JPH08173790A - 粉末及び微粒子のコーティング・造粒装置及びコーティング方法 - Google Patents
粉末及び微粒子のコーティング・造粒装置及びコーティング方法Info
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- JPH08173790A JPH08173790A JP6340098A JP34009894A JPH08173790A JP H08173790 A JPH08173790 A JP H08173790A JP 6340098 A JP6340098 A JP 6340098A JP 34009894 A JP34009894 A JP 34009894A JP H08173790 A JPH08173790 A JP H08173790A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スリットグリルの使用耐久性を向上させるこ
と（目詰まり防止）ができるとともにコーティング基材
の粉末や微粒子が小粒径化したとしても、一定以上の回
収率を確保できるコーティング・造粒装置並びにコーテ
ィング方法を提供する。 【構成】 流動層内に回転テーブルとスリットグリルと
を備え、加熱ガスを流動層のガス流入口からガス供給室
に流入させ、スリットグリルを介して回転テーブルの下
方から流動層内に噴出させて粉末や微粒子を撹拌するよ
うに構成した装置において、上記スリットグリルを多層
化構造とした装置並びに本装置を用いて、噴霧液滴をコ
ーティング基材の粉末や微粒子の進行方向と同一方向
に、且つ水平ラインに対して＋５°〜−４０°の範囲に
噴霧コーティングする方法。
と（目詰まり防止）ができるとともにコーティング基材
の粉末や微粒子が小粒径化したとしても、一定以上の回
収率を確保できるコーティング・造粒装置並びにコーテ
ィング方法を提供する。 【構成】 流動層内に回転テーブルとスリットグリルと
を備え、加熱ガスを流動層のガス流入口からガス供給室
に流入させ、スリットグリルを介して回転テーブルの下
方から流動層内に噴出させて粉末や微粒子を撹拌するよ
うに構成した装置において、上記スリットグリルを多層
化構造とした装置並びに本装置を用いて、噴霧液滴をコ
ーティング基材の粉末や微粒子の進行方向と同一方向
に、且つ水平ラインに対して＋５°〜−４０°の範囲に
噴霧コーティングする方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は粉末や微粒子に樹脂溶液
を液滴噴霧して、その表面にコーティングを行なう装置
及びコーティング方法に関する。
を液滴噴霧して、その表面にコーティングを行なう装置
及びコーティング方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、粉末や微粒子を製造するには混
合型造粒装置を用いる。この混合型造粒装置には、流動
層造粒装置と転動流動層造粒装置がある。流動層造粒装
置では、スリットグリルの下方から供給する加熱ガスに
より粉末を混合撹拌し、転動流動層造粒装置では造粒筒
内に設けた回転テーブルで発生する遠心力と、回転テー
ブルの外周側に設けたスリットグリルの下方から供給す
る加熱ガスとにより粉末を混合撹拌し、いずれの造粒装
置においても、混合撹拌中の粉末にコーティング剤（一
般的に樹脂溶液）を噴霧する。しかし、現在提案されて
いる混合型造粒装置（特公昭５１−６０２３号、実公平
２−２７８８６号、実公平３−１０６３号各公報）で
は、スリットグリルが１層構造であり、コーティング基
材の粉末や微粒子径が小さくなるとスリットグリルに粉
末や微粒子が詰まったり、粉末や微粒子の粒度によりス
リットグリルの耐久性が低下する（スリットグリルの破
損）。また、粉末や微粒子がスリットグリルを通過して
しまい、回収率の低下につながる。
合型造粒装置を用いる。この混合型造粒装置には、流動
層造粒装置と転動流動層造粒装置がある。流動層造粒装
置では、スリットグリルの下方から供給する加熱ガスに
より粉末を混合撹拌し、転動流動層造粒装置では造粒筒
内に設けた回転テーブルで発生する遠心力と、回転テー
ブルの外周側に設けたスリットグリルの下方から供給す
る加熱ガスとにより粉末を混合撹拌し、いずれの造粒装
置においても、混合撹拌中の粉末にコーティング剤（一
般的に樹脂溶液）を噴霧する。しかし、現在提案されて
いる混合型造粒装置（特公昭５１−６０２３号、実公平
２−２７８８６号、実公平３−１０６３号各公報）で
は、スリットグリルが１層構造であり、コーティング基
材の粉末や微粒子径が小さくなるとスリットグリルに粉
末や微粒子が詰まったり、粉末や微粒子の粒度によりス
リットグリルの耐久性が低下する（スリットグリルの破
損）。また、粉末や微粒子がスリットグリルを通過して
しまい、回収率の低下につながる。
【０００３】一方、前記提案を含めたコーティング・造
粒装置は、一般的に噴霧方向が上部から噴霧するスプレ
ー方式（トップスプレー方式）を主として採用している
が、いくつかの問題を抱えている。その一つとして、噴
霧ノズルから噴霧された液滴が粉末や微粒子に到達する
までに距離があるため、噴霧直後と粉末及び微粒子表面
に到達した時の液滴の物性（液滴表面張力や粘度、粘着
力等）が変化し、所望のコート品質が得られないことが
ある。また、局部へ上部から噴霧するため、粉末や微粒
子以外（回転テーブル、層内壁面等）に多くのコーティ
ング物質が付着することも多々ある。そして、これら提
案（特公平２−５６９３５号、特公平３−１０６３号、
特公平３−４２０２８号、特公平３−４２０２９号、特
公平３−１３５４３０号、特公平５−４１２８号、特公
平３−４９９０１号、特公平５−１１５０８号、特公平
６−１８６号、特開平５−１９２５５５号等の各公報）
は噴霧液滴径については、微粒化制御していないので、
粉末や微粒子との衝突時に多くの分裂反跳液滴を発生さ
せており、この液滴が装置内壁面や回転テーブル或いは
他の粉末や微粒子に付着し、凝集や内部付着を招いてい
る。
粒装置は、一般的に噴霧方向が上部から噴霧するスプレ
ー方式（トップスプレー方式）を主として採用している
が、いくつかの問題を抱えている。その一つとして、噴
霧ノズルから噴霧された液滴が粉末や微粒子に到達する
までに距離があるため、噴霧直後と粉末及び微粒子表面
に到達した時の液滴の物性（液滴表面張力や粘度、粘着
力等）が変化し、所望のコート品質が得られないことが
