JPH08160369A - 液晶パネルの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 電極が形成された大型基板から電極基板を形
成する際に、生産効率及び品質を向上させることができ
る液晶パネルの製造方法を提供する。 【構成】 電極が形成された大型基板１０を膜面１４側
が上方に向くように台１８上に載置し、この台１８上で
膜面１４側にスクライブライン１６を刻設してスクライ
ブし、そのスクライブライン１６に沿って大型基板１０
を所定寸法に分離する工程（ステップａ０３）と、分離
した基板１２を洗浄液で洗浄する工程（ステップａ０
４）と、洗浄した基板１２の表面に付着した洗浄液が乾
燥する前にその基板１２の面取りを完了する工程（ステ
ップａ０５、ａ０７）と、面取りした基板１２を洗浄液
で洗浄する工程（ステップａ０６、ａ０８）とを備えて
いる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、液晶パネルの製造方法
に関し、特に電極が形成されたガラス基板等の基板を切
断して、液晶パネルを構成するアレイ電極基板又は対向
電極基板である電極基板を形成する液晶パネルの製造方
法に関する。

【０００２】

【従来の技術】液晶表示パネルは、アレイ電極基板及び
対向電極基板を環状シール部材で接合し、このシール部
材で囲われた基板間の間隙に液晶を充填した液晶セルよ
りなる。

【０００３】従来、対向電極や画素電極等の電極が形成
された膜面を有する大判のガラス基板である大型基板か
ら上記電極基板を形成する際には、図６に示すように、
まず、大型基板の膜面側にポリビニルアルコール（以
下、ＰＶＡという）膜を形成するために、ＰＶＡ水溶液
をローラにより塗布した後（ステップｂ０１）、乾燥用
キャリア内で乾燥する（ステップｂ０２）。そして、こ
の大型基板を所定の大きさに切断するためにスクライブ
ラインを形成し、そのスクライブラインに沿ってブレー
キング、即ち、分離している（ステップｂ０３）。

【０００４】上記スクライブは、図７に示すように、Ｐ
ＶＡ膜１００が形成された面を下にしてスクライブテー
ブル１０１上に載置し、スクライブカッタ１０２によっ
て基板１０３の裏面１０４にスクライブラインを格子状
に刻設するものである。

【０００５】ステップｂ０３で分離した後、その分離し
た基板の周縁部を研磨ベルト等の研磨材によって所定形
状に削る面取りを施し（ステップｂ０４）、さらに、Ｐ
ＶＡ膜の溶解除去（ステップｂ０５）、界面活性剤水溶
液への浸漬後（ステップｂ０６）、ブラシ洗浄装置によ
る洗浄を施している（ステップｂ０７）。

【０００６】なお、ＰＶＡ膜は、ブレーキング時に発生
するガラス粉、及び、面取り時に発生するガラス粉や研
磨材の削れ粉等が、基板の膜面に付着するのを防止する
ための保護膜である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようにＰＶＡ膜を形成する場合、ＰＶＡを十分乾燥させ
るために作業待ち時間（通常３時間程度）ができてしま
うという問題がある。また、ＰＶＡをローラで塗布する
際、大型基板上に異物が乗っていると、膜面を傷付ける
という問題もある。さらに、ＰＶＡは人手により塗布す
るのであるが、その際塗布厚みが厚くなると、除去工程
（ステップｂ０５）においてＰＶＡ膜が完全に溶解除去
できないという問題もある。

【０００８】そこで、本発明は上記問題点に鑑み、電極
が形成された大型基板から電極基板を形成する際に、生
産効率及び品質を向上させることができる液晶パネルの
製造方法を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１の液晶
パネルの製造方法は、電極が形成された大型基板を膜面
側が上方に向くように台上に載置し、この台上で前記膜
面側にスクライブラインを刻設してスクライブし、前記
スクライブラインに沿って前記大型基板を所定の寸法に
分離する工程と、分離した基板を洗浄液で洗浄する工程
と、洗浄した基板の表面に付着した前記洗浄液が乾燥す
る前に、前記洗浄した基板の面取りを完了する工程と、
面取りした基板を洗浄液で洗浄する工程とを備えたこと
を特徴とするものである。

【００１０】請求項２の液晶パネルの製造方法は、請求
項１の液晶パネルの製造方法において、前記面取りがコ
ーナー面取りと端面糸面取りとよりなり、前記コーナー
面取り後に洗浄液で洗浄し、さらに、この洗浄した基板
の表面に付着した前記洗浄液が乾燥する前に前記端面糸
面取りを完了することを特徴とするものである。

