JPH0817779A - 基板裏面洗浄装置 - Google Patents
基板裏面洗浄装置Info
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- JPH0817779A JPH0817779A JP17329994A JP17329994A JPH0817779A JP H0817779 A JPH0817779 A JP H0817779A JP 17329994 A JP17329994 A JP 17329994A JP 17329994 A JP17329994 A JP 17329994A JP H0817779 A JPH0817779 A JP H0817779A
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Abstract
き、基板の裏面の広範囲を洗浄することができる基板裏
面洗浄装置を提供する。 【構成】 バックリンスノズル20は、筒状の吐出管2
0aと、その先端部に配設された噴角θ1 を有するノズ
ル部20bと、吐出管20aの下端部に、その径よりも
半径方向に突出形成された大径部20cとから構成され
ている。バックリンスノズル20は、その大径部20c
を押さえネジ21によって押さえられてバックリンスバ
ット16の貫通孔16bに取り付けられている。バック
リンスノズル20は、押さえネジ21を緩めて吐出管2
0aを鉛直軸周りに回転することによってその噴出方向
を容易に調整することができる。
Description
示装置用ガラス基板などの基板を回転させつつその裏面
に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する基板
裏面洗浄装置に関する。
て、例えば、特公平5−1972号公報に示すようなも
のがある。この装置を図11および図12を参照して説
明する。
持して回転させるスピンチャックを備えた支持回転手段
10と、この支持回転手段に支持された基板Wの下方か
ら、鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液
を吐出する吐出手段20と、基板Wの回転中心の上方か
らフォトレジスト液を吐出するフォトレジスト液吐出ノ
ズル30とを備えている(図11(a))。なお、以下
の説明においては、水平面に対する角度θ1 で洗浄液の
吐出角度を表現し、この角度θ1 を噴角とする。吐出手
段20は支持回転手段10を挟んで対向する2か所に配
設されており、平面視でのその吐出向きは(図11
(b))、基板回転中心を通って二つの吐出手段20を
結ぶラインを基準として、基板Wの回転進行方向(反時
計周り方向)への所定の角度θ2 (噴出方向)をもって
配設されている。
板Wが支持回転手段10に支持され、所定の回転速度で
回転駆動される。そしてフォトレジスト液吐出ノズル3
0から所定量のフォトレジスト液が吐出される。さらに
所定時間だけ回転駆動することにより余剰のフォトレジ
スト液が振り切られ、基板Wの表面には所定膜厚のフォ
トレジスト膜が形成される。このとき基板Wの端面(オ
リエンテーション・フラットが形成されている場合には
その端面を含む)には、基板Wの表面に吐出されたフォ
トレジスト液が回り込んで付着し、さらには基板Wの裏
面周辺部にまで余剰のフォトレジスト液が回り込むこと
もある。さらに基板Wの裏面には、フォトレジスト液が
振り切られて霧状になったミストが回り込んで付着す
る。これらの付着したフォトレジスト液は、その後の硬
化処理によって基板表面と同様に硬化膜となるが、その
後の基板搬送工程やフォトリソグラフィー工程等におい
て剥がれてパーティクル発生の原因となるなどの不都合
を引き起こす。
回転振り切り後に、基板Wの裏面に対して吐出手段20
から洗浄液を吐出し、支持回転手段10のスピンチャッ
ク部分を除く基板Wの裏面を洗浄液で覆ってミストの付
着を防止したり、余剰フォトレジスト液の基板端面、裏
面への回り込みを阻止したり、付着したフォトレジスト
液やそのミストを洗い流すという、いわゆるバックリン
スを行うようにしている。
ォトレジスト液を吐出する際あるいは振り切る際の支持
回転手段10の回転数は、基板Wの表面に形成するフォ
トレジスト膜の膜厚に応じて可変する必要がある。例え
