JP2005166996A - 基板処理装置及びデバイスの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 基礎部上にエアマウント等を介して主要部を戴置する装置において、装置に大きな振動が加わった際に、装置に大きな衝撃を与えることなく主要部と基礎部とを固定することにより、装置の損壊を回避することができる基板処理装置等を提供する。
【解決手段】 床部Ｆに固定された基礎部２００と、基礎部２００に対して振動的に分離されて支持された主要部１５０とを有する基板処理装置ＥＸにおいて、基礎部２００に対する主要部１５０の床部Ｆに沿った第１方向の運動を許容しつつ、第１方向と略直交し床部に沿った第２方向の運動を弾性を持って拘束可能な固定装置３４０と、固定装置３４０の拘束状態と非拘束状態とを床部の振動状態に応じて切り替える制御装置ＣＯＮＴとを有する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、基礎部上に防振パッド等を介して主要部を支持する基板処理装置、特に、高集積半導体回路素子の製造のためのリソグラフィ工程で用いられる露光装置に関する技術である。

主要部が外部の振動の影響を受けることを嫌う機械装置の場合は、機械装置の基礎部上に防振パッドを介して主要部を支持することにより、主要部を基礎部から振動的に遮断し、主要部が外部の機械の振動または近隣の道路等を通行する自動車等による振動の影響を受けないようにしている。
例えば、半導体デバイスの製造過程で用いられる露光装置の場合には、外部からの振動の影響を遮断するために、露光装置の土台となる基礎部を床部に固定して据え付け、その基礎部の上にエアマウントを介して、投影光学系やレチクルステージ等を含む主要部を非接触に戴置している。
上記の様な機械装置及び露光装置において、地震等に伴う大きな振動が装置に加わった場合には、防振パッドやエアマウント上の主要部が脱落し、装置内外に重大な損傷を与えることが予測される。このため、基礎部と主要部との間にストッパ装置を設け、地震等の大きな振動が加わった際に動作させて、主要部と可動部とを確実に固定し、露光装置等の損壊、或いはその周辺に与える影響を回避している。
特開平１１−１５９５７１号公報

しかしながら、従来の技術では、装置に大きな振動が加わった際に、ストッパ装置を動作させると、ストッパ装置を介して基礎部と主要部とが激しく衝突し、装置が損壊してしまう場合があった。すなわち、ストッパ装置は、主要部と基礎部との相対移動を瞬時に停止させなければならないが、急激に主要部と基礎部との相対移動を停止させると、却って主要部或いは基礎部に壊滅的な衝撃を与えることとなり、装置が損壊してしまう可能性があった。

本発明は、上述した事情に鑑みてなされたもので、基礎部上にエアマウント等を介して主要部を戴置する装置において、装置に大きな振動が加わった際に、装置に大きな衝撃を与えることなく主要部と基礎部とを固定（拘束）することにより、装置の損壊を回避することができる基板処理装置、及びデバイスの製造方法を提供することを目的とする。

本発明に係る基板処理装置及びデバイスの製造方法では、上記課題を解決するために以下の手段を採用した。
第１の発明は、床部（Ｆ）に固定された基礎部（２００）と、基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部（１５０）とを有する基板処理装置（ＥＸ）において、基礎部に対する主要部の床部に沿った第１方向（Ｘ方向）の運動を許容しつつ、第１方向と略直交し床部に沿った第２方向（Ｙ方向）の運動を弾性を持って拘束可能な固定装置（３４０）と、固定装置（３４０）の拘束状態と非拘束状態とを床部の振動状態に応じて切り替える制御装置（ＣＯＮＴ）とを有するようにした。この発明によれば、床部の振動状態に応じて主要部の拘束と非拘束とを切り替えて、基板処理装置に損傷を与えるおそれのある床振動が発生した場合に主要部を拘束することができる。そして、基礎部に対する主要部の第２方向の移動は弾性を持って拘束し、第１方向の移動は拘束しないので、拘束に際して主要部に衝撃を与えず、基板処理装置を損壊することはない。

また、固定装置（３４０）は、主要部（１５０）と基礎部（２００）との何れか一方に設けられた被固定部材（３５０，３５２）と、主要部と基礎部との何れか他方に設けられ、被固定部材を第２方向（Ｙ方向）に挟持した状態で第１方向（Ｘ方向）に移動可能な固定部材（３４０Ａ〜３４０Ｄ）とを有するものでは、被固定部材における第２方向の両側に固定部材を配置することにより、被固定部材の第２方向への移動を容易に拘束することができる。更に被固定部材を挟んだ状態で第１方向に移動できるので、主要部の運動の一部を第１方向への移動に逃がすことができる。
また、固定部材（３４０Ａ〜３４０Ｄ）は、被固定部材（３５０，３５２）に対してそれぞれ独立に駆動されて被固定部材（３５０，３５２）を挟持する２つの固定子（３４３Ａ〜３４３Ｄ）を有するものでは、被固定部材の第２方向の両側に配置した各固定子が独立して駆動されるので、各固定子が一体となって駆動する場合のように何れか一方の固定子のみが被固定部材と当接するのではなく、全ての固定子が被固定部材と当接して、第２方向への移動を拘束することができる。
また、固定子（３４３Ａ〜３４３Ｄ）は、被固定部材（３５０，３５２）に対向する面（３４３Ａｓ〜３４３Ｄｓ）に弾性体（３４４Ａ〜３４４Ｄ）を有するものでは、固定子が被固定部材と当接する際に、弾性体が変形するので、衝突時の衝撃を緩和することができる。
また、固定部材（３４０Ａ〜３４０Ｄ）と被固定部材（３５０，３５２）との少なくとも一方は、主要部（１５０）と基礎部（２００）との何れか一方に弾性体（３４６Ａ〜３４６Ｄ）を介して支持されるものでは、固定部材或いは被固定部材に伝わる衝撃が弾性体の変形により緩和される。
また、第２方向（Ｙ方向）の運動を許容し、第１方向（Ｘ方向）の運動を弾性を持って拘束する第２固定装置（３２０）を有するものでは、固定装置によって拘束されない主要部の第１方向の運動を第２固定装置によって弾性を持って拘束することができるので、主要部に衝撃を与えることなく主要部の水平方向の運動（Ｘ，Ｙ方向の並進、θＺ方向の回転）を完全に拘束することができる。

第２の発明は、床部（Ｆ）に固定された基礎部（２００）と、基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部（４０）とを有する基板処理装置（ＥＸ）において、基礎部と主要部とのいずれか一方に設置され、基礎部に対する主要部の拘束と非拘束とを切り替え可能な固定装置（４３０）と、固定装置による主要部の拘束と非拘束とを床部の振動状態に応じて切り替える制御装置（ＣＯＮＴ）とを備え、固定装置は、基礎部と主要部とのいずれか他方に接触して摩擦力により主要部の運動を抑制する平板部（４３３ｂ）と、基礎部と主要部とのいずれか他方と係合して、主要部の可動範囲を限定する係合部（４３３ａ）とを有する固定部材を備えるようにした。この発明によれば、固定装置を動作させると、固定部材の平板部が主要部の運動を抑制し、更に係合部が主要部の可動範囲を限定するので、拘束時の衝撃を緩和することできる。

第３の発明は、床部（Ｆ）に固定された基礎部（２００）と、基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部（４０，１５０）とを有する基板処理装置（ＥＸ２）において、床部の振動状態に応じて、基礎部と主要部との間に介在して基礎部と主要部との相対移動を拘束するエアバッグ（３７２，４７２）を有するようにした。この発明によれば、基礎部と主要部との間に配置したエアバッグは、基礎部及び主要部に徐々に接触し、膨らみながら基礎部の運動を拘束するので、基礎部を急激に拘束することがない。
また、基礎部（２００）と主要部（４０）とのいずれか一方に設けられた被固定部材（４３）を有し、エアバッグ（４７２）は、被固定部材を囲むように基礎部と主要部とのいずれか他方に設けられるものでは、主要部の運動を挟むように徐々に拘束するので、主要部の各方向の移動を容易に拘束することができる。