【００１１】請求項３の液晶パネルの製造方法は、請求
項１の液晶パネルの製造方法において、前記洗浄工程が
純水浸漬処理であることを特徴とするものである。

【００１２】

【作用】請求項１の液晶パネルの製造方法では、スクラ
イブに際して、大型基板の膜面側が上方に向くように台
上に載置し、膜面側からスクライブする。即ち、スクラ
イブ時に前記台と接触するのは、非膜面側である基板裏
面側である。

【００１３】また、スクライブして所定寸法に分離した
後、及び、分離した基板を面取りした後に、基板を洗浄
液で洗浄して次工程に進む。そのため、分離時や面取り
時に発生する基板の破片粉末や面取り時に発生する研磨
材の削れ粉等が、この洗浄により基板上から除去され
る。したがって、次工程でこれら粉末により基板の膜面
に傷が付くことがない。

【００１４】さらに、大型基板を分離して洗浄した後、
基板表面に付着した洗浄液が乾燥する前に面取りを完了
するので、乾燥ムラに起因する局所的な上記粉末の付着
を防ぐことができる。

【００１５】以上より、大型基板の膜面をＰＶＡ膜で保
護しなくても、スクライブ時及びその後の工程において
膜面が傷付くことがない。

【００１６】請求項２の液晶パネルの製造方法では、コ
ーナー面取り後に洗浄液で洗浄して、コーナー面取り時
に発生する基板の破片粉末や研磨材の削れ粉を基板上か
ら除去する。したがって、端面糸面取り工程においてこ
れら粉末に起因する傷の発生を防止することができる。
また、この洗浄した基板の表面に付着した洗浄液が乾燥
する前に端面糸面取りを完了するので、乾燥ムラに起因
する局所的な上記粉末の付着を防ぐことができる。

【００１７】請求項３の液晶パネルの製造方法では、上
述した洗浄工程を純水浸漬処理（純水へのディップ処
理）により行なうので、前記破片粉末等が容易に除去さ
れる。

【００１８】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１〜５に基づい
て説明する。

【００１９】図１は、大判のガラス基板から電極基板を
形成する工程のプロセスフローチャートである。以下、
各ステップについて説明する。

【００２０】まず、ステップａ０１で、大判のガラス基
板１０の受入を行う。なお、本実施例では、ガラス基板
１０の大きさを３００ｍｍ×４００ｍｍとし、これから
１９０ｍｍ×３００ｍｍの２枚の電極基板１２を切断し
て採取する（図２参照）。このガラス基板１０は、その
一方面に複数本の信号線、走査線、ＴＦＴ素子、画素電
極、保護膜等の表示電極層が形成された膜面１４を有す
る。

【００２１】ステップａ０２で、このガラス基板１０の
受入検査を行ない、所定の品質を満さないものを除い
て、ステップａ０３に進む。

【００２２】ステップａ０３では、大判のガラス基板１
０を所定の寸法に分割するスクライブ処理、ブレーキン
グ処理を行なう。

【００２３】まず、スクライブ処理では、図２に示すよ
うに、スクライブライン１６を刻設する。その際、図３
に示すように、大判のガラス基板１０を、その膜面１４
側が上方に向くようにスクライブテーブル１８上に置い
て固定する。そして、円板状のスクライブカッタ２０に
より、ガラス基板１０の膜面１４側にスライブライン１
６を刻設する。この刻設は、スクライブカッタ２０が、
下方に適度な圧力を加えつつ、軸２２を中心に回転して
ガラス基板１０上を移動することによってなされる。

【００２４】ブレーキング処理では、スクライブライン
１６に沿って、大判のガラス基板１０を例えば手作業に
より分割する。

【００２５】ステップａ０４で、上記の分割によって得
られたガラス基板１２上からスクライブ時及びブレーキ
ング時のガラス粉を除去するために、該基板１２に対し
て洗浄液による洗浄、即ち、純水浸漬処理（純水にディ
ップ）を行う。この洗浄は、純水が入った水槽に、上記
のガラス基板１２を、数秒間、略垂直に挿入し、その後
引出すことによってなされる。洗浄後、直ちにステップ
ａ０５に進む。

【００２６】ステップａ０５では、洗浄したガラス基板
１２にコーナー面取りを施す。コーナー面取りは、ガラ
ス基板１２の割れ、あるいは欠けを防止するため、ガラ
ス基板１２の４つの角部１２ａについて施されるもので
あって、例えば、図４（ａ）、（ｂ）に示すように、傾
斜板２４に貼付された研磨材２６に、手作業によって上
記ガラス基板１２の角部１２ａを押し当てて、その角部
１２ａを削り落すことによってなされる。