ば、薄い膜厚を必要とする場合には高い回転数で基板W
を回転させつつフォトレジスト液を吐出し、厚い膜厚を
必要とする場合には低い回転数で基板Wを回転させつつ
フォトレジスト液を吐出する。かかる場合、吐出手段2
0から洗浄液が吐出される方向である噴出方向θ2 は固
定であるので、支持回転手段10の回転数に応じて基板
Wの裏面を流れる洗浄液の軌跡が変動する。
よって洗浄される面積が広いほど良いが、スピンチャッ
ク等の支持回転手段10にまで洗浄液が及ぶと、支持回
転手段10の吸引経路に洗浄液が侵入してパッキン等を
劣化させたり、基板Wの裏面にスピンチャックの痕跡が
残ったりする不都合があるため、支持回転手段10を濡
らさない範囲でできる限りスピンチャックの近傍まで洗
浄液を及ばせることが望まれる。通常、吐出手段20か
ら吐出された洗浄液が基板Wの裏面に達した部分では、
洗浄液の吐出圧力に応じて遠心力に逆らって回転中心側
へと洗浄液の一部が基板Wの裏面を伝わる。模式的に示
すと、回転数が低い場合は図12(a)に示すようにな
り、回転数が高い場合は図12(b)に示すようにな
る。このとき、回転数が低い場合の支持回転手段10の
スピンチャックと洗浄液との間隔をd1 とし、回転数が
高い場合の間隔をd2 とすると、大小関係はd1 <d2
となる。したがってフォトレジスト液の吐出時にバック
リンスを行う場合には、支持回転手段10の回転数に応
じて洗浄液によって洗浄できる基板Wの裏面の範囲が変
動することになる。すなわち、回転数が高いときは〔遠
心力によって洗浄液が外周へ流れ、スピンチャック近傍
には洗浄液が達しないので〕回転数が低いときに比べて
バックリンスによって洗浄できる範囲が狭くなるという
問題点がある。
し、余剰フォトレジスト液の回転振り切り後にバックリ
ンスを行う場合には、基板Wの裏面へのミストの付着、
基板Wの端面へのフォトレジスト液の付着の度合いや、
裏面の周囲へのフォトレジスト液の回り込みの度合いに
よって、バックリンスを行う際の支持回転手段10の回
転数を調整する必要がある。しかしながら、上記の理由
により回転数が高いときは回転数が低いときに比べて洗
浄できる範囲が狭くなるという問題点がある。
たものであって、洗浄液の噴出方向を容易に調節するこ
とができ、基板の裏面の広範囲を洗浄することができる
基板裏面洗浄装置を提供することを目的とする。
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板を回転させつつその
裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する
装置であって、基板を略水平姿勢で支持して回転させる
支持回転手段と、支持された基板の下方から鉛直方向に
対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出する吐出
手段と、前記吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸
周りで回転可能に設定する設定手段と、を備えたことを
特徴とするものである。
転させつつその裏面に下方から洗浄液を吐出して基板の
裏面を洗浄する装置であって、基板を略水平姿勢で支持
して回転させる支持回転手段と、支持された基板の下方
に配設される被取付部材と、前記被取付部材に鉛直姿勢
で設けられる吐出管と、前記吐出管の先端部に形成され
て鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を
吐出するノズル部と、前記吐出管の下部に形成された大
径部と、前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周り
で回転可能に前記支持部材に取り付ける取付け手段と、
を備えたことを特徴とするものである。
記載の発明は、支持回転手段に支持された基板の下方か
ら洗浄液を吐出手段で吐出する。この吐出手段は、鉛直
方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出す
るので、基板の裏面を流れて基板端面に達した洗浄液は
上方へと回り込む。これによって基板端面に付着したフ
ォトレジスト液は除去される。さらに吐出手段は、設定
手段によってその洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回転
