JPH08171996A - X線撮像装置およびx線撮像方法 - Google Patents

X線撮像装置およびx線撮像方法

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JPH08171996A
JPH08171996A JP6314625A JP31462594A JPH08171996A JP H08171996 A JPH08171996 A JP H08171996A JP 6314625 A JP6314625 A JP 6314625A JP 31462594 A JP31462594 A JP 31462594A JP H08171996 A JPH08171996 A JP H08171996A
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JP
Japan
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image
ccd camera
exposure amount
density
density histogram
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Application number
JP6314625A
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English (en)
Inventor
Michiya Yokota
道也 横田
Shinichi Kato
真一 加藤
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Seikosha KK
Original Assignee
Seikosha KK
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Filing date
Publication date
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  • X-Ray Techniques (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 多数のフィルター材を用いることなく鮮明な
画像を得ることができるX線撮像装置およびX線撮像方
法を提供することにある。 【構成】 当初、CCDカメラ部4にハーレーションが
生じないように露光量を最小に設定し、ヒストグラム処
理部7によりCCD42の各画素の出力についての濃度
ヒストグラムを作成する。露光量調整部8はこれに基づ
いてハーレーションが起こらない範囲で最大の露光量を
自動的に調整する。このため、従来のようにX線量を調
整するためのフィルタ材を用いることなく、ハーレーシ
ョンを防ぎ、それによる画像の滲みを無くすことができ
る。また、コントラスト処理部9は露光量設定後に得ら
れた濃度ヒストグラムよりコントラスト情報を得、画像
生成部10は、これに応じた回数だけ、1フレーム毎に
得られるCCD42の各画素の濃度情報を各画素毎に積
算する。このため、フレーム毎のホワイトノイズは積算
により抑制され、被写体の鮮明な像が得られる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はX線撮像装置に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】現在、X線を用いて被写体の内部構造を
撮像するX線撮像装置が、製造、医療など、各分野で利
用されている。このようなX線撮像装置は、被写体にX
線を照射するX線照射手段と、被写体側からのX線を可
視光に変換するX線可視光変換器(例えば、X線を受け
て発光を呈する蛍光面を有し、この蛍光面の像を増倍さ
せるイメージインテンシファイア装置等よりなる。)
と、このX線可視光変換器と光学的に結合されたビデオ
カメラ装置とにより構成される。
【0003】このようなX線撮像装置は、例えば、電子
部品を実装するプリント基板の製造工程に用いられる。
すなわち、プリント基板の製造工程にあっては、一般に
多数の穴開け工程を有するものであるが、多層基板のよ
うに基板内部に配線パターンを有するプリント基板で
は、その際の穴開け位置指定用の基準マークも基板内部
に設けられており、このような基準マークを検出するた
め、プリント基板を上述のようなX線撮像装置により撮
像するのである。つまり、この撮影画像を処理すること
により基準マークが検出され、プリント基板の穴開けが
行われるのである。
【0004】このようなものでは、被写体、例えば、プ
リント基板によって肉厚が異なることや、被写体のサイ
ズ、ここでは、既に基準マークの周囲に穴が開けられて
いること等により、X線可視光変換器に入射するX線量
は変動するため、適正な露光量が得られず、ビデオカメ