第４の発明は、第１から第３の発明の基板処理装置（ＥＸ，ＥＸ２）が、マスク（Ｒ）に形成されたパターンを光ビームを用いて基板（Ｗ）上に転写する露光装置（ＥＸ，ＥＸ２）であるようにした。この発明によれば、大きな振動が加わった際であっても、露光装置が損壊しないので、即座に露光処理を再開することができる。

第５の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフィ工程において第１から第４の発明の基板処理装置（ＥＸ，ＥＸ２）を用いるようにした。この発明によれば、リソグラフィ工程中の様々な工程中における各種デバイス製造装置のダウンタイムが短縮される。

本発明によれば以下の効果を得ることができる。
第１の発明は、床部に固定された基礎部と、基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部とを有する基板処理装置において、基礎部に対する主要部の床部に沿った第１方向の運動を許容しつつ、第１方向と略直交し床部に沿った第２方向の運動を弾性を持って拘束可能な固定装置と、固定装置の拘束状態と非拘束状態とを床部の振動状態に応じて切り替える制御装置とを有するようにした。この発明によれば、床部の振動状態に応じて主要部の拘束と非拘束とを切り替えることができるので、基板処理装置に損傷を与えるおそれのある床振動が発生した場合に主要部を拘束することができる。そして、基礎部に対する主要部の第２方向の移動は弾性を持って拘束し、第１方向の移動は拘束しないので、拘束に際して主要部に衝撃を与えることはなく、急激な拘束による基板処理装置の損傷を免れることができる。

また、固定装置が、主要部と基礎部との何れか一方に設けられた被固定部材と、主要部と基礎部との何れか他方に設けられ、被固定部材を第２方向に挟持した状態で第１方向に移動可能な固定部材と、を有するものでは、被固定部材の第２方向への移動を容易に拘束することができ、主要部の運動の一部を第１方向への移動に逃がすことができるので、装置の損壊を回避することができる。
また、固定部材が、被固定部材に対してそれぞれ独立に駆動されて被固定部材を挟持する２つの固定子を有するものでは、固定子が独立して被固定部材と当接して第２方向への移動を拘束するので、各固定子への負担を分散しつつ、被固定部材を確実に拘束することができる。
また、固定子が、被固定部材に対向する面に弾性体を有するものでは、固定子が被固定部材と当接する際に、弾性体が変形して、衝突時の衝撃を緩和するので、装置の損壊を回避することができる。
また、固定部材と被固定部材との少なくとも一方が、主要部と基礎部との何れか一方に弾性体を介して支持されるものでは、固定部材或いは被固定部材に伝わる衝撃が弾性体の変形により緩和され、装置の損壊を回避することができる。
また、第２方向の運動を許容し、第１方向の運動を弾性を持って拘束する第２固定装置を有するものでは、第２方向の運動を拘束する固定装置と、第１方向の運動を拘束する第２固定装置とを同時に用いることにより、固定装置及び第２固定装置がそれぞれ独立して作用して、主要部に対して第１方向と第２方向とのいずれかの方向の衝撃も与えることなく、主要部の運動（Ｘ，Ｙ方向の並進、θＺ方向の回転）を拘束するので、装置の損壊を回避することができる。

第２の発明は、床部に固定された基礎部と、基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部とを有する基板処理装置において、基礎部と主要部とのいずれか一方に設置され、基礎部に対する主要部の拘束と非拘束とを切り替え可能な固定装置と、固定装置による主要部の拘束と非拘束とを床部の振動状態に応じて切り替える制御装置とを備え、固定装置は、基礎部と主要部とのいずれか他方に接触して摩擦力により主要部の運動を抑制する平板部と、基礎部と主要部とのいずれか他方と係合して、主要部の可動範囲を限定する係合部とを有する固定部材を備えるようにした。この発明によれば、固定部材の平板部が主要部の運動を抑制し、更に係合部が主要部の可動範囲を限定するので、拘束時の衝撃が緩和され、装置の損壊を回避することができる。

第３の発明は、床部に固定された基礎部と、基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部とを有する基板処理装置において、床部の振動状態に応じて、基礎部と主要部との間に介在して基礎部と主要部との相対移動を拘束するエアバッグを有するようにした。この発明によれば、エアバッグが基礎部及び主要部に徐々に接触し、膨らみながら基礎部の運動を拘束するので、基礎部及び主要部との衝突が緩和され、装置の損壊を回避することができる。
また、基礎部と主要部とのいずれか一方に設けられた被固定部材を有し、エアバッグは、被固定部材を囲むように基礎部と主要部とのいずれか他方に設けられるものでは、主要部の運動を挟むように徐々に拘束するので、主要部の各方向の移動を容易に拘束することができる。

第４の発明は、第１から第３の発明の基板処理装置が、マスクに形成されたパターンを光ビームを用いて基板上に転写する露光装置であるようにした。この発明によれば、大きな振動が加わった際であっても、即座に露光処理を再開することができるので、露光装置のダウンタイムを短縮することができる。

第５の発明は、リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、リソグラフィ工程において第１から第４の発明の基板処理装置を用いるようにした。この発明によれば、リソグラフィ工程中の様々な工程中における各種デバイス製造装置のダウンタイムが短縮されるので、各種デバイス製造装置の稼働率が向上し、安価なデバイスを製造することができる。

以下、本発明の基板処理装置及びデバイスの製造方法の第１実施形態について図を参照して説明する。図１は、露光装置ＥＸの構成を示す模式図である。露光装置ＥＸは、レチクル（マスク）Ｒとウエハ（基板）Ｗとを一次元方向に同期移動しつつ、レチクルＲに形成された回路パターンを投影光学系３０を介してウエハＷ上の各ショット領域に転写するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置、すなわちいわゆるスキャニング・ステッパである。
なお、以下の説明において、投影光学系３０の光軸と一致する方向をＺ軸方向、Ｚ軸方向に垂直な平面内でレチクルＲとウエハＷとの同期移動方向（走査方向）をＸ軸方向、Ｚ軸方向及びＸ軸方向に垂直な方向（非走査方向）をＹ軸方向とする。更に、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわり方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。

露光装置（基板処理装置）ＥＸは、光源５からの照明光によりレチクルを照明する照明光学系１０、レチクルＲを保持するレチクルステージ２０、レチクルから射出される照明光をウエハＷ上に投射する投影光学系３０、ウエハＷを保持するウエハステージ４０、レチクルステージ２０と投影光学系３０等を保持する本体フレーム１００と、本体フレーム１００及びウエハステージ４０を支持する基礎フレーム２００等を備える。また、露光装置ＥＸに地震等の過大な振動が加わった場合に、露光装置ＥＸの損壊を防止するストッパシステム３１０，４１０を備える。

照明光学系１０は、ハウジング１１と、その内部に所定の位置関係で配置されたリレーレンズ系、光路折り曲げ用ミラー、コンデンサレンズ系等から成る光学部品を備える。そして、光源５から射出されたレーザビームは、照明光学系１０に入射され、レーザビームの断面形状が整形されるとともに照度分布がほぼ均一な照明光（露光光）となってレチクル上に照射される。
この照明光学系１０は、本体フレーム１００を構成する第２架台１２０の上面に固定された上方向（Ｚ方向）に伸びる照明系支持部材１２によって支持される。

レチクルステージ２０は、レチクルＲを保持するレチクル微動ステージと、レチクル微動ステージと一体に走査方向であるＸ軸方向に所定ストロークで移動するレチクル粗動ステージと、これらを移動させるリニアモータ等（いずれも不図示）を備える。そして、レチクル微動ステージには、矩形開口が形成されており、開口周辺部に設けられたレチクル吸着機構によりレチクルＲが真空吸着等により保持される。また、レチクル微動ステージの２次元的な位置及び回転角、並びにレチクル粗動ステージのＸ軸方向の位置は、不図示のレーザ干渉計により高精度に計測され、この計測結果に基づいてレチクルＲの位置及び速度が制御される。
このレチクルステージ２０は、本体フレーム１００を構成する第２架台１２０の上面に不図示の非接触ベアリング（例えば気体静圧軸受け）を介して浮上支持される。

