JPH08161899A - メモリデバイスおよび半導体デバイステスト方法 - Google Patents

メモリデバイスおよび半導体デバイステスト方法

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JPH08161899A
JPH08161899A JP7142338A JP14233895A JPH08161899A JP H08161899 A JPH08161899 A JP H08161899A JP 7142338 A JP7142338 A JP 7142338A JP 14233895 A JP14233895 A JP 14233895A JP H08161899 A JPH08161899 A JP H08161899A
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memory device
memory
test
test data
group
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J Pilch Charles Jr
ジェイ・ピルチ,ジュニア チャールズ
W Peerin Carl
ダブリュ.ペーリン カール
T Le Duy-Loan
− ローン ティー.レ デュイ
Scott E Smith
イー.スミス スコット
Yutaka Komai
豊 駒井
G Rajagoparan Rajigobaru
ジー.ラジャゴパラン ラジゴバル
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    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/18Address generation devices; Devices for accessing memories, e.g. details of addressing circuits
    • G11C29/30Accessing single arrays
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    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
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    • G11C29/04Detection or location of defective memory elements, e.g. cell constructio details, timing of test signals
    • G11C29/08Functional testing, e.g. testing during refresh, power-on self testing [POST] or distributed testing
    • G11C29/12Built-in arrangements for testing, e.g. built-in self testing [BIST] or interconnection details
    • G11C29/44Indication or identification of errors, e.g. for repair

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 高集積度のメモリ デバイスの欠陥を、極め
て短時間でテストする。 【構成】 半導体メモリ デバイス40に、記憶セル1
30のアレイを設け、行および列アドレスをデコードし
て、行および複数の列を同時にアクセスする。これら記
憶セル中に書込むべきテスト データ ビットを複製す
ると共に、多くの記憶セルに一度にストアする。比較テ
スト用に読出すと、このメモリデバイス中に設けられた
パラレル コンパレータ回路140内の、予測データビ
ットと比較する。この合格/不合格信号(リード170
上の)を、メモリ デバイス テスタ30に送給して、
最終的な欠陥分析および補修を実行する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、半導体メモリデバイスのテスト
に関し、特に、テスト用に設計された半導体メモリデバ
イスと、このようなメモリデバイスをテストする方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、半導体メモリデバイスでは、ア
ドレス可能な行および列に配列されたセルのアレイ中
に、情報をストアしている。これらメモリデバイスを製
造している間に、1つまたはそれ以上の欠陥が発生し、