ラ装置等に用いられるCCD(charge coup
led device)等の撮像素子上に残像(焼付
き、ハーレーション)、オーバーフロー等が起こり、適
正な画像が得られないことがある。これを避けるため、
被写体とX線可視光変換器との間に均一の厚さのフィル
ター材を挿入してX線可視光変換器に入射するX線量を
加減していた。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うなものでは、フィルター材を用いることにより、コン
トラストの低下を招いてしまい、鮮明な画像が得られな
いこととなる。
【0006】また、自動的に多数のフィルター材を選択
的に抜き差しする機構を設けることはコストの増加を招
くこととなり、マニュアル操作でフィルター材を抜き差
しすることが一般的であり、使用するフィルター材の数
も数種類と限られていた。このため、X線可視光変換器
に入射するX線量の変動に応じて、常に適当なX線量を
設定することができないため、適正な画像が得られなか
った。
【0007】そこで、本発明の目的は、多数のフィルタ
ー材を用いることなく鮮明な画像を得ることができるX
線撮像装置およびX線撮像方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】被写体にX線を照射する
X線照射手段と、上記被写体を介した上記X線を可視光
に変換する変換手段と、上記変換手段からの可視光を受
けるCCDカメラ手段と、上記CCDカメラ手段の出力
する像の濃度ヒストグラムを作成する第1処理手段と、
第1処理手段の出力する上記濃度ヒストグラムに基づい
て上記CCDカメラ手段の露光量を調整する露光量調整
手段と、この露光量調節手段による上記露光量調整後に
おける、第1処理手段の出力する濃度ヒストグラムに基
づいて上記CCDカメラ手段の出力する像のコントラス
ト情報を得る第2処理手段と、第2処理手段の出力する
コントラスト情報に応じた回数だけ上記CCDカメラ手
段の出力する像を繰り返し積算して被写体の画像を得る
処理手段とを具備したX線撮像装置を構成することによ
り上記目的を達成する。
【0009】すなわち、被写体にX線を照射し、上記被
写体を介した上記X線を可視光に変換し、上記可視光を
CCDカメラ手段により受け、このCCDカメラ手段が
出力する像の濃度ヒストグラムを作成し、上記濃度ヒス
トグラムに基づいて上記CCDカメラ手段の露光量を調
整し、上記露光量調整後における、濃度ヒストグラムに
基づいて上記CCDカメラ手段が出力する像のコントラ
スト情報を得て、コントラスト情報に応じた回数だけ上
記CCDカメラ手段が出力する像を繰り返し積算して被
写体の画像を得るのである。
【0010】ここで、上記露光量調整手段は上記CCD
カメラのシャッタ速度および/または絞り量を調整する
ことにより上記CCDカメラ手段の露光量を調整するこ
とが好ましい。
【0011】
【実施例】次に本発明の一実施例のX線撮像装置につい
て説明する。本例のX線撮像装置は穴開け位置指定用の
基準マークを基板内部に設けたプリント基板に穴開けを
行う穴開け装置に用いられるものであり、その構成を図
1のブロック図に示す。同図において1はX線照射手段
としてのX線照射部であり、2は被写体としてのプリン
ト基板である。
【0012】3は変換手段としてのX線可視光変換部で
あり、詳しくは図示しないが、X線を受けて発光する蛍
光面と、この蛍光面の像を増幅するイメージインテンシ
ファイア装置(国内では例えば、浜松ホトニクス(株)
製のV1366P型イメージインテンシファイア装置等
がある。)とを後述するCCDカメラ部との結合部を除
いて、アルミ材等よりなる可視光シールド容器で覆った
ものである。
【0013】4はCCDカメラ部であり、X線可視光変
換部3と光学的に結合されており、X線可視光変換部3
からの像を撮影する。このCCDカメラ部4は、レンズ
機構4L、絞り機構4Iとからなる光学部41と、受像
用のCCD42とからなり、光学部41においては、レ
ンズ機構4Lによるフォーカシング、絞り機構4Iによ
る絞り量調節が行われ、CCD42においては、受光時
間、すなわち、シャッタ速度の調整が可能である。ここ
で、CCD42としては、1フレーム毎の電荷搬送時間
が1/30SECであり、受光時間は1/30SEC〜1/2
000SECの範囲で調節可能なものを用いることとす
る。
【0014】5はログアンプであり、CCDカメラ部4
の出力を対数増加的に増幅する。なお、ここでログアン
プ5はCCD42の各画素の濃度を限られたビット数で
表すためにCCDカメラ部4の出力のダイナミックレン
ジを圧縮するためのものであり、十分なビット数を用い
るのであれば、特にここでログアンプを用いる必要はな
い。
【0015】6はA/Dコンバータであり、CCDカメ
ラ部4の出力を受け、CCD42の画素毎にその明暗の
濃度を所定のビット数で量子化し、明暗の濃度に関する
濃度情報を出力する。