投影光学系３０は、物体面側（レチクル側）と像面側（ウエハ側）の両方がテレセントリックであり、所定の投影倍率β（βは、例えば１／５）で縮小する縮小系が用いられる。このため、レチクルに照明光学系１０から照明光（紫外パルス光）が照射されると、レチクルＲ上に形成された回路パターン領域のうちの紫外パルス光によって照明された部分からの結像光束が投影光学系３０に入射し、その回路パターンの部分倒立像が紫外パルス光の各パルス照射の度に投影光学系３０の像面側の視野中央にＹ軸方向に細長いスリット状又は矩形状（多角形）に制限されて結像される。これにより、投影された回路パターンの部分倒立像は、投影光学系３０の結像面に配置されたウエハＷ上の複数のショット領域のうちの１つのレジスト層に縮小転写される。
また、投影光学系３０の外壁にはフランジ３１が設けられ、本体フレーム１００を構成する第１架台１１０に設けられた穴部１１１に挿入されて、フランジ３１を介して支持される。

ウエハステージ（主要部）４０は、ウエハＷを保持するウエハホルダと、ウエハホルダと一体にリニアモータ等によりＸ軸方向に連続移動するとともにＹ軸方向にステップ移動し、更にθＺ方向に微少移動可能なＸＹテーブル４１、ＸＹテーブル４１を支持する定盤４２を備える。また、ＸＹテーブル４１は、ウエハＷのレベリング及びフォーカシングを行うためにＺ軸方向、θＸ方向（Ｘ軸回りの回転方向）、及びθＹ方向（Ｙ軸回りの回転方向）の３方向の微少運動が可能であり、全体として、６自由度を有する。また、ウエハステージ４０には、ＸＹテーブル４１の駆動時に発生する反力をキャンセルするため、ＸＹテーブル４１の駆動方向とは反対方向に移動するカウンタマスを備えている。ＸＹテーブル４１のＸＹ方向位置及びθＸ方向、θＹ方向、θＺ方向の回転角は、不図示のレーザ干渉計により高精度に計測され、この計測結果に基づいてＸＹテーブル４１、ひいてはウエハＷの位置及び速度が制御される。
ウエハステージ４０が備える定盤４２は、エアマウント４００を介して基礎フレーム２００のベース部２０１上に支持される。エアマウント４００は、定盤４２を非接触で駆動するアクチュエータと、定盤４２に取り付けられた加速度計と、定盤４２の位置を非接触で検出する位置センサ（いずれも不図示）と共に、床振動を遮断しつつ定盤４２の位置を制御するアクティブ防振台を構成している。これにより、ウエハステージ４０は基礎フレーム２００から振動的に分離され、能動的に防振支持される。

制御装置ＣＯＮＴは、露光装置ＥＸを統括的に制御するものであり、各種演算及び制御を行う演算部の他、各種情報を記録する記憶部や入出力部等を備える。
そして、例えば、レチクルステージ２０及びウエハステージ４０に設けられたレーザ干渉計の検出結果に基づいてレチクルＲ及びウエハＷの位置を制御して、レチクルＲに形成された回路パターンの像をウエハＷ上のショット領域に転写する露光動作を繰り返し行う。また、後述する加速度計３６０，４６０の計測結果に基づいて、ストッパシステム３１０，４１０による拘束状態と非拘束状態との切り替えを行う。

本体フレーム１００は、投影光学系３０等を支持する第１架台１１０と、投影光学系３０の上方に配置されるレチクルステージ２０等を支持する第２架台１２０とから構成される。第１架台１１０は、板形の部材からなり、円筒状の投影光学系３０の外径よりもやや大きく形成された穴部１１１を備え、この穴部１１１に投影光学系３０が挿入されて、投影光学系３０を支持する。第２架台１２０は、レチクルステージ２０を戴置する支持盤１２１と、支持盤１２１の外周部の下面から下方に伸びて、第１架台１１０と連結する複数の支柱１２２とから構成される。支柱１２２は、第２架台１２０の安定性を考慮すると３本であることが望ましいが、これに限るものではない。また、支持盤１２１と複数の支柱１２２とは、ボルト等の締結手段等で連結される構造であっても、一体に形成される構造であってもよい。そして、支柱１２２がボルト等の締結手段により第１架台１１０と締結されることにより、第１架台１１０と第２架台１２０とが一体に構成される。なお、支柱１２２と第１架台１１０とは、第１架台１１０に支持される投影光学系３０と第２架台１２０に支持されるレチクルステージ２０とが所定の位置関係となるように調整されて締結される。
なお、以下の説明において、本体フレーム１００と、照明光学系１０、レチクルステージ２０、投影光学系３０等の本体フレーム１００に支持される装置群とを合わせて主要部１５０と呼ぶ。

基礎フレーム（基礎部）２００は、クリーンルームの床部Ｆ上に３つの足部２１１を介して略水平に載置される。基礎フレーム２００は、ウエハステージ４０を戴置するベース部２０１と、ベース部２０１の上面から上方向に所定の長さで伸びる複数の支柱２０２とを備える。そして、支柱２０２上に、エアマウント３００を介して、本体フレーム１００を浮上支持する。なお、支柱２０２は、本体フレーム１００の安定性を考慮すると３本であることが望ましいが、これに限るものではない。また、ベース部２０１と複数の支柱２０２とは、締結手段等で連結される構造であっても、一体に形成される構造であってもよい。

エアマウント３００（３００Ａ〜Ｃ）は、いわゆる空気バネであり、本体フレーム１００（主要部１５０）を基礎フレーム２００上に床部Ｆから振動的に分離して支持している。エアマウント３００（３００Ａ〜Ｃ）は、本体フレーム１００を非接触で駆動するアクチュエータと、本体フレーム１００上に取り付けられた加速度計と、本体フレーム１００の位置を非接触で検出する位置センサ（いずれも不図示）と共に、床振動を遮断しつつ本体フレーム１００の位置を制御するアクティブ防振台を構成している。アクティブ防振台を構成するアクチュエータおよび位置センサは床部Ｆの振動を遮断するため非接触方式のものが採用されており、本体フレーム１００とは所定の距離をおいて離間している。この所定の距離を確保するために、エアマウント３００に支持された本体フレーム１００は、水平面（ＸＹ面）内の移動量が１〜２ｍｍ程度となるように規制されている。そして、地震等により露光装置ＥＸに大きな振動が加わった際、本体フレーム１００が規制を超えて移動しないように本体フレーム１００の移動を拘束するストッパシステム３１０が基礎フレーム２００に設置される。