この欠陥によってメモリ回路の好適な性能が阻止されて
しまう。また、システム上の欠陥が発生した場合には、
多くの場合に、これの原因を分析できると共に指摘する
ことが可能となる。また、他の欠陥も生じることがあ
り、例えば、メモリアレイの個々の列内のオープン回路
および隣接した列間の短絡回路のような欠陥が発生す
る。これら分析のために、メモリデバイス内にこれら他
の欠陥の分布、および所定の製造ロッド内のこれら欠陥
の数の分布を、ランダムに考察することができる。製造
ロッドにおける良品デバイスの歩留りは、ポアソン分布
関数に従って、モデル化することができる。代表的に
は、特定のデバイスを所定の製造設備内で製造している
期間において、このような他の欠陥、例えば外側に付着
した粒子物質の原因を除去することによって、製品の歩
留りを向上できる。
【0003】一般に、不良な行および列を、冗長な行お
よび列によって置換することによって、メモリデバイス
の歩留りを更に向上させることが望まれている。例え
ば、チップのテスト中に、メモリセルの欠陥のある列を
識別して差替えることができる。冗長的差替(置換)え
技術は、半導体メモリにとって、本質的に好適なもので
ある。
【0004】集積メモリ回路の集積度が増大するに従っ
て、すべてのタイプの半導体メモリデバイスを、ビット
密度が連続的に大きくなり、セルのサイズがより小さく
なり、且つ、更に多くのI/Oピンが形成されるように
なる。1980年代の後半に、4Mbit(メガビッ
ト)のメモリデバイスが設計されると共に製造された。
1990年代では、16Mbitのメモリデバイスが製
造されている。また、1990年代中に、64Mbit
および256Mbitのメモリデバイスの集積度が実現
できるよう期待されている。これらメモリデバイスの容
量が増大するのに併って、例えば、メモリアクセス時間
のような、或る性能のパラメータを改善する必要があ
る。
【0005】現在、メモリデバイスの密度が大きくなれ
ばなる程、特徴のサイズはより小さなものになる。この
結果として、これらメモリデバイスは、製造プロセスで
は問題を生じさせないような極めて小さな粒子によって
欠陥を生じてしまうようになる。従って、このような密
度を更に、増大させるに当り、冗長スキームによって補
修できるランダムタイプの欠陥の数を増大させる大きな
チャレンジが生れている。
【0006】このような密度の高いメモリデバイスにお
ける問題点は、或る欠陥を有するデバイスを補修するた
めの置換スキーム(計画)をテストすると共に、識別す
るために要する時間が多大になることである。これら欠
陥はランダムに発生するので、集積回路の各々を分析し
て、個々の補修スキームを識別する必要がある。1Mb
itのメモリデバイスに対する全テスト時間は、約7秒
間である。1Mbitメモリデバイスのウエファに対す
るテスト時間は、軽るく30分を超えてしまうようにな
る。ウエファ当りのメモリデバイスの数量は、メモリデ
バイスの密度が増大するに従って、殆んど変化しないこ
とが期待されている。その理由は、このウエファのサイ
ズも増大するためである。しかし乍ら、密度が増大する
に従って、メモリデバイス当りのテスト時間が増加する
ようになる。その理由は、記憶セル当りのテスト時間は
一定であると共に、各メモリデバイスには、より多くの
記憶セルが含まれているからである。メモリデバイス当
りのテスト時間が増大すると共に、ウエファ当りのメモ
リデバイスの数量は比較的に一定であるので、ウエファ
当りのテスト時間は増加するようになる。ウエファ上の
16Mbitのメモリデバイス全体に対する置換スキー
ムをテストすると共に開発する合計時間は、或る変化が
生じない限りにおいて、7時間を超えることが予測され
る。
【0007】もう1つの問題点は、以下の通りである。
即ち、メモリデバイスをテストする技術者は、デバイス
テスタのより効果的な利用のために、これらメモリデバ
イスを、一台のデバイステスタ上で並列的にテストする
ことを望んでいる一方、これらメモリデバイスのエンド
ユーザは、更に広範なI/Oメモリデバイスを利用する
ことを望んでいる問題点である。このような広範な(ワ
イド)I/Oメモリデバイスでは、一台のデバイステス
タによって一度に並列的にテストできるメモリデバイス
の数量を固有的に制限している。従って、これらメモリ
デバイスの僅かな数しか、一台のデバイステスタ上で同
時にテストすることができない。この問題点は、多くの
広範なI/Oメモリデバイスを、一台のデバイステスタ
上で同時にテストするための方法を探索することであ
る。
【0008】
【発明の要旨】上述した問題点および他の問題点は、以
下のような半導体メモリデバイスおよびテスト方法によ
って解決できる。即ち、このメモリデバイスには、アク
セス可能な行および列から成る記憶セルのアレイが設け
