JPH08171744A - 光記録媒体用スタンパー原盤の製造方法 - Google Patents
光記録媒体用スタンパー原盤の製造方法Info
- Publication number
- JPH08171744A JPH08171744A JP31344194A JP31344194A JPH08171744A JP H08171744 A JPH08171744 A JP H08171744A JP 31344194 A JP31344194 A JP 31344194A JP 31344194 A JP31344194 A JP 31344194A JP H08171744 A JPH08171744 A JP H08171744A
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- JP
- Japan
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- resins
- resin
- original mold
- glass substrate
- adsorbent
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- Pending
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- Casting Or Compression Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ２Ｐ樹脂封入時に混入した気泡あるいは２Ｐ
樹脂に含まれている水分による気泡の発生を防止し、オ
リジナル型の凹凸パターンを忠実に転写し得るスタンパ
ー原盤の製造方法を提供する。 【構成】 レプリカ樹脂に吸着剤を添加したことを特徴
とする光記録媒体用スタンパー原盤の製造方法。
樹脂に含まれている水分による気泡の発生を防止し、オ
リジナル型の凹凸パターンを忠実に転写し得るスタンパ
ー原盤の製造方法を提供する。 【構成】 レプリカ樹脂に吸着剤を添加したことを特徴
とする光記録媒体用スタンパー原盤の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光記録媒体用基板の製
造に用いるスタンパー用原盤の製造方法に関し、特にス
タンパー用原盤を作製する工程において、光硬化性樹脂
（以下「２Ｐ樹脂」と略記する）によってオリジナル型
から２Ｐレプリカを製造する方法に関する。
造に用いるスタンパー用原盤の製造方法に関し、特にス
タンパー用原盤を作製する工程において、光硬化性樹脂
（以下「２Ｐ樹脂」と略記する）によってオリジナル型
から２Ｐレプリカを製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来より、光記録媒体用スタンパー原盤
の一般的製造方法として、オリジナル型とレプリカ用基
板との少なくとも何れか一方に、２Ｐ樹脂を塗布又は滴
下（以下ディスペンスと称する）し、その後オリジナル
型とレプリカ用基板とを重ね合わせて２Ｐ樹脂を展伸
（以下スプレットと称する）し、その状態で少なくとも
何れか一方より光を照射し２Ｐ樹脂を硬化し、その後オ
リジナル型とレプリカ用基板とを剥離して、基板上に２
Ｐ樹脂レプリカを転写製造していた。
の一般的製造方法として、オリジナル型とレプリカ用基
板との少なくとも何れか一方に、２Ｐ樹脂を塗布又は滴
下（以下ディスペンスと称する）し、その後オリジナル
型とレプリカ用基板とを重ね合わせて２Ｐ樹脂を展伸
（以下スプレットと称する）し、その状態で少なくとも
何れか一方より光を照射し２Ｐ樹脂を硬化し、その後オ
リジナル型とレプリカ用基板とを剥離して、基板上に２
Ｐ樹脂レプリカを転写製造していた。
【０００３】図３（ａ）〜（ｃ）に、この従来法の工程
を例示する。まず、オリジナル型１上に２Ｐ樹脂５を一
定量ディスペンスする［図３（ａ）］。しかる後にガラ
ス基板２を重ね合わせ、２Ｐ樹脂５をオリジナル型１と
ガラス基板２の間全面にスプレットし、ガラス基板２上
より紫外線光（ＵＶ光）を照射し２Ｐ樹脂５を硬化させ
る［図３（ｂ）］。その後、硬化した２Ｐ樹脂５をガラ
ス基板２と共にオリジナル型１から剥離することにより
硬化２Ｐ樹脂５（２Ｐレプリカ）を製造していた［図３
（ｃ）］。
を例示する。まず、オリジナル型１上に２Ｐ樹脂５を一
定量ディスペンスする［図３（ａ）］。しかる後にガラ
ス基板２を重ね合わせ、２Ｐ樹脂５をオリジナル型１と
ガラス基板２の間全面にスプレットし、ガラス基板２上
より紫外線光（ＵＶ光）を照射し２Ｐ樹脂５を硬化させ
る［図３（ｂ）］。その後、硬化した２Ｐ樹脂５をガラ
ス基板２と共にオリジナル型１から剥離することにより
硬化２Ｐ樹脂５（２Ｐレプリカ）を製造していた［図３
（ｃ）］。
【０００４】しかしながら、この様な従来法において
は、重ね合わせ時やスプレッドの際に樹脂中に気泡が混
入するという問題があった。
は、重ね合わせ時やスプレッドの際に樹脂中に気泡が混
入するという問題があった。
【０００５】この問題を解決する技術として、特開昭６
１−２１３１３０号公報に記載のような、スプレッドを
真空中で行なう方法や、さらには、特開平６−１６８４
８２号公報に記載のような、基板に２Ｐ樹脂注入口及び
同排出口を設け２Ｐ樹脂の注入を自重を利用して真空中
で行なう気泡混入を抑止する方法がある。
１−２１３１３０号公報に記載のような、スプレッドを
