JPH0817988A - 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 - Google Patents
樹脂封止型半導体装置及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH0817988A JPH0817988A JP6146121A JP14612194A JPH0817988A JP H0817988 A JPH0817988 A JP H0817988A JP 6146121 A JP6146121 A JP 6146121A JP 14612194 A JP14612194 A JP 14612194A JP H0817988 A JPH0817988 A JP H0817988A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- semiconductor device
- lead frame
- reinforcing
- semiconductor chip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
ーム変形及びこれに起因する組立て不良を防止または低
減する。樹脂封止型半導体装置のリードをファインピッ
チ化する。樹脂封止型半導体装置の放熱性を向上させ
る。 【構成】 樹脂封止型半導体装置において、半導体チッ
プ2の下部とインナーリード部4a1下面の少なくとも
一部とを合わせた領域に、絶縁性接着剤5を介して、樹
脂封止体1よりも熱伝導性の高い補強兼放熱板6を貼り
あわせることにより、放熱性を向上させる。樹脂封止型
半導体装置を製造する際、リードフレーム4の下面に絶
縁性接着剤5を介して補強兼放熱板6を貼り付け、この
まま樹脂封止型半導体装置に組み立てることにより、リ
ードフレーム4の変形及びこれに起因する組立て不良を
防止するとともに、リードフレーム4の厚みを製造上の
限界値まで薄くして、リード4aをファインピッチ化す
る。
Description
及びその製造方法に関し、特に、超多ピン(リード数が
200ピン以上あるもの)で高消費電力型(最大出力が
1W以上あるもの)の樹脂封止型半導体装置及びそのリ
ードのファインピッチ化に適用して有効な技術に関する
ものである。
ともなって、その製造において用いられるリードフレー
ムは、薄型化及びリードのファインピッチ化が図られ、
現在では、その厚みが0.125mm〜0.25mmである
ものが一般的となっている。このような肉薄のリードフ
レームは、通常、Cu系合金またはFe-Ni系合金
(例えば、42alloy)からなる金属薄板をエッチング
またはプレスすることによって成形加工されるが、この
製法で量産する場合、その厚みを0.1mmまで薄くする
ことが可能であると言われている。
半導体装置は、リードフレームに対して半導体チップの
位置を固定する工程、該半導体チップの電極とリードフ
レームのリードとを電気的に接続する工程、前記半導体
チップと前記リードのインナーリード部を樹脂で封止す
る工程、前記リードフレームのフレーム等の不要部分を
切断除去する工程、リードのアウターリード部を成形す
る工程等を経て組み立てられる。
体チップを封止している樹脂封止体は、半導体チップを
外気から保護するとともに、半導体チップで発生した熱
を外部に放散させる役割をも果たしている。特に、近年
は、半導体装置の高集積・高速化にともなう消費電力の
増大化により半導体チップの発熱量が著しく増大したた
め、樹脂封止体には放熱性の良いものが求められるよう
になってきた。そこで、樹脂封止体の材料には、このよ
うな放熱性の点をも考慮したうえで、エポキシ系樹脂を
主成分としたものが従来から多用されている。
者は前記従来技術を検討した結果、次の問題点があるこ
とを見出した。
用いられるリードフレームは現段階において既に非常に
肉薄となっているので、このような肉薄のリードフレー
ムを用いて樹脂封止型半導体装置を組み立てると、組立
て動作時(特に、樹脂封止工程前の段階)または搬送時
に加えられる外力によってリードフレームに変形が生
じ、組立て不良を引き起こすという問題があった。
界値である0.1mm近くになると、搬送時に加えられる
僅かな外力でさえリードフレームを変形させる大きな要
因となる。このため、リードフレームは、その製造上の
点からは厚みを0.1mmまで薄くすることが可能である
にもかかわらず、実際は、前述した半導体装置組立て上
の問題点のため厚みを0.125mm以上に留めているの
が現状であり、この厚みではリードピッチを0.21mm
より狭くすることはできなかった。したがって、前記問
題点は、樹脂封止型半導体装置のリードのファインピッ
チ化を妨げるものでもあった。
の構造上、半導体チップから装置表面までの熱伝導及び
装置表面から外気への熱伝達を主として樹脂封止体で行
っているため、半導体チップから外気までの熱抵抗を低
減させて放熱性を向上させる点で限界があるという問題