られると共に、特に、テスト用に設計されている。これ
ら記憶セル中に書き込むべきテストデータビットを複製
すると共に、多くの記憶セル中に、一度にストアする。
これは、同時にアクセスされる列が存在するからであ
る。比較テストのために読出すと、これらストアされた
テストデータビットの複数の発生ビットを、互いに比較
すると共に、このメモリデバイス内に存在する並列比較
回路中で予測したデータビットと比較する。この並列比
較回路からの合格/不合格信号を、メモリデバイステス
タに送給して、最終的な欠陥分析および補修を行なう。
故障/欠陥が検出される場合、故障のアドレスおよびタ
イプを表わす合格/不合格情報を、メモリデバイステス
タ中にストアする。
【0009】この並列比較回路を、メモリデバイスのア
ーキテクチュアと好適に組合わせることによって、メモ
リデバイステスタによって検査すべきI/Oリードの数
量を減縮することができる。このことによって、更に多
くメモリデバイスを同時にテストすることが可能となる
と共に、この結果として、メモリデバイステスタの容量
を増大できる一方、広範なI/Oメモリデバイスをテス
トできるようになる。
【0010】
【実施例】以下、図面を参照し乍ら、本発明の一実施例
を説明する。先ず、図1において、メモリデバイステス
タ30には、マイクロプロセッサコントローラが設けら
れ、このコントローラによって、メモリからテストパタ
ーンを読出して、一連のアドレスカウンタをプリセット
すると共に、アドレスドライバおよびデータドライバ用
の入力および出力電圧レベルをプリセットする。このコ
ントローラによって、このデバイステスタメモリから記
憶したプログラムを、パターン発生器にロードする。こ
のパターン発生器によって、アドレスカウンタによるア
ドレスシーケンスの発生および、プローブを介して送信
されるテストデータビットシーケンスの発生を制御し、
これらテストデータビットをテスト40の下でメモリデ
バイスに書込む。その後、このテストパターン発生器に
よって、アドレス、予測データビット、および読出信号
を発生し、これら読出信号によって、テスト40の下で
メモリデバイスから記憶したテストデータビットを読出
す。これによって、このメモリデバイス内のコンパレー
タ回路により、これら読出したテストデータビットおよ
びメモリデバイステスタ30によって発生した予測デー
タビットを比較する。テスト40の下でメモリデバイス
から読出したデータと、この予測したデータビットとの
間の差に基いて、このパラレル(並列)コンパレータ回
路によって、合格/不合格決定が成され、テスト中のメ
モリセルデバイスのいずれかが欠陥となっているかどう
か決定する。合格/不合格信号およびこれと組合わされ
たアドレス情報を、更に分析およびデバイスの補修のた
めにデバイステスタ30へ送給する。
【0011】手順、またはプロセスを利用して、デバイ
スをテストすると共に、以下のような補修スキームを決
定する。即ち、この補修スキームによって、或る欠陥の
あるラインを、冗長ラインによって置換するために指定
する。この手順には、以下のステップが包含されてい
る。先ず、テスト40の下で、このデバイスのテストモ
ードをイネーブル状態にする。このテスト中のデバイス
に対して、DC電気的なテストを実行して、適切な電気
的接点およびデバイスの動作特性を証明する。このデバ
イスのメモリセルをシステム的にアドレス処理すると共
に、テストデータビットのパターンをテスト中のデバイ
スのメモリセル中にストアする。また、これらメモリセ
ルをシステム的にアドレス処理すると共に、テスト中の
デバイスのメモリセルから、ストアしたテストデータビ
ットを読出す。テスト中のデバイスから読出したデータ
ビットを互いに比較すると共に、メモリデバイステスタ
によって発生させた予測データビットと比較して、欠陥
のあるセルを識別する。セルアドレスおよびテスト結果
情報をデバイステスタ30中にストアする。
【0012】メモリデバイステスタ30を利用して、高
密度のメモリデバイスのグループを同時にテストすると
共に、補修スキーム(計画)を創出する。300個を超
えるメモリデバイスを含む単一のウエファに対する総テ
スト時間は、約7分である。従来のシステムで実行した
同様のテストでは、約45分またはそれより長い時間が
必要となっている。
【0013】冗長情報を、このメモリデバイステスタ3
0によってかなり詳しく合成できると共に、次に、これ
を用いて、欠陥のタイプを決定することができる。この
ようなオフラインデバイステスト方法によって、欠陥お
よび冗長データを有効に収集する手段が得られる一方、
メモリデバイス当り、妥当な短かい時間内に、高デバイ
ス密度のメモリデバイスをテストが実行できるようにな
る。
【0014】テスト手順を開始するために、テストモー
ドイネーブル信号を、メモリデバイステスタ30からテ
