JPH081698B2 - 磁気記録媒体の製法 - Google Patents

磁気記録媒体の製法

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JPH081698B2
JPH081698B2 JP63097383A JP9738388A JPH081698B2 JP H081698 B2 JPH081698 B2 JP H081698B2 JP 63097383 A JP63097383 A JP 63097383A JP 9738388 A JP9738388 A JP 9738388A JP H081698 B2 JPH081698 B2 JP H081698B2
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忍 飯田
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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の分野] 本発明は、非磁性支持体と、この支持体上に設けられ
た磁性層とからなる基本構造を有する磁気記録媒体の製
法に関するものである。
[発明の技術的背景] 一般にオーディオ用、ビデオ用あるいはコンピュータ
用等の磁気記録媒体として、強磁性粉末が結合剤中に分
散されている磁性層を非磁性支持体上に設けた磁気記録
媒体が用いられている。
このような磁気記録媒体は、樹脂成分などの結合剤成
分と強磁性粉末などの粒状成分とを溶剤に分散させた磁
性塗料を、非磁性支持体上に塗布して塗布層を形成し、
この塗布層に磁場配向処理、乾燥処理および表面平滑化
処理などの処理を施したのち所望の形状に裁断すること
により製造されている。
最近、情報の記録密度の増大という要求に呼応して、
高密度記録媒体の開発が盛んに行なわれている。このよ
うな磁気記録媒体として六方晶系フェライトの強磁性粉
末を用いることは知られている(特公昭60−50323号公
報)。六方晶系フェライトを用いた磁気記録媒体は特に
垂直磁気記録媒体として好適であるが、六方晶系フェラ
イトの粉末の形状は板状であるため、他の磁気記録媒体
に比較して以下のような問題点が顕著である。
すなわち、高密度記録媒体として、DATソフトの高速
プリント用媒体に六方晶系フェライトを使用したテープ
が提案されている。このようなDATソフト(DATテープ)
の場合は、エラーレートが重要な特性としてテープの性
能を左右する。エラーレートとは、DATテープを再生し
た際の信号の読み誤り率を意味する。このエラーレート
はテープ上に発生するドロップアウトが多い場合に増大
することから、エラーレートとドロップアウトとの間に
密接な相関関係があることが知られている。従って、上
記DATテープ等の高密度記録用の磁気記録媒体の磁性層
は、極めて平滑で且つドロップアウトの発生が少ないこ
とが重要である。
一般に、磁気記録媒体は前記したような方法にて製造
され、その磁性層表面は粒状成分が磁性層に強固に固定
され、非常に平滑であると考えられている。しかしなが
ら、本発明者の検討によれば、磁性層表面には固定の不
充分な強磁性粉末などの粒状成分が存在することが判明
した。このような固定不充分な粒状成分は、走行中に脱
離して磁気ヘッドに付着して磁気ヘッド目詰まりの原因
となることがあり、さらに例えばビデオテープなどにお
いてはドロップアウトの発生原因となることがある。そ
してこのドロップアウトが発生するような状況では、DA
Tテープの場合にはエラーレートが増大する傾向とな
る。さらに、こうした強磁性粉末の脱離により磁性層表
面近傍にある強磁性粉末の量が減少するので、走行を繰
り返すことにより電磁変換特性が低下(出力低下)する
との問題もある。
本発明者は、こうしてドロップアウト、目詰まりおよ
び出力低下の発生を軽減する方法として磁性層の表面を
研削する方法について発明をし、この発明については既
に出願剤である(特開昭62−172532号公報)。
