JPH08166043A

JPH08166043A - 防振装置

Info

Publication number: JPH08166043A
Application number: JP7083577A
Authority: JP
Inventors: Yutaka Hayashi; 豊林
Original assignee: Nikon Corp
Current assignee: Nikon Corp
Priority date: 1994-10-11
Filing date: 1995-04-10
Publication date: 1996-06-25

Abstract

(57)【要約】【目的】定盤等のベース部材の底面に配置された複数
個の防振パッドのそれぞれからそのベース部材に作用す
る反力のバランスを所望の状態に維持する。【構成】床１上に第１組の上下動機構３Ａ、防振パッ
ド４Ａ、加重センサ５Ａ、第２組の上下動機構３Ｂ、防
振パッド４Ｂ、加重センサ５Ｂ等を介して定盤６を設置
し、定盤６上にウエハステージ２０等を載置する。変位
センサ１０、及びレベルセンサ２３で検出される定盤６
の高さ、及び傾斜角に基づいて、且つ加重センサ５Ａ，
５Ｂにより検出される反力のバランスが所望の状態とな
るように上下動機構３Ａ，３Ｂを介して防振パッド４
Ａ，４Ｂの高さを調整する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばマスクパターン
を感光基板上に露光するための露光装置の防振台に適用
して好適な防振装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体素子、又は液晶表示素
子等を製造するためのリソグラフィ工程において、マス
クとしてのレチクルのパターンをフォトレジストが塗布
されたウエハ（又はガラスプレート等）の各ショット領
域に転写露光する露光装置（ステッパ等）が使用されて
いる。例えばステッパのような一括露光方式の露光装置
において、レチクルのパターンをウエハの各ショット領
域に露光する際には、レチクルとウエハとをほぼ完全に
静止させておく必要がある。そこで、床からの振動が露
光装置の定盤より上の部分（露光本体部）にそのまま伝
わらないように、その定盤は床上に防振台を介して設置
されている。

【０００３】また、最近は、投影光学系を大型化するこ
となく、より広いレチクルのパターンをウエハ上に露光
するために、レチクルを投影光学系の光軸に垂直な方向
に走査するのと同期して、それに対応する方向にウエハ
を投影光学系の倍率と同じ速度比で走査することによ
り、レチクルのパターンをウエハ上に逐次露光するステ
ップ・アンド・スキャン方式等の走査露光型の露光装置
も注目されている。このような走査露光型の露光装置で
は、露光中にレチクルとウエハとをそれぞれ一定の速度
で安定に走査する必要があるため、やはり防振台を介し
て床からの振動を排除する必要がある。

【０００４】露光装置で使用されている従来の防振台
は、床上の四角形の４個の頂点の位置にそれぞれ防振パ
ッドを配置して構成され、それら４個の防振パッド上に
露光装置の定盤が設置されている。その防振パッドとし
ては、空気式ダンパ、又はダンピング液中に圧縮コイル
ばねを入れた機械式ダンパ等が使用され、防振パッド自
体が或る程度のセンタリング機能を備えている。また、
露光装置では高さ調整、及び水平レベル調整を行う必要
があるため、それら４個の防振パッドにはそれぞれ機械
式の上下動機構が備えられている。例えば露光装置の設
置場所を変更したような場合には、床の平面度及び傾斜
状態が変化して露光本体部の傾斜状態も変化するため、
それを元の状態に戻すために上下動機構を介して防振パ
ッドの高さ調整が行われる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】上記の如き従来の防振
台においては、４個の防振パッドのそれぞれに設けられ
た上下動機構を調整することにより、露光本体部の高さ
及び水平レベル調整を行うことができる。この場合、平
面は３点で決定されるが、防振パッドは上下方向に伸縮
できるため、４個の防振パッドの上端がそれぞれその定
盤の底面に接触している。しかしながら、それら上下動
機構を調整すると、各防振パッドの伸縮量が変化して、
各防振パッドから露光装置の定盤に対する反力のバラン
スが変化するために定盤が変形し、結果としてその定盤
上のステージの位置決め精度等が悪化するという不都合
があった。