ある。また、局部へ上部から噴霧するため、粉末や微粒
子以外（回転テーブル、層内壁面等）に多くのコーティ
ング物質が付着することも多々ある。そして、これら提
案（特公平２−５６９３５号、特公平３−１０６３号、
特公平３−４２０２８号、特公平３−４２０２９号、特
公平３−１３５４３０号、特公平５−４１２８号、特公
平３−４９９０１号、特公平５−１１５０８号、特公平
６−１８６号、特開平５−１９２５５５号等の各公報）
は噴霧液滴径については、微粒化制御していないので、
粉末や微粒子との衝突時に多くの分裂反跳液滴を発生さ
せており、この液滴が装置内壁面や回転テーブル或いは
他の粉末や微粒子に付着し、凝集や内部付着を招いてい
る。
【０００４】他方、液滴を側面から噴霧する方式（接線
スプレー方式）を採用した装置の提案・市販（フロイン
ト産業社製：スパイラフロー、グラニュレックス、パウ
レック：パウダープロセッサー等）がなされているが、
これら方法も問題を抱えている。その問題は２つあり、
１つは噴霧方式である。噴霧方式は接線スプレー方式を
採用しているが、噴霧方向が旋回流動する粉末及び微粒
子層の最外周部に噴霧コーティングされるため、粉末及
び微粒子に噴霧液滴が衝突した際、分裂反跳液滴が装置
内壁に多く付着する。もう１つの問題は、前述したが噴
霧液滴径を微粒化制御していないため、粉末や微粒子と
の衝突時に分裂反跳液滴が多く発生しやすい。（これ
は、コーティング基材である粉末及び微粒子の径との比
率も影響する。）そのため、粉末及び微粒子の表面の膜
厚が不安定な状態（膜厚がばらつく）になることや、コ
ーティングされた粉末及び微粒子同士の凝集が多発する
ことや、コーティングされた粉末及び微粒子の表面上に
コーティング材料のカスが発生し、電気特性、帯電特性
等の多くの品質への悪影響を与えることがある。
スプレー方式）を採用した装置の提案・市販（フロイン
ト産業社製：スパイラフロー、グラニュレックス、パウ
レック：パウダープロセッサー等）がなされているが、
これら方法も問題を抱えている。その問題は２つあり、
１つは噴霧方式である。噴霧方式は接線スプレー方式を
採用しているが、噴霧方向が旋回流動する粉末及び微粒
子層の最外周部に噴霧コーティングされるため、粉末及
び微粒子に噴霧液滴が衝突した際、分裂反跳液滴が装置
内壁に多く付着する。もう１つの問題は、前述したが噴
霧液滴径を微粒化制御していないため、粉末や微粒子と
の衝突時に分裂反跳液滴が多く発生しやすい。（これ
は、コーティング基材である粉末及び微粒子の径との比
率も影響する。）そのため、粉末及び微粒子の表面の膜
厚が不安定な状態（膜厚がばらつく）になることや、コ
ーティングされた粉末及び微粒子同士の凝集が多発する
ことや、コーティングされた粉末及び微粒子の表面上に
コーティング材料のカスが発生し、電気特性、帯電特性
等の多くの品質への悪影響を与えることがある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
のコーティング・造粒装置及びコーティング方法では、
コーティング基材の粉末及び微粒子の粒径が小さくなる
と、スリットグリルへの目詰まりによる凝集の発生、膜
厚のばらつき、スリットグリルの通過による回収率の低
下並びに噴霧液滴径の未制御、スプレー方式による凝集
の発生等の問題があった。従って、本発明はこれらの問
題点を解決しようとするものであって、スリットグリル
を積層化構造とすることで、回収率を一定以上にし、ス
リットグリルの耐久性を向上させ、更にスプレー方向を
変更することで、小粒径基材へのコーティングも凝集が
発生することなくできるコーティング・造粒装置並びに
コーティング方法を提供することをその目的とする。
のコーティング・造粒装置及びコーティング方法では、
コーティング基材の粉末及び微粒子の粒径が小さくなる
と、スリットグリルへの目詰まりによる凝集の発生、膜
厚のばらつき、スリットグリルの通過による回収率の低
下並びに噴霧液滴径の未制御、スプレー方式による凝集
の発生等の問題があった。従って、本発明はこれらの問
題点を解決しようとするものであって、スリットグリル
を積層化構造とすることで、回収率を一定以上にし、ス
リットグリルの耐久性を向上させ、更にスプレー方向を
変更することで、小粒径基材へのコーティングも凝集が
発生することなくできるコーティング・造粒装置並びに
コーティング方法を提供することをその目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、流動層
内に回転テーブルとスリットグリルとを備え、加熱ガス
を流動層のガス流入口からガス供給室に流入させ、スリ
ットグリルを介して回転テーブルの下方から流動層内に
噴出させて粉末や微粒子を撹拌するように構成したコー
ティング・造粒装置において、上記スリットグリルを多
層化構造としたことを特徴とするコーティング・造粒装
置が提供される。
内に回転テーブルとスリットグリルとを備え、加熱ガス
を流動層のガス流入口からガス供給室に流入させ、スリ
ットグリルを介して回転テーブルの下方から流動層内に
噴出させて粉末や微粒子を撹拌するように構成したコー
ティング・造粒装置において、上記スリットグリルを多
層化構造としたことを特徴とするコーティング・造粒装
置が提供される。
【０００７】また、本発明によれば、好ましい態様とし
て、前記スリットグリルを３層化構造としたことを特徴
とするコーティング・造粒装置が提供され、更に前記ス
リットグリルにおいて、コーティング領域側を上層（１
層）とすると、上層（１層）が最も目開きが大きく、中
層（２層）が最も目開きが小さく、下層（３層）が上層
と中層の中間の目開きとなっていることを特徴とするコ
ーティング・造粒装置が提供される。
て、前記スリットグリルを３層化構造としたことを特徴
とするコーティング・造粒装置が提供され、更に前記ス
リットグリルにおいて、コーティング領域側を上層（１
層）とすると、上層（１層）が最も目開きが大きく、中
層（２層）が最も目開きが小さく、下層（３層）が上層
と中層の中間の目開きとなっていることを特徴とするコ
ーティング・造粒装置が提供される。
【０００８】また、本発明によれば、前記のコーティン
グ・造粒装置を用い、噴霧液滴をコーティング基材の粉
末及び微粒子の進行方向と同一方向に、且つ水平ライン
に対して＋５°〜−４０°の範囲に噴霧コーティングす
ることを特徴とする粉末及び微粒子のコーティング方法
が提供される。
グ・造粒装置を用い、噴霧液滴をコーティング基材の粉