があった。特に、近年は、リードの微細化及び多ピン化
によって熱抵抗が増大したため、前記問題点はいっそう
深刻となっている。
製造工程におけるリードフレームの変形及びこれに起因
する組立て不良を防止又は低減することが可能な技術を
提供することにある。
置のリードをファインピッチ化することが可能な技術を
提供することにある。
置の放熱性を向上させることが可能な技術を提供するこ
とにある。
な特徴は、本明細書の記述及び添付図面によって明らか
になるであろう。
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば下記
の通りである。
外に亘って延在する複数のリードと、前記樹脂封止体の
内側にあって前記リードと電気的に接続された半導体チ
ップとを有する樹脂封止型半導体装置において、前記半
導体チップの下部と前記リードのうち前記樹脂封止体の
内側に位置するインナーリード部の下面の少なくとも一
部とを合わせた領域に、絶縁性接着剤を介して、前記樹
脂封止体よりも熱伝導性の高い材料からなる補強兼放熱
板を貼りあわせたものである。
体装置であって、前記補強兼放熱板の少なくとも一部は
装置外表面に露出しているものである。
脂封止型半導体装置であって、前記リードは前記補強兼
放熱板の反対側で基板に実装される形状に成形されてい
るものである。
いずれか一つの樹脂封止型半導体装置を製造する方法で
あって、リードフレームのインナーリード部の下面の少
なくとも一部と該リードフレームに対して半導体チップ
を位置決めした時に該半導体チップの下部に位置決めさ
れる部分とを合わせた領域に補強兼放熱板の上面を位置
合わせし絶縁性接着剤を介して前記補強兼放熱板と前記
リードフレームを貼りあわせる工程と、前記リードフレ
ームに対して半導体チップを位置決めし前記補強兼放熱
板の上部に該半導体チップを接着する工程と、前記半導
体チップの電極と前記リードとを電気的に接続する工程
と、前記半導体チップと前記インナーリードを樹脂で封
止して樹脂封止体を形成する工程とを有するものであ
る。
ップから樹脂封止型半導体装置表面までの熱伝導経路の
一部が樹脂封止体よりも熱伝導性の高い補強兼放熱板に
代わった分だけ半導体チップから装置表面までの熱抵抗
が低減するので、樹脂封止型半導体装置の放熱性を従来
よりも向上させることができる。
体装置の製造工程において、外力に対するリードフレー
ムの耐性が増すので、リードフレームの変形及びこれに
起因する組立て不良を防止または低減することができ
る。
の厚みを薄くしても樹脂封止型半導体装置の製造時にリ
ードフレームの変形が生じないので、リードフレームの
厚みをその製造上の限界値まで薄くすることができるよ
うになり、樹脂封止型半導体装置のリードをファインピ
ッチ化することができる。
に説明する。なお、実施例を説明するための全図におい
て、同一機能を有するものは同一名称及び同一符号を付
与し、その繰り返しの説明は省略する。
の樹脂封止型半導体装置の構成を示す図であり、(a)
図は部分透視平面図、(b)図は(a)図中の位置A−
Aにおける断面図である。図1において、1は樹脂封止
体、2は半導体チップ、3はボンディングワイヤ、4a
はリード、4a1はリード4aのインナーリード部、4
a2はリード4aのアウターリード部、4bはタブ、4
cはタブ吊りリード、5は絶縁性接着剤、6は補強兼放
熱板、7は接着剤である。
1に示すように、その外形が平面正方形状の樹脂封止体
1の4辺から夫れ夫れ9本ずつ各辺に対して垂直にリー
ド4aが突き出た形状であり、前記樹脂封止体1の内部
に半導体チップ2とタブ4bと補強兼放熱板6とが埋め
込まれた構造である。
中央部に平面正方形状のタブ4bがあり、このタブ4b
の4角からは樹脂封止体1の4角に向かってタブ吊りリ
ード4cが延在している。タブ4bの上面には接着剤7
を介して平面正方形状の半導体チップ2が接着されてい
る。この半導体チップ2は、その主面側の電極に導電性
のある材料(例えば、金線)からなるボンディングワイ
ヤ3の一端がボンディングされており、このボンディン
グワイヤ3の他端はリード4aのインナーリード部4a
1に接続されている。したがって、半導体チップ2はボ
ンディングワイヤ3を介してリード4aと電気的に接続
されたものとなっている。また、タブ4bの下面には絶
縁性接着剤5(例えば、ポリイミド系樹脂)を介して補
強兼放熱板6が貼り合わされている。
って延在しており、そのうち樹脂封止体1の外部に位置
するアウターリード部4a2は半導体チップ2に関して
補強兼放熱板6の反対側で基板に実装できるように成形
されたガルウイング形状となっている。一方、樹脂封止
体1の内部に位置するインナーリード部4a1は、その
先端がタブ4bの4辺に対向しており、この先端に向か
うにつれて幅が狭くなるとともに、その途中から先端に
亘って肉薄となっている。そして、この肉薄な部分にボ
ンディングワイヤ3がボンディングされている。また、
この肉薄な部分の下面には絶縁性接着剤5を介して補強