図２は、ストッパシステム３１０を示す模式図である。ストッパシステム３１０は、主要部１５０のＹ方向（第２方向）の移動を許容しつつ、Ｘ方向（第１方向）の移動を規制及び拘束するストッパ装置（第２固定装置）３２０と、主要部１５０のＸ方向の移動を許容しつつ、Ｙ方向の移動を規制及び拘束するストッパ装置（固定装置）３４０とから構成される。
ストッパ装置３２０は、図２に示すように、２つのストッパ部３２０Ａ，３２０Ｂから構成され、主要部１５０（本体フレーム１００）のＸ方向の両側に、主要部１５０を挟んで対称に配置される。
ストッパ装置３４０は、図２に示すように、４つのストッパ部３４０Ａ〜３４０Ｄから構成され、主要部１５０のＸ方向の両側に、それぞれ２つのストッパ部が配置される。具体的には、本体フレーム１００の＋Ｘ方向側にはストッパ部３４０Ａ，Ｂが、−Ｘ方向側にはストッパ部３４０Ｃ，Ｄが配置される。更に、ストッパ部３４０Ａ，Ｂ及びストッパ部３４０Ｃ，Ｄは、本体フレーム１００のＸ方向の両側面に設けられた突起部３５０，３５２をＹ方向に挟んで対称に配置される。
なお、ストッパ装置３２０と異なり、ストッパ装置３４０を４つのストッパ部３４０Ａ〜３４０Ｄで構成するのは、本体フレーム１００のＸ方向の両側に全てのストッパ装置３２０，３４０を設けることにより本体フレーム１００の回転方向（θＺ方向）の拘束力を向上させると共に、ストッパ装置３４０のメンテナンスを容易にするためである。すなわち、本体フレーム１００の外周にはウエハ搬送装置や塗布現像装置等の周辺装置が配置されるので外周４方向全てからメンテナンスを行うことは困難である。このため、ストッパ装置３２０，３４０をＸ方向の２面に集中させてＸ方向両面のみにメンテナンススペースを確保してメンテナンスを容易にしている。したがって、これら周辺装置の配置上の制約がなければ、ストッパ装置３４０をストッパ装置３２０と同一の構成として、本体フレーム１００のＹ方向の両側に配置してもよい。また、周辺装置の配置に応じて、ストッパ装置３２０とストッパ装置３４０との両方をＹ方向の両側に配置してもよい。
そして、ストッパシステム３１０は、非動作時には、基礎フレーム２００に対して本体フレーム１００を拘束せず、本体フレーム１００のＸ方向の移動を１〜２ｍｍ程度許容する。一方、クリーンルームの床部Ｆ上に配置された加速度計３６０により計測された振動が所定の閾値を超えた際は、制御装置ＣＯＮＴからの指令により動作し、主要部１５０を基礎フレーム２００に対して拘束する。
なお、加速度計３６０は、クリーンルームの床部Ｆのみならず、クリーンルームが設置される建屋の地上階の床部、或いは屋外の地面などに設置してもよい。また、露光装置ＥＸが複数台ある場合には、それぞれの露光装置ＥＸ毎に加速度計３６０を接続してもよいし、複数台の露光装置ＥＸに１つの加速度計３６０を接続してもよい。また、ストッパシステム３１０が作動する加速度、すなわち閾値は、露光装置ＥＸの種類、設置場所等の条件に応じて、任意に定められる。

図３はストッパ装置３２０を示す図であり、図３（ａ）は側面図、図３（ｂ）は図３（ａ）における矢視Ｐを示す図である。
上述したように、ストッパ装置３２０は、同一構成の２つのストッパ部３２０Ａ，３２０Ｂから構成されるので、代表してストッパ部３２０Ａについて説明する。なお、ストッパ部３２０Ｂについては、各構成要素の符号中のアルファベットを「Ａ」から「Ｂ」とすればよいので、図示及び説明を省略する。
ストッパ部３２０Ａは、図３（ａ）に示すように、基礎フレーム２００からＺ方向に立設する柱３２１と、柱３２１に連結されてＺ方向に所定のストロークを有するシリンダ３２２Ａと、シリンダ３２２Ａに連結されてＺ方向に移動する固定子３２３Ａとを備える。なお、柱３２１とシリンダ３２２Ａとは、ゴム板３２６Ａを介して間接的に接続される。また、固定子３２３Ａは、図３（ｂ）に示すように、シリンダ３２２Ａの先端に設けられたＹ方向に平行な軸３２５Ａに嵌合してシリンダ３２２Ａに連結されるので、軸３２５Ａに沿ってＹ方向に数ｍｍ程度、微動可能である。更に、固定子３２３Ａにおける本体フレーム１００と対向する面３２３Ａｓは、図３（ａ）に示すように、ＺＹ平面から約１０〜３０度程度の角度で傾けられる。そして、その対向面３２３Ａｓには、ゴム板３２４Ａが設けられる。
一方、本体フレーム１００のＸ方向の側面には、固定子３２３Ａと対向する部位３３０Ａが形成される。部位３３０Ａにおける固定子３２３Ａとの対向面３３０Ａｓは、対向面３２３Ａｓと平行に形成され、その対向面３３０Ａｓには、ゴム板３３１Ａが設けられる。
そして、シリンダ３２２Ａの非動作時（最も縮んでいる時）には、ゴム板３３１Ａとゴム板３２４Ａとの間には、Ｘ方向に１〜２ｍｍ程度の隙間が形成される（図２参照）。
なお、ゴム板３３１Ａとゴム板３２４Ａとの間に、Ｘ方向に１〜２ｍｍ程度の隙間が形成されるのは、主要部１５０の基礎フレーム２００に対するＸ方向の移動を可能にするためである。また、ゴム板３３１Ａとゴム板３２４ＡとがＺＹ平面から所定の角度で傾けられるのは、ゴム板３３１Ａとゴム板３２６Ａとの当接時にシリンダ３２２Ａの駆動力の全てが直接、主要部１５０に加わるのを避けて、主要部１５０に与える衝撃を小さく抑えるためである。
これにより、ストッパ装置３２０は、非動作時には、ストッパ部３２０Ａ，Ｂが受動的に本体フレーム１００と当接して、基礎フレーム２００に対する主要部１５０のＸ方向の移動量が１〜２ｍｍ程度となるように規制することができる。また、シリンダ３２２Ａ，Ｂを動作させると、固定子３２３Ａ，Ｂがそれぞれ能動的に本体フレーム１００と当接することにより、基礎フレーム２００に対する主要部１５０のＸ方向の移動を拘束することができる。

図４はストッパ装置３４０を示す図であり、図４（ａ）は側面図、図４（ｂ）は上面面図、図４（ｃ）は図４（ａ）における矢視Ｑを示す図である。
上述したように、ストッパ装置３４０は、同一構成の４つのストッパ部（固定部材）３４０Ａ〜３４０Ｄから構成されるので、代表してストッパ部３４０Ａ，Ｂについて説明する。なお、ストッパ部３４０Ｃ，Ｄについては、各構成要素の符号中のアルファベットを「Ａ」から「Ｃ」、「Ｂ」から「Ｄ」とすればよい（必要に応じて括弧付き符号を付記する）ので、図示及び説明を省略する。
ストッパ部３４０Ａ，Ｂは、図４（ａ）に示すように、基礎フレーム２００からＺ方向に立設する柱３４１と、柱３４１に連結されてＺ方向に所定のストロークを有する２つのシリンダ３４２Ａ，Ｂと、シリンダ３４２Ａ，Ｂのそれぞれに連結されてＺ方向に移動する固定子３４３Ａ，Ｂとを備える。なお、柱３４１とシリンダ３４２Ａ，Ｂとは、ゴム板（弾性体）３４６Ａ，Ｂを介して間接的に接続される。また、固定子３４３Ａ，Ｂは、図４（ｃ）に示すように、シリンダ３４２Ａ，Ｂの先端に設けられたＸ方向に平行な軸３４５Ａ，Ｂに嵌合してシリンダ３４２Ａ，Ｂに連結されるので、軸３４５Ａ，Ｂに沿ってそれぞれＸ方向に数ｍｍ程度、微動可能である。更に、固定子３４３Ａ，Ｂにおける本体フレーム１００の突起部３５０（３５２）と対向する面３４３Ａｓ，３４３Ｂｓは、図４（ａ）に示すように、ＺＸ平面から約１０〜３０度程度の角度で傾けられる。そして、その対向面３４３Ａｓ，３４３Ｂｓには、それぞれゴム板（弾性体）３４４Ａ，Ｂが設けられる。
一方、図４（ｂ）に示すように、本体フレーム１００のＸ方向の側面には、Ｘ方向に突き出した突起部（被固定部材）３５０（３５２）が設けられる。そして、突起部３５０におけるＹ方向の両側の対向面３５０Ａｓ，Ｂｓ（３５２Ｃｓ，Ｄｓ）は、固定子３４３Ａ，Ｂの対向面３４３Ａｓ，３４３Ｂｓと平行に形成され、その対向面３５０Ａｓ，Ｂｓには、ゴム板３５１Ａ，Ｂ（３５３Ｃ，Ｄ）が設けられる。
そして、シリンダ３４２Ａ，Ｂのそれぞれの非動作時（最も縮んでいる時）には、ゴム板３５１Ａとゴム板３４４Ａとの間、及びゴム板３５１Ｂとゴム板３４４Ｂとの間には、それぞれＹ方向に１〜２ｍｍ程度の隙間が形成される（図２参照）。
なお、ゴム板３５１Ａ，Ｂとゴム板３４４Ａ，Ｂとの間に、それぞれＹ方向に１〜２ｍｍ程度の隙間が形成されるとともに、ゴム板３５１Ａ，Ｂとゴム板３４４Ａ，ＢとがＺＸ平面から所定の角度で傾けられるのは、ストッパ装置３２０の場合の理由と同じである。
これにより、ストッパ装置３４０は、非動作時には、ストッパ部３４０Ａ〜Ｄが受動的に本体フレーム１００の突起部３５０と当接して、基礎フレーム２００に対する主要部１５０のＹ方向の移動量が１〜２ｍｍ程度となるように規制することができる。また、シリンダ３４２Ａ〜Ｄを動作させると、固定子３４３Ａ〜Ｄがそれぞれ能動的に本体フレーム１００の突起部３５０，３５２と当接することにより、基礎フレーム２００に対する主要部１５０のＹ方向の移動を拘束することができる。