【０００６】また、防振パッドを設けた場合には床から
露光本体部に向かう振動はほとんど遮断できるが、露光
本体部内で例えばウエハステージのステッピング動作等
によって発生する振動が減衰するまでに比較的長い時間
がかかるため、その振動が減衰するまでの待ち時間が必
要となり、露光工程のスループット（生産性）が高めら
れないという不都合があった。

【０００７】本発明は斯かる点に鑑み、定盤等のベース
部材の底面に配置された複数個の防振パッドのそれぞれ
からそのベース部材に作用する反力のバランスを所望の
状態に維持できる防振装置を提供することを目的とす
る。更に本発明は、それら防振パッドの上に載置される
ベース部材上で生ずる振動を迅速に減衰させることがで
きる防振装置を提供することをも目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明による第１の防振
装置は、例えば図１〜図３に示すように、処理対象物が
載置されるベース部材（６）と、このベース部材と設置
面との間の互いに異なる位置に配置される３個以上の複
数の防振パッド（４Ａ〜４Ｄ）と、これら複数の防振パ
ッドのそれぞれに対するベース部材（６）からの荷重を
検出する複数の荷重センサ（５Ａ〜５Ｄ）と、これら複
数の荷重センサの検出結果に応じてそれら複数の防振パ
ッドのそれぞれの高さを調整する複数の高さ調整手段
（３Ａ〜３Ｄ）と、を有するものである。

【０００９】この場合、複数の防振パッド（４Ａ〜４
Ｄ）とそれぞれ並列に、ベース部材（６）と設置面との
間にそのベース部材の高さ方向の振動を抑制する複数の
振動抑制手段（７Ａ〜７Ｄ）を配置することが望まし
い。また、本発明の第２の防振装置は、例えば図１〜図
３に示すように、ベース部材（６）と、このベース部材
上に固定されて処理対象物を互いに交差する第１の方向
及び第２の方向に位置決めする移動ステージ（２０）と
を有するステージ装置用の防振装置において、ベース部
材（６）と設置面との間で互いに異なる位置に配置され
る４個の防振パッド（４Ａ〜４Ｄ）と、これら４個の防
振パッドのそれぞれに対するベース部材（６）からの荷
重を検出する４個の荷重センサ（５Ａ〜５Ｄ）と、これ
ら４個の荷重センサの検出結果に応じてそれら４個の防
振パッド（４Ａ〜４Ｄ）のそれぞれの高さを調整する４
個の高さ調整手段（３Ａ〜３Ｄ）と、これら４個の高さ
調整手段のそれぞれと並列に設けられベース部材（６）
の高さ方向への振動を抑制する４個の第１の振動抑制手
段（７Ａ〜７Ｄ）と、その第１の方向に対するベース部
材（６）の振動を抑制する２個以上の第２の振動抑制手
段（３２Ａ，３２Ｂ）と、その第２の方向に対するベー
ス部材（６）の振動を抑制する１個以上の第３の振動抑
制手段（３２Ｃ）と、を有するものである。

【００１０】この場合、その第１の方向に対するベース
部材（６）の振動を抑制する第２の振動抑制手段（３２
Ａ，３２Ｂ）の作用点（ＡＰ，ＢＰ）、及びその第２の
方向に対するベース部材（６）の振動を抑制する第３の
振動抑制手段（３２Ｃ）の作用点（ＣＰ）の高さを共
に、ベース部材（６）及び移動ステージ（２０）よりな
る系の重心（Ｇ）の高さと実質的に等しくすることが望
ましい。

【００１１】また、上述の第１及び第２の防振装置を露
光装置に適用した場合、処理対象物が感光基板となり、
ベース部材（６）上にその感光基板にマスクパターンを
露光する露光部が載置される。

【００１２】

【作用】斯かる本発明の第１の防振装置によれば、例え
ば装置の設置場所を変更する場合には、設置面（床等）
の平面度及び傾斜が変わるため、防振パッド（４Ａ〜４
Ｄ）の高さ調整手段（３Ａ〜３Ｄ）を用いてベース部材
（６）の高さ及び水平レベルの調整作業を行う。例えば
防振パッドが４個以上ある場合、ベース部材（６）を所
定の高さ及び水平レベルにするための複数の高さ調整手
段（３Ａ〜３Ｄ）による高さ調整量の組合せは何通りも
可能なため、組合せによってはベース部材（６）が防振
パッドより受ける反力のバランスが変化してしまう。