スト中のすべてのメモリデバイスに対して送給する。こ
れらテスト中の代表例は、メモリデバイス40である。
このテスト手順中、メモリデバイステスタ30は、必要
に応じて、行および列アドレスを、アドレスバス33を
介して、同時にテストを行なうべきメモリデバイスのグ
ループのメモリデバイス40および他のメモリデバイス
に送給する。本例では、これら他のメモリデバイスは、
特に図示していない。これら他のメモリデバイスへのア
ドレスバス接続部を、アドレスバス33から延在する破
線によって表わす。同様に、コントロール信号を、コン
トロールバス42を経て、メモリデバイス40および他
のメモリデバイスへ同時に送給する。これら他のメモリ
デバイスへのコントロールバス接続部を、このコントロ
ールバス42から延在する破線によって表示している。
【0015】このメモリデバイステスタ30に対して、
固定数のデータ入力/出力ターミナルが設けられてい
る。これらターミナルによって、テストデータをテスト
中のメモリデバイスのグループに送給すると共に、これ
らメモリデバイスのグループから合格/不合格信号結果
を受信する。本例の場合、このメモリデバイステスタ3
0には、16個のデータ入力/出力ターミナルが設けら
れている。このメモリデバイステスタ30を、テストの
ために、メモリデバイスに接続する場合に、4つのデー
タリードの異なるグループを利用して、メモリデバイス
テスタ30のデータ入力/出力ターミナルを、4つのメ
モリデバイスの各々のデータ入力/出力ターミナルに接
続する。データバス45が図示されており、これによっ
て、メモリデバイステスタ30のデータ入力/出力ター
ミナルを、メモリデバイス40のデータ入力/出力ター
ミナルに相互接続する。4つのデータリードの4グルー
プの内の1グループをメモリデバイス40に接続する。
また、データバス45から延在する破線として図示され
ている、これらデータリードの残りの3グループは、図
示していない他の3つのメモリデバイスの接続部を表わ
している。
【0016】このメモリデバイス40中には、4つの独
立した入力/出力データターミナルが設けられている。
これらデータターミナルの各々は、このメモリデバイス
40と組合わされた4つのデータリードのグループの1
つのリードに接続されている。これら4つの入力/出力
データターミナルの各々を、4つの入力/出力バッファ
50,51,52,53の1つのバッファに直結する。
テスト動作のために、1つのテストデータピットを、メ
モリデバイステスタ30によって、4つのデータリード
の1つのリード上に送給すると共に、入力/出力バッフ
ァ50中に、一時ストアしておく。
【0017】このメモリデバイステスタ30によって、
テスト中のデバイスをテストモードに設定する場合に、
アドレス信号列を、アドレスバス30を介してテスト中
のデバイスに供給する。先ず最初に、行アドレスを行ア
ドレスバッファ34およびテスト中のデバイスのデコー
ダ35に供給する。このデバイスは、これの各サブアレ
イ中のメモリセルの全体の行をアドレスするためにデコ
ードされるようになる。次に、列アドレスをテスト中の
デバイスに供給する。テストモードでは、この列アドレ
スを列アドレスバッファ37およびデコーダ38に供給
し、このデコーーダ中では、この列アドレスが特に、デ
コードされるので、この供給された列アドレスによっ
て、メモリセルの4つの列のグループが同時にアクセス
される。以下詳述するように、この列アドレスのデコー
ド結果が、このデバイスの種々の部分に分配されるよう
になる。従って、メモリデバイスの各象限(guadr
ant)における選択された行のメモリセルの4つのセ
ルの選択されたグループが、このテストデータビットを
ストアするためにアクセスされる。
【0018】書込みテスト動作のため、入力/出力バッ
ファ50にストアされている1個のテストデータビット
を、リード68を介して、マルチプル接続部に印加し
て、テストデータビットを16個のトップバッファ回路
70〜85に対して複製する。これらトップバッファ回
路70〜85から、テストデータビットを、4つのライ
ン増幅器90〜105の各々の16個のグループの入力
に印加する。これら4つのライン増幅器の各グループに
よって、同一のテストデータビットを受信するが、この
グループの4つのライン増幅器の1つのみを、この時
に、イネーブル状態にする。2つの列アドレスビットを
デコードして、4つのライン増幅器のいずれか1つを、
これらライン増幅器の各グループ中でイネーブルするの
かを選択する。このことは、列アドレスデコーディング
の分配の一部分である。
【0019】この単一のテストデータビットの増幅した
ビットを、イネーブル状態のライン増幅器の各々、例え
ば、ライン増幅器90のグループ中の1つのライン増幅