すなわち、この発明は、表面平滑化された磁性層の表
面をダイヤモンドホイールあるいは固定式のサファイヤ
ブレードなどの高硬度の研削具を用いて研削することに
より、脱離し易い状態にある粒状成分あるいは磁性層表
面の付着物などを除去し、磁性層表面からの脱離物の量
を低減するものである。
このような背景から本発明者は、磁性層表面からの脱
離物の量を低減させる方法についてさらに検討した結
果、磁気記録媒体の磁性層の研削を行なう以外にも有効
な方法があることを見い出した。それは、磁気記録媒体
の磁性層を研削テープにより研磨処理を行なう方法で、
この方法によりさらにトロップアウトおよび目詰まり発
生の少ない、そして走行耐久性の良好な磁気記録媒体を
製造することができることが分かった。
[発明の目的] 本発明は、良好な走行耐久性を有する六方晶系フェラ
イトの強磁性粉末を含む磁気記録媒体を製造する方法を
提供することを目的とする。
さらに詳しくは、本発明は、ドラップアウト、目詰ま
りの発生が少なくそしてエラーレートの小さい新規な六
方晶系フェライトの強磁性粉末を含む磁気記録媒体の製
造する方法を提供することを目的とする。
[発明の要旨] 本発明は、非磁性支持体上に塗設された、六方晶系フ
ェライトの強磁性粉末が結合剤に分散されてなる磁性層
を表面平滑化処理したのち、該磁性層の表面を研磨テー
プにより研磨処理することを特徴とする磁気記録媒体の
製法にある。
上記本発明の磁気記録媒体の製法の好ましい態様は以
下の通りである。
1)該研磨テープに含まれる研磨材の硬度が、モース
硬度で5以上であることを特徴とする上記磁気記録媒体
の製法。
2)該研磨テープの表面粗さ(中心線平均粗さ)Raが
0.05〜0.9の範囲内にあることを特徴とする上記磁気記
録媒体の製法 3)該研磨テープに含まれる研磨材が、α−Al2O3、S
iO2、Cr2O3、α−Fe2O3、ダイアモンド、ZnO2およびTiO
2の群より選ばれる少なくとも一種の研磨材であること
を特徴とする上記磁気記録媒体の製法。
4)表面平滑化処理した磁性層の表面を該研磨テープ
により研磨処理した後、ブレードまたは回転ブレードに
よって研削処理を行ない、次に該磁性層を不織布で拭き
取り処理を行なうことを特徴とする上記磁気記録媒体の
製法。
[発明の効果] 本発明の研磨テープを用いた研磨処理を行なうことに
より、磁性層表面から脱離しやすい状態の強磁性粉末な
どの粒状成分の数が少なくなるので、走行中にこれらの
粒状成分の脱離による磁気ヘッド目詰まり、ドロップア
ウトおよびDATテープの場合にはエラーレートの小さい
磁気記録媒体を製造することができる。
さらに、磁性層表面から脱離する強磁性粉末の個数が
少なくなるので、繰り返し走行させても強磁性粉末の脱
落が少なく、従って、走行初期の再生出力と繰り返し走
行後の再生出力の差が少ない優れた磁気記録媒体を製造
することができる。
また、磁性層形成成分として硬化剤を使用した場合に
は、磁性層表面の未反応硬化剤の大部分が除去されるの
で、磁気記録媒体の製造後に粉塵などが磁性層に付着す
ることがない。従って、こうし付着物に起因するドロッ
プアウトの発生の少ない磁気記録媒体を製造することが
できる。さらに、本発明の強磁性粉末として使用される
六方晶系フェライトは高密度記録に好適であり、このよ
うな磁気記録媒体においても上記付着物に起因するドロ
ップアウトの発生の少ないことからエラーレートが顕著
に低下する。
加えて、磁気ヘッドが未反応硬化体などで汚染される
ことが少ないので、磁気ヘッドへの粉塵の付着などによ
る磁気ヘッド目詰まりの発生が少ない磁気記録媒体を製
造することができる。
[発明の詳細な記述] 磁気記録媒体は、通常、非磁性支持体上に磁性塗料を
塗設し、磁場配向処理、硬化処理次いで表面平滑化処理
などを行なったのち、所望の形状に裁断することにより
製造される。
磁気記録媒体は、非磁性支持体と、この支持体上に設
けられた磁性層からなる。磁性層は、強磁性粉末などの
粒状成分と、この粒状成分が分散している結合剤からな
る。結合剤は、樹脂成分と、さらに所望により配合され