真空中で行なう方法や、さらには、特開平６−１６８４
８２号公報に記載のような、基板に２Ｐ樹脂注入口及び
同排出口を設け２Ｐ樹脂の注入を自重を利用して真空中
で行なう気泡混入を抑止する方法がある。
【０００６】しかしながら、このように真空中で２Ｐ樹
脂をスプレッドまたは注入する場合、気圧低下に伴う泡
の発生が生じ、気泡混入が妨げない場合がある。また、
紫外線硬化時の発熱により２Ｐ樹脂に含まれている水分
が泡となり、気泡欠陥の原因となる。
脂をスプレッドまたは注入する場合、気圧低下に伴う泡
の発生が生じ、気泡混入が妨げない場合がある。また、
紫外線硬化時の発熱により２Ｐ樹脂に含まれている水分
が泡となり、気泡欠陥の原因となる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、凹凸パ
ターンを有するオリジナル型と平坦な表面を有する基板
を対向し、オリジナル型と２Ｐ樹脂を封入し、光硬化さ
せた後オリジナル型と基板を剥離して基板面にオリジナ
ル型のレプリカを形成するスタンパー用原盤の製造方法
において、前記未硬化２Ｐ樹脂５に吸着剤を添加するこ
とにより、２Ｐ樹脂封入（注入）時に混入した気泡ある
いは、２Ｐ樹脂に含まれている水分や光硬化時の発熱に
よりその水分が気化した泡を吸着剤でこれら気泡を十分
に吸着できる。剥離後の２Ｐ樹脂表面には、気泡欠陥の
全くない、オリジナル型の凹凸パターンを忠実に転写し
たスタンパー原盤が製造できる。
ターンを有するオリジナル型と平坦な表面を有する基板
を対向し、オリジナル型と２Ｐ樹脂を封入し、光硬化さ
せた後オリジナル型と基板を剥離して基板面にオリジナ
ル型のレプリカを形成するスタンパー用原盤の製造方法
において、前記未硬化２Ｐ樹脂５に吸着剤を添加するこ
とにより、２Ｐ樹脂封入（注入）時に混入した気泡ある
いは、２Ｐ樹脂に含まれている水分や光硬化時の発熱に
よりその水分が気化した泡を吸着剤でこれら気泡を十分
に吸着できる。剥離後の２Ｐ樹脂表面には、気泡欠陥の
全くない、オリジナル型の凹凸パターンを忠実に転写し
たスタンパー原盤が製造できる。
【０００８】
【実施例】以下、本発明を実施例に基ずき更に詳細に説
明する。 実施例１ パターンエリアが２５０×２５０ｍｍである３００×３
００ｍｍ厚み１０ｍｍのオリジナル型１上及び３４０×
３４０ｍｍ厚み１０ｍｍのガラス基板（平面度１０μ
ｍ）２上に、あらかじめ真空脱泡（１Ｔｏｒｒ，１時
間）しておいた未硬化２Ｐ樹脂（日本化薬社製、ＩＮＣ
１１８）に吸着剤として直径約４オングストロームのゼ
オライトを１０ｗｔ％添加した２Ｐ樹脂３を約４ｇディ
スペンスし、オリジナル型１とガラス基板２を重ね合わ
せて２Ｐ樹脂３を展延させた（図１（ａ））。このと
き、吸着剤の効果により気泡の存在は認められなかっ
た。
明する。 実施例１ パターンエリアが２５０×２５０ｍｍである３００×３
００ｍｍ厚み１０ｍｍのオリジナル型１上及び３４０×
３４０ｍｍ厚み１０ｍｍのガラス基板（平面度１０μ
ｍ）２上に、あらかじめ真空脱泡（１Ｔｏｒｒ，１時
間）しておいた未硬化２Ｐ樹脂（日本化薬社製、ＩＮＣ
１１８）に吸着剤として直径約４オングストロームのゼ
オライトを１０ｗｔ％添加した２Ｐ樹脂３を約４ｇディ
スペンスし、オリジナル型１とガラス基板２を重ね合わ
せて２Ｐ樹脂３を展延させた（図１（ａ））。このと
き、吸着剤の効果により気泡の存在は認められなかっ
た。
【０００９】次に、紫外線をガラス基板２側より照射し
て２Ｐ樹脂を十分硬化させた後（図１（ｂ））、オリジ
ナル型１とガラス基板２を剥離した（図１（ｃ））。硬
化２Ｐ樹脂３表面上には気泡欠陥が全くなく、オリジナ
ル型の凹凸パターンを忠実に転写した高品位な２Ｐレプ
リカが得られた。
て２Ｐ樹脂を十分硬化させた後（図１（ｂ））、オリジ
ナル型１とガラス基板２を剥離した（図１（ｃ））。硬
化２Ｐ樹脂３表面上には気泡欠陥が全くなく、オリジナ
ル型の凹凸パターンを忠実に転写した高品位な２Ｐレプ
リカが得られた。
【００１０】実施例２ 実施例１と同様のオリジナル型とパターン有効エリア外
に配置された注入口（φ１０ｍｍ）及び排出口（φ１０
ｍｍ）を有するガラス基板２を厚さ８０μｍのスペーサ
材４（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を介して
対向させセルを得た。あらかじめ真空脱泡（１Ｔｏｒ
ｒ，１時間）しておいた２Ｐ樹脂（日本化薬社製、ＩＮ
Ｃ１１８）に吸着剤として直径約５オングストロームの
ゼオライトを８ｗｔ％添加したものを注入口より注入し
た。この際、２Ｐ樹脂３の粘度は７７０ｃｐであり、ほ
ぼ８時間で注入が完了した（図２（ａ））。
に配置された注入口（φ１０ｍｍ）及び排出口（φ１０
ｍｍ）を有するガラス基板２を厚さ８０μｍのスペーサ
材４（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を介して
対向させセルを得た。あらかじめ真空脱泡（１Ｔｏｒ
ｒ，１時間）しておいた２Ｐ樹脂（日本化薬社製、ＩＮ
Ｃ１１８）に吸着剤として直径約５オングストロームの
ゼオライトを８ｗｔ％添加したものを注入口より注入し
た。この際、２Ｐ樹脂３の粘度は７７０ｃｐであり、ほ
ぼ８時間で注入が完了した（図２（ａ））。
【００１１】次に、ガラス基板２側より紫外線照射して
２Ｐ樹脂３を硬化させた（図２（ｂ））。その後、オリ
ジナル型１とガラス基板２を剥離した（その際、スペー