兼放熱板6が貼り合わされている。
平面正方形の板形状であり、インナーリード部4bの肉
薄な部分の下面と半導体チップ2の下部にあるタブ4b
の下全面とを含む領域(以下、所定領域と称する)をカ
バーできる広さを有している。また、補強兼放熱板6
は、例えばCu,Fe,Al,Niまたはこれらを組み
合わせた材料からなり、樹脂封止体1(エポキシ系樹脂
を主成分としたもの)よりも熱伝導性が高くなってい
る。
は、前記所定領域に、絶縁性接着剤7を介して、樹脂封
止体1よりも熱伝導性の高い材料からなる補強兼放熱板
6を貼り合わせたことにある。
の製造方法を説明する。
半導体装置の製造方法を説明するための図である。図2
は樹脂封止工程を経た段階における部分透視平面図であ
り、4はリードフレーム、4dはダムバー、4eはフレ
ームである。図3は、各製造工程を示す断面図であり、
図2中のリードフレーム4の位置B−Bに対応する位置
における断面図である。
フレーム4の前記所定領域に補強兼放熱板6の上面を位
置合わせし、絶縁性接着剤5を介して補強兼放熱板6と
リードフレーム4を貼りあわせる。次に、図3(b)に
示すように、リードフレーム4のタブ4b上部に半導体
チップ2を位置決めし、接着剤7を介して補強兼放熱板
6の上部に位置するタブ4bの上面に半導体チップ2を
接着する。次に、図3(c)に示すように、半導体チッ
プ2の電極とインナーリード部4a1の肉薄になってい
る部分の上面とをボンディングワイヤ3で電気的に接続
する。次に、図3(d)及び図2に示すように、半導体
チップ2とボンディングワイヤ3とインナーリード部4
a1と補強兼放熱板6とを例えばトランスファモールド
法により樹脂で封止して樹脂封止体6を形成する。次
に、リードフレーム4からダムバー4d及びフレーム4
e等の不要な部分を切断除去する。最後に、アウターリ
ード部4a2を折り曲げ成形して、樹脂封止型半導体装
置が完成する。
ンナーリード部4a1の肉薄になっている部分が量産製
造上の限界値0.1mmまで薄くなっており、その他の
部分は0.125mm以上の厚さになっている。リード
フレーム4は、Cu系合金またはFe-Ni系合金(例
えば、42alloy)からなる金属薄板をエッチングまた
はプレスまたはエッチングとプレスを組合せた方法によ
って成形加工される。
の樹脂封止型半導体装置によれば、半導体チップ2から
樹脂封止型半導体装置表面までの熱伝導経路の一部が樹
脂封止体1よりも熱伝導性の高い補強兼放熱板6に代わ
った分だけ半導体チップ2から装置表面までの熱抵抗が
低減するので、樹脂封止型半導体装置の放熱性を従来よ
りも向上させることができる。
の製造方法によれば、リードフレーム4と補強兼放熱板
6とが貼り合わされた後の製造工程において、組立て動
作時及び搬送時に加えられる外力に対するリードフレー
ム4の耐性が増すので、例えば、ワイヤボンディング時
のインナーリード4a1の変形及びボンディング位置づ
れ、フレーム等切断除去時のリード4aの変形、リード
成形時のリード4aの変形等のリードフレーム4の変形
及びこれに起因する組立て不良を防止または低減するこ
とができる。
ド4a1の厚みを製造上の限界値である0.1mmまで薄
くしてあるので、インナーリード4a1をファインピッ
チ化することができる。
2の樹脂封止型半導体装置の構成を示す断面図である。
図4と図1(a)とを比較すればわかるように、本実施
例2の樹脂封止型半導体装置は、前記実施例1とは異な
り、リード4aが均一な厚さであり、補強兼放熱板6の
貼り合わされている領域がタブ4b下面とインナーリー
ド4a1下面であり、補強兼放熱板6が装置の外表面に
露出している。これらの点を除けば、本実施例2の樹脂
封止型半導体装置は、前記実施例1の樹脂止型半導体装
置と同じ構成である。
の製造方法は、概ね前記実施例1と同じである。但し、
本実施例2の製造方法においては、補強兼放熱板6とリ
ードフレームを貼りあわせる時に補強兼放熱板6の上面
が位置合わせされ貼り合わされるリードフレームの領域
がタブ4b下全面とインナーリード4a1下全面であ
り、半導体チップ2及びボンディングワイヤ3とインナ
ーリード4a1を樹脂で封止する時に補強兼放熱板6を
樹脂封止しない。これらの点を除けば、本実施例2の製
造方法は、前記実施例1と全く同じである。
の製造において用いられるリードフレームは、その厚さ
が均一で0.1mmとなっている。この点を除けば、本実
施例2で用いられるリードフレームは前記実施例1と全
く同じである。
ば、前記実施例1と同様の理由から、樹脂封止型半導体
装置の放熱性を従来よりも向上させることができる。
は、パッケージ全体に占める補強兼放熱板6の割合が高
いうえに熱伝導性の高い補強兼放熱板6が装置の外表面
に広く露出しているため、補強兼放熱板6外表面の温度
は樹脂封止体1外表面よりも高くなり、補強兼放熱板6
側の外気は樹脂封止体1側の外気より高温になりがちで
ある。しかし、本実施例2では、アウターリード4a2
を半導体チップ2に関し補強兼放熱板6の反対側すなわ