る硬化剤とにより構成されている。
磁性層の塗設は、通常の方法に従って行なうことがで
きる。たとえば、樹脂成分および強磁性粉末並びに所望
により配合される研磨材および硬化剤などの磁性層形成
成分を溶剤と共に混練分散して磁性塗料を調製し、この
磁性塗料を非磁性支持体上に塗布する方法を利用するこ
とができる。
非磁性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート
(RET)、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル
類、ポリプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロー
ス誘導体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のビ
ニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリアミ
ドイミド、ポリイミドなどの合成樹脂からなるフィルム
もしくはシート;アルミニウム、銅等の非磁性金属箔;
ステンレス箔などの金属箔;紙、セラミックシート等か
ら選ばれる。
また、非磁性支持体は、一般には厚さが2.5〜100μm
(好ましくは3〜80μm)のものが使用される。
樹脂成分は、通常磁性塗料の樹脂成分として使用され
ている樹脂から選ばれる。樹脂成分の例としては、塩化
ビニル系共重合体(例、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合
体、塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共重合
体、塩化ビニル・酢酸ビニル・アクリル酸共重合体、塩
化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル・アク
リロニトリル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共重合
体、−So3Naまたは−So2Naなどの極性基およびエポキシ
基が導入された塩化ビニル系共重合体)、ニトロセルロ
ース樹脂などのセルロース誘導体、アクリル樹脂、ポリ
ビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、エ
ポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ポリウレタン系樹脂
(例、ポリエステルポリウレタン樹脂、−SO3Naまたは
−SO2Naなどの極性基が導入されたポリウレタン系樹
脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂)を挙げること
ができる。
また、硬化剤を使用する場合、通常は、ポリイソシア
ネート化合物が用いられる。ポリイソシアネート化合物
は、通常ポリウレタン系樹脂等の硬化剤成分として使用
されているもののなかから選択される。ポリイソシアネ
ート化合物の例としては、トリレンジイソシアネートと
トリメチロールプロパン1モルとの反応生成物(例、デ
スモジュールL−75(バイエル社製))、キシリレンジ
イソシアネートあるいはヘキサメチレンジイソシアネー
トなどのジイソシアネート3モルとトリメチロールプロ
パン1モルの反応生成物、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート3モルのビューレツト付加化合物、トリレンジイソ
シアネート5モルのイソシアヌレート化合物、トリレン
ジイソシアネート3モルとヘキサメチレンジイソシアネ
ート2モルのイソシアヌレート付加化合物、イソホロン
ジイソシアネートおよびジフェニルメタンジイソシアネ
ートのポリマーを挙げることができる。
また、電子線照射による硬化処理を行なう場合には、
反応性二重結合を有する化合物(例、ウレタンアクリレ
ート)を使用することができる。
本発明においては、樹脂成分として塩化ビニル系共重