末及び微粒子の進行方向と同一方向に、且つ水平ライン
に対して＋５°〜−４０°の範囲に噴霧コーティングす
ることを特徴とする粉末及び微粒子のコーティング方法
が提供される。
【０００９】更に、本発明によれば、好ましい態様とし
て、前記コーティング基材の粉末及び微粒子の粒子径
（重量径）が１０μｍ以上１００μｍ以下であることを
特徴とする粉末及び微粒子のコーティング方法が提供さ
れ、また、前記噴霧液滴の径（重量径）を２μｍ以上３
０μｍ以下とすることを特徴とする粉末及び微粒子のコ
ーティング方法が提供される。
て、前記コーティング基材の粉末及び微粒子の粒子径
（重量径）が１０μｍ以上１００μｍ以下であることを
特徴とする粉末及び微粒子のコーティング方法が提供さ
れ、また、前記噴霧液滴の径（重量径）を２μｍ以上３
０μｍ以下とすることを特徴とする粉末及び微粒子のコ
ーティング方法が提供される。
【００１０】以下、まず本発明のコーティング・造粒装
置について詳しく説明する。本発明の粉末・微粒子のコ
ーティング・造粒装置は、前記したように、流動層内に
回転テーブルとスリットグリルとを備え、加熱ガスを流
動層のガス流入口からガス供給室に流入させ、スリット
グリルを介して回転テーブルの下方から流動層内に噴出
させる装置において、上記スリットグリルを多層化構造
としたことを特徴とする。このスリットグリルは、コー
ティング領域側を上層（１層）とすれば、上層（１層）
が最も目開きが大きく、好ましくは４２メッシュ〜１２
０メッシュで、特に好ましくは６０メッシュ〜８０メッ
シュであり、メッシュの耐久性を向上することができ、
中層（２層）が最も目開きが小さく、好ましくは２８０
メッシュ〜６５０メッシュで、特に好ましくは３５０〜
４００メッシュであり、目詰まりを防止できる。スリッ
トグリルを３層化した場合は、下層（３層）は好ましく
は２８０メッシュ以上で、特に好ましくは１７０メッシ
ュ〜２００メッシュである。
置について詳しく説明する。本発明の粉末・微粒子のコ
ーティング・造粒装置は、前記したように、流動層内に
回転テーブルとスリットグリルとを備え、加熱ガスを流
動層のガス流入口からガス供給室に流入させ、スリット
グリルを介して回転テーブルの下方から流動層内に噴出
させる装置において、上記スリットグリルを多層化構造
としたことを特徴とする。このスリットグリルは、コー
ティング領域側を上層（１層）とすれば、上層（１層）
が最も目開きが大きく、好ましくは４２メッシュ〜１２
０メッシュで、特に好ましくは６０メッシュ〜８０メッ
シュであり、メッシュの耐久性を向上することができ、
中層（２層）が最も目開きが小さく、好ましくは２８０
メッシュ〜６５０メッシュで、特に好ましくは３５０〜
４００メッシュであり、目詰まりを防止できる。スリッ
トグリルを３層化した場合は、下層（３層）は好ましく
は２８０メッシュ以上で、特に好ましくは１７０メッシ
ュ〜２００メッシュである。
【００１１】すなわち、本発明のコーティング・造粒装
置は、スリットグリルを多層化構造とすることにより、
コーティング基材の粉末及び微粒子のスリットグリルへ
の目詰まり及びスリットグリルの通過を減らし、更にス
リットグリルの耐久性を向上させるものである。
置は、スリットグリルを多層化構造とすることにより、
コーティング基材の粉末及び微粒子のスリットグリルへ
の目詰まり及びスリットグリルの通過を減らし、更にス
リットグリルの耐久性を向上させるものである。
【００１２】前記上層（１層）が４２メッシュ以上とな
ると、メッシュをフェライトが通過してしまい、スリッ
トグリルの耐久性の効果を果たすことができず、逆に１
２０メッシュ以下とすると、目詰まりが発生してしま
う。中層（２層）が２８０メッシュ以上となると目詰ま
りが発生してしまい、６５０メッシュ以下にすると現行
のメッシュの標準外品となり、メッシュ張り替えコスト
が極端に上昇してしまう。下層（３層）が２８０メッシ
ュ以下となると、多層化の欠点である圧力損失が極端に
増加してしまう。
ると、メッシュをフェライトが通過してしまい、スリッ
トグリルの耐久性の効果を果たすことができず、逆に１
２０メッシュ以下とすると、目詰まりが発生してしま
う。中層（２層）が２８０メッシュ以上となると目詰ま
りが発生してしまい、６５０メッシュ以下にすると現行
のメッシュの標準外品となり、メッシュ張り替えコスト
が極端に上昇してしまう。下層（３層）が２８０メッシ
ュ以下となると、多層化の欠点である圧力損失が極端に
増加してしまう。
【００１３】図１は、本発明のコーティング・造粒装置
の要部を示しており、回転テーブル１と、その下方外周
部に設けたスリットグリル２とにより、装置本体３の底
部（造粒操作部４）を形成する。スリットグリル２下方
の加熱ガス供給室５に加熱ガス流入口６を装置本体３の
接線方向に接続する。７は回転テーブル１を回転させる
ためのモーターである。スリットグリルの要部を図２に
示す。図２において、（ａ）はスリットグリルの一部平
面図、（ｂ）はＢ−Ｂ´線拡大断面図、（ｃ）はメッシ
ュを３層張りした状態を示す（ｂ）のＣ−Ｃ´線拡大断
面図である。図中、２０１は密閉用ゴムリング装着溝、
２０２はメッシュ、２０３はスリットグリル固定用ネジ
穴、２０４は断面部であり、破線で表した２２２はスリ
ットグリル２が装着される際溝２０１に配置される密閉
用ゴムリングを示す。ゴムリング２２２を溝２０１に装
着することにより、流動層内から層外へ粉粒体が漏れる
のを防止することができる。
の要部を示しており、回転テーブル１と、その下方外周
部に設けたスリットグリル２とにより、装置本体３の底
部（造粒操作部４）を形成する。スリットグリル２下方
の加熱ガス供給室５に加熱ガス流入口６を装置本体３の
接線方向に接続する。７は回転テーブル１を回転させる
ためのモーターである。スリットグリルの要部を図２に
示す。図２において、（ａ）はスリットグリルの一部平
面図、（ｂ）はＢ−Ｂ´線拡大断面図、（ｃ）はメッシ
ュを３層張りした状態を示す（ｂ）のＣ−Ｃ´線拡大断
面図である。図中、２０１は密閉用ゴムリング装着溝、
２０２はメッシュ、２０３はスリットグリル固定用ネジ
穴、２０４は断面部であり、破線で表した２２２はスリ
ットグリル２が装着される際溝２０１に配置される密閉
用ゴムリングを示す。ゴムリング２２２を溝２０１に装
着することにより、流動層内から層外へ粉粒体が漏れる
のを防止することができる。
【００１４】スリットグリルの積層数（より正確には、
メッシュ２０３の積層数）は、コーティング基材の粉末