可能に設定されるので、その吐出向きを容易に調整する
ことができる。したがって、支持回転手段の回転速度等
の条件に応じて吐出手段の吐出向きを調整することがで
きる。
支持された基板の下方から洗浄液を吐出管で吐出する。
この吐出管は、その先端部に形成されたノズル部から鉛
直方向に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出
するので、基板の裏面を流れて基板端面に達した洗浄液
は上方へと回り込む。これによって基板端面に付着した
フォトレジスト液は除去される。さらに前記吐出管は、
その下部に形成された大径部を取付け手段で押さえるこ
とによって鉛直軸周りで回転可能に被取付部材に取り付
けられているので、その先端部のノズル部からの吐出向
きを容易に調整することができる。したがって支持回転
手段の回転速度等の条件に応じて吐出手段の吐出向きを
調整することができる。
明する。図1は、基板裏面洗浄装置の一例である回転式
基板処理装置を示す縦断面図である。図2は、図1の要
部拡大図である。
あり、基板Wを略水平姿勢で吸着支持する。この吸引式
スピンチャック10は、中空の回転軸11を介して回転
モーター12によって回転駆動される。回転駆動の方向
は、平面視で反時計方向である。さらに吸引式スピンチ
ャック10の周囲には、フォトレジスト液や洗浄液の飛
散を防止するための飛散防止カップ13が配設されてい
る。また、図示しない搬送手段が未処理の基板Wを吸引
式スピンチャック10に載置または吸引式スピンチャッ
ク10から処理済みの基板Wを受け取る際には、図示し
ない昇降手段が回転軸11と飛散防止カップ13とを相
対昇降させることによって、吸引式スピンチャック10
を飛散防止カップ13の上方へと移動させる(図中の二
点鎖線)。さらに、飛散防止カップ13の開口部14a
(後述する)の上方であって、基板Wのほぼ回転中心の
上方には、フォトレジスト液を吐出する吐出ノズル30
が位置している。なお、吸引式スピンチャック10と、
回転軸11と、回転モーター12とは、本発明における
支持回転手段に相当する。
円形整流部材15と、被取付部材に相当するバックリン
スバット16と、下カップ17とから構成されている。
上カップ14は、上部に開口部14aと、基板Wの回転
によるフォトレジスト液や洗浄液の飛沫を下方へ案内す
る傾斜面14bとを有する。上カップ14は、下カップ
17の外周壁の上端部段落面に嵌め込まれている。
16に嵌め込まれ、バックリンスバット16が下カップ
17に嵌め込まれることによって飛散防止カップ13に
取り付けられている。そして開口部14aから流入して
基板Wの周縁に沿って流下する気流を下カップ17に整
流して案内するとともに、上カップ14の傾斜面14b
によって下方に案内されたフォトレジスト液や洗浄液の
飛沫をこの気流に乗せて下カップ17に案内する傾斜整
流面15aを有する。
リング状の排液ゾーン17aと、この排液ゾーン17a
の内側に形成したリング状の排気ゾーン17bとを有す
る。排液ゾーン17aの底部には、排液口17cが配設
されている。この排液口17cは、排液タンク17dに
接続されており、回転振り切り後のフォトレジスト液や
洗浄液を回収する。排気ゾーン17bの底部には、カッ
プ排気口17eが配設されている。このカップ排気口1
7eは、排気ポンプ17fに接続されており、飛散防止
カップ13内に滞留する霧状のフォトレジスト液や洗浄
液、いわゆるミストを空気とともに吸引排気する。
配設されているバックリンスバット16について、図3
および図4を参照して説明する。図3はバックリンスバ
ット16の平面図であり、図4はそのA−A矢視断面図
である。
上面周辺部に形成された環状の凹部16aは、底面が水
平面に形成され、その底面には、基板回転中心部を挟ん
で対称な位置に貫通孔16bが2か所に形成されてい
る。図2を参照して、貫通孔16bは、その側壁に形成
された雌ネジ部16pと、雌ネジ部16pの下端に連な
る水平部16qと、水平部16qの中心に形成されたす
り鉢部16rと、すり鉢部16rの下部とバックリンス
バット16の下面とを連通させる連通部16sとからな
っている。この貫通孔16bには、洗浄液を吐出するた
めのバックリンスノズル20が取り付けられている。バ