【0016】7は第1処理手段としてのヒストグラム処
理部であり、A/Dコンバータ6の出力する濃度情報を
受け、全画素に渡り、濃度ヒストグラムを作成する。具
体的には、例えば、濃度毎に割り当てられた記憶領域
(ここでは、濃度情報のビット数がNビットであれば、
0〜2N−1の記憶領域を設けることとする。なお、こ
れよりも粗く区分してもよい。)を設け、1フレーム分
のA/Dコンバータ6の出力を濃度毎に弁別して各濃度
の画素数を対応する記憶領域に加算して行き、濃度情報
の値と、その頻度(最大値はCCD42の画素数)との
対応を示すデータテーブルを作成する。
【0017】8は露光量調整手段としての露光量調整部
であり、絞り量を制御する絞り量制御回路81と、CC
D42の受光時間、すなわちシャッタ速度を制御するシ
ャッタ速度制御回路82とからなる。
【0018】9は第2処理手段としてのコントラスト処
理部であり、ヒストグラム処理部8により作成された濃
度ヒストグラムに基づいてコントラスト情報を得る。こ
こで、コントラスト情報としてはCTF(contra
st transfer function)に相当す
るものを用いることとする。
【0019】10は画像生成手段としての画像生成部で
あり、各画素毎に濃度情報を納める画像メモリ101
と、加算回路102とからなる。加算回路102はA/
Dコンバータ6からの新たな濃度情報と画像メモリに既
に納められた濃度情報とを各画素毎に加算して画像メモ
リ101に出力するものである。これらにより、画像生
成部10はA/Dコンバータ6の逐次出力する濃度情報
を各画素毎に、コントラスト処理部のコントラスト情報
に応じた回数だけ繰り返し積算して被写体の画像を得
る。
【0020】11は制御部であり、CPU、RAM、R
OM等よりなり、上述の各部を制御し、後述する本例の
動作を実行させる。
【0021】12は穴開け装置であり、画像生成部10
からの画像を受け、穴開け位置指定用の基準マークの特
定等を行う画像処理部121と、プリント基板2の位置
決め、穴開け等を行う機械体部122と、これらを制御
する装置制御部123とからなる。
【0022】次に本例の動作について説明する。まず、
動作の概要について述べると、本例の動作の最初の段階
は、初期動作であり、プリント基板2のセット、絞り
量、シャッタ速度の初期化等を行う。次の段階はX線撮
像動作であり、X線をプリント基板2に照射し、プリン
ト基板2を透過したX線をX線可視光変換部3により可
視光に変換し、これをCCDカメラ部4にて撮像する。
後述するように、ここでは、CCDカメラ部4の1フレ
ーム分の出力より得られるCCD42の各画素の濃度情
報より濃度ヒストグラムが逐次作成されるのである。次
の段階は、CCD42のハーレーションを防ぐための露
光量調整動作であり、この動作では、まず、露光量を最
小とし、CCD42の各画素の明暗の濃度についての濃
度ヒストグラムを参照し、これに従い、この濃度ヒスト
グラムの最も明るい値が丁度、濃度情報の最大値YMAX
に納まるように露光量を調整するものであり、これによ
り、ハーレーションを防ぐのである。次の段階は、露光
量が調整された後の濃度ヒストグラムより得られたコン
トラスト情報により、CCDカメラ4より逐次送られて
くる出力を各画素に渡り積算して被写体の像を得る際の
積算回数を得る積算回数設定動作であり、その次の段階
の画像生成動作では、先に定められた積算回数に従って
CCDカメラ4よりの出力は各画素に渡り積算され、こ
のときホワイトノイズは積算により除去され、必要な像
が鮮明に得られるのである。
【0023】以上のように得られた画像は穴開け装置1
2に送られ、穴開け動作等が行われるのである。
【0024】次に、以上の動作の詳細について図1のブ
ロック図と図2のフローチャートとを参照しながら述べ
る。まず、初期動作が行われ、プリント基板2が所定の
位置(図示せず。)にセットされ(ステップ1a)、X
線照射部1がスタンバイ状態とされる(ステップ1
b)。また、制御部11は、絞り量制御回路81、シャ
ッタ速度制御回路82にリセットを指示する。これによ
り、絞り量制御回路81は絞り機構4Iを駆動して絞り
量を最小開放面積に相当する値A0に設定し、シャッタ
速度制御回路82はCCD42の受光時間を最小の値t
0に設定する(ステップ1c)。
【0025】次にX線撮像動作が開始され、プリント基
板2にX線を照射する(ステップ1d)。これにより、
プリント基板2を透過したX線はX線可視光変換部41
により可視光に変換され、CCDカメラ部4の光学部4
1に入射し、CCD42の受光面(図示せず。)に像を
結ぶ(ステップ1e)。CCDカメラ部4は、1フレー
ム当たり1/30SECで、各画素の電荷を出力し、これ
らはログアンプ5により増幅された後A/Dコンバータ
6により量子化され、Nビットの濃度情報として出力さ
れる(ステップ1f)。 A/Dコンバータ6からの1
フレーム分の濃度情報はヒストグラム処理部7に納めら