及び微粒子の粒度分布の比（体積平均径：Ｄｗ／個数平
均径：Ｄｐ）が大きいほど多くする。また、スリットグ
リルの目開きは体積平均径に応じて各層毎に決定し、粒
径が大きいほど目開きを大きく設定する。スリットグリ
ルを３層化構造とした場合は、体積平均粒径３０〜１０
０μｍ、Ｄｗ／Ｄｐ＝１．３〜１．６の粉末及び微粒子
の場合に一般に使用されるが、これらに限定されるもの
でない。
メッシュ２０３の積層数）は、コーティング基材の粉末
及び微粒子の粒度分布の比（体積平均径：Ｄｗ／個数平
均径：Ｄｐ）が大きいほど多くする。また、スリットグ
リルの目開きは体積平均径に応じて各層毎に決定し、粒
径が大きいほど目開きを大きく設定する。スリットグリ
ルを３層化構造とした場合は、体積平均粒径３０〜１０
０μｍ、Ｄｗ／Ｄｐ＝１．３〜１．６の粉末及び微粒子
の場合に一般に使用されるが、これらに限定されるもの
でない。
【００１５】次に、本発明のコーティング方法につい
て、詳しく説明する。本発明の粉末及び微粒子のコーテ
ィング方法は、前記したように、本発明のコーティング
・造粒装置を用い、噴霧液滴をコーティング基材の粉末
及び微粒子の進行方向と同一方向に、且つ水平ラインに
対して＋５°〜−４０°の範囲に噴霧コーティングする
ことを特徴とする。即ち、このコーティング方法は、噴
霧液滴をコーティング基材の粉末及び微粒子の進行方向
と同方向に、しかも水平ラインに対して＋５°〜−４０
°の範囲、好ましくは−１５°〜−３０°に噴霧コーテ
ィングする方法である。このコーティング方法のイメー
ジ図を図３及び図４に示す。図３が側面図、図４が平面
図である。
て、詳しく説明する。本発明の粉末及び微粒子のコーテ
ィング方法は、前記したように、本発明のコーティング
・造粒装置を用い、噴霧液滴をコーティング基材の粉末
及び微粒子の進行方向と同一方向に、且つ水平ラインに
対して＋５°〜−４０°の範囲に噴霧コーティングする
ことを特徴とする。即ち、このコーティング方法は、噴
霧液滴をコーティング基材の粉末及び微粒子の進行方向
と同方向に、しかも水平ラインに対して＋５°〜−４０
°の範囲、好ましくは−１５°〜−３０°に噴霧コーテ
ィングする方法である。このコーティング方法のイメー
ジ図を図３及び図４に示す。図３が側面図、図４が平面
図である。
【００１６】水平−４０°より低い噴霧方向となると、
スリットグリルへの樹脂コート溶液の付着があり、コー
ティング基材の粉末及び微粒子の流動を阻害する。ま
た、水平＋５°を越える噴霧方向であると、流動エアー
とのバランスで噴霧液滴がコーティング基材にコートさ
れない。
スリットグリルへの樹脂コート溶液の付着があり、コー
ティング基材の粉末及び微粒子の流動を阻害する。ま
た、水平＋５°を越える噴霧方向であると、流動エアー
とのバランスで噴霧液滴がコーティング基材にコートさ
れない。
【００１７】上記コーティング方法は、装置胴体下内部
に水平＋５°〜−４０°方向に噴霧する。そして、粒子
径（重量径）が１０μｍ以上１００μｍ以下であるコー
ティング基材の粉末及び微粒子へスプレーノズルから２
μｍ以上３０μｍ以下の液滴径で噴霧コーティングする
のが好ましい。噴霧液滴径は好ましくはコーティング基
材の粉末及び微粒子との比で１／１０〜１／１２であ
る。
に水平＋５°〜−４０°方向に噴霧する。そして、粒子
径（重量径）が１０μｍ以上１００μｍ以下であるコー
ティング基材の粉末及び微粒子へスプレーノズルから２
μｍ以上３０μｍ以下の液滴径で噴霧コーティングする
のが好ましい。噴霧液滴径は好ましくはコーティング基
材の粉末及び微粒子との比で１／１０〜１／１２であ
る。
【００１８】噴霧液滴径が３０μｍを超えると、固体粒
子表面上に形成された乾燥後の膜が大きな凹凸として存
在するため不均一なコート膜となる。また、突起膜部分
では乾燥しにくくなるため、他コーティング基材を接触
時に接合して凝集体となる。また、噴霧液滴径が大きい
ため、所望のコーティング膜厚が得られなかったり、膜
厚のばらつきが生じることもある。一方、噴霧液滴径が
２μｍ未満になると、噴霧後液滴中の溶媒分が瞬時に蒸
発して（乾燥速度の増大による）固形化し、膜化しにく
くなる。このため、コート液中の樹脂分が乾燥粒子とな
り、飛散物或いはカスとして内壁部へ付着したり、排気
側へ飛び、回収率低下の原因となることもある。なお、
本発明のコーティング造粒装置の概要図を図５に、従来
法によるコーティング造粒装置の概要図を図６に示す。
子表面上に形成された乾燥後の膜が大きな凹凸として存
在するため不均一なコート膜となる。また、突起膜部分
では乾燥しにくくなるため、他コーティング基材を接触
時に接合して凝集体となる。また、噴霧液滴径が大きい
ため、所望のコーティング膜厚が得られなかったり、膜
厚のばらつきが生じることもある。一方、噴霧液滴径が
２μｍ未満になると、噴霧後液滴中の溶媒分が瞬時に蒸
発して（乾燥速度の増大による）固形化し、膜化しにく
くなる。このため、コート液中の樹脂分が乾燥粒子とな
り、飛散物或いはカスとして内壁部へ付着したり、排気
側へ飛び、回収率低下の原因となることもある。なお、
本発明のコーティング造粒装置の概要図を図５に、従来
法によるコーティング造粒装置の概要図を図６に示す。
【００１９】
【実施例】次に、本発明を実施例により更に詳細に説明
する。まず、各実施例に共通の固定条件を示すと、以下
の通りである。 コーティング・造粒装置：（株）岡田精工社製「スピ
ラコーターＳＰ−４０」 使用コート液：２０％の樹脂溶液（溶媒はトルエン、
メタノール等の溶剤） 処理量（１回／バッチ）：５ｋｇ その他：回転テーブルの回転数は２００ｒｐｍとす
る。コーティング基材はフェライトとする。
する。まず、各実施例に共通の固定条件を示すと、以下
の通りである。 コーティング・造粒装置：（株）岡田精工社製「スピ
ラコーターＳＰ−４０」 使用コート液：２０％の樹脂溶液（溶媒はトルエン、
メタノール等の溶剤） 処理量（１回／バッチ）：５ｋｇ その他：回転テーブルの回転数は２００ｒｐｍとす
る。コーティング基材はフェライトとする。
【００２０】実施例１ 本発明の装置を使用し、前記固定条件にてコート液をフ
ェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲３０〜
１００μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを
得た。スリットグリルは３層化構造として、上層を７０
メッシュ、中層を４００メッシュ、下層を２００メッシ