ックリンスノズル20は、中空部を有する吐出管20a
と、その上端部に一体的に形成されて水平面に対して噴
角θ1 で斜め上方へ向けて洗浄液を吐出するノズル部2
0bと、吐出管20aの下端部に、その吐出管20aの
外径よりも半径方向に突出形成された大径部20cと、
大径部20cの下方に形成された先細部20rとから構
成されている。バックリンスノズル20は、その大径部
20cを押さえネジ21によって押さえられてバックリ
ンスバット16の貫通孔16bに取り付けられている。
押さえネジ21の外側面には、貫通孔16bの雌ネジ部
16pと螺合する雄ネジ部21pが形成され、押さえネ
ジ21の内部にはバックリンスノズル20の大径部20
cを押さえる押さえ壁21cが形成されている。また、
押さえ壁21cには、バックリンスノズル20の吐出管
20aが貫通する開口21aが形成されている。
の取付けは、以下のように行われる。すなわち、バック
リンスノズル20を貫通孔16に差し込んでその先細部
20rと貫通孔16bのすり鉢部16rとのはめあいに
よって位置決めし、バックリンスノズル20の吐出管2
0aを押さえネジ21の開口21aに貫通させ、ノズル
部20bを所望の向きに向けた状態で、押さえネジ21
の雄ネジ部21pを貫通孔16bの雌ネジ部16pと螺
合させて締め付ける。そしてこのとき、バックリンスノ
ズル20のノズル部20bの向きを容易に調整設定する
ことができる。すなわち、押さえネジ21の締め付け前
においては、バックリンスノズル20のノズル部20b
の向きすなわち洗浄液の吐出向きは、バックリンスノズ
ル20の鉛直軸まわりでの回転により回転調整可能であ
る。このとき、バックリンスノズル20の回転は、バッ
クリンスノズル20の先細部20rと貫通孔16bのす
り鉢部16rとのはめあいによって案内され、微妙な調
整作業を円滑に行い得る。また、押さえネジ21の締め
付け時においては、バックリンスノズル20の大径部2
0cは押さえネジ21の押さえ壁21cによってバック
リンスバット16との間で押さえられ、ノズル部20b
の向きは固定される。なお、噴角θ1 は、0°<θ1 <
90°の範囲で適宜設定され、これにより、ノズル部2
0bは鉛直方向に対して所定の角度をもって上方へ向け
て洗浄液を吐出することになるが、この噴角θ1 は基板
Wの裏面および端面の洗浄度等に関連するので、基板W
のサイズや回転モーター12の回転数などの条件に応じ
て例えば20°〜60°程度の範囲内で設定される。な
お、バックリンスノズル20を構成する吐出管20aと
ノズル部20bとは本発明における吐出手段に相当し、
バックリンスノズル20の大径部20cと押さえネジ2
1は設定手段に相当する。また、押さえネジ21は取付
け手段にも相当する。
は、リング状の浅い溝である洗浄液供給溝16cが形成
されている。この洗浄液供給溝16cの下面には、流通
する洗浄液の漏れがないように蓋材16dが溶接されて
いる。洗浄液供給溝16cには、蓋材16dに配設され
たL字状の管継手18と、これに接続された供給配管1
8aを介して洗浄液供給部18b(図1参照)から洗浄
液が所定圧力で供給されるようになっている。
バックリンスノズル20は、その上部に取り付けられた
円形整流部材15の、リング状の凹部15b(図2参
照)に形成された貫通孔15cから突出している。した
がってバックリンスノズル20から吐出された洗浄液が
円形整流部材15の貫通孔15cから流下したり、洗浄
液供給溝16cから洗浄液が大径部20c,押さえネジ
21の周囲を伝ってバックリンスバット16の凹部16
aに滲み出して滞留する場合がある。そこで凹部16a
に貫通孔16eを形成し、これに管継手19を配設する
ことによって凹部16aに滞留した洗浄液を排出するよ
うにしている。この管継手19は、排液タンク17dに
接続されている。
液の吐出向きである噴出方向θ2 は、図5に示すように
設定されている。噴出方向θ2 は、平面視で基板回転中
心を通って二つのバックリンスノズル20を結ぶライン
を基準として、基板Wの回転進行方向(反時計周り方
向)の角度で定義する。
ンチャック10の回転数が低い場合を示し、図7は吸引
式スピンチャック10の回転数が高い場合を示してい
る。
回転数が低い場合とは、回転数が例えば20〜200r
pm程度であり、このとき噴出方向は例えば約0〜45