器から、リード108を経て、一対のローカル入力/出
力バッファ110の入力に供給される。本例では、12
8個のローカル入力/出力バッファが存在している。こ
れら128個のバッファ中、16個のみが一度に、イネ
ーブル状態となる。単一のアドレスビットを利用して、
これら一対のローカル入力/出力バッファのいずれかを
各ライン増幅器の出力用にイネーブルするかを決定す
る。このことは、分配された列アドレスデコーディング
の第二部分である。
【0020】次に、この単一のテストデータビットを、
ローカル入力/出力ライン115を経てセンスアンプ
(増幅器)120のバンクに送給する。これらバンクの
各々では、512個のセンスアンプが設けられている。
この分配された列アドレスデコーディングの第三部分と
して、このアドレスの9ビットをデコードして、これら
バンクの各々におけるセンスアンプの1つをイネーブル
状態にする。センスアンプ120のバンク中のイネーブ
ルされたセンス増幅器によって、このテストデータビッ
トを強める(増幅)と共に、このデータビットをビット
ライン125を経て、サブアレイ130中の選択された
記憶セルの1つのグループに与える。
【0021】従って、このデバイステスタ30からの単
一テストビットを、データバス45の一つのリード上に
印加すると共に、リード68の多重接続部分によって記
憶セルの16個のサブアレイに対して複製する。これら
記憶セルの4つの列から成るグループが存在し、これに
テストデータビットを、メモリデバイス40の記憶セル
の4つの象限の各々に印加する。このテストデータビッ
トを、4つの象限の各々における4つの記憶セルの選択
したグループにストアする。従って、この単一テストデ
ータビットを複製すると共に、テスト中のメモリデバイ
スの各々における16個のメモリセル中に、同時にスト
アする。
【0022】テストデータビットをメモリセルの選択し
たグループ中にストアする場合に、このテストデータビ
ットは、エラー無しで各メモリセル中にストアできる
か、若しくは、選択したメモリセルのいずれかにストア
されたテストデータビット中に、エラーが導入される。
その理由は、このメモリデバイス内の欠陥によるからで
ある。
【0023】所望のテストデータビットのすべてのビッ
トのパターンを、このデバイステスタ30からテストメ
モリデバイスの適切に選択されたセル中に一旦、書込ま
れると(ストアされたテストデータビットのように)、
このテスト手順は、ストアされたテストデータビットを
テストメモリデバイスから読出すことによって継続する
ことができる。テストモードイネーブル信号を供給し続
けるか、または、このイネーブル信号をメモリデバイス
テスタ30によって、テスト中のメモリデバイスに再び
印加する。
【0024】読出しテスト動作のため、行アドレス、列
アドレスおよび読出メモリ信号を、デバイステスタ30
によって、テストメモリデバイスへ供給する。行アドレ
スを、再度、バッファ処理すると共に、デコードするこ
とによって行を選択する。次に、列アドレスをバッファ
処理すると共に、特別にデコードすることによって列を
選択する。この結果、各メモリデバイスのサブアレイ中
の選択された記憶セルからの記憶したテストデータビッ
トを、この選択した記憶セルから読出すと共に、ビット
ラインに沿って、適切にイネーブルされたセンスアンプ
へ送給される。例えば、センスアンプ120のブロック
における選択したセンスアンプに送給される。このスト
アされたテストデータビットを、選択したセンスアンプ
によって増幅すると共に、この増幅したデータビット
を、これと組合わされた入力/出力バッファ110と、
ライン増幅器90のグループ中の選択されたライン増幅
器を経て、バス135の単一リードおよびパラレルコン
パレータ回路140に供給する。バス135の4つのリ
ードを、パラレルコンパレータ回路140に接続する。
1つのリードを、これらライン増幅器90,91,9
2,93の各々から導出するので、メモリデバイス40
のサブアレイから読出した、ストアされたテストデータ
ビットを4つ、並列に、パラレルコンパレータ回路14
0の入力に供給する。
【0025】パラレルコンパレータ回路140は、4つ
のライン増幅器90,91,92,93の各々から、2
つのストアされたテストデータビットを受信する。これ
らストアされたテストデータビットのこのグループにお
ける各データビットは、0〜7の間の位置的位い番号を
有しているものと考える。このパラレルコンパレータ1
40の目的は、奇数位置番号データビットのすべてのデ
ータビットが、同一の二進状態を有するかどうか、およ
び偶数位置番号データビットのすべての、データビット
が同一状態を有すかどうかを決定する。これらストアさ
れたテストデータビットは、すべて同様のものでない場
合には、エラーが、これら読出されたテストデータビッ