合体のような硬度の高い樹脂とポリウレタン系樹脂のよ
うな柔軟性を有する樹脂とを組合わせて使用することが
好ましい。
塩化ビニル系共重合体のような硬度の高い樹脂とポリ
ウレタン系樹脂のような柔軟性を有する樹脂とを組合わ
せて使用する場合、前者と後者との配合重量比は通常は
9:1〜5:5の範囲内(好ましくは9:1〜6:4)とする。そし
て、硬化剤を使用する場合には、通常、上記樹脂成分と
硬化剤との配合重量比は、9:1〜5:5(好ましくは9:1〜
6:4)の範囲内に設定される。
樹脂成分として、ポリウレタン系樹脂を使用し硬化剤
としてポリイソシアネート化合物を使用する場合、ポリ
ウレタン系樹脂とポリイソシアネート化合物との配合重
量比は、通常1:0.8〜1:2(好ましくは1:1〜1:1.5)の範
囲内に設定される。このようにすることにより結合剤の
軟化を有効に防止することができるようになる。
樹脂成分と硬化剤との合計の重量は、強磁性粉末100
重量部に対して、通常10〜100重量部(15〜40重量部)
の範囲内にある。
本発明で使用される強磁性粉末は、六方晶系フェライ
トであることが必要である。六方晶系フェライトとして
は、バリュウムフェライト、ストロンチウムフェライト
および鉛フェライトを挙げることができ、これらは単独
または組合わせて用いられる。なかでもバリュウムフェ
ライトおよびストロンチウムフェライトが好ましく、特
に好ましくはバリュウムフェライトである。
また、上記バリュウムフェライトとしては、平均粒子
径が0.001〜1.0μmの範囲の直径が好ましく、特に好ま
しくは0.01〜1.0μmの範囲であり、そしてその板状比
は2.5〜5の範囲が好ましい。バリュウムフェライトの
比重は4.6g/ccの範囲で、そのS BET比表面積は20〜70m2
/gの範囲であることが好ましい。
これらの強磁性粉末の製法は既に公知であり、本発明
で用いる強磁性粉末についても公知の方法に従って製造
することができる。
上記の樹脂成分、硬化剤および強磁性粉末を、通常磁
性塗料の調製の際に使用されている溶剤(例、メチルエ
チルケトン、ジオキサン、シクロヘキサノン、酢酸エチ
ル)と共に混練分散して磁性塗料とする。混練分散は通
常の方法に従って行なうことができる。
なお、磁性塗料中は、上記成分以外に、研磨材(例、
α−Al2O3、Cr2O3)、帯電防止材(例、カーボンブラッ
ク)、潤滑剤(例、脂肪酸、脂肪酸エステル、シリコー
ンオイル)、分散剤など通常使用されている添加剤ある
いは充填材(剤)を含むものであってもよいことは勿論
である。特に潤滑剤としては、炭素数が10〜22の飽和脂
肪酸を用いた場合、後述の回転ブレード体を用いて研削
を行なうことにより飽和脂肪酸が磁性層表面に層状に配
向する傾向があり、このように配向した脂肪酸膜は強度
が高く、さらに潤滑性も良好であるので、磁気記録媒体
の走行性が向上するとの利点がある。
このようにして調製した磁性塗料を非磁性支持体上に
塗布する。塗布の方法は、リバースロールを用いる方法
などの通常の塗布方法を利用して行なうことができる。
磁性塗料の塗布層は、得られた磁気記録媒体の磁性層
の厚さが通常0.5〜10μmの範囲内となるように塗布さ
れる。
本発明で用いる非磁性支持体の磁性塗料が塗布されて
いない面にバック層(バッキング層)が設けられていて
もよい。通常バック層は、非磁性支持体の磁性塗料が塗
布されていない面に、研磨材、帯電防止剤などの粒状成
分と結合剤とが有機溶剤に分散してなるバック層形成塗
料を塗布して設けられた層である。
なお、非磁性支持体の磁性塗料およびバック層形成塗
料の塗設面に接着剤層が付設されていてもよい。
通常、塗布された磁性塗料の塗布層は、磁性塗料の塗
布層中に含まれる強磁性粉末を配向させる処理、すなわ
ち磁場配向処理を施した後、乾燥される。
このようにして乾燥された後、塗布層に表面平滑化処
理を施す。表面平滑化処理には、たとえばスーパーカレ
ンダロールなどが利用される。表面平滑化処理を行なう
ことにより、乾燥時の溶剤の除去によって生じた空孔が
消滅し磁性層中の強磁性粉末の充填率が向上するので、