れ、図4aに示すような濃度ヒストグラムが作成される
(ステップ1g)。同図において横軸は濃度(濃度情報
の値)を表し、その範囲、すなわち濃度表現域は、Nビ
ットで表し得る値0〜2N−1までであり、縦軸は頻度
(最大値はCCD42の画素数)を表す。これは実際に
は濃度、頻度のデータテーブルとして作成される。この
ような濃度ヒストグラムにより露光量が調整される。す
なわち、後述するように、絞り量、シャッタ速度が設定
される。
【0026】次に、露光量調整動作に移り、まず、絞り
量設定動作が行われる(ステップ1h)。この絞り量設
定動作については、図3のフローチャートおよび図4を
参照しながら詳細に述べる。
【0027】絞り量設定動作が開始されると、まず、制
御部11は濃度ヒストグラムを参照する(ステップ1h
1)。ここで、露光量調整されていない初期の状態にお
いて、最も明るい濃度情報の値、最明値Y0を特定する
(ステップ1h2)。また、濃度情報の取り得る最も明
るい値YMAX(2N−1)の頻度が所定の値(例えば、画
素数の10%)を越えているか否か判定する(ステップ
1h3)。もし、ここで、所定の値を越えていれば、露
光オーバーにより処理不能な場合として動作を中止する
(ステップ1h4)。
【0028】次に、制御部11は、絞り量変更信号を発
生し、絞り量制御回路81は絞り機構4Iを開放側に1
ステップ変更する(ステップ1h5)。すなわち、後述
するように、絞り機構4Iを駆動して絞り量を変化させ
た後に得られた新たな濃度ヒストグラムを参照すること
により、絞り量と濃度ヒストグラムにおける最も明るい
濃度情報の値、最明値との相関関係を得て露光オーバー
とならない最適な絞り量を決定するためである。ここ
で、1回目の1ステップあたりの絞り量変化をδA1
(後述するが、n回目の1ステップあたりの絞り量変化
はδAnとする。)とすると現在の絞り量はA=A0+
δA1となる。これによって、この後に得られる濃度ヒ
ストグラムは、例えば、図4bの実線に示すように更新
されたものとなる。 次に、濃度ヒストグラム(図4b
の実線に示す。)を参照し(ステップ1h6)、最明値
Y1(後述するが、n回目の絞り量変更の後の最明値は
Ynと示す。)を特定する(ステップ1h7)。ここ
で、最初に得られた濃度ヒストグラムにおける最明値Y
0と、今回得られた濃度ヒストグラムにおける最明値Y
1との差、最明値変化δYを算出する(ステップ1h
8)。
【0029】次に、制御部11は、最明値変化δYが所
定の値を超過したか否か判定する(ステップ1h9)。
【0030】ここで、最明値変化δYが所定の値より小
さいと判定されると、ステップ1h5〜1h9の動作を
繰り返し行う。なお、図3のフローチャートでは、この
ステップ1h5〜1h9の動作を行った回数をnで示し
てあり、最明値変化δYが所定の値より小さいと判定さ
れた後nを1増すこととし、ここでは2としている(ス
テップ1h10)。ステップ1h5〜1h9の動作が開
始されると、再び制御部11は、絞り量変更信号を発生
し、絞り量制御回路81は絞り機構4Iを開放側にさら
に1ステップ変更する。ここで、今回の1ステップ駆動
の絞り量変化をδA2とすると、絞り量A=A0+δA
1+δA2となり、再び濃度ヒストグラムを参照し(ス
テップ1h5)、このときの最も明るい値Y2と最初の
ヒストグラムにおける最も明るい値Y0とから新たに、
最明値変化δYを得る(ステップ1h7)。すなわち、
最明値変化δYが所定の値以上になるまでこれらステッ
プ1h5〜1h9の動作は繰り返される。ここで、最明
値変化δYは、n回目に得られたヒストグラムにおける
最も明るい値をYnとすると、δY=Yn−Y0となる
(ステップ1h8)。
【0031】さて、最明値変化δYが所定の値以上と判
定されれば、露光オーバーとならない最適な理論絞り量
Aを決定する。すなわち、濃度ヒストグラムにおける最
明値が取り得る最も明るい値、図4に示すYMAXと一致
させ、濃度ヒストグラムが図4bの破線に示すように濃
度表現域(Nビットで表し得る値0〜2N−1まで)の
全体に分布するような絞り量を得るのである。この理論
絞り量Aは、濃度ヒストグラムの最明値と絞り量の関係
から、A=(YMAX−Y0)δA/δY+A0(A0は
初期の絞り量)で与えられる。これを算定するため、ま
ず、n回目の1ステップ変更による絞り量変化をδAn
として、最終的な絞り量の変化δAをδA=δA1+δ
A2+・・・+δAnとして算定する(ステップ1h1
1)。次に、これを用いて理論絞り量Aを算定する(ス
テップ1h12)。
【0032】次に、ここで算出された理論絞り量Aが絞
り機構4Iにより実現できるか否か判定し、絞り機構4
Iを駆動して絞り量を設定する。すなわち、理論絞り量
Aが絞り機構4Iにより実現できる絞り量、すなわち、
絞り機構4Iの最も開放側の絞り量を越えているか否か
判定する(ステップ1h13)。ここで、越えていると
判定されれば、絞り機構4Iの最も開放側の絞り量に設