ュとし、スプレー方式は接線スプレー式とした（方向：
水平−１０°）。コート層は膜厚０．８μｍを目標とし
てＸ線にて膜厚を計測した。凝集発生量は０％を目標と
し、スリットグリルの耐久性（目詰まり）は同条件連続
１０バッチ処理後のスリットグリル下部の圧力損失で比
較した。また、噴射液滴径は５μｍとした。
ェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲３０〜
１００μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを
得た。スリットグリルは３層化構造として、上層を７０
メッシュ、中層を４００メッシュ、下層を２００メッシ
ュとし、スプレー方式は接線スプレー式とした（方向：
水平−１０°）。コート層は膜厚０．８μｍを目標とし
てＸ線にて膜厚を計測した。凝集発生量は０％を目標と
し、スリットグリルの耐久性（目詰まり）は同条件連続
１０バッチ処理後のスリットグリル下部の圧力損失で比
較した。また、噴射液滴径は５μｍとした。
【００２１】実施例２ 本発明の装置を使用し、前記固定条件にてコート液をフ
ェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲７０〜
１１０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを
得た。スリットグリルは２層化構造として、上層を７０
メッシュ、下層を２４５メッシュとし、スプレー方式は
接線スプレー式とした（方向：＋５°）。コート層は膜
厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝
集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性
（目詰まり）は同条件連続１０バッチ処理後のスリット
グリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は
３０μｍとした。
ェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲７０〜
１１０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを
得た。スリットグリルは２層化構造として、上層を７０
メッシュ、下層を２４５メッシュとし、スプレー方式は
接線スプレー式とした（方向：＋５°）。コート層は膜
厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝
集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性
（目詰まり）は同条件連続１０バッチ処理後のスリット
グリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は
３０μｍとした。
【００２２】実施例３ 本発明の装置を使用し、前記固定条件にてコート液をフ
ェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範囲１５〜
６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを得
た。スリットグリルは３層化構造として、上層を８０メ
ッシュ、中層を６５０メッシュ、下層を２４５メッシュ
とし、スプレー方式は接線スプレー式とした（方向：−
３０°）。コート層は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線
にて膜厚を計測した。凝集発生量は０％を目標とし、ス
リットグリルの耐久性（目詰まり）は同条件連続１０バ
ッチ処理後のスリットグリル下部の圧力損失で比較し
た。また、噴射液滴径は２μｍとした。
ェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範囲１５〜
６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを得
た。スリットグリルは３層化構造として、上層を８０メ
ッシュ、中層を６５０メッシュ、下層を２４５メッシュ
とし、スプレー方式は接線スプレー式とした（方向：−
３０°）。コート層は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線
にて膜厚を計測した。凝集発生量は０％を目標とし、ス
リットグリルの耐久性（目詰まり）は同条件連続１０バ
ッチ処理後のスリットグリル下部の圧力損失で比較し
た。また、噴射液滴径は２μｍとした。
【００２３】実施例４ 本発明の装置を使用し、前記固定条件にてコート液をフ
ェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲４０〜
６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを得
た。スリットグリルは２層化構造として、上層を７０メ
ッシュ、下層を４００メッシュ、スプレー方式は接線ス
プレー式とした（方向：＋５°）。コート層は膜厚０．
８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝集発生
量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性（目詰ま
り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリットグリル下
部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は１０μｍ
とした。
ェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲４０〜
６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを得
た。スリットグリルは２層化構造として、上層を７０メ
ッシュ、下層を４００メッシュ、スプレー方式は接線ス
プレー式とした（方向：＋５°）。コート層は膜厚０．
８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝集発生
量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性（目詰ま