ち樹脂封止体1側に基板実装できるように成形したこと
により、アウターリード4a2を反対側すなわち補強兼
放熱板6側に実装できるように成形した場合に比べ、実
装基板と樹脂封止型半導体装置との間の領域にある外気
に熱がこもるのを緩和させることができる。
が装置の外表面に露出している場合には、この露出面に
熱伝達性を高める手段、例えば、小さい凹凸を多数設け
てその表面積を大きくする、微視的なレベルで視た場合
の表面積が大きい膜を被着させる等の手段を施せば、放
熱性をいっそう向上させることができる。
方法によれば、前記実施例1と同様の理由から、樹脂封
止型半導体装置の製造工程において、リードフレームの
変形及びこれに起因する組立て不良を防止または低減す
ることができる。
界値である0.1mmまで薄くしてあるので、樹脂封止型
半導体装置のリード4をファインピッチ化することがで
きる。
3の樹脂封止型半導体装置の構成を示す断面図である。
図5と図4とを比較すればわかるように、本実施例3の
樹脂封止型半導体装置は、前記実施例2とは異なり、タ
ブ4bがなく、半導体チップ2と補強兼放熱板6は絶縁
性接着剤5だけを介して貼り合わされている。この点を
除けば、本実施例3の樹脂封止型半導体装置は、前記実
施例2の樹脂止型半導体装置と同じ構成である。
の製造方法を説明する。初めに、補強兼放熱板6の上面
をリードフレームのインナーリード4a1下全面に位置
合わせし、絶縁性接着剤5を介して補強兼放熱板6とリ
ードフレームとを貼り合わせる。次に、リードフレーム
に対して半導体チップ2を位置決めし、補強兼放熱板6
の上面に絶縁性接着剤5を介して半導体チップ2を接着
する。ここまでは前記実施例1及び2と異なる。以後
は、前記実施例2と全く同様であり、樹脂で封止して樹
脂封止体6を形成し、リードフレームの不要な部分を切
断除去し、リード4aを成形して、樹脂封止型半導体装
置が完成する。
の製造において用いるリードフレームは、タブ4b及び
タブ吊りリード4cが設けられていない点を除けば、前
記実施例2と全く同じである。
の理由から、樹脂封止型半導体装置の放熱性を従来より
も向上させることができる。
脂封止型半導体装置の製造工程において、リードフレー
ムの変形及びこれに起因する組立て不良を防止または低
減することができる。
脂封止型半導体装置のリード4をファインピッチ化する
ことができる。
は、前記実施例1及び2と異なり、タブ4cが設けられ
ていないので、その分だけ、装置全体の厚みを薄くする
ことができる。
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば下記
の通りである。
従来よりも向上させることができる。
において、リードフレームの変形及びこれに起因する組
立て不良を防止または低減することができる。
ファインピッチ化することができる。
の構成を示す図であり、(a)図は部分透視平面図、
(b)図は(a)図中の位置A−Aにおける断面図であ
る。
の製造方法を説明するための図であり、樹脂封止工程を
経た段階における部分透視平面図である。
の製造方法を説明するための図であり、各製造工程を示
す断面図である。
の構成を示す断面図である。
の構成を示す断面図である。
ワイヤ、4…リードフレーム、4a…リード、4a1…
インナーリード部、4a2…アウターリード部、4b…
タブ、4c…タブ吊りリード、4d…ダムバー、4e…
フレーム、5…絶縁性接着剤、6…補強兼放熱板、7…
接着剤。
Claims (4)
- 【請求項1】 樹脂封止体と、該樹脂封止体の内外に亘
って延在する複数のリードと、前記樹脂封止体の内側に
あって前記リードと電気的に接続された半導体チップと
を有する樹脂封止型半導体装置において、 前記半導体チップの下部と前記リードのうち前記樹脂封
止体の内側に位置するインナーリード部の下面の少なく
とも一部とを合わせた領域に、絶縁性接着剤を介して、
前記樹脂封止体よりも熱伝導性の高い材料からなる補強
兼放熱板を貼りあわせたことを特徴とする樹脂封止型半
導体装置。 - 【請求項2】 前記補強兼放熱板の少なくとも一部は装
置外表面に露出していることを特徴とする請求項1に記
載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項3】 前記リードは前記補強兼放熱板の反対側
で基板に実装される形状に成形されていることを特徴と
する請求項1または2に記載の樹脂封止型半導体装置。 - 【請求項4】 請求項1乃至3のうちいずれか1項に記
載の樹脂封止型半導体装置を製造する方法であって、リ
ードフレームのインナーリード部の下面の少なくとも一
部と該リードフレームに対して半導体チップを位置決め
した時に該半導体チップの下部に位置決めされる部分と
を合わせた領域に補強兼放熱板の上面を位置合わせし絶
縁性接着剤を介して前記補強兼放熱板と前記リードフレ
ームを貼りあわせる工程と、前記リードフレームに対し
て半導体チップを位置決めし前記補強兼放熱板の上部に
該半導体チップを接着する工程と、前記半導体チップの