【００１３】そこで本発明においては、防振パッドより
受ける反力を直接加重センサ（５Ａ〜５Ｄ）で測定し、
各防振パッドから受ける反力のバランスが変化しないよ
うに各高さ調整手段（３Ａ〜３Ｄ）での調整量を制御す
る。これによりベース部材（６）の変形が防止される。
更に、複数の防振パッド（４Ａ〜４Ｄ）とそれぞれ並列
に、ベース部材（６）と設置面との間にそのベース部材
の高さ方向の振動を抑制する複数の振動抑制手段（７Ａ
〜７Ｄ）を配置した場合、ベース部材（６）の上部で発
生した振動をその振動抑制手段で減衰させる。

【００１４】また、本発明の第２の防振装置によれば、
４個の加重センサ（５Ａ〜５Ｄ）で計測される反力のバ
ランスを所定の状態に設定するように、４個の高さ調整
手段（３Ａ〜３Ｄ）を介して４個の防振パッド（４Ａ〜
４Ｄ）の高さを調整する。更に、高さ方向の振動を抑制
する４個の第１の振動抑制手段（７Ａ〜７Ｄ）と、第１
の方向に対する振動を抑制する２個以上の第２の振動抑
制手段（３２Ａ，３２Ｂ）と、第２の方向に対する振動
を抑制する１個以上の第３の振動抑制手段（３２Ｃ）と
により、ベース部材（６）上で発生する６個以上の自由
度を有する振動が抑制される。

【００１５】この場合、その第１の方向に対するベース
部材（６）の振動を抑制する第２の振動抑制手段（３２
Ａ，３２Ｂ）の作用点（ＡＰ，ＢＰ）、及びその第２の
方向に対するベース部材（６）の振動を抑制する第３の
振動抑制手段（３２Ｃ）の作用点（ＣＰ）の高さを共
に、ベース部材（６）及び移動ステージ（２０）よりな
る系の重心（Ｇ）の高さと実質的に等しくしたときに
は、その第１の方向の回り及び第２の方向の回りの回転
発生が抑制される。また、その第１の方向及び第２の方
向に垂直な方向（Ｚ方向）の回りの回転、並びにその第
１の方向及び第２の方向への並進移動を、第２の振動抑
制手段（３２Ａ，３２Ｂ）及び第３の振動抑制手段（３
２Ｃ）で制御できるため、軸間干渉が最小限に抑制され
る。

【００１６】

【実施例】以下、本発明による防振装置の一実施例につ
き図面を参照して説明する。本実施例は、ステッパー型
の投影露光装置の防振台に本発明を適用したものであ
る。図１は、本例の投影露光装置の正面図を示し、この
図１において、設置面としての床１の上に４個の台座２
Ａ，２Ｂ，…（図１では２Ａ，２Ｂのみが現れている、
以下同様）が設置され、これら４個の台座２Ａ，２Ｂ，
…上にそれぞれ上下動機構３Ａ〜３Ｃを介して防振パッ
ド４Ａ〜４Ｄが設置され、これら防振パッド４Ａ〜４Ｄ
上に加重センサ５Ａ〜５Ｄを介して投影露光装置の定盤
６が設置されている。ここで、後述のように本実施例で
は投影光学系２５が使用されているため、投影光学系２
５の光軸に平行にＺ軸を取り、Ｚ軸に垂直な平面内で図
１の紙面に平行にＸ軸を、図１の紙面に垂直にＹ軸を取
る。