サ材も取り除く）（図２（ｃ））ところ、硬化２Ｐ樹脂
３表面上には、気泡欠陥の全くないオリジナル型の凹凸
パターンを忠実に転写した高品位な２Ｐレプリカが得ら
れた。
２Ｐ樹脂３を硬化させた（図２（ｂ））。その後、オリ
ジナル型１とガラス基板２を剥離した（その際、スペー
サ材も取り除く）（図２（ｃ））ところ、硬化２Ｐ樹脂
３表面上には、気泡欠陥の全くないオリジナル型の凹凸
パターンを忠実に転写した高品位な２Ｐレプリカが得ら
れた。
【００１２】
【発明の効果】以上説明したように、２Ｐ樹脂中に吸着
剤であるゼオライトを添加することにより、２Ｐ樹脂中
へ混入した気泡や硬化時に発生する泡を吸着除去でき、
硬化後の２Ｐ樹脂中には気泡もなく、オリジナル型の凹
凸パターンを忠実に転写した２Ｐレプリカが得られる効
果がある。
剤であるゼオライトを添加することにより、２Ｐ樹脂中
へ混入した気泡や硬化時に発生する泡を吸着除去でき、
硬化後の２Ｐ樹脂中には気泡もなく、オリジナル型の凹
凸パターンを忠実に転写した２Ｐレプリカが得られる効
果がある。
【図１】図１（ａ）（ｂ）（ｃ）はオリジナル型及びガ
ラス基板間の２Ｐ樹脂をＵＶ硬化し脱型する工程を例示
する模式図。
ラス基板間の２Ｐ樹脂をＵＶ硬化し脱型する工程を例示
する模式図。
【図２】図２（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）は本発明の他の
実施例を示す模式図。
実施例を示す模式図。
【図３】従来法の工程を例示する模式図。
１ オリジナル型 １’ 凹凸パターン ２ ガラス基板 ３ 吸着剤入り２Ｐ樹脂 ４ スペーサ材 ５ 未添加２Ｐ樹脂
Claims (2)
- 【請求項１】 プリフォーマットを有するオリジナル型
のレプリカを作製し、これに電鋳してスタンパーを製造
する工程において、該レプリカ樹脂に吸着剤を添加した
ことを特徴とする光記録媒体用スタンパー原盤の製造方
法。 - 【請求項２】 前記吸着剤がゼオライトであることを特
徴とする請求項１記載の光記録媒体用スタンパー原盤の
製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31344194A JPH08171744A (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 光記録媒体用スタンパー原盤の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31344194A JPH08171744A (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 光記録媒体用スタンパー原盤の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08171744A true JPH08171744A (ja) | 1996-07-02 |
Family
ID=18041339
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31344194A Pending JPH08171744A (ja) | 1994-12-16 | 1994-12-16 | 光記録媒体用スタンパー原盤の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08171744A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004504714A (ja) * | 2000-07-17 | 2004-02-12 | ボード・オブ・リージエンツ，ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム | 転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム |
| JP2011085791A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Nikon Corp | 光学素子の製造方法 |
-
1994
- 1994-12-16 JP JP31344194A patent/JPH08171744A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004504714A (ja) * | 2000-07-17 | 2004-02-12 | ボード・オブ・リージエンツ，ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム | 転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム |
| JP4740518B2 (ja) * | 2000-07-17 | 2011-08-03 | ボード・オブ・リージエンツ，ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム | 転写リソグラフィ・プロセスのための自動液体ディスペンス方法およびシステム |
| JP2011085791A (ja) * | 2009-10-16 | 2011-04-28 | Nikon Corp | 光学素子の製造方法 |
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