電磁変換特性の高い磁気記録媒体を得ることができる。
本発明の製法においては、こうして表面平滑化処理さ
れた磁性層の表面、または磁性層の表面およびバック層
の表面を研磨テープにより研磨処理を行なう。特に、研
磨テープにより研磨処理された表面を回転ブレード体等
で研削した後、不織布により拭き取り処理を行なう方が
好ましい。但し、研磨処理、研削処理および拭き取り処
理を行なう順序は、上記の順序に限定するものではな
い。
前記の表面平滑化処理された段階では、結合剤の形成
成分として硬化剤を使用した場合、磁性層に含まれる硬
化剤のうち、通常90重量%以上が未反応の状態で磁性層
に含有されているので、硬化処理を行なって、少なくと
も硬化剤の50重量%(特に好ましくは80重量%以上)を
反応させたのちに、その次の処理を行なうことが好まし
い。
酸化処理には、加熱硬化処理と電子線照射硬化処理と
があり、本発明においては、いずれの方法であっても利
用することができる。
この硬化処理により表面平滑化処理された磁性層に含
有される未反応の硬化剤が、たとえば塩化ビニル系共重
合体およびポリウレタン系樹脂のような樹脂成分と三次
元網状の架橋構造を形成するように反応する。
加熱処理の工程自体は既に公知であり、本発明におい
てもこれらの方法に準じて加熱処理を行なうことができ
る。
たとえば、加熱処理は、加熱時間を通常40℃以上(好
ましくは50〜80℃の範囲内)、加熱時間を通常20時間以
上(好ましくは24時間〜7日間)に設定して行なわれ
る。また、電子線照射による硬化処理の工程自体も既に
公知であり、本発明においてもこれらの方法に準じて加
熱処理を行なうことができる。
このようにして硬化処理された積層体を次に所望の形
状に裁断する。
裁断はスリッターなどの通常の裁断機などを使用して
通常の条件で行なうことができる。
このように硬化処理され、裁断された積層体の磁性層
の表面、または磁性層の表面とバック層の表面は研磨テ
ープのベルトをゆっくり回転させることによって研磨処
理が行なわれる。その際、ベルトの周速度を磁気記録媒
体のテープの巻き取り方向と逆方向に1〜3cm/分の速さ
で研磨処理を行なう。
第1図は、本発明に従う研磨処理、研削処理および拭
き取り処理工程の一例を示す概略図である。
第1図に示すように、送りだしロール1よりテープが
送りだされ、研磨テープ2で研磨され、続いて固定ブレ
ード3で研削され、拭織布4で拭き取られ、さらに巻き
とりロール5で巻きとられて処理は完了する。10は送り
ロールでテープの送りを円滑にしている。
研磨テープ3は、回転ロール8によってテープの送り
と反対方向に1〜3cm/分の速さで移動し、パッド6によ
って研磨テープ3はおさえられ、磁性層表面と接触し研
磨処理を行なう。
第1図において、研磨テープによる研磨箇所は2つ以
上あっても良い、また磁性層の表面だけでなくバック層
表面も研磨する場合は反対側にも同様の研磨テープによ
る研磨箇所を備え付ける。
研削処理用の固定ブレード3は、使用しなくても良い
し、固定ブレードの代わりに回転ブレードを使用するこ
ともできる。また固定ブレードと回転ブレードの両方を
使用しても良い。
さらに磁性層の表面だけでなくバック層表面も研削処
理を行なう場合は反対側にも固定ブレードおよび/また
は回転ブレードを備え付ける。
不織布4は、回転ロール9によってテープの送りと反
対方向に0.5〜10cm/分の速さで移動し、バッド7によっ
て不織布4はおさえられ、磁性層表面と接触し拭き取り
処理を行なう。
また、不織布による拭き取り箇所は2つ以上あっても
良いし、磁性層の表面だけでなくバック層表面も抜き取
り処理を行なう場合は反対側にも同様の不織布により拭
き取り箇所を備え付ける。
本発明の研磨処理に使用される研磨テープは、カセッ
トデッキ、ビデオデッキ等のヘッドを研磨するためのテ
ープであることが好ましい。この研磨テープの主な目的
は、ヘッド面を仕上げる。ヘッドの先端形状を作りだ
す、およびヘッドのチッピングをなくすこと等である。
これらの研磨処理に使用される研磨テープは、研磨材