【００１７】図３は、図１のＡＡ線に沿う断面図を示
し、この図３に示すように、上下動機構３Ａ〜３Ｄ、防
振パッド４Ａ〜４Ｄ、及び加重センサ５Ａ〜５Ｄは、そ
れぞれ定盤６の四角形の底面の４個の頂点付近に配置さ
れている。上下動機構３Ａ〜３Ｄとしては、例えばねじ
を駆動モータにより回転させて高さを調整する電動式の
高さ調整機構が使用され、上下動機構３Ａ〜３ＤのＺ方
向への高さ調整量は、装置全体の動作を統轄制御する制
御装置１１により制御される。また、防振パッド４Ａ〜
４Ｄとしては、空気式ダンパ、又はダンピング液中に圧
縮コイルばねを入れた機械式ダンパ等が使用される。防
振パッド４Ａ〜４Ｄとして空気式ダンパを使用する場
合、空気の圧力により防振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを調
整できるため、その空気式ダンパはそれぞれ上下動機構
３Ａ〜３Ｄと防振パッド４Ａ〜４Ｄとを兼用できること
になる。また、加重センサ５Ａ〜５Ｄとしては、歪みゲ
ージ等からなるロードセルが使用でき、加重センサ５Ａ
〜５Ｄにより計測される定盤６からの加重、即ち、防振
パッド４Ａ〜４Ｄから定盤６に対するＺ方向への反力が
制御装置１１に供給されている。

【００１８】図１に戻り、台座２Ａと定盤６との間に防
振パッド４Ａと並列にアクチュエータ７Ａが設置されて
いる。アクチュエータ７Ａは、台座２Ａ上に固定された
固定子９Ａと定盤６の底面に固定された可動子８Ａとよ
り構成され、制御装置１１からの指示に応じてアクチュ
エータ７Ａは、台座２Ａから定盤６の底面に対するＺ方
向への付勢力、又は定盤６の底面から台座２Ａに向かう
吸引力を発生する。他の防振パッド４Ｂ〜４Ｄにおいて
も、防振パッド４Ａと同様にそれぞれ並列にアクチュエ
ータ７Ｂ〜７Ｄが設置され、これらアクチュエータ７Ｂ
〜７Ｄの付勢力又は吸引力もそれぞれ制御装置１１によ
り設定される。アクチュエータ７Ａ〜７Ｄは同一構成で
あるため、アクチュエータ７Ａの構成につき説明する。

【００１９】図２（ａ）は本例のアクチュエータ７Ａを
示し、この図２（ａ）において、固定子９Ａは、Ｎ極の
軸９Ａａの両側にＳ極の軸９Ａｂ，９Ａｃが形成された
発磁体よりなる。また、可動子８Ａは、軸９Ａａに遊嵌
する内筒１２、この内筒１２の外側に巻回されたコイル
１３、及びこのコイル１３を覆う外筒１４より構成さ
れ、コイル１３に流れる電流を調整することにより、固
定子９Ａと可動子８Ａとの間に軸９Ａａに平行な方向
（±Ｚ方向）への力が発生する。

【００２０】図２（ｂ）はそのアクチュエータ７Ａの別
の例を示し、この図２（ｂ）において、第１部材１５に
磁性体の固定子１６が固定され、第２部材１７に固定子
１６を挟むように内筒１８Ａ及び１８Ｂが固定され、内
筒１８Ａ及び１８Ｂの外側にそれぞれコイル１９Ａ及び
１９Ｂが巻回されている。この場合も、コイル１９Ａ及
び１９Ｂに流す電流を調整することにより、第１部材１
５と第２部材１７との間の吸引力のバランスを変化させ
て力を発生する。

【００２１】図１に戻り、床１と定盤６の底面の中央部
との間に、床１に対する定盤６のＺ方向への変位を検出
するための変位センサ１０が設置され、変位センサ１０
の検出結果も制御装置１１に供給されている。変位セン
サ１０としては、例えば分解能０．１ｍｍ程度のポテン
ショメータ、又は光電式のリニアエンコーダ等が使用で
きる。

【００２２】また、定盤６上にウエハステージ２０が固
定され、ウエハステージ２０上にウエハホルダ２１を介
してウエハ２２が吸着保持されている。定盤６上でその
ウエハステージ２０を囲むように第１コラム２４が植設
され、第１コラム２４の上板の中央部に投影光学系２５
が固定され、第１コラム２４の上板に投影光学系２５を
囲むように第２コラム２６が植設され、第２コラム２６
の上板の中央部にレチクルステージ２７を介してレチク
ル２８が載置されている。ウエハステージ２０は、３次
元的にウエハ２２の位置決めを行うと共に、ウエハ２２
の回転、及びレベリングを行う機能を有し、レチクルス
テージ２７は、レチクル２８の２次元的な位置の微調
整、及び回転角の調整を行う機能を有する。レチクル２
８の上方に照明光学系２９が配置され、照明光学系２９
からの露光用の照明光のもとで、レチクル２８のパター
ンの投影光学系２５を介した像がウエハ２２の各ショッ
ト領域に順次露光される。