図５は、ストッパシステム４１０を示す模式図である。定盤４２（ウエハステージ４０）はエアマウント４００を介して基礎フレーム２００上で６自由度を有するように防振支持されている。ストッパシステム４１０は、基礎フレーム２００上に設けられ、定盤４２の基礎フレーム２００に対するＸＹ方向の移動量が１〜２ｍｍ程度となるように規制し、また、露光装置ＥＸに大きな振動が加わった際に定盤４２の揺れを拘束する。

ストッパシステム４１０は、図５に示すように、ウエハステージ４０のＸＹ方向の移動を規制拘束するストッパ装置４２０と、ウエハステージ４０のＸＹ方向の移動を拘束するストッパ装置（固定装置）４３０とから構成される。
そして、ストッパシステム４１０は、非動作時には、ストッパ装置４２０により、基礎フレーム２００に対するウエハステージ４０のＸＹ方向の移動量が１〜２ｍｍ程度となるように規制する。一方、クリーンルームの床部Ｆ上配置された加速度計４６０により計測された振動が所定の閾値を超えた際に、制御装置ＣＯＮＴからの指令によりストッパ装置４３０を動作させ、ウエハステージ４０を基礎フレーム２００に対して拘束する。
なお、この加速度計４６０は、ストッパシステム３１０で用いた加速度計３６０を共用することもできる。また、ストッパシステム４１０が作動する閾値は、ストッパシステム３１０の閾値と同一であってもよいし、ストッパシステム３１０，４１０毎に異なる値としてもよい。

ストッパ装置４２０は、ウエハステージ４０の定盤４２のＸＹ方向のそれぞれの側面と１〜２ｍｍ程度の隙間を開けるように、基礎フレーム２００のベース部２０１から立設した４本の柱４２１から構成される。なお、柱４２１におけるウエハステージ４０（定盤４２）との対向面には、ゴム板４２２が設けられる。これにより、ストッパ装置４２０は、受動的に定盤４２の側面に当接して、基礎フレーム２００に対する定盤４２のＸＹ方向の移動量がそれぞれ１〜２ｍｍ程度となるように規制することができる。
ストッパ装置４３０は、基礎フレーム２００のベース部２０１の略中央部からＺ方向に立設する柱４３１と、柱４３１に連結されてＺ方向に所定のストロークを有するシリンダ４３２と、シリンダ４３２に連結されてＺ方向に移動する固定子４３３とを備える。なお、柱４３１とシリンダ４３２とは、ゴム板４３４を介して間接的に接続される。また、固定子４３３は、ゴム等の弾性体からなり、円柱形部（係合部）４３３ａにフランジ部（平板部）４３３ｂを設けた形状を有する。
一方、ウエハステージ４０の定盤４２の下面４２ａには、固定子４３３の円柱形部４３３ａよりも直径で２〜４ｍｍ程度大きな円形の穴部４３が形成されている。そして、シリンダ４３２の非動作時（最も縮んでいる時）において、固定子４３３は円柱形部４３３ａの一部が穴部４３の半径方向に１〜２ｍｍ程度のクリアランスを持って挿入されるように配置されている。そして、シリンダ４３２の動作時には、固定子４３３はフランジ部４３３ｂが定盤４２の下面４２ａと当接するまで穴部４３に挿入される。これにより、ストッパ装置４３０の円柱形部４３３ａが定盤４２の穴部４３に半径方向に１〜２ｍｍ程度の隙間を持って挿入されているので、ストッパ装置４２０のみならず、ストッパ装置４３０の円柱形部４３３ａによっても定盤４１のＸＹ方向の移動を規制することができる。また、ストッパ装置４３０のシリンダ４３２を動作させると、固定子４３３のフランジ部４３３ｂが定盤４２の下面４２ａと当接し、摩擦力によって定盤４２のＸＹ方向の運動を規制することができる。

続いて、以上のような構成を備えた露光装置ＥＸ、特にストッパシステム３１０，４１０の作用について説明する。
露光装置ＥＸでは、照明光のもとで、レチクルＲの照明領域内の回路パターンの像が、投影光学系３０を介して投影倍率βで表面にレジストが塗布されたウエハＷ上のスリット状の露光領域（照明領域に共役な領域）に投影される。この状態でレチクルＲとウエハＷとを同期して所定の走査方向（Ｘ軸方向）に移動することで、ウエハＷ上の一つのショット領域にレチクルＲの回路パターンが転写される。
このような通常運転が行われている際には、ストッパシステム３１０，４１０は、受動的に作用し、基礎フレーム２００に対する主要部１５０及びウエハステージ４０のＸＹ方向の動作をそれぞれ１〜２ｍｍ程度となるように受動的に規制する。すなわち、上述したように、ストッパシステム３１０におけるストッパ装置３２０，３４０は、それぞれ主要部１５０（本体フレーム１００）と１〜２ｍｍ程度の隙間を介して離間しているので、主要部１５０は、基礎フレーム２００上でＸＹ方向にそれぞれ上述した範囲内で移動が可能であり、それ以上の距離を移動した場合にのみ、本体フレーム１００がストッパ装置３２０のストッパ部３２０Ａ，Ｂ或いはストッパ装置３４０のストッパ部３４０Ａ〜Ｄに当接して、その移動が規制される。同様に、ストッパシステム４１０におけるストッパ装置４２０は、ウエハステージ４０と１〜２ｍｍ程度の隙間を介して離間しているので、ウエハステージ４０は、基礎フレーム２００上でＸＹ方向にそれぞれ上述した範囲内で移動が可能であり、それ以上の距離を移動した場合にのみ、ウエハステージ４０がストッパ装置４２０に当接して、その移動が規制される。また、ストッパ装置４３０も円柱形部４３３ａと穴部４３との隙間の範囲でウエハステージ４０の移動を規制する。

次に、ストッパシステム３１０，４１０が能動的に作用する場合について説明する。
ストッパシステム３１０，４１０では、例えば地震等が発生すると、クリーンルームの床部Ｆ上配置された加速度計３６０，４６０により、その振動が計測される。加速度計３６０，４６０の計測結果は、制御装置ＣＯＮＴにより閾値と比較され、閾値を超える場合には、制御装置ＣＯＮＴは、ストッパシステム３１０，４１０に指令し、ストッパ装置３２０，３４０、ストッパ装置４３０を動作させる。具体的には、ストッパ部３２０Ａ，Ｂのシリンダ３２２Ａ，Ｂ及びストッパ部３４０Ａ〜Ｄのシリンダ３４２Ａ〜Ｄを動作させて、固定子３２３Ａ，Ｂ及び固定子３４３Ａ〜Ｄを本体フレーム１００に向けて移動させる。また、ストッパ装置４３０のシリンダ４３２を動作させて、固定子４３３を定盤４２に向けて移動させる。