定する(ステップ1h14)。また、越えていないと判
定されれば、理論絞り量Aにもっとも近くかつこれより
開放側にならない値まで、絞り機構4Iを駆動して絞り
量を設定する(ステップ1h5)。なお、絞り機構4I
により実現できる絞り量は、1ステップ毎に制御部11
のROM内のデータテーブル(図示せず。)に予められ
ており、これを参照することとする。
【0033】以上のように絞り量が設定されると、次に
シャッタ速度の設定動作が開始される。この動作は、絞
り量設定後の露光量不足を補うものであり、ここでも濃
度ヒストグラムの最も明るい値と受光時間との相関関係
から最も適当な受光時間、すなわちシャッタ速度を設定
するのであり、このシャッタ速度設定動作については図
5のフローチャートを参照しながら説明する。
【0034】まず、濃度ヒストグラムを参照し(ステッ
プ1i1)、このシャッタ速度設定動作初期の濃度ヒス
トグラムの最明値y0を特定する(ステップ1i2)。
なお、絞り量は上記の如く設定されており、シャッタ速
度は、初期動作において、最速に、すなわち、CCD4
2の受光時間が最小の値t0(ここでは、1/2000
SEC)に設定されている。次に、シャッタ速度制御回路
82により、受光時間をδt1だけ増加させて(ステッ
プ1i3)、再び濃度ヒストグラムを参照し(ステップ
1i4)、最明値y1を特定する(ステップ1i5)。
次に、このシャッタ速度設定動作において最初に得られ
た濃度ヒストグラムにおける最明値y0と今回得られて
濃度ヒストグラムにおける最も明るい値y1との差、最
明値変化δyを算出する(ステップ1i6)。
【0035】次に、制御部11は、最明値変化δyが所
定の値を超えているか否か判定する(ステップ1i
7)。
【0036】ここで、最明値変化δyが所定の値より小
さいと判定されると、ステップ1i3の動作に戻り、シ
ャッタ速度制御回路82はCCD42の受光時間をさら
に1ステップ増加させる。ここで、今回の1ステップ当
たりの受光時間の変化をδt2とすると、受光時間t
は、t=t0+δt1+δt2となる。ここで、再び濃
度ヒストグラムを参照し(ステップ1i4)、このとき
の最明値y2を特定し(ステップ1i5)、最明値y2
とシャッタ速度設定動作開始から最初のヒストグラムに
おける最明値y0とから新たに、最明値変化δyを得る
(ステップ1i6)。すなわち、最明値変化δyが所定
の値以上になるまでこの動作は繰り返され、n回目の1
ステップの受光時間の変化値がδtnとすると、最終的
な受光時間変化δtは、δt=δt1+δt2+・・・
+δtnとなり、最明値変化δyは、n回目に得られた
ヒストグラムにおける最も明るい値をynとすると、δ
y=yn−y0となる。
【0037】さて、ここで、最明値変化δyが所定の値
以上と判定されれば、露光オーバーとならない最適な理
論受光時間tを決定する。すなわち、濃度ヒストグラム
における最明値と取り得る最も明るい値YMAXとを一致
させ得る受光時間を得るのである。この理論受光時間t
は、濃度ヒストグラムにおける最も明るい値と受光時間
の関係から、t=(YMAX−y0)δt/δy+A0で
与えられる。これを得るため、まず、上述した最終的な
受光時間変化δtを算定し(ステップ1i9)、t=
(YMAX−y0)δt/δy+A0より、理論受光時間
tを算定する(ステップ1i10)。 次に、ここで算
出された理論受光時間tがCCD42により実現できる
か否か判定し、適当な受光時間を設定する。すなわち、
理論受光時間がCCD42により実現できる最大受光時
間(ここでは、1/30SEC)を越えているか否か判定
し(ステップ1i11)、越えていれば、受光時間を最
大受光時間に設定する(ステップ1i12)。また、越
えていなければ、理論受光時間tにもっとも近くかつこ
れより短い受光時間に設定する(ステップ1i13)。
これにより、受光時間すなわちシャッタ速度は適切な値
に設定される。
【0038】以上のように、絞り量、シャッタ速度を設
定することにより、露光量が適切な値に調整されると、
次に、積算回数を設定する動作が開始される。ここで、
以降の動作の説明は再び図2のフローチャートを参照し
ながら説明する。積算回数設定動作が開始されると、ま
ず、濃度ヒストグラムが参照される(ステップ1j)。
ここで、濃度ヒストグラムは露光量調整動作により図6
に示すようなものが得られている。この濃度ヒストグラ
ムにおいては、被写体と背景とにより暗、明の2つのピ
ークがあり、CTF相当のコントラスト情報として、濃
度表現域に対するこれら暗、明の2つのピークにおける
濃度値L1、L2間の濃度差の割合を用いることとす
る。具体的にこの値CTF’は、CTF’=(L2−L
1)/(2N−1)で与えられる。すなわち、濃度表現
域に対する被写体と背景との濃度差の割合が小さけれ
ば、コントラストが低いものとし、その割合が大きけれ
ばコントラストが高いものと見なすことができる。ここ