【００２３】図３に示すように、第１コラム２４は４本
の脚部２４ａ〜２４ｄにより定盤６上に接触している。
また、定盤６上のウエハステージ２０の近傍に水平面か
らの傾斜角のずれ量を検出するためのレベルセンサ２
３、及び定盤６の加速度を検出するための加速度センサ
３０が設置され、レベルセンサ２３及び加速度センサ３
０による検出結果が制御装置１１に供給されている。加
速度センサ３０は、Ｘ方向、Ｙ方向、及びＺ方向への加
速度の他に、ピッチング（ＸＺ平面内の回転）、ヨーイ
ング（ＹＺ平面内の回転）、及びＸＹ平面内での回転方
向の加速度（角加速度）を検出する機能を有する。即
ち、加速度センサ３０は、６個の自由度を有する加速度
を検出する機能を有する。

【００２４】更に、定盤６の−Ｘ方向の側面に可動軸３
５Ａが埋め込まれ、可動軸３５Ａと床上に固定された支
柱３１Ａとの間にアクチュエータ３２Ａが取り付けられ
ている。アクチュエータ３２Ａは、アクチュエータ７Ａ
と同様に、支柱３１Ａに固定された発磁体よりなる固定
子３４Ａと、可動軸３５Ａに取り付けられたコイルを含
む可動子３３Ａとより構成され、制御装置１１から可動
子３３Ａ内のコイルに流れる電流を調整することによ
り、可動軸３５Ａに対して＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に力を
与えることができる。

【００２５】同様に、定盤６の＋Ｘ方向の側面に可動軸
３５Ｂが埋め込まれ、可動軸３５Ｂと床上に固定された
支柱３１Ｂとの間に、アクチュエータ３２Ａと同一構成
のアクチュエータ３２Ｂが取り付けられ、制御装置１１
からの指示により可動軸３５Ｂに対して＋Ｙ方向又は−
Ｙ方向に力を与えることができるようになっている。ま
た、定盤６の＋Ｘ方向の側面の中央部と床上の支柱３１
Ｃとの間に、固定子３４Ｃと可動子３３Ｃとからなるア
クチュエータ３２Ｃが設置され、制御装置１１からの指
示によりアクチュエータ３２Ｃを介して定盤６に対して
＋Ｘ方向、又は−Ｘ方向に力を与えることができる。

【００２６】また、図１に戻り、支柱３１Ａ，３１Ｂ及
び３１Ｃはそれぞれ床上に第１コラム２４に沿って植設
されている。そして、定盤６、ウエハステージ２０、ウ
エハホルダ２１、１コラム２４、投影光学系２５、第２
コラム２６、及びレチクルステージ２７よりなる系の重
心が位置Ｇにあるとする。更に、アクチュエータ３２
Ａ，３２Ｂによる可動軸３５Ａ，３５Ｂの第１コラム２
４との接続部の中心をそれぞれ作用点ＡＰ及びＢＰとし
て、図３に示すように、アクチュエータ３２Ｃの可動子
３４Ｃの第１コラム２４との接続部の中心を作用点ＣＰ
とする。このとき本例では、３つの作用点ＡＰ，ＢＰ及
びＣＰのＺ方向の位置をそれぞれその重心位置Ｇに対し
てＺ方向で同じ位置（高さ）に設定する。

【００２７】次に本実施例の動作につき説明する。先
ず、本実施例では、図１及び図３に示すように、荷重セ
ンサ５Ａ〜５Ｄで計測された各防振パッド４Ａ〜４Ｄ毎
の定盤６に対する反力は、制御装置１１に伝えられてい
る。また、定盤６上のレベルセンサ２３で計測された定
盤９の水平レベル、及び変位センサ１０で計測された定
盤６の高さも制御装置１１に伝えられている。これらの
データを基に制御装置１１は、定盤６の高さ及び水平レ
ベル（傾斜角）をそれぞれ予め設定されている値にする
ための、各防振パッド４Ａ〜４Ｄの高さを算出する。そ
の際、各防振パッド４Ａ〜４Ｄから定盤６に伝えられる
反力のバランスが、予め設定されている状態になるよう
各防振パッド４Ａ〜４Ｄの高さは決められる。その後、
制御装置１１は、上下動機構３Ａ〜３Ｄを介して防振パ
ッド４Ａ〜４Ｄの高さをそれぞれその算出された高さに
設定する。その後、防振パッド４Ａ〜４Ｄの高さはそれ
ぞれその設定値に維持される。これにより、定盤６に歪
みが生ずることがなく、定盤６上のウエハステージ２０
の位置決め精度等が高精度に維持される。