電極と前記リードとを電気的に接続する工程と、前記半
導体チップと前記インナーリードを樹脂で封止して樹脂
封止体を形成する工程とを有することを特徴とする樹脂
封止型半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14612194A JP3506341B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14612194A JP3506341B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0817988A true JPH0817988A (ja) | 1996-01-19 |
JP3506341B2 JP3506341B2 (ja) | 2004-03-15 |
Family
ID=15400632
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14612194A Expired - Lifetime JP3506341B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3506341B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008141222A (ja) * | 2008-02-04 | 2008-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リードフレームとそれを用いた半導体装置及びその生産方法 |
JP2008181926A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Rohm Co Ltd | 樹脂封止型電子部品 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226261U (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-21 | ||
JPH03263362A (ja) * | 1990-03-13 | 1991-11-22 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH04120765A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-21 | Seiko Epson Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JPH0590468A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-09 | Toppan Printing Co Ltd | リードフレーム |
JPH0653390A (ja) * | 1992-06-03 | 1994-02-25 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
-
1994
- 1994-06-28 JP JP14612194A patent/JP3506341B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0226261U (ja) * | 1988-08-05 | 1990-02-21 | ||
JPH03263362A (ja) * | 1990-03-13 | 1991-11-22 | Toshiba Corp | 半導体装置の製造方法 |
JPH04120765A (ja) * | 1990-09-12 | 1992-04-21 | Seiko Epson Corp | 半導体装置とその製造方法 |
JPH0590468A (ja) * | 1991-09-27 | 1993-04-09 | Toppan Printing Co Ltd | リードフレーム |
JPH0653390A (ja) * | 1992-06-03 | 1994-02-25 | Seiko Epson Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008181926A (ja) * | 2007-01-23 | 2008-08-07 | Rohm Co Ltd | 樹脂封止型電子部品 |
JP2008141222A (ja) * | 2008-02-04 | 2008-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | リードフレームとそれを用いた半導体装置及びその生産方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3506341B2 (ja) | 2004-03-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5800958A (en) | Electrically enhanced power quad flat pack arrangement | |