では、コントラスト処理部9は濃度ヒストグラムを参照
し、濃度値L1、L2を特定すると、コントラスト情報
として値CTF’を算定する(ステップ1K)。
【0039】次に、ここで得られたコントラスト情報
(値CTF’)に従って、制御部11はCCDカメラ4
より逐次送られてくる出力をA/Dコンバータ6を介し
た後、各画素に渡り積算して被写体の像を得る際の積算
回数を得ることとなる。まず、値CTF’が0.5より
大きいか否か判定される(ステップ1l)。ここで、値
CTF’が0.5より大きいと判定されると、積算回数
は0回とされる(ステップ1m)。すなわち、明、暗の
ピークの濃度差は濃度表現域に対して十分な値を有する
ので、積算する必要がないのである。
【0040】また、ここで、値CTF’が0.5より小
さいと判定されると、値CTF’に応じた積算回数が算
定される(ステップ1m)。ここでは、値CTF’の逆
数1/CTF’の小数点以下を切り捨てて積算回数とす
る。例えば、値CTF’が10進数で0.12であれ
ば、積算回数は8回となる。なお、このようにして積算
回数を設定するのに限らず様々に変更可能である。例え
ば、EXP(1/CTF’)等としても良いし、値CT
F’の取り得る値を適当な範囲毎に分け、それぞれに適
当な積算回数を設け、値CTF’が何れの範囲にあるか
によって積算回数を指定しても良い。
【0041】以上のように積算回数が設定されると画像
生成動作が開始される。ここでは、まず、加算回路10
2を介し、A/Dコンバータ6の出力する1フレーム分
の濃度情報を各画素毎に画像メモリ101に納める(ス
テップ1o)。積算回数が0か否か判定される(ステッ
プ1p)。ここで積算回数が0でないと判定されると、
続いて、加算回路102は、A/Dコンバータ6より出
される1フレーム分の濃度情報とそれまでに画像メモリ
101に納められた濃度情報とを各画素毎に加算し、再
び画像メモリ101に出力する(ステップ1q)。画像
メモリ101にはその結果が格納され(ステップ1
y)、これにより画像メモリ101は各画素毎に濃度情
報を更新する。なお、ここで、有限ビットで各画素の濃
度示す場合は、加算した後、下位ビットを切り捨てる等
して平均をとり、これを画像メモリ101に格納すれ
ば、加算によるオバーフローを無くし、有限ビットで各
画素の濃度示すことができ、このようにしても良いが、
ここでは、オーバーフローを考慮せず、特に切り捨て等
はしていない。次に積算回数を1減じてステップ1pの
動作に戻り、積算回数が0となるまで、すなわち、ステ
ップ1p〜1sの動作を決定された積算回数だけ行い、
A/Dコンバータ6より出される1フレーム分の濃度情
報を逐次積算していく。ここで、積算回数が0となる
と、画像メモリ101の内容が最終的な画像として出力
される(ステップ1t)。このように、A/Dコンバー
タ6より1フレーム毎に逐次出される濃度情報を各画毎
に積算することにより、濃度情報に含まれるホワイトノ
イズは抑制され、鮮明なプリント基板2、すなわち被写
体の画像が得られる。以上が本例のX線撮像装置の動作
である。
【0042】ここで得られた画像は画像メモリ101か
ら穴開け装置12の画像処理部121に出力される。穴
開け装置12はプリント基板2の像から基板内部に設け
られた基準マーク(図示せず。)を検出し、この基準マ
ークに従って穴を開ける。また、続けて同様のプリント
基板2の穴開けを行う場合は、上述のように設定された
絞り量、シャッタ速度、積算回数を用い、これらの再設
定は行わずに、上述の積算動作を行うことにより画像を
得る。このため、2枚目以降のプリント基板2の画像は
速やかに得られる。
【0043】また、プリント基板2の穴開け後、所定の
位置に穴開けされているか否かの検査を必要とする場合
は、プリント基板2の穴開け後、再び、上述の動作によ
り露光量、積算回数を再設定して画像を得た後、画像処
理部121により、穴を検出して所定の位置に穴開けさ
れているか否か判定することとなる。このとき、穴開け
前後のそれぞれの絞り量、シャッタ速度、積算回数を制
御部11のRAMに納める。これにより、同様のプリン
ト基板2を続けて穴開けする場合は、穴開け前後で、R
AMの内容に従い絞り量、シャッタ速度、積算回数を切
り替え、それぞれに従い上述の積算動作を行うことによ
り穴開け前後のプリント基板2の画像が得られる。この
ため、2枚目以降のプリント基板2の穴開け、検査は速
やかに行える。このような穴開け装置12と共同した動
作は例えば、図7のフローチャートに示す動作により実
現できる。ここで、その動作について以下に述べる。
【0044】まず、上述した初期動作(ステップ2
a)、X線撮像動作(ステップ2b)、露光量調整動作
(ステップ2c)、積算回数設定動作(ステップ2c)
を順次行い、露光量(絞り量、シャッタ速度)、積算回
数が設定される。次に穴開け動作前か否か判定する(ス
テップ2e)。ここで、穴開け動作が開始されると穴開