の硬度が、モース硬度で5〜9の範囲内にあるもので、
例えばα−Al2O3、SiO2、Cr2O3、α−Fe2O3、ダイアモ
ンド、ZnO2およびTiO2の群より選ばれる少なくとも一種
の研磨材を含んでいる。
本発明に使用される研磨テープは、例えば以下のよう
に製造される。上記研磨材が結合剤、添加剤等を含むバ
インダーに分散され、支持体に塗布され、次いで乾燥後
所定の大きさに裁断される。結合剤としては、熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、および反応型樹脂が単独または混
合して用いられる。研磨材と結合剤との混合割合は、研
磨材100重量部に対して結合剤が10〜200重量部の範囲で
使用される。支持体の素材としては、ポリエチレンテレ
フタレート(PET)等のポリエステル類、ポリプロピレ
ン等のオリオレフィン類、セルロース誘導体、ビニル系
樹脂、ポリカーボネート、ポリアミドなどの合成樹脂か
らなるフィルムもしくはシート;アルミニウム、銅等の
非磁性金属箔;ステンレス箔などの金属箔;紙、セラミ
ックシート等から選ばれる。
また、上記本発明に使用した研磨テープの表面粗さ
(中心線平均粗さ)Raは、0.05〜0.9の範囲内にあるこ
とが好ましい。研磨テープの表面粗さ(中心線平均粗
さ)Raの測定条件は以下の通りである。
中心線平均粗さ測定機サフコム 400B,403B,404Bシス
テムを使用して、カットオフ値:0.8mm、稼働速度:0.3mm
/秒、針圧:0.07g、針径:2μmR、レンジ:20kHz/0.5mmの
条件で測定した。上記の性能を有する研磨テープであれ
ば、特に研磨テープを限定するものではなく、市販の研
磨テープを使用することもできる。
上記のような研磨テープを用いた研磨処理により、磁
性層の表面から突出している強磁性粉末あるいは研磨材
のような粒状成分、さらには磁性層の表面に存在する未
反応の硬化剤、表面の付着物(例えば、磁気記録媒体を
製造する際に表面に付着した空気中の粉塵)などは、磁
性層表面近傍(一般には0.01〜5μmの高さ)の結合剤
と共に削り取られ、磁性層表面が平滑化される。
そして、バック層も研磨処理した場合は、バック層を
研磨することにより非磁性粉末などの粒状成分の脱離が
少なくなるので、たとえば、テープ状に裁断した磁気記
録媒体を巻いた状態で使用しても、バック層の表面から
脱離した粒状成分が磁性層の表面に付着してドロップア
ウトあるいは目詰まりの原因となることが少なくなる。
拭き取り処理に使用する材料の例としては、ポリウレ
タンなどの結合成分を実質的に含むことなくポリエステ
ル繊維が結束されてなる繊維の束が緻密にからみ合った
一層構造のスエード調不織布(例、エクセーヌ(商品
名)、東レ(株)製;クラリーノ(商品名)、クラレ
(株)製)およびポリエステル繊維などをポリウレタン
などの結合成分で結合してなる不織布(例、バイリーン
(商品名)、日本バイリーン(株)製)等を挙げること
ができる。
この拭き取り処理によって、磁性層および/またはバ
ック層の付着物および有機物質の除去が完全に行なわれ
ることになり、ドロップアウトあるいは目詰まりが低下
する。
前記の不織布の拭き取り処理を行なう前に、研磨処理
を行なった方がより好ましい。研削処理方法について
は、特願昭61−13184号に記載されている。すなわち使
用する研削具の例としては、固定ブレード、ダイヤモン
ドホイールおよび回転ブレードを挙げることができる。
ここで、固定ブレードとは、研削対象の磁性層もしく
はバック層の表面に接触する部分が高硬度の物質からな
るブレードである。ブレードは、通常は、サファイヤ、
アルミナ、サーメット、ジルコニア(酸化ジルコニウ
ム)、窒化ケイ素、炭化ケイ素、ダイヤモンドおよび超
硬合金などの素材で形成されている。
また、ダイヤモンドホイールとは、周囲にダイヤモン
ドを焼結した回転する円筒状研削具をいう。
さらに、回転ブレード体とは、回転体と、この回転体
の回転軸に沿ってこの回転体の外周部に備えられた少な
くとも一枚のブレードとからなる研削具である。