°(θ2a)に設定する。この場合の洗浄液の軌跡は、二
点鎖線で示すようになる(図6(a))。さらにバック
リンスノズル20から噴射され、基板Wの裏面に達した
洗浄液の一部は、一時的に遠心力に逆らって回転中心側
へ基板Wの裏面を伝わる。このときの吸引式スピンチャ
ック10と回転中心側に伝わった洗浄液との間隔をd1
とする(図6(b))。この場合の洗浄される平面視で
の範囲は、符号C1 で示す二点鎖線の円より外周側とな
る。
部20bは、噴角θ1 で基板Wの裏面に洗浄液を噴射す
るので、上方へのエネルギーをもった洗浄液は、基板W
の端面に達すると上方へ回り込む。これによって基板W
のオリエンテーション・フラット部の端面や周囲の端面
に付着したフォトレジスト液を除去することができる
(図6(b))。
膜厚を薄くする場合や、回転振り切り後にバックリンス
を行う場合で、吸引式スピンチャック10の回転数を高
くする場合について説明する。この場合の回転数は、例
えば500rpm程度に設定する。かかる場合、上カッ
プ14を下カップ17から取り外し、円形整流部材15
を取り外す。次に押さえネジ21を緩めるとともにバッ
クリンスノズル20の吐出管20aを鉛直軸周りに回転
させて噴出方向θ2 を回転数が低い場合に比較してやや
大きく調整し、押さえネジ21を締め付けて固定する。
このように押さえネジ21を緩めて吐出管20aを鉛直
軸周りに回転させることにより洗浄液の吐出方向を容易
に調整することができる。
出方向は例えば約45°(θ2b)に設定する。この場合
においては、洗浄液が遠心力によって基板Wの外周に移
動するのが早くなるので洗浄液の軌跡は図7(a)の二
点鎖線で示すように回転数が低い場合に比べて短くな
る。このときの吸引式スピンチャック10と回転中心側
に伝わった洗浄液との間隔をd2 とする(図7
(b))。単に吸引式スピンチャック10の回転数を高
くしたのみであれば、このd2 はd1 よりも大きくな
る。しかし、ノズル部20bからの洗浄液の噴出方向θ
2 を調整することにより、ノズル部20bから吐出され
た洗浄液の吐出向きを変えることができ、またそれに伴
って、基板W裏面への洗浄液の基板Wの半径方向におけ
る到達位置をも変えることができるので、回転数が高く
なるのに応じて洗浄液の噴出方向θ2 を調整することに
より、このd2 と上記のd1 とはほぼ同程度に調整する
ことができる。この場合に洗浄される平面視での範囲
は、符号C2 で示す二点鎖線の円より外周側になり、上
記のようにバックリンスノズル20の噴出方向θ2 を鉛
直軸周りに回転させることによって回転数が低い場合と
ほぼ同程度になるように調整することができる。すなわ
ち、噴出方向θ2 を調整することによって、基板Wの裏
面の広範囲を洗浄することができる。なお、このような
洗浄液の噴出方向θ2 の調整は、基板Wの端面やオリエ
ンテーション・フラットの端面に付着したフォトレジス
ト液の除去が良好になされ、かつ洗浄液によって洗浄さ
れる基板Wの裏面面積が広くなる向きを実験的に求め、
その結果に基づいて行われる。噴出方向θ2 は負も値で
あってもよく、この場合には洗浄液を吐出向きは、基板
Wの回転進行方向と逆方向になる。
示す図8を参照して説明する。バックリンスノズル20
は、ネジが形成された鉛直管部20dと、この鉛直管部
20dから噴角θ1 で屈曲したノズル部20eが一体形
成されてなる。このバックリンスノズル20は、その鉛
直管部20dをバックリンスバット16の貫通孔16b
にねじ込まれている。そして、押さえネジ21によって
その噴出方向θ2 が固定されている。この構成では、押
さえネジ21を緩め、バックリンスノズル20の向きを
調整し(図中の二点鎖線)、その後押さえネジ21を締
めつけることによって噴出方向θ2 を調整することがで
きる。
20を2か所に配設したが、本発明はこの個数に限定さ
れることなく種々の変形実施が可能である。例えば、バ
ックリンスノズル20は1個でもよく、さらに図9に示
すようにバックリンスノズル20を4か所に配設するよ
うにしてもよい。また、それぞれの噴出方向θ2 を一対
のバックリンスノズル20ごとに変えて、例えば、一方
の一対のバックリンスノズル20の噴出方向をθ2aと
し、他方の一対のバックリンスノズル20の噴出方向を
θ2bとする。そして、図示しない電磁弁と制御部によっ