り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリットグリル下
部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は１０μｍ
とした。
【００２４】実施例５ 本発明の装置を使用し、前記固定条件にてコート液をフ
ェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲５０〜
１３０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを
得た。スリットグリルは３層化構造として、上層を７０
メッシュ、中層を４００メッシュ、下層を２００メッシ
ュとし、スプレー方式は接線スプレー式とした（方向：
−４０°）。コート層は膜厚０．８μｍを目標としてＸ
線にて膜厚を計測した。凝集発生量は０％を目標とし、
スリットグリルの耐久性（目詰まり）は同条件連続１０
バッチ処理後のスリットグリル下部の圧力損失で比較し
た。また、噴射液滴径は１５μｍとした。
ェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲５０〜
１３０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを
得た。スリットグリルは３層化構造として、上層を７０
メッシュ、中層を４００メッシュ、下層を２００メッシ
ュとし、スプレー方式は接線スプレー式とした（方向：
−４０°）。コート層は膜厚０．８μｍを目標としてＸ
線にて膜厚を計測した。凝集発生量は０％を目標とし、
スリットグリルの耐久性（目詰まり）は同条件連続１０
バッチ処理後のスリットグリル下部の圧力損失で比較し
た。また、噴射液滴径は１５μｍとした。
【００２５】実施例６ 本発明の装置を使用し、前記固定条件にてコート液をフ
ェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範囲２０〜
４０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを得
た。スリットグリルは２層化構造として、上層を８０メ
ッシュ、下層を６５０メッシュ、スプレー方式は接線ス
プレー式とした（方向：−１５°）。コート層は膜厚
０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝集
発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性（目
詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリットグリル
下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は５μｍ
とした。
ェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範囲２０〜
４０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリアを得
た。スリットグリルは２層化構造として、上層を８０メ
ッシュ、下層を６５０メッシュ、スプレー方式は接線ス
プレー式とした（方向：−１５°）。コート層は膜厚
０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝集
発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性（目
詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリットグリル
下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は５μｍ
とした。
【００２６】比較例１ スリットグリルが単層構造である点以外は、本発明の装
置と同型の装置を使用し、前記固定条件にてコート液を
フェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲３０
〜１００μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリア
を得た。スリットグリルのガイド部は単層２００メッシ
ュとし、スプレー方式はトップスプレー式とした。コー
ト層は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測
した。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの
耐久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリ
ットグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴
径は３５μｍとした。
置と同型の装置を使用し、前記固定条件にてコート液を
フェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲３０
〜１００μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリア
を得た。スリットグリルのガイド部は単層２００メッシ
ュとし、スプレー方式はトップスプレー式とした。コー
ト層は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測
した。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの
耐久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリ
ットグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴
径は３５μｍとした。
【００２７】比較例２ 比較例１と同じ装置を使用し、前記固定条件にてコート
液をフェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲
７０〜１１０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２００メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は１μｍとした。
液をフェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲
７０〜１１０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２００メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は１μｍとした。
【００２８】比較例３ 比較例１と同型の装置を使用し、前記固定条件にてコー
ト液をフェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範
囲１５〜６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２８０メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は３２μｍとした。
ト液をフェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範
囲１５〜６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２８０メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は３２μｍとした。
【００２９】比較例４ 比較例１と同じ装置を使用し、前記固定条件にてコート
液をフェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲
４０〜６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリ
アを得た。スリットグリルは単層２００メッシュ、スプ
レー方式はトップスプレー式とした。コート層は膜厚
０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝集
発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性（目
詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリットグリル
下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は１μｍ
とした。
液をフェライト表面（平均粒径５０μｍ、粒径分布範囲
４０〜６０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャリ
アを得た。スリットグリルは単層２００メッシュ、スプ
レー方式はトップスプレー式とした。コート層は膜厚
０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測した。凝集
発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐久性（目
詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリットグリル
下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径は１μｍ
とした。
【００３０】比較例５ 比較例１と同じ装置を使用し、前記固定条件にてコート
液をフェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲
５０〜１３０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２００メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は５０μｍとした。
液をフェライト表面（平均粒径９０μｍ、粒径分布範囲
５０〜１３０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２００メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は５０μｍとした。
【００３１】比較例６ 比較例１と同型の装置を使用し、前記固定条件にてコー
ト液をフェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範
囲２０〜４０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２８０メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は１μｍとした。
ト液をフェライト表面（平均粒径３０μｍ、粒径分布範
囲２０〜４０μｍ）に塗布し、シリコーン樹脂被覆キャ
リアを得た。スリットグリルは単層２８０メッシュと
し、スプレー方式はトップスプレー式とした。コート層
は膜厚０．８μｍを目標としてＸ線にて膜厚を計測し
た。凝集発生量は０％を目標とし、スリットグリルの耐
久性（目詰り）は同条件連続１０バッチ処理後のスリッ
トグリル下部の圧力損失で比較した。また、噴射液滴径
は１μｍとした。
【００３２】以上の実施例１〜６及び比較例１〜６の結
果を表１に示す。
果を表１に示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】
【発明の効果】本発明のコーティング・造粒装置及びコ
ーティング方法によれば、スリットグリルの使用耐久性
を向上させること（目詰まり防止）ができるとともにコ
ーティング基材の粉末や微粒子が小粒径化したとして
も、一定以上の回収率を確保できる。更に、粒径が大き
い場合と同等のコート品質を得られ、コート膜厚も均一
化し、付着効率も向上する。また、凝集もほとんど発生
しない。
ーティング方法によれば、スリットグリルの使用耐久性
を向上させること（目詰まり防止）ができるとともにコ
ーティング基材の粉末や微粒子が小粒径化したとして
も、一定以上の回収率を確保できる。更に、粒径が大き
い場合と同等のコート品質を得られ、コート膜厚も均一
化し、付着効率も向上する。また、凝集もほとんど発生
しない。
【図１】本発明のコーティング・造粒装置の要部断面図
である。
である。
【図２】スリットグリルの概略図であり、（ａ）が一部
平面図、（ｂ）が（ａ）のＢ−Ｂ´線拡大断面図、
（ｃ）が（ｂ）のＣ−Ｃ´線拡大断面図である。
平面図、（ｂ）が（ａ）のＢ−Ｂ´線拡大断面図、
（ｃ）が（ｂ）のＣ−Ｃ´線拡大断面図である。
【図３】噴霧方式についての概略説明図である。
【図４】図３の平面図である。