上記のような処理により、研磨テープを用いた研磨処
理の硬化をさらに高めることができる。
なお、以上は表面平滑化処理が施された積層体は裁断
した後、磁性層の表面、または磁性層およびバック層の
表面を研磨テープによって研磨処理を行なう方法を主に
記載したが、本発明は、この順序に限定されるものでは
なく、たとえば、裁断しながら研磨処理する方法、ある
いは裁断する前に研磨処理する方法などを利用すること
ができる。
さらに、硬化処理を行なわなくとも徐々に硬化反応が
進行するので、表面平滑化処理後、特に硬化処理を行な
うことなく磁性層の表面、または磁性層およびバック層
の表面を研磨テープによる研磨処理を行なうことも可能
である。
次に、本発明に実施例および比較例を示す。なお、実
施例および比較例中の「部」との表示は、「重量部」を
示すものである。
[実施例1] 下記の磁性塗料組成物をボールミルで均一になるまで
混練分散して磁性塗料を調製した。
得られた磁性塗料の粘度を調整した後、磁性層の厚さ
が3.0μmになるように、厚さ10μmのポリエチレンテ
レフタレート支持体の表面にリバースロールを用いて塗
布した。
磁性塗料組成 六方晶系バリュウムフェライト 100部 (S BET比表面積:40m2/g,板状比:3) 塩化ビニル/酢酸ビニル/無水マレイン酸共重合体14部 (400×110A、日本ゼオン(株)製) ポリウレタン系樹脂 12部 (ニツポランN−2304、 日本ポリウレタン(株)製) ポリイソシアネート化合物 12部 (デスモジュールL−75、 バイエル社製) α−アルミナ 10部 ステアリン酸 5部 ステアリン酸ブチル 6部 カーボンブラック 1部 メチルエチルケトン 325部 別に下記のバック層形成塗料組成物をボールミルで均
一になるまで混練分散してバック層形成塗料を調製し
た。
得られたバック層形成塗料の粘度を調整した後、上記
の磁性塗料が塗布された支持体の裏面にバック層の厚さ
0.7μmになるように、リバースロールを用いて塗布し
た。
バック層形成塗料組成 カーボンブラック 35部 (平均粒子径:0.05μm) α−アルミナ 1.8部 (平均粒子径:0.15μm 最大粒子径:0.3μm) ニトロセルロース 20部 ポリウレタン系樹脂 10部 (ニツポランN−2304、 日本ポリウレタン(株)製) ポリイソシアネート化合物 10部 (コロネートL、 日本ポリウレタン(株)製)) メチルエチルケトン 600部 磁性塗料およびバック層塗料が塗布された非磁性支持
体を、磁性塗料が未乾燥の状態で3000ガウスの磁石で磁
場配向処理を行ない、さらに乾燥後、スーパーカレンダ
ー処理を行ない、非磁性支持体と磁性層およびバック層
とからなる積層体を調製した。
この積層体を60℃で24時間加熱処理を行ない磁性層中
に含有されるポリイソシアネート化合物を硬化させた
後、3.8mmにスリットし、。表面粗さRaが0.07の研磨テ
ープ(K−10000[研磨材Cr2O3]:富士写真フイルム
(株)製)で以下のように研磨処理を行なった後、スエ
ード調不織布を用いて拭き取り処理を施してDAT用テー
プを製造した。
研磨処理条件 第1図に示すように、研磨テープ2は、回転ロール8
によってテープの送りと反対方向に1.5cm/分の速さで移
動し、上部からパッド6によって押さえられることによ
テープの磁性層表面と接触し研磨処理が行なわれる。
[実施例2] 実施例1において、研磨テープによる研磨処理を行な
った後、下記の方法により磁性層表面をサファイヤブレ
ードで研削処理した以外は、実施例1と同様にしてDAT
用テープを製造した。
サファイヤブレード処理 先端の角度が60度のサファイヤブレード(幅:5mm、長
さ35mm、京セラ(株)製)と磁性層とを接触角度80度、
張力50g/3.8mmにて接触させて研削した。なお、磁性層
とサファイヤブレードとの接触はサファイヤブレード4
枚を一組として1回行なった。
[実施例3] 実施例1において、研磨テープによる研磨処理を行な
った後、下記の方法により磁性層表面をダイアモンドホ
イールで研削処理した以外は、実施例1と同様にしてDA