ト中に存在すると共に、このパラレルコンパレータ回路
140によって、不合格信号が発生され、この不合格信
号は、図1のメモリデバイステスタ30に送給される。
また、これら読出されたテストデータビットの全部が同
様のものである場合には、これらの状態を、ストアされ
たテストデータビットをアクセスするためのアドレスの
予測データビットEXDの状態と比較する。この予測デ
ータビットEXDをデバイステスタ30によって発生さ
せると共に、データバス45,I/Oバッファ50、お
よびリード50を介して、パラレルコンパレータ140
に送給する。また、これらストアされたテストデータビ
ットおよび予測データビットのすべてが同じ場合には、
このパラレルコンパレータ回路140によって、合格信
号をメモリデバイステスタに送給する。
【0026】図2には、パラレルコンパレータ回路14
0の構成図が示されており、このコンパレータ回路14
0によって、メモリデバイス40の記憶セルから読出し
たテストデータビットに関する並列比較テストが実行さ
れる。図2の回路において、偶数および奇数選択信号E
S′およびOSによって、これらテストの各々が択一的
に実行される。偶数選択信号ESによって、偶数番号の
位置0,2,4,6におけるストアされたテストデータ
ビットの並列比較が実行される。また偶数位置のストア
されたテストデータビットに対して、4つのマルチプレ
ックサ150〜153によって、選択されたテストデー
タビットを一対のANDゲート157と158とに供給
する。奇数選択信号OSによって、奇数番号の位置1,
3,5,7におけるテストデータビット間で並列比較が
実行される。また、奇数番号位置のテストデータビット
に対して、4つのマルチプレックサ160〜163によ
って、これら選択されたテストデータビットを一対のA
NDゲート167と168とに供給される。
【0027】偶数選択信号ESがアクティブであると共
に、これら位置0〜7における読出したテストデータビ
ットが「ハイ」の場合に、偶数データハイ信号EDH
は、“1”であると共に、奇数データロー信号EDLは
“0”である。これら2つの偶数データ信号のこの状態
は、すべての偶数位置データビットが“0”であること
を表わしている。偶数選択信号ESがアクティブである
と共に、位置0〜7における読出したテストデータビッ
トのすべてのビットがローである場合には、偶数データ
ハイ信号EHDが“0”であると共に、偶数データロー
信号EDLが“1”である。これら2つの偶数データ信
号のこの状態は、すべての偶数位置データビットが
“0”であることを表わしている。この偶数選択信号E
Sがアクティブであると共に、読出したテストデータビ
ット0,2,4,6に、少なくとも“0”と“1”とが
含まれている場合には、これら偶数データハイ信号ED
Hおよびロー信号EDLの両方が“1”となる。これら
2つの偶数データ信号のこの状態は、偶数位置のストア
されたテストデータビット間にエラーが存在しているこ
とを表わすものである。
【0028】奇数選択信号OSがアクティブである場合
の読出したテストデータビット位置1,3,5,7に対
して、同様の入力組合せによって、奇数データハイ信号
ODHおよび奇数データロー信号ODLの同様の結果状
態が発生する。これら信号状態は、すべての偶数位置の
ストアされたテストデータビットが“1”であること、
これらすべての偶数位置のストアされたテストデータビ
ットが“0”であること、およびこれら偶数位置のスト
アされたテストデータビット間にエラーが存在すること
を、それぞれ表わしている。
【0029】パラレルデータテストの結果、即ち、これ
ら偶数データハイおよびロー信号EDHおよびEDLな
らびに奇数データハイおよびロー信号ODHおよびOD
Lを、予測データビットEXDと比較する。図2の回路
によって、メモリデバイス40の1つの象限に対して、
パラレルデータテストの4つの出力と、1つの予測デー
タビットEXDとを比較する。これらパラレルデータ比
較、即ち、記憶したテストデータビットの偶数および奇
数のセットの比較結果と、予測データビットEXDとを
比較する。これらストアしたテストデータビットのすべ
てが同じであると共に、この予測データビットEXDと
等価な場合には、パラレルコンパレータ140によって
リード170上に出力される信号は合格信号、即ち、こ
の予測データビットEXDと同一状態を有する信号であ
る。これらストアされたテストデータビットおよび予測
データビットEXDのいずれの間で、ミスマッチが存在
している場合には、このパラレルコンパレータ140に
よるリード170上に出力される信号は、不合格信号、
即ち、予測データビットEXDの状態の補足状態の信号
となる。
【0030】図1に示したサブアレイは、I/Oバッフ
ァと対を成しており、各I/Oバッファからのデータ