【図５】本発明のコーティング・造粒装置の概略説明図
である。
である。
【図６】従来のコーティング・造粒装置の概略説明図で
ある。
ある。
１ 回転テーブル ２ スリットグリル ３ コーティング・造粒装置本体 ４ 造粒操作部 ５ 加熱ガス供給室 ６ 加熱ガス流入口 ７ モーター ８ 粉体流動層 ９ 液ポンプ １０ スプレーノズル １１ 調湿装置 １２ ブロワー １３ エアー供給管 １４ 排気管 １５ サイクロン ２０１ 密閉用ゴムリング装置溝 ２０２ メッシュ ２０３ スリットグリル ２０４ 断面図 ２２２ 密閉用ゴムリング
Claims (6)
- 【請求項１】 流動層内に回転テーブルとスリットグリ
ルとを備え、加熱ガスを流動層のガス流入口からガス供
給室に流入させ、スリットグリルを介して回転テーブル
の下方から流動層内に噴出させて粉末や微粒子を撹拌す
るように構成したコーティング・造粒装置において、上
記スリットグリルを多層化構造としたことを特徴とする
コーティング・造粒装置。 - 【請求項２】 請求項１記載のコーティング・造粒装置
において、スリットグリルを３層化構造としたことを特
徴とするコーティング・造粒装置。 - 【請求項３】 請求項１記載のスリットグリルにおい
て、コーティング領域側を上層（１層）とすると、上層
（１層）が最も目開きが大きく、中層（２層）が最も目
開きが小さく、下層（３層）が上層と中層の中間の目開
きとなっていることを特徴とするコーティング・造粒装
置。 - 【請求項４】 請求項１記載のコーティング・造粒装置
を用い、噴霧液滴をコーティング基材の粉末及び微粒子
の進行方向と同一方向に、且つ水平ラインに対して＋５
°〜−４０°の範囲に噴霧コーティングすることを特徴
とする粉末及び微粒子のコーティング方法。 - 【請求項５】 請求項４のコーティング方法において、
コーティング基材の粉末及び微粒子の粒子径（重量径）
が１０μｍ以上１００μｍ以下であることを特徴とする
粉末及び微粒子のコーティング方法。 - 【請求項６】 請求項４のコーティング方法において、
噴霧液滴の径（重量径）を２μｍ以上３０μｍ以下とす
ることを特徴とする粉末及び微粒子のコーティング方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34009894A JP3594677B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 微粒子のスプレー方式のコーティング・造粒装置及びスプレー方式のコーティング方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP34009894A JP3594677B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 微粒子のスプレー方式のコーティング・造粒装置及びスプレー方式のコーティング方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08173790A true JPH08173790A (ja) | 1996-07-09 |
| JP3594677B2 JP3594677B2 (ja) | 2004-12-02 |
Family
ID=18333702
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP34009894A Expired - Lifetime JP3594677B2 (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 微粒子のスプレー方式のコーティング・造粒装置及びスプレー方式のコーティング方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3594677B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109351280A (zh) * | 2018-11-09 | 2019-02-19 | 安徽翔丰再生能源有限公司 | 一种制粒机 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS492775A (ja) * | 1972-04-28 | 1974-01-11 | ||
| JPS4926365A (ja) * | 1972-07-04 | 1974-03-08 | ||
| JPS5022505B1 (ja) * | 1968-07-26 | 1975-07-31 | ||
| JPS62130726U (ja) * | 1986-02-04 | 1987-08-18 | ||
| JPH05103971A (ja) * | 1991-03-19 | 1993-04-27 | Glatt Gmbh | 微粒子に粉末を被覆することにより顆粒を製造する装置および方法 |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP34009894A patent/JP3594677B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5022505B1 (ja) * | 1968-07-26 | 1975-07-31 | ||
| JPS492775A (ja) * | 1972-04-28 | 1974-01-11 | ||
| JPS4926365A (ja) * | 1972-07-04 | 1974-03-08 | ||
| JPS62130726U (ja) * | 1986-02-04 | 1987-08-18 | ||
| JPH05103971A (ja) * | 1991-03-19 | 1993-04-27 | Glatt Gmbh | 微粒子に粉末を被覆することにより顆粒を製造する装置および方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN109351280A (zh) * | 2018-11-09 | 2019-02-19 | 安徽翔丰再生能源有限公司 | 一种制粒机 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3594677B2 (ja) | 2004-12-02 |
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