まず、ストッパシステム３１０の動作について詳述する。
固定子３２３Ａ，Ｂを本体フレーム１００に向けて移動させると、固定子３２３Ａ，Ｂの対向面３２３Ａｓ，Ｂｓと本体フレーム１００のＸ方向の側面に設けられた部位３３０Ａ，Ｂの対向面３３０Ａｓ，Ｂｓとの距離が近づき、最終的には、対向面３２３Ａｓ，Ｂｓに設けられたゴム板３２４Ａ，Ｂと対向面３３０Ａｓに貼り付けられたゴム板３３１Ａ，Ｂとが当接する。
同様に、固定子３４３Ａ〜Ｄを本体フレーム１００に向けて移動させると、固定子３４３Ａ〜Ｄの対向面３４３Ａｓ〜Ｄｓと本体フレーム１００のＸ方向のそれぞれの側面に設けられた突起部３５０，３５２の対向面３５０Ａｓ，Ｂｓ，３５２Ｃｓ，Ｄｓとの距離が近づき、最終的には、対向面３４３Ａｓ〜Ｄｓに設けられたゴム板３４４Ａ〜Ｄと対向面３５０Ａｓ，Ｂｓ，３５２Ｃｓ，Ｄｓに貼り付けられたゴム板３５１Ａ，Ｂ，３５３Ｃ，Ｄとが当接する。
なお、対向面３２３Ａｓ，Ｂｓと対向面３３０Ａｓ、対向面３４３Ａｓ〜Ｄｓと対向面３５０Ａｓ，Ｂｓ，３５２Ｃｓ，Ｄｓのそれぞれが、シリンダ３２２Ａ，Ｂ，３２４Ａ〜Ｄの駆動方向（Ｚ方向）に対して約１０〜３０度程度の角度で傾けられているので、ゴム板３２４Ａ，Ｂとゴム板３３１Ａ，Ｂ、ゴム板３４４Ａ〜Ｄとゴム板３５１Ａ，Ｂ，３５３Ｃ，Ｄのそれぞれは、徐々に近づいて当接する。したがって、固定子３２３Ａ，Ｂ，固定子３４３Ａ〜Ｄにより主要部１５０を拘束する際に、露光装置ＥＸに与える衝撃を抑えることができる。
また、基礎フレーム２００に対する主要部１５０のＸ方向及びＹ方向の移動を拘束する際に、弾性体であるゴム板３２４Ａ，Ｂとゴム板３３１Ａ，Ｂ、及びゴム板３４４Ａ〜Ｄとゴム板３５１Ａ，Ｂ，３５３Ｃ，Ｄがそれぞれ変形することにより、固定子３２３Ａ，Ｂ，固定子３４３Ａ〜Ｄが主要部１５０を拘束する際に、露光装置ＥＸに与える衝撃を抑えることができる。なお、ゴム板３２４Ａ，Ｂ，３３１Ａ，Ｂ，３４４Ａ〜Ｄ，３５１Ａ，Ｂ，３５３Ｃ，Ｄの厚み等の形状等を適宜変更することにより、緩衝能力を調整することができる。
更に、ストッパシステム３１０のシリンダ３２２Ａ，Ｂ，シリンダ３４２Ａ〜Ｄは、ゴム板３２６Ａ，Ｂ，ゴム板３４６Ａ〜Ｄを介して、基礎フレーム２００に固定した柱３２１，柱３４１に間接的に連結されているので、ゴム板３２６Ａ，Ｂ，ゴム板３４６Ａ〜Ｄが変形することにより、固定子３２３Ａ，Ｂ，固定子３４３Ａ〜Ｄにより主要部１５０を拘束する際に、露光装置ＥＸに与える衝撃を更に抑えることができる。

ところで、地震の発生等により露光装置ＥＸが大きく揺らされた場合、主要部１５０（本体フレーム１００）と基礎フレーム２００との相対位置は、露光装置ＥＸの振動状況により変化する。すなわち、＋Ｘ，−Ｘ，＋Ｙ，−Ｙ方向の各方向における本体フレーム１００と基礎フレーム２００との間の距離は一定ではない。したがって、例えば、主要部１５０のＸ方向の移動を拘束する固定子３２３Ａ，Ｂの場合には、固定子３２３Ａが本体フレーム１００に当接したとしても、固定子３２３Ｂはまだ本体フレーム１００に当接していない時が存在する。
しかしながら、ストッパ部３２０Ａ，Ｂは、それぞれ独立して動作するので、シリンダ３２２Ａに取り付けた固定子３２３Ａが本体フレーム１００に当接して、シリンダ３２２ＡのＸ方向の動作が停止したとしても、シリンダ３２２Ｂは、固定子３２３Ｂが本体フレーム１００に当接するまで動作して、最終的には、本体フレーム１００のＸ方向の両側に固定子３２３Ａ，Ｂが当接して、基礎フレーム２００に対する主要部１５０のＸ方向の移動を完全に拘束することができる。
同様に、主要部１５０のＹ方向の移動を拘束する固定子３４３Ａ〜Ｄの場合には、例えば固定子３４３Ａが本体フレーム１００に当接したとしても、固定子３４３Ｂ〜Ｄはまだ本体フレーム１００に当接していない時が存在するが、固定子３４３Ａ〜Ｄはそれぞれ独立に動作して、順次、本体フレーム１００に当接して、本体フレーム１００のＹ方向の移動を拘束することができる。
このように、ストッパ部３２０Ａ，Ｂ，３４０Ａ〜Ｄがそれぞれ独立に動作するので、本体フレーム１００と基礎フレーム２００との隙間が狭い箇所に配置された固定子３２３Ａ，Ｂ，３４３Ａ〜Ｄから、順次、基礎フレーム２００と当接し、主要部１５０のＸ方向、Ｙ方向の各方向の並進運動、及びθＺ方向の回転運動を確実に拘束する。

また、基礎フレーム２００に対する主要部１５０の移動方向、速度、加速度等は、露光装置ＥＸに加わった振動の方向・強さ等により、時々刻々と変化する。したがって、主要部１５０のＸ方向の移動を拘束しようとする際、主要部１５０はＸ方向と同時にＹ方向へも移動中である場合が殆どである。例えば、固定子３２３Ａ，Ｂが本体フレーム１００に当接してＸ方向の移動を拘束する場合、ゴム板３２４Ａ，Ｂの圧縮方向の弾性によりＸ方向に関しては衝撃を与えることなく速やかに拘束することができるが、同時にＹ方向も拘束しようとするとゴム板３２４Ａ，Ｂのせん断方向の弾性が十分でなくＹ方向に衝撃を与えてしまうおそれがある。
しかしながら、本ストッパシステム３１０のストッパ装置３２０は、固定子３２３Ａ，Ｂが本体フレーム１００に当接したままＹ方向に移動し、Ｙ方向には拘束力を持たないので、主要部１５０に対してＸ，Ｙ方向のいずれの方向の衝撃も与えることはない。また、主要部１５０のＸＹ両方向の移動を十分に拘束するためには、ストッパ装置３２０をＸＹ両方向において高剛性に構成する必要があるが、このような構成は装置構成上困難である場合が多い。しかしながら、ストッパ装置３２０はＸ方向のみ高剛性に構成すれば足りるので、簡単な装置構成とすることができる。
同様に、ストッパ装置３４０は、固定子３４３Ａ〜Ｄが本体フレーム１００に当接し、主要部１５０に衝撃を与えることなくＹ方向に拘束すると共に、Ｘ方向に関しては拘束力を持たないので主要部１５０に対していずれの方向の衝撃も与えることなく主要部１５０をＹ方向に拘束することができる。
したがって、ストッパシステム３１０は、ストッパ装置３２０，３４０を備えることにより、主要部１５０にＸ，Ｙ方向のいずれの方向の衝撃も与えることなくＸＹ方向の運動を拘束することができ、これにより地震等による大きな振動が発生した場合であっても、露光装置の損壊を回避することができる。