てバックリンスノズル20への洗浄液の供給を制御し、
回転数に応じてこれらの一対のバックリンスノズル20
を切り換え使用するようにしてもよい。
リンスノズル20は、鉛直管部20dとその先端部に挿
入して取り付けられた噴角θ1 で斜め上方へ向けて洗浄
液を吐出するノズル部20eとからなる。バックリンス
バット16の凹部16aの底面には台座30がねじ込ま
れ、凹部16aの底面との接触面にはパッキン31が介
挿されて洗浄液の漏れを防止する。台座30の上部外周
にはネジ山が形成されて、上方から押さえネジ32がね
じ込まれる。台座30の上部には、鉛直管部20dが挿
入される挿入孔30aが形成され、また挿入孔30aの
上端にはすり鉢状の傾斜面30bが形成される。そし
て、かかる傾斜面30bの部分にパッキン33を介挿し
て押さえネジ32を締め付けることにより、バックリン
スノズル20からの洗浄液の噴出方向θ2 を任意に調整
して固定することができる。また、図10では鉛直管部
20dを挿入孔30aの底部まで挿入してあるが、本実
施例においてはバックリンスノズル20を基板Wに触れ
ない範囲で任意の高さまで引き上げて、かかる状態で押
さえネジ32を締め付けることにより、傾斜面30bと
パッキン33により鉛直管部20dが締め付けられ、そ
の任意の高さでバックリンスノズル20を固定すること
ができる。これにより、バックリンスノズル20の取り
付け姿勢、洗浄液の吐出向きの調整の自由度をさらに高
めることができ、基板Wの裏面の洗浄範囲を広くし、か
つ基板Wの周囲端面やオリエンテーション・フラット部
の端面を良好に洗浄する状態に調整することができる。
1に記載の発明によれば、吐出手段は、鉛直方向に対し
て所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出し、さらに吐
出手段は設定手段によって吐出向きを設定されるので、
容易に吐出向きを調整できて基板裏面の広範囲を洗浄す
ることができる。
出管は、その先端部に形成されたノズル部から鉛直方向
に対して所定の角度をもって上方へ洗浄液を吐出し、さ
らに吐出管は、その下部に形成された大径部を取付け手
段で押さえることによって鉛直軸周りで回転可能に支持
部材に取り付けられているので、そのノズル部からの洗
浄液の吐出向きを容易に調整することができて基板裏面
の広範囲を洗浄することができる。
ある。
図である。
る図である。
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 基板を回転させつつその裏面に下方から
洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、 基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段
と、 支持された基板の下方から鉛直方向に対して所定の角度
をもって上方へ洗浄液を吐出する吐出手段と、 前記吐出手段からの洗浄液の吐出向きを鉛直軸周りで回
転可能に設定する設定手段と、 を備えたことを特徴とする基板裏面洗浄装置。 - 【請求項2】 基板を回転させつつその裏面に下方から
洗浄液を吐出して基板の裏面を洗浄する装置であって、 基板を略水平姿勢で支持して回転させる支持回転手段
と、 支持された基板の下方に配設される被取付部材と、 前記被取付部材に鉛直姿勢で設けられる吐出管と、 前記吐出管の先端部に形成されて鉛直方向に対して所定
の角度をもって上方へ洗浄液を吐出するノズル部と、 前記吐出管の下部に形成された大径部と、 前記大径部を押さえて前記吐出管を鉛直軸周りで回転可
能に前記支持部材に取り付ける取付け手段と、 を備えたことを特徴とする基板裏面洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06173299A JP3126878B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 基板裏面洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP06173299A JP3126878B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 基板裏面洗浄装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0817779A true JPH0817779A (ja) | 1996-01-19 |