【００２７】なお、コーナー面取りは、この面取り時に
発生するガラス粉等の局所的な付着を防止するために、
ガラス基板１２の膜面１４の純水が乾燥する前、すなわ
ち、乾燥ムラが生じる前に完了させる。これは、乾燥ム
ラが生じると、水分が残っている所にガラス粉等が付着
しやすく、これにより、ガラス粉等が局所的に付着し
て、液晶パネルの品質不良の原因となるためである。

【００２８】この面取りが完了すると、直ちにステップ
ａ０６に進む。

【００２９】ステップａ０６では、上記面取り時に付着
したガラス粉や研磨材削れ粉をガラス基板１２上から除
去するために、該基板１２を洗浄液で洗浄する。この洗
浄は、ステップａ０４と同様の方法で行うことができ
る。洗浄後、直ちにステップａ０７に進む。

【００３０】ステップａ０７では、この洗浄したガラス
基板１２に端面糸面取りを施す。端面糸面取りは、やは
りガラス基板の割れや欠けを防止するとともに、この面
取りは、ガラス基板１２において信号線と走査線とを繋
ぐ最外周リングを落すためになされるものであり、図５
（ａ）、（ｂ）に示すように、ガラス基板１２を垂直に
立てた状態でガイドローラ２８上に走行させて、砥石３
０によりガラス基板１２の端面１２ｂを削り落すことに
よってなされる。この砥石３０は、円板状で、ガイドロ
ーラ２８の左右に５枚ずつ交差するように配されてお
り、中心軸３２、３２を中心に回転して、走行するガラ
ス基板１２の下端面の角部１２ｂを削り落す。なお、端
面糸面取りはガラス基板１２のブレーク端面について施
される。

【００３１】この端面糸面取りもステップａ０５のコー
ナー面取りと同様、ガラス基板１２の膜面１４の純水が
乾燥する前、すなわち、乾燥ムラが生じる前に完了させ
る。面取り完了後、直ちにステップａ０８に進む。

【００３２】ステップａ０８では、端面糸面取り時にガ
ラス基板１２上に付着したガラス粉及び研磨材削れ粉を
除去するために、ステップａ０６と同様に、該基板１２
を洗浄液で洗浄する。洗浄後、ステップａ０９に進む。

【００３３】ステップａ０９では、洗浄後のガラス基板
１２を界面活性剤水溶液に浸漬する。これは、ガラス基
板１２の膜面１４の液晶に対するヌレ性を向上するため
になされる処理である。界面活性剤としては、弱酸性の
洗剤が用いられる。

【００３４】ステップａ１０では、ブラシ洗浄装置で、
上記の界面活性剤処理したガラス基板１２にブラシ洗浄
処理を施す。そして、この洗浄後、乾燥してステップａ
１１に進む。

【００３５】ステップａ１１で、上記ガラス基板１２の
出荷検査が行われ、この検査に合格したものがステップ
ａ１２に進む。

【００３６】ステップａ１２で、上記の検査に合格した
ガラス基板１２、即ち、電極基板１２を梱包して出荷す
る。

【００３７】以上のようにして作成されたガラス基板１
２を用いて液晶パネルを製造する。例えば、ガラス基板
１２にポリイミド等の樹脂材料を塗布し、所定方向にラ
ビング処理を行う。その後、周辺部分にシール剤を塗布
し、カラーフィルタ付きの対向電極基板をスペーサーを
介して貼り合せ、液晶材料としてネマチック液晶を基板
間に封入し、更に基板外表面に偏向板をそれぞれ貼り付
けて液晶セル、すなわち液晶パネルを完成させる。

【００３８】本実施例では、上述したように、ステップ
ａ０３において大判のガラス基板１０をスクライブする
際、膜面１４を上向きにしてスクライブテーブル１８上
に置き、膜面１４側からスクライブライン１６を刻設す
る。また、ステップａ０４、ａ０６、ａ０８において、
その前工程でガラス基板１２の膜面１４に付着したガラ
ス粉や研磨材削れ粉等を、該基板１２を純水に浸漬する
ことにより除去して、膜面１４に傷が付くのを防止す
る。さらに、ステップａ０５、ａ０７において、ガラス
基板１２の面取りを行なう際に、前工程において基板１
２表面に付着した純水が乾燥する前に面取りを完了し
て、ガラス粉等の局所的な付着を防止する。