次に、ストッパシステム４１０の動作について詳述する。
ストッパ装置４３０のシリンダ４３２を動作させて、固定子４３３をウエハステージ４０に向けて移動させると、固定子４３３の円柱形部４３３ａが定盤４２の下面４２ａに形成された穴部４３に挿入され、更に固定子４３３のフランジ部４３３ｂが定盤４２の下面４２ａに当接する。したがって、固定子４３３のフランジ部４３３ｂと定盤４２の下面４２ａとの摩擦力によりウエハステージ４０の定盤４２の基礎フレーム２００に対する運動が抑制される。そして、定盤４２が摩擦力に抵抗して移動した場合には、固定子４３３の円柱形部４３３ａと定盤４２の穴部４３の内側面とが当接して、定盤４２の基礎フレーム２００に対するそれ以上の移動が拘束される。このように、ストッパ装置４３０は定盤４２と固定子４３３との摩擦力により定盤４２を拘束するので、定盤４２の拘束時に衝撃を与えるのを緩和することができる。また、固定子４３３がゴム等の弾性体からなるとともに、固定子４３３を駆動するシリンダ４３２がゴム板４３４を介して間接的に基礎フレーム２００に接続されるので、定盤４２を拘束する際の衝撃が更に緩和され、ウエハステージ４０の損壊を回避することができる。
なお、固定子４３３を定盤４２に押し当てるシリンダ４３２の駆動力は、固定子４３３と定盤４２とが当接する時の衝撃によりウエハステージ４０が損壊しない程度の力であり、かつ、所定の震度（例えば震度４）で露光装置ＥＸが揺れた場合に定盤４２が固定子４３３に対して動かない摩擦力を発生する程度の力となるように設定されている。

以上、説明したように、露光装置ＥＸに過大な振動が加わった際に、基礎フレーム２００に対する主要部１５０或いはウエハステージ４０の移動をストッパシステム３１０，４１０により拘束するので、主要部１５０或いはウエハステージ４０が基礎フレーム２００に対して拘束される際、衝撃を受けることはなく、露光装置ＥＸの損壊を回避することができる。すなわち、従来のように、露光装置ＥＸに大きな振動が加わった際に、主要部１５０（本体フレーム１００）と基礎フレーム２００に設けた機械的ストッパとが激しく衝突して、投影光学系３０等の各種調整がずれて、その復旧に時間を要したり、露光装置ＥＸが損壊して復旧不可能となったりすることがなくなる。
このように、露光装置ＥＸの損壊が回避されるので、ストッパシステム３１０，４１０の動作を解除すれば、即座に露光処理を再開することができ、露光装置ＥＸのダウンタイムが最小限に抑えられる。

次に、本発明の第２実施形態について図を参照して説明する。
図６は、露光装置ＥＸ２の構成を示す模式図である。露光装置（基板処理装置）ＥＸ２は、第１実施形態の露光装置ＥＸと略同一の構成を備えるが、地震等の過大な振動が露光装置ＥＸに加わった場合に露光装置ＥＸ２の損壊を防止する装置として、ストッパシステム３１０，４１０に替えてストッパシステム３７０，４７０が設けられる。なお、露光装置ＥＸ２において、第１実施形態の露光装置ＥＸと同一の構成要素には、同一の符号を付して、その説明を省略する。

ストッパシステム３７０は、図６に示すように、基礎フレーム２００からＺ方向に立設し、本体フレーム１００の四方の各側面からそれぞれ所定の距離で離間する４本の柱３７１と、柱３７１の先端に設けられたエアバッグ３７２を備える。すなわち、本体フレーム１００のＸ方向、Ｙ方向の各両側にそれぞれエアバッグ３７２が配置される。なお、第１実施形態におけるストッパシステム３１０のように、本体フレーム１００に突起部３５０，３５２を設けることにより、全てのエアバッグ３７２を本体フレーム１００のＸ方向側等に配置してもよい。エアバッグ３７２は、膨らむと略半球状になるゴム製の中空部材であり、通常状態では畳まれた状態で柱３７１に収容されている。そして、エアバッグ３７２には高圧ガスボンベ３７３が連結されており、エアバッグ３７２と高圧ガスボンベ３７３との間には電磁弁３７４が設けられている。電磁弁３７４は制御装置ＣＯＮＴに接続され、制御装置ＣＯＮＴの指令により開閉が行われる。
ストッパシステム４７０は、図６に示すように、ウエハステージ４０の定盤４２の下面４２ａに設けられた四角柱形の突起部（被固定部材）４４と、突起部４４の四方の側面とそれぞれ対向するように基礎フレーム２００からＺ方向に立設し、突起部４４からそれぞれ所定の距離で離間する４本の柱４７１と、柱４７１の先端に設けられたエアバッグ４７２を備える。すなわち、ウエハステージ４０の突起部４４のＸ方向、Ｙ方向の各両側にそれぞれエアバッグ４７２が配置される。なお、エアバッグ４７２は、上述したエアバッグ３７２と略同一の構成を備え、またエアバッグ３７２と同様に、電磁弁４７３を介して高圧ガスボンベ３７３に連結されている。

次に、ストッパシステム３７０，４７０が能動的に作用する場合について説明する。
ストッパシステム３７０，４７０では、例えば地震等が発生すると、クリーンルームの床部Ｆ上配置された加速度計３６０，４６０により、その振動が計測される。加速度計３６０，４６０の計測結果は、制御装置ＣＯＮＴにより閾値と比較され、閾値を超える場合には、制御装置ＣＯＮＴは、ストッパシステム３７０，４７０に指令し、全てのエアバッグ３７２，４７２を作動させる。
制御装置ＣＯＮＴから指令を受けたストッパシステム３７０，４７０は、それぞれ電磁弁３７４，４７３を開放し、高圧ガスボンベ３７３内のガスをエアバッグ３７２，４７２に供給する。これによって、エアバッグ３７２，４７２は瞬時にして膨張し、本体フレーム１００或いは定盤４２の移動を拘束する。本体フレーム１００或いは定盤４２は、エアバッグ３７２，４７２によって弾性を持って受け止められるので衝撃を受けることなく拘束される。
この場合において、エアバッグ３７２，４７２に供給されるガスとしては安定的な不活性ガス（例えば窒素ガス）が用いられる。また、供給されるガスの圧力は、本体フレーム１００或いは定盤４２がエアバッグ３７２，４７２と当接した時に損壊しない程度の弾性を有するように決定される。更に、高圧ガスボンベ３７３とエアバッグ３７２，４７２との間にオリフィスを設け、エアバッグ３７２，４７２の膨張速度を最適に調整するのが望ましい。

なお、ストッパシステム３７０，４７０の変形例として、本体フレーム１００或いはウエハステージ４０（突起部４４）を取り囲むリング形のエアバッグ３７２，４７２を用いてもよい。略半球状の中空部材からなるエアバッグ３７２，４７２を複数用いた場合には、各エアバッグ３７２，４７２の膨張時間に差が生じてしまうが、単体のリング形のエアバッグ３７２，４７２であれば、略同時に本体フレーム１００或いはウエハステージ４０（突起部４４）の全周を拘束するので、主要部１５０及びウエハステージ４０が受ける衝撃が各方向で均等に緩和され、露光装置ＥＸ２の損壊を回避することができる。
また、エアバッグ３７２，４７２として蛇腹状部材を用いても構わない。更に本実施形態では、高圧ガスボンベ３７３内のガスとして窒素ガスを用いたが、これに限らず、空気を用いてもよい。

以上、説明したように、露光装置ＥＸ２に過大な振動が加わった際に、基礎フレーム２００に対する主要部１５０或いはウエハステージ４０の移動を、ストッパシステム３７０，４７０で拘束するので、主要部１５０或いはウエハステージ４０が基礎フレーム２００に対して急激に拘束されることなく、露光装置ＥＸ２の損壊を回避することができる。
このように、露光装置ＥＸ２の損壊が回避されるので、即座に露光処理を再開することができ、露光装置ＥＸ２のダウンタイムが最小限に抑えられる。

なお、上述した実施の形態において示した動作手順、あるいは各構成部材の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲においてプロセス条件や設計要求等に基づき種々変更可能である。本発明は、例えば以下のような変更をも含むものとする。

例えば、上述した実施形態では、ストッパシステム３１０，３７０，４７０により主要部１５０（本体フレーム１００）或いはウエハステージ４０を四方（＋Ｘ，−Ｘ，＋Ｙ，−Ｙ方向）からを当接して拘束する場合について説明したが、これに限らない。主要部１５０或いはウエハステージ４０の水平方向の運動（Ｘ，Ｙ方向の並進、θＺ方向の回転）を拘束できればよいので、本体フレーム１００或いはウエハステージ４０の三方（それぞれ１２０度で交際する３方向）、或いは四方向以上の方向から当接して拘束してもよい。つまり、ストッパシステムにおける固定子やエアバックの数は、適宜増減させてもよい。