JP3126878B2 JP3126878B2 (ja) | 2001-01-22 |
Family
ID=15957875
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP06173299A Expired - Lifetime JP3126878B2 (ja) | 1994-06-30 | 1994-06-30 | 基板裏面洗浄装置 |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998022230A1 (fr) * | 1996-11-15 | 1998-05-28 | Shibaura Mechatronics Corporation | Dispositif rotatif et procede de mise en rotation |
JP2003503845A (ja) * | 1999-06-25 | 2003-01-28 | ラム リサーチ コーポレーション | 化学機械研磨またはプラズマ処理の後にウエハを洗浄するための方法およびシステム |
KR100797079B1 (ko) * | 2006-07-12 | 2008-01-22 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
CN113471108A (zh) * | 2021-07-06 | 2021-10-01 | 华海清科股份有限公司 | 一种基于马兰戈尼效应的晶圆竖直旋转处理装置 |
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- 1994-06-30 JP JP06173299A patent/JP3126878B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998022230A1 (fr) * | 1996-11-15 | 1998-05-28 | Shibaura Mechatronics Corporation | Dispositif rotatif et procede de mise en rotation |
US6192903B1 (en) | 1996-11-15 | 2001-02-27 | Shibaura Mechatronics Corporation | Spin-processing apparatus and spin-processing method |
CN1097490C (zh) * | 1996-11-15 | 2003-01-01 | 芝浦机械电子装置股份有限公司 | 旋转处理装置 |
JP2003503845A (ja) * | 1999-06-25 | 2003-01-28 | ラム リサーチ コーポレーション | 化学機械研磨またはプラズマ処理の後にウエハを洗浄するための方法およびシステム |
JP4667687B2 (ja) * | 1999-06-25 | 2011-04-13 | ラム リサーチ コーポレーション | 化学機械研磨またはプラズマ処理の後にウエハを洗浄するための方法およびシステム |
KR100797079B1 (ko) * | 2006-07-12 | 2008-01-22 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 방법 |
US8122899B2 (en) | 2006-07-12 | 2012-02-28 | Semes Co., Ltd. | Apparatus and method for treating substrate |
CN113471108A (zh) * | 2021-07-06 | 2021-10-01 | 华海清科股份有限公司 | 一种基于马兰戈尼效应的晶圆竖直旋转处理装置 |
CN113471108B (zh) * | 2021-07-06 | 2022-10-21 | 华海清科股份有限公司 | 一种基于马兰戈尼效应的晶圆竖直旋转处理装置 |
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