を、これらサブアレイの別個の1つにストアすると共
に、このサブアレイから読出されたテストデータの比較
結果を、同一のI/Oバッファを介してデバイステスタ
に戻すようにする。補修アドレスに関連する情報は、従
来例で必要とする数より少ない数のI/O位置をチェッ
クすることによって得られるようになる。テスト用のI
/Oリードを減縮することが可能となる。この理由は、
複数のストアしたテストデータビットの比較テストを、
メモリデバイス内に含まれた比較回路によって実行する
からである。
【0031】再び図1に戻り、パラレルコンパレータ1
40によってリード170上に、どのような出力信号を
発生しても、この出力信号を、入力/出力バッファ50
およびデータバス45の単一リードを介して、メモリデ
バイステスタ30へ送給する。メモリデバイステスタ3
0内で、パラレルコンパレータ140からの合格/不合
格信号を、予測データビットEXDと、続く故障位置分
析のためにアクセスしたアドレスと一緒にストアすると
共に、欠陥回路を、冗長回路によって置換することによ
って補修する。
【0032】以上の説明は、テスト用に設計したメモリ
デバイスおよびこのメモリデバイス上のテスト手順を実
施するための一実施例について記載したものである。こ
れら記載した実施例およびテスト方法、ならびに他の例
は、共に、添付した請求の範囲内のものであることは明
らかである。
【0033】以上の説明に関して、更に以下の項を開示
する。 (1)複数の記憶セルアレイと、これら記憶セルアレイ
の各々とを、前記記憶セルのアドレス可能な行および列
に配列し;行アドレスに応答して、メモリデバイス中の
記憶セルの行を選択する行デコーダと;列アドレスに応
答して、このメモリデバイス中の記憶セルの列グループ
を同時に選択する列デコーダと;単一のテストデータビ
ットを複製されたテストデータビットのグループに複製
するための複数の回路と;前記メモリデバイス用の複数
の入/出力データターミナルと、これら入/出力データ
ターミナルを前記複製回路に接続し;および前記複製回
路の各々の出力を、前記列デコーダを介して、前記記憶
セルの列の選択したグループに選択的に接続する複数の
相互接続部とを具備し、これら記憶セルの選択された列
グループによって、前記選択した行内の記憶セルの選択
したグループの各々に、複製したテストデータビットを
記憶したことを特徴とするメモリデバイス。
【0034】(2)更に、テストモード信号および書込
み信号に応答し、前記テストデータビットを受信するメ
モリデバイスを構成し、前記複製回路へこのテストデー
タビットを送給し、およびこれら複製したテストデータ
ビットを前記記憶セルのグループ中に同時にストアする
回路と;ならびに前記テストモード信号と読出し信号と
に応答し、前記記憶セルの選択したグループから、前記
記憶したテストデータビットを同時に読出し、これら読
出したテストデータビットを互いに比較すると共に予測
データビットとを比較し、ならびにこの比較結果に依存
して、合格/不合格信号を発生する回路とを具備した第
1項記載のメモリデバイス。
【0035】(3)前記メモリデバイスからの合格/不
合格信号をメモリデバイステスタに導くための1本のリ
ードを更に設けた第2項記載のメモリデバイス。
【0036】(4)メモリデバイステスタからの前記1
個のテストデータビットを前記メモリデバイスへ送給す
る4本のリードを、更に設けた第2項記載のメモリデバ
イス。
【0037】(5)半導体メモリデバイスの欠陥をテス
トするに当り;このメモリデバイスをテストモードにイ
ネーブルするステップと;このメモリデバイスの記憶セ
ルの行をアドレスするステップと;このメモリデバイス
の記憶セルの列のグループを同時にアドレスして、選択
した記憶セルのグループをアクセスするステップと;テ
ストデータビットを複製すると共に、この複製したテス
トデータビットを、前記選択した記憶セルのグループ中
に同時に記憶するステップと;前記メモリデバイスの記
憶セルの行を再度アドレス動作するステップと;前記メ
モリデバイスの記憶セルの列のグループを同時に、再度
アドレスして、前記選択した記憶セルのグループをアク
セスするステップと;これら記憶したテストデータビッ
トを、前記選択した記憶セルのグループから同時に読出
すステップと;これら読出した前記記憶したテストデー
タビットを互いに比較すると共に、予期したデータビッ
トで比較して、合格/不合格信号を発生するステップ
と;および前記アドレス処理された行および列、ならび
にこの合格/不合格信号の状態を表わす情報を記憶する
ステップとを具備したことを特徴とする半導体メモリデ
バイスのテスト方法。
【0038】(6)半導体メモリデバイス40に、記憶
セル130のアレイを設け、これらセルアレイは、行お
よび列でアクセス可能であると共に、特に、テスト用に
