率を表
−１に記す。
上記使用物質の割合は、フタロニトリル１モルに対し
Ｒ′SHおよび塩基ともに2.2モルで実施例１〜４と同じ
である。溶媒はフタロニトリル１モル当り、アセトン，
水の場合はそれぞれ5l,500ml、アミド類の場合は5l使用
した。
Ｒ′SHおよび塩基ともに2.2モルで実施例１〜４と同じ
である。溶媒はフタロニトリル１モル当り、アセトン，
水の場合はそれぞれ5l,500ml、アミド類の場合は5l使用
した。
本発明は式（Ｉ）で表わされるような、置換基として選
択的に3,6位にアルコキシ基を、4,5位にアリールチオ基
を有した新規なフタロニトリル系化合物およびその有利
な製造方法を提供する。これらのフタロニトリル系化合
物から合成されるフタロシアニン化合物の薄膜は、高反
射率を有しており、本発明のフタロニトリル系化合物は
色材の中間体として非常に価値が高い。
択的に3,6位にアルコキシ基を、4,5位にアリールチオ基
を有した新規なフタロニトリル系化合物およびその有利
な製造方法を提供する。これらのフタロニトリル系化合
物から合成されるフタロシアニン化合物の薄膜は、高反
射率を有しており、本発明のフタロニトリル系化合物は
色材の中間体として非常に価値が高い。
Claims (2)
- 【請求項１】一般式（Ｉ） 〔式（Ｉ）中、Ｒは直鎖又は分岐のアルキル基を表わ
し、Ｒ′は未置換又は置換アリール基を表わす。〕で表
わされるフタロニトリル系化合物。 - 【請求項２】一般式（II） 〔式（II）中、Ｒは直鎖又は分岐のアルキル基を表わ
す。〕で表わされる3,6−ジアルコキシ−4,5−ジクロロ
フタロニトリルと一般式（III） Ｒ′SH （III） 〔式（III）中、Ｒ′は未置換又は置換アリール基を表
わす。〕で表わされる化合物とを塩基の存在下で反応さ
せることを特徴とする請求項１に記載のフタロニトリル
系化合物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP368489A JPH07103093B2 (ja) | 1989-01-12 | 1989-01-12 | フタロニトリル系化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP368489A JPH07103093B2 (ja) | 1989-01-12 | 1989-01-12 | フタロニトリル系化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02184665A JPH02184665A (ja) | 1990-07-19 |
| JPH07103093B2 true JPH07103093B2 (ja) | 1995-11-08 |
Family
ID=11564229
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP368489A Expired - Lifetime JPH07103093B2 (ja) | 1989-01-12 | 1989-01-12 | フタロニトリル系化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07103093B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CZ20021974A3 (cs) * | 1999-12-08 | 2002-11-13 | Gentian As | Substituované ftalocyaniny, způsob jejich výroby a farmaceutický prostředek obsahující tyto sloučeniny |
| JP5046515B2 (ja) * | 2005-12-19 | 2012-10-10 | 株式会社日本触媒 | フタロシアニン化合物並びにその製造方法及び用途 |
-
1989
- 1989-01-12 JP JP368489A patent/JPH07103093B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02184665A (ja) | 1990-07-19 |
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