【００２８】次に、図３に示すように、定盤６上の加速
度センサ３０により検出される６自由度の加速度の情報
が制御装置１１に供給されている。そこで、制御装置１
１は、その６自由度の加速度をそれぞれ０にするよう
に、Ｚ方向用の４個のアクチュエータ７Ａ〜７Ｄ、Ｙ方
向用の２個のアクチュエータ３２Ａ，３２Ｂ、及びＸ軸
用の１個のアクチュエータ３２Ｃを駆動する。これによ
って、定盤６上の露光本体部の６自由度の搖れを止める
ことができる。

【００２９】このとき、Ｘ軸用のアクチュエータ３２Ｃ
の作用点ＣＰ、及びＹ軸用の２個のアクチュエータ３２
Ａ，３２Ｂの作用点ＡＰ，ＢＰは、本例の定盤６上の振
動系（振動抑制対象物）の重心位置Ｇに対してＺ方向で
ほぼ等しい位置（高さ）に設置されている。従って、Ｘ
軸及びＹ軸回りの回転を発生させることなくＺ軸回りの
回転、並びにＸ軸、及びＹ軸方向の並進振動をＸ軸用の
アクチュエータ３２Ｃ及びＹ軸用のアクチュエータ３２
Ａ，３２Ｂで制御することができるため、軸間干渉が最
小限に抑制される。

【００３０】なお、上述実施例では、Ｘ軸用のアクチュ
エータ３２Ｃの作用点ＣＰ、及びＹ軸用のアクチュエー
タ３２Ａ，３２Ｂの作用点ＡＰ，ＢＰは、重心位置Ｇに
対してほぼ同じ高さに設定されているが、或る程度の軸
間干渉が許容できる場合には、必ずしもそれらの作用点
ＡＰ〜ＣＰの高さを重心位置Ｇに合わせる必要はない。
また、例えばＸ軸用のアクチュエータ３２Ｃの作用点Ｃ
Ｐのみを重心位置Ｇに対してほぼ同じ高さに設定するよ
うにしてもよい。

【００３１】なお、上述実施例はステッパー方式の投影
露光装置に本発明を適用したものであるが、本発明はス
テップ・アンド・スキャン方式等の走査露光型の投影露
光装置にも適用できる。特に、走査露光型では走査露光
の開始時に大きな加速度が発生するため、本例のように
定盤６の搖れを止めるアクチュエータが備えられている
防振台は有効である。

【００３２】また、図１では上下動機構３Ａ〜３Ｄとは
別にＺ方向用のアクチュエータ７Ａ〜７Ｄが設けられて
いるが、上下動機構３Ａ〜３Ｄでそのアクチュエータを
兼用してもよい。但し、防振パッド４Ａ〜４Ｄと並列に
配置されたアクチュエータ７Ａ〜７Ｄを使用することに
より、少ない力で、且つ高い応答速度で定盤６の搖れを
抑制できる利点がある。更に、定盤６の底面には４個以
上の防振パッドを配置してもよく、６自由度以上のアク
チュエータを配置してもよい。

【００３３】このように、本発明は上述実施例に限定さ
れず、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の構成を取
り得る。

【００３４】

【発明の効果】本発明の第１の防振装置によれば、加重
センサの検出結果に応じて高さ調整手段の調整量を制御
するようにしているため、複数の防振パッドからベース
部材（定盤）に対する反力のバランスを所望の状態に維
持でき、ベース部材で発生する歪みを少なくできる利点
がある。