T用テープを製造した。
ダイアモンドホイール処理 鉄製の芯材の周囲に1.5mmの厚さにダイアモンドを焼
結させたダイアモンドホイール(直径25mm、幅25.6mm、
粒度2000番、オリエントダイヤ(株)製)を2000回転/
分で磁性層の走行方向と逆方向に回転させて、テープを
接触角度80度、張力50g/3.8mmにて接触させて硬化層の
表面を研削した。なお、磁性層とダイアモンドホイール
との接触は2回行なった。
[実施例4] 実施例1において、研磨テープによる研磨処理を行な
った後、下記の方法により磁性層表面を回転ブレード体
で研削処理した以外は、実施例1と同様にしてDAT用テ
ープ製造した。
回転ブレード体を用いた研削 円筒状の金属(長さ:35mm、直径:20mm、空洞の直径:1
2mm)の周囲に、長さ35mm、断面形状が1辺5mmの正三角
形の三角柱の形状を有するサファイヤブレードを1本備
えてなる回転ブレード体(ブレードの設置角θ:65度)
を用意した。
この回転ブレード体を1000回転/分で磁性層の走行方
向と逆方向に回転させて、積層体に張力50g/3.8mmの張
力を付与し、積層体の磁性層と回転ブレードとを接触角
度120度にて接触させて磁性層の表面を研削した。
[実施例5] 実施例1において、研磨テープによる研磨処理を行な
った後、上記の方法により磁性層表面を回転ブレード体
およびサファイヤブレードで研削処理した以外は、実施
例1と同様にしてDAT用テープを製造した。
[実施例6] 実施例1において、表面粗さRaが0.07の研磨テープ
(K−10000[研磨材Cr2O3]:富士写真フイルム(株)
製)の代わりに表面粗さRaが0.07の研磨テープ(A−20
00[研磨材α−Al2O3]:富士写真フイルム(株)製)
で研磨処理を行なった後、下記の方法により磁性層表面
をサファイヤブレードで研削処理した以外は、実施例1
と同様にしてDAT用テープを製造した。
[比較例1] 実施例1において、研磨テープによる研磨処理および
スエード調不織布を用いての拭き取り処理行なわなかっ
た以外、実施例1と同様にしてDAT用テープを製造し
た。
評価方法 出力低下:得られたDAT用テープを使って、5℃、30
%RHの雰囲気内において、DATデッキ(DTC−1000ES、SO
NY(株)製)で30分長の記録をし、再生を10回繰り返し
行ない、記録時の出力に対して最初の1回目の再生出力
を0dBとしたときの10回目の再生出力を測定した。
目詰まり:出力低下と同じ方法でテープを走行させ瞬
間目詰まり、完全目詰まりの評価をした。目詰まりの評
価基準(AA:瞬間目詰まり0〜3,BB:瞬間目詰まり4〜1
0,CC:瞬間目詰まり多数) ブロックエラー率:エラーレートを評価するため、得
られたDAT用テープを上記DATデッキを使ってブロックエ
ラー率(再生信号からC1信号を取り出し、C1信号につい
ての全ブロックに対するエラーブロックの割合:C1エラ
ー)を測定した。
なお、以下に示す実施例及び比較例において、出力低
下、瞬間目詰まり及び上記の方法により測定したもので
ある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に従う研磨処理、研削処理および拭き取
り処理工程の一例の概略図である。 1:送り出しロール、2:研磨テープ、3:固定ブレード、4:
不織布、5:巻き取りロール、6:パッド(研磨テープ
用)、7:パッド(不織布用)8:回転ロール(研磨テープ
用)、9:回転ロール(不織布用)、10:送りロール

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】非磁性支持体上に塗設された、六方晶系フ
    ェライトの強磁性粉末が結合剤に分散されてなる磁性層
    を表面平滑化処理したのち、該磁性層の表面を研磨テー
    プにより研磨処理することを特徴とする磁気記録媒体の
    製法。
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