設計されている。行および列アドレスをデコードして、
行および複数の列を同時にアクセスする。これら記憶セ
ル中に書込むべきテストデータビットを複製すると共
に、列を同時にアクセスするのと同様に、多くの記憶セ
ルに一度にストアする。比較テスト用に読出すと、スト
アしたテストデータビットを複数回発生させて、互いに
比較すると共に、このメモリデバイス中に設けられたパ
ラレルコンパレータ回路140内の予測データビットと
を比較する。このパラレルコンパレータ回路からの合格
/不合格信号(リード170上の)を、メモリデバイス
テスタ30に送給して、最終的な欠陥分析および補修を
実行する。故障/欠陥が検出されると、故障のアドレス
およびタイプを表わす情報を、メモリデバイステスタ中
にストアする。メモリデバイステスト方法も開示されて
いる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例のメモリデバイステスタおよ
びテスト中のメモリデバイスの一部分を表わすブロック
ダイヤグラム。
【図2】図1で利用するパラレルコンパレータ回路を表
わす概略ダイヤグラム。
【符号の説明】
30 メモリデバイステスタ 33 アドレスバス 40 テスト中のメモリデバイス 50,51〜54,65 I/Oバッファ 70,71〜74,85 トップバッファ 90,91〜94,105 ライン増幅器 120 センスアンプ 130 サブアレイ 140〜143 パラレルコンパレータ回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 デュイ − ローン ティー.レ アメリカ合衆国テキサス州ミズーリ シテ ィー,ペニンシュラス ドライブ 2811 (72)発明者 スコット イー.スミス アメリカ合衆国テキサス州シュガー ラン ド,コブルリッジ ドライブ 16711 (72)発明者 駒井 豊 茨城県土浦市中村西根1871−43 (72)発明者 ラジゴバル ジー.ラジャゴパラン マレーシア国ペナン,バヤン レパス,タ マン ブキット ジャムブル シー − 16 − 1

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数の記憶セルアレイと、これらアレイ
    の各々を、前記記憶セルのアドレス可能な行および列に
    配列し;行アドレスに応答して、メモリデバイス中の記
    憶セルの行を選択する行デコーダと;列アドレスに応答
    して、このメモリデバイス中の記憶セルの列のグループ
    を同時に選択する列デコーダと;単一のテストデータビ
    ットを複製されたテストデータビットのグループに複製
    するための複数の回路と;前記メモリデバイス用の複数
    の入/出力データターミナルと、これら入/出力データ
    ターミナルを前記複製回路に接続し;および前記複製回
    路の各々の出力を、前記列デコーダを介して、前記記憶
    セルの列の選択したグループに選択的に接続する複数の
    相互接続部とを具備し、これら記憶セルの選択された列
    グループによって、前記選択した行内の記憶セルの選択
    したグループの各々に、複製したテストデータビットを
    記憶したことを特徴とするメモリデバイス。
  2. 【請求項2】 半導体メモリデバイスの欠陥をテストす
    るに当り;このメモリデバイスをテストモードにイネー
    ブルするステップと;このメモリデバイスの記憶セルの
    行をアドレスするステップと;このメモリデバイスの記
    憶セルの列のグループを同時にアドレスして、選択した
    記憶セルのグループをアクセスするステップと;テスト
    データビットを複製すると共に、この複製したテストデ
    ータビットを、前記選択した記憶セルのグループ中に同
    時に記憶するステップと;前記メモリデバイスの記憶セ
    ルの行を再度アドレス動作するステップと;前記メモリ
    デバイスの記憶セルの列のグループを同時に、再度アド
    レスして、前記選択した記憶セルのグループをアクセス
    するステップと;これら記憶したテストデータビット
    を、前記選択した記憶セルのグループから同時に読出す
    ステップと;これら読出した前記記憶したテストデータ
    ビットを互いに比較すると共に、予期したデータビット
    で比較して、合格/不合格信号を発生するステップと;
    および前記アドレス処理された行および列、ならびにこ
    の合格/不合格信号の状態を表わす情報を記憶するステ
    ップとを具備したことを特徴とする半導体メモリデバイ
    スのテスト方法。
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