【００３５】また、振動抑制手段を設けることにより、
ベース部材上で発生する振動を抑制できる利点がある。
特に、その振動抑制手段を防振パッドと並列に配置する
場合には、少ない力で且つ高い応答速度でそのベース部
材上で発生する振動を抑制できる。次に、本発明の第２
の防振装置によれば、防振パッドからベース部材に対す
る反力のバランスを所望の状態に設定できると共に、合
計で７個以上の振動抑制手段を介してベース部材上で発
生する６自由度の振動を迅速に抑制できる利点がある。
従って、ベース部材上の移動ステージの位置決め精度が
高精度に維持される。

【００３６】また、第１の方向に対するベース部材の振
動を抑制する第２の振動抑制手段の作用点、及び第２の
方向に対するベース部材の振動を抑制する第３の振動抑
制手段の作用点の高さを共に、そのベース部材及び移動
ステージよりなる系の重心の高さと実質的に等しくした
ときには、軸干渉を最小限に抑制できる。特に本発明を
露光装置に適用すると、設置場所を変更したような場合
でも、露光本体部（定盤、ウエハステージ等）に変形が
生じさせることなく、水平レベル調整ができる。更に、
露光本体部に新機能を追加するため新たな機構を追加し
て露光本体部の重心が変化する際にも、防振パッドから
の反力バランスの変化が最小になるよう高さ調整手段を
制御できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による防振装置の一実施例が適用された
投影露光装置を示す正面図である。

【図２】（ａ）はアクチュエータ７Ａの一例を示す拡大
断面図、（ｂ）はアクチュエータ７Ａの他の例を示す拡
大断面図である。

【図３】図１のＡＡ線に沿う断面図である。

【符号の説明】

３Ａ〜３Ｄ上下動機構４Ａ〜４Ｄ防振パッド５Ａ〜５Ｄ加重センサ６定盤７Ａ〜７Ｄ，３２Ａ〜３２Ｃアクチュエータ１０変位センサ１１制御装置２０ウエハステージ２２ウエハ２３レベルセンサ２５投影光学系２８レチクル２９照明光学系３０加速度センサ３１Ａ〜３１Ｃ支柱

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】処理対象物が載置されるベース部材と、該ベース部材と設置面との間の互いに異なる位置に配置
される３個以上の複数の防振パッドと、該複数の防振パッドのそれぞれに対する前記ベース部材
からの荷重を検出する複数の荷重センサと、該複数の荷重センサの検出結果に応じて前記複数の防振
パッドのそれぞれの高さを調整する複数の高さ調整手段
と、を有することを特徴とする防振装置。
【請求項２】前記複数の防振パッドとそれぞれ並列
に、前記ベース部材と設置面との間に前記ベース部材の
高さ方向の振動を抑制する複数の振動抑制手段を配置す
ることを特徴とする請求項１記載の防振装置。
【請求項３】ベース部材と、該ベース部材上に固定さ
れて処理対象物を互いに交差する第１の方向及び第２の
方向に位置決めする移動ステージとを有するステージ装
置用の防振装置において、前記ベース部材と設置面との間で互いに異なる位置に配
置される４個の防振パッドと、該４個の防振パッドのそれぞれに対する前記ベース部材
からの荷重を検出する４個の荷重センサと、該４個の荷重センサの検出結果に応じて前記４個の防振
パッドのそれぞれの高さを調整する４個の高さ調整手段
と、該４個の高さ調整手段のそれぞれと並列に設けられ前記
ベース部材の高さ方向への振動を抑制する４個の第１の
振動抑制手段と、前記第１の方向に対する前記ベース部材の振動を抑制す
る２個以上の第２の振動抑制手段と、前記第２の方向に対する前記ベース部材の振動を抑制す
る１個以上の第３の振動抑制手段と、を有することを特
徴とする防振装置。
【請求項４】前記第１の方向に対する前記ベース部材
の振動を抑制する前記第２の振動抑制手段の作用点、及
び前記第２の方向に対する前記ベース部材の振動を抑制
する前記第３の振動抑制手段の作用点の高さを共に、前
記ベース部材及び前記移動ステージよりなる系の重心の
高さと実質的に等しくしたことを特徴とする請求項３記
載の防振装置。
【請求項５】前記処理対象物が感光基板であり、前記
ベース部材上に前記感光基板にマスクパターンを露光す
る装置が載置されることを特徴とする請求項１、２、３
又は４記載の防振装置。