け装置12から制御部11に出力が生じ、制御部11に
おいて、この出力に応じて特定期間、穴開けフラグが立
てられ、これの有無に応じて穴開け動作前か否か判定さ
れることとする。この判定動作において、穴開け動作前
と判定されると、現在の露光量(絞り量、シャッタ速
度)が制御部11のRAMに穴開け前の露光量として記
憶される(ステップ2f)。次に上述の画像生成動作が
行われ(ステップ2g)、穴開け動作が行われる(ステ
ップ2h)。
【0045】穴開け動作が行われると再びステップ2a
の初期動作が行われ、露光量が初期化される。すなわ
ち、穴開けによって透過X線が増加することにより生じ
るCCD42上のハーレーションを防ぐためである。例
えば、穴開け前の露光量調整により、図8の破線に示す
濃度ヒストグラムが得られていたとし、そのままの露光
量であれば、露光オーバーとなり、図8の実線に示す濃
度ヒストグラムにおける取り得る最も明るい値YMAXで
の頻度の著しい増加が示すように、CCD42上にハー
レーションが生じる。そこで、再び露光量を最初の値に
することでこれを避けるのである。なお、上述の初期動
作にはプリント基板2を所定の位置にセットする動作が
含まれているが、ここでは、この動作は行われない。
【0046】これに続いて、X線撮像動作(ステップ2
b)、露光量調整動作(ステップ2c)、積算回数設定
動作(ステップ2c)を順次行い、露光量、積算回数が
再び設定される。次にステップ2eにおいて穴開け動作
後と判定され、現在の露光量(絞り量、シャッタ速度)
が制御部11のRAMに穴開け後の露光量として記憶さ
れる(ステップ2f)。次にここで設定された露光量、
積算回数に従い上述の画像生成動作が行われる(ステッ
プ2g)。
【0047】画像生成動作により得られた画像は、穴開
け装置12の画像処理部121により穴を検出して所定
の位置に穴開けされているか否か判定することとなる。
ここで、穴が検出できない等、画像処理に異常があれば
(ステップ2k)、処理不能(ステップ2l)として動
作を終了する。
【0048】画像処理に異常がないと判定されると、次
のプリント基板2がセットされたか否か判定し(ステッ
プ2m)、セットされていれば、プリント基板2の種別
が変更されたか否かを例えば、操作スイッチ(図示せ
ず。)の操作の有無等より判定する(ステップ2n)。
ここで、最初と同様のプリント基板2がセットされてい
れば、上述のRAMより穴開け前の露光量、積算回数を
読みだし、露光量、積算回数を設定する(ステップ2
o)。これにより、最適な露光量が設定される。次に上
述のX線撮像動作が行われ(ステップ2p)、上述のR
AMより読み出された、露光量、積算回数に従って画像
生成動作が行われ(ステップ2q)、プリント基板2の
画像が得られ、穴開け装置12により穴開け動作が行わ
れる(ステップ2r)。穴開け動作が開始されると、穴
開けフラグが立ち、これにより、上述のRAMより穴開
け後の露光量、積算回数を読みだし、露光量、積算回数
を再設定し(ステップ2s)、これに従って画像再生動
作を行う(ステップ2t)。このため、穴開け動作後の
プリント基板2を介したX線の増加によるハーレーショ
ンは生じず、鮮明な画像が得られる。ここで得られた画
像は穴開け装置12に送られ、上述したような画像処理
が行われる(ステップ2u)。次に、ステップ2k以降
の動作が繰り返される。なお、次のプリント基板2がセ
ットされなければ、動作は終了し、また、最初のプリン
ト基板2と異なるプリント基板がセットされれば、ステ
ップ2aからの動作を再び行うのである。
【0049】以上により、同様のプリント基板2を続け
て穴開けする場合は、穴開け前後で、RAMの内容に従
い絞り量、シャッタ速度、積算回数を切り替え、それぞ
れに従い画像生成動作、すなわち、上述の積算動作のみ
を行うことにより穴開け前後のプリント基板2の画像が
得られ、2枚目以降のプリント基板2の穴開け、検査は
速やかに行えるのである。
【0050】上述したように、本例では、当初CCD4
2にハーレーションが生じないように露光量を最小に設
定して濃度ヒストグラムを作成し、これに従いCCD4
2にハーレーションが起こらない範囲で最大の露光量を
自動的に調整する。このため、従来のように多数フィル
ター材から適当なフィルター材を選びマニュアル操作で
被写体(ここでは、プリント基板2)と、X線変換部3
との間に挿入するような手間、また、被写体としてのプ
リント基板2の厚さ等に応じた微調整が難しい等の不具
合なく、CCD42上のハーレーションを防ぎ、それに
よる画像の滲みを無くすことができる。また、露光量設
定後の濃度ヒストグラムを参照し、これに従いコントラ
スト情報を得、これに応じた回数だけ、1フレーム毎に
得られるCCD42の各画素の濃度情報を各画素毎に積
算する。このため、フレーム毎のホワイトノイズは積算
により抑制され、被写体の鮮明な像が得られる。
【0051】また、上記一実施例では、露光量調整は、