また、上述した実施形態では、主要部１５０或いはウエハステージ４０の水平方向の運動（Ｘ，Ｙ方向の並進、θＺ方向の回転）を略同時に拘束する場合について説明したが、所定の方向の運動のみを拘束する場合であっても構わない。これによれば、振動を抑えたい方向にストッパシステムを配置することにより、所望の方向に主要部１５０或いはウエハステージ４０を拘束することができる。
また、各方向毎にストッパシステムが動作する閾値を変えてもよい。これによれば、振動に弱い方向では、小さな振動でもストッパシステムを動作させて、露光装置の損壊を回避することができる。

ウエハステージ４０の移動を拘束するストッパシステム４１０において、固定子４３３及び穴部４３をそれぞれ複数設けてもよい。固定子４３３及び穴部４３を複数設けることにより、フランジ部４３３ｂと定盤４２の下面４２ａとの接触面積が増えて、よりウエハステージ４０の移動を抑制できるからである。また、円柱形部４３３ａと穴部４３の内側面との当接箇所が複数になるので、ウエハステージ４０を確実に拘束することができるとともに、ウエハステージ４０の回転運動も拘束できるようになる。

また、上述した実施形態では、ストッパシステム３１０，４１０，３７０，４７０を基礎フレーム２００側に設ける場合について説明したが、主要部１５０（本体フレーム１００）側及びウエハステージ４０側に設けてもよい。また、ストッパシステム３１０，３７０，４１０，４７０における各ストッパ装置を、基礎フレーム２００側と本体フレーム１００側及びウエハステージ４０側とに適宜振り分けて配置してもよい。

また、ウエハＷとしては、半導体デバイス製造用の半導体ウエハのみならず、ディスプレイデバイス用のガラス基板や、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ等が適用される。

露光装置ＥＸとしては、レチクルとウエハとを同期移動してレチクルのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）の他に、レチクルとウエハとを静止した状態でレチクルのパターンを一括露光し、ウエハを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）にも適用することができる。また、本発明はウエハ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写するステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置にも適用できる。

また、本発明は、特開平１０−１６３０９９号公報、特開平１０−２１４７８３号公報、特表２０００−５０５９５８号公報などに開示されているツインステージ型の露光装置にも適用できる。

露光装置ＥＸの種類としては、ウエハに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置に限られず、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置や、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置などにも広く適用できる。

また、ウエハステージやレチクルステージにリニアモータを用いる場合は、エアベアリングを用いたエア浮上型およびローレンツ力またはリアクタンス力を用いた磁気浮上型のどちらを用いてもいい。また、ステージは、ガイドに沿って移動するタイプでもいいし、ガイドを設けないガイドレスタイプでもよい。さらに、ステージの駆動装置として平面モ−タを用いる場合、磁石ユニット（永久磁石）と電機子ユニットのいずれか一方をステージに接続し、磁石ユニットと電機子ユニットの他方をステージの移動面側（ベース）に設ければよい。

ウエハステージの移動により発生する反力は、特開平８−１６６４７５号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。

レチクルステージの移動により発生する反力は、特開平８−３３０２２４号公報に記載されているように、フレーム部材を用いて機械的に床（大地）に逃がしてもよい。

また、本発明が適用される露光装置は、本願特許請求の範囲に挙げられた各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了したら、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度およびクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。

また、半導体デバイスは、デバイスの機能・性能設計を行う工程、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作する工程、シリコン材料からウエハを製造する工程、前述した実施形態の露光装置によりレチクルのパターンをウエハに露光するウエハ処理工程、デバイス組み立て工程（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程を含む）、検査工程等を経て製造される。

露光装置ＥＸの構成を示す模式図 ストッパシステム３１０を示す模式図 ストッパ装置３２０を示す図 ストッパ装置３４０を示す図 ストッパシステム４１０を示す模式図 露光装置ＥＸ２の構成を示す模式図

符号の説明

１０ 照明光学系
２０ レチクルステージ
３０ 投影光学系
４０ ウエハステージ（主要部）
４４ 突起部（被固定部材）
１００ 本体フレーム
１５０ 主要部
２００ 基礎フレーム（基礎部）
３２０ ストッパ装置（第２固定装置）
３４０ ストッパ装置（固定装置）
３４０Ａ〜Ｄ ストッパ部（固定部材）
３４３（３４３Ａ〜Ｄ） 固定子
３４３ｓ（３４３Ａｓ，Ｂｓ） 対向面
３４４（３４４Ａ，Ｂ） ゴム板（弾性体）
３４６（３４６Ａ，Ｂ） ゴム板（弾性体）
３５０，３５２ 突起部（被固定部材）
３７２，４７２ エアバッグ
４３０ ストッパ装置（固定装置）
４３３ａ 円柱形部（係合部）
４３３ｂ フランジ部（平板部）
ＥＸ，ＥＸ２ 露光装置（基板処理装置）
ＣＯＮＴ 制御装置
Ｆ 床部
Ｒ レチクル（マスク）
Ｗ ウエハ（基板）

Claims (11)

1. 床部に固定された基礎部と、前記基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部とを有する基板処理装置において、
   前記基礎部に対する前記主要部の前記床部に沿った第１方向の運動を許容しつつ、前記第１方向と略直交し前記床部に沿った第２方向の運動を弾性を持って拘束可能な固定装置と、
   前記固定装置の拘束状態と非拘束状態とを前記床部の振動状態に応じて切り替える制御装置とを有することを特徴とする基板処理装置。
2. 前記固定装置は、前記主要部と前記基礎部との何れか一方に設けられた被固定部材と、
   前記主要部と前記基礎部との何れか他方に設けられ、前記被固定部材を前記第２方向に挟持した状態で前記第１方向に移動可能な固定部材と、
   を有することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
3. 前記固定部材は、前記被固定部材に対してそれぞれ独立に駆動されて前記被固定部材を挟持する２つの固定子を有することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。
4. 前記固定子は、前記被固定部材に対向する面に弾性体を有することを特徴とする請求項３に記載の基板処理装置。
5. 前記固定部材と前記被固定部材との少なくとも一方は、前記主要部と前記基礎部との何れか一方に弾性体を介して支持されることを特徴とする請求項２から請求項４のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。
6. 前記第２方向の運動を許容し、前記第１方向の運動を弾性を持って拘束する第２固定装置を有することを特徴とする請求項１から請求項５のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。
7. 床部に固定された基礎部と、前記基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部とを有する基板処理装置において、
   前記基礎部と前記主要部とのいずれか一方に設置され、前記基礎部に対する前記主要部の拘束と非拘束とを切り替え可能な固定装置と、
   前記固定装置による前記主要部の拘束と非拘束とを前記床部の振動状態に応じて切り替える制御装置とを備え、
   前記固定装置は、前記基礎部と前記主要部とのいずれか他方に接触して摩擦力により前記主要部の運動を抑制する平板部と、前記基礎部と前記主要部とのいずれか他方と係合して、前記主要部の可動範囲を限定する係合部とを有する固定部材を備えたことを特徴とする基板処理装置。
8. 床部に固定された基礎部と、前記基礎部に対して振動的に分離されて支持された主要部とを有する基板処理装置において、
   前記床部の振動状態に応じて、前記基礎部と前記主要部との間に介在して前記基礎部と前記主要部との相対移動を拘束するエアバッグを有することを特徴とする基板処理装置。
9. 前記基礎部と前記主要部とのいずれか一方に設けられた被固定部材を有し、
   前記エアバッグは、前記被固定部材を囲むように前記基礎部と前記主要部とのいずれか他方に設けられることを特徴とする請求項８に記載の基板処理装置。
10. 前記基板処理装置は、マスクに形成されたパターンを光ビームを用いて基板上に転写する露光装置であることを特徴する請求項１から請求項９のうちいずれか一項に記載の基板処理装置。
11. リソグラフィ工程を含むデバイスの製造方法において、前記リソグラフィ工程において請求項１から請求項１０のうちいずれか一項に記載の基板処理装置を用いることを特徴とするデバイスの製造方法。
    
    
    

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