JPH08180306A - 磁気ヘッド用非磁性基板 - Google Patents

磁気ヘッド用非磁性基板

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JPH08180306A
JPH08180306A JP33689594A JP33689594A JPH08180306A JP H08180306 A JPH08180306 A JP H08180306A JP 33689594 A JP33689594 A JP 33689594A JP 33689594 A JP33689594 A JP 33689594A JP H08180306 A JPH08180306 A JP H08180306A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
magnetic
mol
magnetic head
oxide
Prior art date
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Pending
Application number
JP33689594A
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English (en)
Inventor
Satoru Suzuki
了 鈴木
Ryuichi Nagase
隆一 長瀬
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eneos Corp
Original Assignee
Japan Energy Corp
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Publication date
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  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【構成】(Ni1-x,Cox)Oを基本組成(ただし、0≦x≦0.
8)とし、これにNb、Ta、Sbの内の1種或いは複数が酸
化物または複合酸化物として含有され、その含有量が、
(Ni1-x,Cox)Oを100モル%としたとき総量としてM2O
5(M;Nb、Ta、Sb)換算で0.2モル%以上10モル%以下で
あることを特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板。 【効果】磁気ヘッド用非磁性基板の組成に関する本発明
は、高記録密度用の磁性膜の熱膨張係数と良く一致し、
緻密かつ機械的強度の高い磁気ヘッド用非磁性基板を得
ることができる。これにより、磁性膜の基板からの剥離
や、機械加工時の基板の割れ等がきわめて減少し、歩留
まりの向上等の経済性に利点をもたらす。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、金属性磁性膜を蒸着す
るための非磁性の磁気ヘッド用基板に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の用途のものとして、BaTi
O3、CaTiO3等が使用されていたが、近年、高記録密度磁
性膜用の基板として、熱膨張係数が130〜145×10-7/℃
を有するMnO−NiO系、MgO−NiO系、CoO−NiO系の非磁性
基板が使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記MnO−NiO
系、MgO−NiO系、CoO−NiO系非磁性基板は、高記録密度
磁性膜と良好な熱膨張係数の一致を示すが、難焼結性材
料で緻密な焼結体を得ることが困難であり、また、焼結
体の密度を向上させるために焼成温度を高くすると異常
粒成長が起こり、組織に不均一が生じる等の問題によ
り、磁気ヘッド用基板としての諸条件を十分に満足する
ものではなかった。
【0004】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者らは上
記問題点を解決するため、(Ni1-X,Cox)O、0≦x≦0.8を
基本組成とし、これにNb2O5、Ta2O5、Sb2O5の内の1種
或いは複数を(Ni1-x,Cox)Oを100モル%としたときM2O
5(M;Nb、Ta、Sb)換算で0.2モル%以上10モル%以下添
加することにより、比較的低温で緻密且つ微細組織を有
する磁気ヘッド用非磁性基板を得ることができることを
見いだした。
【0005】すなわち、本発明は上記の課題を解決した
もので、(Ni1-x,Cox)Oを基本組成(ただし、0≦x≦0.
8)とし、これにNb、Ta、Sbの内の1種或いは複数が酸
化物または複合酸化物として含有され、その含有量が(N
i1-x,Cox)Oを100モル%としたときM2O5(M;Nb、Ta、Sb)
換算で0.2モル%以上10モル%以下であることを特徴と
する磁気ヘッド用非磁性基板を提供するものである。
【0006】
【発明の具体的説明】本発明の理解を容易にするため、
具体的かつ詳細に説明する。NiOは金属酸化物の中でも
非常に高い熱膨張係数を有する材料であり、これに全律
固溶するCoOを総量0モル%以上80モル%以下、より好ま
しくは、CoO/NiO(モル比)=3/97以上60/40以下含有させ
ることで、高記録密度用磁性膜の基板材料として要求さ
れる130〜150×10-7/℃の間の熱膨張係数を任意に選択
することが可能になる。
【0007】Nb2O5、Ta2O5、Sb2O5の陽イオン半径は、
基本組成であるNiO,CoOの陽イオン半径と近いため、こ
れらの酸化物は置換型に微量固溶する。この際、電気的
中性を保つため1個の陽イオンが置換するとNi,Coサイ