【００３９】以上より、膜面１４を有する基板１０をス
クライブする際に、膜面１４にＰＶＡ膜を形成すること
なく、該基板１０を分離して電極基板１２を形成するこ
とができる。このため、ＰＶＡの乾燥に要する待ち時間
がなくなり、ＰＶＡ塗布時に膜面１４を傷付けたりする
ことがなく、さらにＰＶＡの塗り過ぎに起因する品質不
良発生といった問題がない。また、ＰＶＡ自体が不要に
なる。したがって、生産効率及び品質、歩留、スループ
ットの向上と、ＰＶＡの材料費カットによるコストダウ
ンを図ることができる。

【００４０】なお、上記実施例においては、コーナー面
取りと端面糸面取りとの間に純水に浸漬する洗浄工程
（ステップａ０６）を行ったが、乾燥ムラを生じる前に
上記２つの面取りを完了することができれば、ステップ
ａ０６は省くことができる。また、必ずしも上記の２つ
の面取りを両方とも行なう必要はなく、コーナー面取り
処理のみ行ってもよい。この場合、ステップａ０７、０
８が省ける。

【００４１】上記実施例では、ガラス基板１２が画素電
極の場合について説明したが、本発明は、対向電極基板
についても同様に行うことができる。また、大判のガラ
ス基板から複数の電極付きのガラス基板を作成する場合
について説明したが、大判のガラス基板から大表示画面
用のガラス基板を１個作成する場合でも有効に作用す
る。さらに、基板としてガラス基板を用いた場合を示し
たが、硬質樹脂基板等であっても良い。

【００４２】

【発明の効果】本発明の請求項１の液晶パネルの製造方
法であると、電極が形成された大型基板をスクライブし
て、液晶セルを構成する電極基板を形成する際に、膜面
側にＰＶＡ膜を設ける必要がないので、このＰＶＡ膜の
乾燥に要する待ち時間がなくなり、またＰＶＡ膜塗布時
に膜面を傷付けたりすることがなく、さらにＰＶＡ膜の
塗り過ぎに起因する品質不良発生といった問題がない。
したがって、生産効率及び品質、歩留、スループットの
向上と、ＰＶＡの材料費カットによるコストダウンを図
ることができる。

【００４３】さらに、請求項２の液晶パネルの製造方法
であると、コーナー面取り及び端面糸面取りを行う場合
であっても、ＰＶＡ膜を用いることなく、生産効率及び
品質等の向上を図ることができる。

【００４４】また、請求項３の液晶パネルの製造方法で
あると、洗浄が容易で作業性に優れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施例に係る液晶パネルの製造方法
における、大判のガラス基板１０から電極基板１２を形
成する工程のプロセスフローチャートである。

【図２】本実施例でスクライブライン１６を形成した大
判のガラス基板１０の平面図である。

【図３】本実施例で大判のガラス基板１０にスクライブ
ライン１６を形成している状態を示す断面図である。

【図４】（ａ）は、本実施例で、分離したガラス基板１
２にコーナー面取りをしている状態を示す斜視図であ
り、（ｂ）は、コーナー面取り後のガラス基板１２の欠
載斜視図である。

【図５】（ａ）は、本実施例で、分離したガラス基板１
２に端面糸面取りをしている状態を示す斜視図であり、
（ｂ）は、端面糸面取り後のガラス基板１２の欠載斜視
図である。

【図６】従来の液晶パネルの製造方法における、大判の
ガラス基板から電極基板を形成する工程のプロセスフロ
ーチャートである。

【図７】従来の液晶パネルの製造方法において、大判の
ガラス基板にスクライブラインを形成している状態を示
す断面図である。

【符号の説明】

１０……大判のガラス基板 １２……ガラス基板 １４……膜面 １６……スクライブライン １８……スクライブテーブル

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】電極が形成された大型基板を膜面側が上方
   に向くように台上に載置し、この台上で前記膜面側にス
   クライブラインを刻設してスクライブし、前記スクライ
   ブラインに沿って前記大型基板を所定の寸法に分離する
   工程と、 分離した基板を洗浄液で洗浄する工程と、 洗浄した基板の表面に付着した前記洗浄液が乾燥する前
   に、前記洗浄した基板の面取りを完了する工程と、 面取りした基板を洗浄液で洗浄する工程とを備えたこと
   を特徴とする液晶パネルの製造方法。
2. 【請求項２】前記面取りがコーナー面取りと端面糸面取
   りとよりなり、 前記コーナー面取り後に洗浄液で洗浄し、さらに、この
   洗浄した基板の表面に付着した前記洗浄液が乾燥する前
   に前記端面糸面取りを完了することを特徴とする請求項
   １に記載の液晶パネルの製造方法。
3. 【請求項３】前記洗浄工程が純水浸漬処理であることを
   特徴とする請求項１に記載の液晶パネルの製造方法。