絞り量、シャッタ速度を共に設定することにより行った
が、本発明はこれに限るものではなく、絞り量、シャッ
タ速度の内何れか一方のみを設定することにより露光量
を調整しても良い。
【0052】
【発明の効果】本発明によれば、露光量が被写体を介し
たX線量に応じて自動的に設定されるため、従来のよう
に多数フィルター材から適当なフィルター材を選びマニ
ュアル操作で被写体、X線変換手段間に挿入するような
手間、また、被写体の厚さ等に応じた微調整が難しい等
の不具合が解消される。また、CCDカメラ手段からの
出力はそのコントラスト情報に応じて積算されるためホ
ワイトノイズが抑制され被写体の鮮明な像が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の構成を示すブロック図。
【図2】図1の動作説明のためのフローチャート。
【図3】図1の動作説明のためのフローチャート。
【図4】図1の動作説明のための説明図。
【図5】図1の動作説明のためのフローチャート。
【図6】図1の動作説明のための説明図。
【図7】図1の動作説明のためのフローチャート。
【図8】図1の動作説明のための説明図。
【符号の説明】
1 X線照射部(X線照射手段) 2 プリント基板(被写体) 3 X線可視光変換部(変換手段) 4 CCDカメラ部(CCDカメラ手段) 7 ヒストグラム処理部(第1の処理手段) 8 露光量調整部(露光量調整手段) 9 コントラスト処理部(第2処理手段) 10 画像生成部(画像生成手段)

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被写体にX線を照射するX線照射手段
    と、 上記被写体を介した上記X線を可視光に変換する変換手
    段と、 上記変換手段からの可視光を受けるCCDカメラ手段
    と、 上記CCDカメラ手段が出力する像の濃度ヒストグラム
    を作成する第1処理手段と、 第1処理手段が出力する上記濃度ヒストグラムに基づい
    て上記CCDカメラ手段の露光量を調整する露光量調整
    手段と、 この露光量調節手段による上記露光量調整後における、
    第1処理手段が出力する濃度ヒストグラムに基づいて上
    記CCDカメラ手段が出力する像のコントラスト情報を
    得る第2処理手段と、 第2処理手段が出力するコントラスト情報に応じた回数
    だけ上記CCDカメラ手段が出力する像を繰り返し積算
    して被写体の画像を得る画像生成手段とを具備したこと
    を特徴とするX線撮像装置。
  2. 【請求項2】 上記露光量調整手段は上記CCDカメラ
    のシャッタ速度および/または絞り量を調整することに
    より上記CCDカメラ手段の露光量を調整することを特
    徴とする請求項1記載のX線撮像装置。
  3. 【請求項3】 被写体にX線を照射し、 上記被写体を介した上記X線を可視光に変換し、 上記可視光をCCDカメラ手段により受け、このCCD
    カメラ手段が出力する像の濃度ヒストグラムを作成し、 上記濃度ヒストグラムに基づいて上記CCDカメラ手段
    の露光量を調整し、 上記露光量調整後における、濃度ヒストグラムに基づい
    て上記CCDカメラ手段が出力する像のコントラスト情
    報を得て、 コントラスト情報に応じた回数だけ上記CCDカメラ手
    段が出力する像を繰り返し積算して被写体の画像を得る
    ことを特徴とするX線撮像方法。
  4. 【請求項4】 上記露光量調整手段は上記CCDカメラ
    のシャッタ速度および/または絞り量を調整することに
    より上記CCDカメラ手段の露光量を調整することを特
    徴とする請求項3記載のX線撮像方法。
JP6314625A 1994-12-19 1994-12-19 X線撮像装置およびx線撮像方法 Pending JPH08171996A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002333721A (ja) * 2001-05-10 2002-11-22 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
KR100784622B1 (ko) * 2000-03-28 2007-12-11 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 다층 회로기판 제조에 있어서 위치 맞춤방법 및 그 장치

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KR100784622B1 (ko) * 2000-03-28 2007-12-11 가부시키가이샤 아도테크 엔지니어링 다층 회로기판 제조에 있어서 위치 맞춤방법 및 그 장치
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