トに3個の陽イオン空孔を形成する。陽イオン空孔濃度
の増加は、陽イオンの拡散速度を速めるため、焼結性が
向上する。また、固溶限以上のNb2O5、Ta2O5、Sb2O
5は、マトリックス組成と焼成の昇温中に(Ni,Co)Nb
2O6、(Ni,Co)Ta2O6、(Ni,Co)Sb2O6を形成し、結晶粒界
に析出する。この第2相析出物により、結晶粒の成長が
抑制されるため、結晶粒径が微細化し、機械的な強度が
向上する。
【0008】基本組成である(Ni1-X,Cox)O(0≦x≦0.8)
に対する上記酸化物の含有量は、(Ni1-x,Cox)Oを100モ
ル%としたとき総量で0.2モル%以上10モル%以下の範
囲であることが好ましい。Nb、Ta、Sbの含有量が、0.2
モル%より少ないと、これらの添加元素の固溶による焼
結促進効果が無くなり、緻密な焼結体を得ることができ
ない。10モル%より多いと第2相析出物の占める体積比
が大きくなり、精密加工が困難になる。
【0009】上記の組成の磁気ヘッド用非磁性基板は、
一般的なセラミックス焼結体の作製方法により作製する
ことができる。例えば、(1) 原料粉を混合し、ふるい分
けを行なう混合工程、(2) CIP成形した混合粉を仮焼
し、粉砕した後ふるい分けを行なう仮焼工程、(3) 仮焼
粉を1μm以下に微粉砕する工程、(4) 微粉砕粉を20μm
以上の球形に造粒する工程、(5) 造粒粉をCIP成形する
工程、(6)成形体を焼結する工程、(7) 焼結体をHIP処理
する工程、(8) 焼結体を加熱する工程、を基本に構成さ
れる製造方法(1)〜(8)、または(1),(3)〜(8)、または
(1)〜(3),(5)〜(8)、または(1),(3),(5)〜(8)、または
(1)〜(7)、または(1),(3)〜(7)、または(1)〜(3),(5)〜
(7)、または(1),(3),(5)〜(7)、または(1)〜(6)、また
は(1),(3)〜(6)、または(1)〜(3),(5),(6)、または(1),
(3),(5),(6)の手順で作製することができる。以下、本
発明の実施例について説明する。
【0010】
【実施例】NiO/CoO=65/35組成(mol比)粉100モル%に
対し、Nb2O5、Ta2O5、Sb2O5粉を総量で0〜12モル%の範
囲で添加し、エタノールを媒体とした湿式ボールミルに
より、20時間混合した。混合スラリーを乾燥後、800
℃、10時間仮焼し、再びエタノールを媒体とした湿式ボ
ールミルにより粉砕を行った。この粉砕粉を造粒した
後、一軸加圧により予備成形を行い、更にCIPにより150
0kg/cm2の圧力で本成形を行った。焼成は大気中で、132
0℃、10時間の保持を行った後、更に1280℃、1時間、10
00kg/cm2の条件でHIP処理を行った。得られた燒結体に
ついて、密度、ビッカース硬度、加工性(チッピング、
脱粒)を評価した。この実施例により得られた結果を表
1に示す。尚、表1の加工性の評価において、○は磁気
ヘッド用非磁性基板に使用可能、△はチッピング、脱粒
は観察されるが磁気ヘッド用非磁性基板に使用可能、×
は磁気ヘッド用非磁性基板に使用不可であることを示
す。
【0011】
【表1】
【0012】表1に示すようにNb2O5、Ta2O5、Sb2O5
を総量で0.2〜10モル%の範囲で添加して得られた燒結体
の相対密度は、常圧焼結後で97%以上、HIP処理後で99
%以上に緻密化していた。ビッカース硬度は、いずれも
700以上となり、Nb2O5,Ta2O5,Sb2O5の添加量の増加に伴
って上昇していた。加工によるチッピング、脱粒も認め
られなかった。また、本発明の組成により得られた磁気
ヘッド用非磁性基板は、緻密で磁性膜との密着性が良
好、かつ機械的強度、耐摩耗性に優れていることが確認
できた。
【0013】一方、Nb2O5,Ta2O5,Sb2O5を無添加及び総
量で0.1モル%添加した燒結体の相対密度は、常圧焼結
後で93%以下、HIP処理を行っても97%程度しか密度が
上昇しなかった。また、ビッカース硬度も700以下と機
械的強度が弱く、高記録密度の磁性膜の基板として不適
当であった。Nb2O5,Ta2O5,Sb2O5を総量で12モル%添加
した焼結体は、密度、機械的強度は良好であったが、加
工によるチッピング、脱粒の発生が著しく、高記録密度
の磁性膜用基板として不適当であった。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明による磁気
ヘッド用非磁性基板は、高記録密度用磁性膜の熱膨張係
数と良く一致し、かつ機械的強度の優れた材料であり、
磁性膜の剥離や、機械加工時の割れ等がきわめて減少
し、歩留まりが向上した。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (Ni1-x,Cox)Oを基本組成(ただし、0≦x
    ≦0.8)とし、これにNb、Ta、Sbの内の1種或いは複数
    が酸化物または複合酸化物として含有され、その含有量
    が、(Ni1-x,Cox)Oを100モル%としたときM2O5(M;Nb、T
    a、Sb)換算で0.2モル%以上10モル%以下であることを
    特徴とする磁気ヘッド用非磁性基板。
JP33689594A 1994-12-27 1994-12-27 磁気ヘッド用非磁性基板 Pending JPH08180306A (ja)

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JPH08180306A true JPH08180306A (ja) 1996-07-12

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ID=18303642

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