JP3420057B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置 | |
US6380048B1 (en) | Die paddle enhancement for exposed pad in semiconductor packaging | |
JP3170182B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
US5653891A (en) | Method of producing a semiconductor device with a heat sink | |
TWI453838B (zh) | 具有散熱器之無引線封裝 | |
JP2001210743A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH10313082A (ja) | 半導体装置とその製造方法 | |
JPH02285646A (ja) | 半導体装置 | |
JP2001332687A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JP2000294715A (ja) | 半導体装置及び半導体装置の製造方法 | |
JP3839178B2 (ja) | 半導体装置 | |
JP3540793B2 (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JP2004349316A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH0817988A (ja) | 樹脂封止型半導体装置及びその製造方法 | |
JPH11186449A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3314574B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP3013810B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2000150725A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP3499655B2 (ja) | 半導体装置 | |
JPH11354673A (ja) | 半導体装置 | |
KR100370480B1 (ko) | 반도체 패키지용 리드 프레임 | |
KR100575859B1 (ko) | 볼 그리드 어레이 패키지 | |
JP2002064174A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
JPH08125051A (ja) | 半導体装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20031212 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071226 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081226 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081226 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091226 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101226 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101226 Year of fee payment: 7 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101226 Year of fee payment: 7 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101226 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111226 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121226 Year of fee payment: 9 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131226 Year of fee payment: 10 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |