JPH08150688A

JPH08150688A - 二軸配向積層ポリエステルフィルム

Info

Publication number: JPH08150688A
Application number: JP6296953A
Authority: JP
Inventors: Toru Miyake; 徹三宅; Koichi Abe; 晃一阿部; Iwao Okazaki; 巌岡崎; Katsunori Oshima; 桂典大島
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1994-11-30
Filing date: 1994-11-30
Publication date: 1996-06-11

Abstract

(57)【要約】【構成】本発明は３層以上の構造からなる二軸配向ポ
リエステルフィルムであり、その少なくとも１つの層
（Ａ）が３ミクロン以下の薄膜積層であり、この層に内
部析出型の粒子および単分散不活性粒子または凝集粒子
が含有されているか、単分散不活性粒子が小量（０．３
重量％未満）含有されている二軸配向ポリエステルフィ
ルム。【効果】磁気記録媒体用の支持体として用いた場合
に、高速工程におけるフィルム表面の削れを著しく低減
し得る二軸配向ポリエステルフィルムを提供するもので
ある。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、二軸配向積層ポリエス
テルフィルムに関し、特にビデオテープ用基材として最
適なフィルムに関する。

【０００２】

【従来技術】ビデオテープの基材として用いることので
きる二軸配向ポリエステルフィルムとしては、ポリエス
テルにコロイダルシリカに起因する球形のシリカ粒子を
含有せしめたフィルムが知られている（例えば特開昭５
９−１７１６２３公報）。

【０００３】また、二軸配向積層フィルムとしては、例
えば特開平２−７７４３１号公報が知られている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、最近の
ビデオデッキのＦＦ／ＲＥＷでのテープの走行、磁気媒
体の塗布カレンダー工程、ダビング工程、テープをカセ
ットに組み込む工程などの速度の増大に伴い、接触する
ロールやガイド、塗布機のエッジでフィルム表面、特に
フィルム表面の突起が削り取られ易いという欠点があっ
た。また従来のものでは、高速磁界転写などによるダビ
ングの増速化に伴い、ダビング時の画質低下のために、
画質すなはちＳ／Ｎ比も不十分という欠点があった。

【０００５】本発明の目的は、上記したようなビデオデ
ッキでの高速走行、フィルムの加工における高速工程で
フィルム表面が削り取られにくい二軸配向積層ポリエス
テルフィルムを提供すること、またダビング時等の画質
劣化の少ない、即ち電磁変換特性のよいビデオテープ用
基材として最適な二軸配向積層ポリエステルフィルムを
提供することである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記の高速工程において
フィルム表面が削れやすいかどうかの指標として、我々
は高速レザ−刃削れテストが適当であることを見出だし
た。また、レザ−刃の上に低速でレザ−刃を走らせる低
速レザ−刃テストも高速レザ−刃削れテストに比べ、や
や精度は落ちるものの簡便かつ安全であり十分上記高速
工程における削れに対する指標になり得る。この二つの
テストを評価の手段として、様々な処方で試作されたフ
ィルムの高速工程における削れ性を検討した結果、以下
のような特徴を持つフィルムが本発明の目的を達成しう
ることが分かった。即ち、高速工程における削れが問題
ないレベルであるためには、上記高速レザー削れテスト
のレベルが１８０μm であることが必要である。また低
速レザー削れテストにおいては削れ指数が４０μｍ以下
であることが必要である。

【０００７】この高速レザー削れテストのレベル１８０
μm 、また低速レザー削れテストのレベル４０μｍ以下
を達成する方法は概ね次の二つに大別される。

【０００８】第一の方法は、二軸配向積層フィルムの積
層部を薄膜とし、この薄膜積層部に内部粒子を形成させ
る方法である。第二の方法は前期薄膜積層部に突起形成
のための外部粒子を極少量添加して突起と突起の間隔を
広げる事である。どちらの場合にも、本発明のポリエス
テルフィルムは少なくとも３層以上の積層構造である必
要がある。単層や２層では、フィルム深層部にもぐり込
んだ粒子が表面に大きなウネリを形成し、磁気媒体のベ
ースフィルムとして用いた時には著しく電磁変換特性を
低下させる。これを防ぐために２層フィルムの場合に
は、磁性層を設ける側の層に極力粒子を添加せずに平滑
な表面とする技術も考えられるが、この場合平滑面の摩
擦係数が高すぎて、前記高速工程における搬送時に蛇行
したり、工程内のロールに貼り付いて、フィルムが切断
したりする。本発明においては、３層以上の積層構造に
特定することにより、安定な高速搬送性が得られるとと
もに、高いレベルの電磁変換特性を得ることができる。
また、３層以上の場合には中間層リサイクルポリマで構
成して資源の再利用による保護に貢献できるなどのメリ
ットがある。

【０００９】さらに本発明においては、その少なくとも
最表層の１層（Ａ層）の厚みが０．０１ミクロン以上３
ミクロン未満の薄膜積層である必要がある。積層部を薄
膜にすることにより、フィルム内部に深く沈み込んだ粒
子が無くなり、突起の高さを均一にすることができる。

【００１０】上記第一の方法について詳しく述べる。ビ
デオテープ用基材として用いられる二軸配向ポリエステ
ルフィルムは、一般にフィルム表面の摩擦を低減するた
めに、粒子を添加してフィルム表面に突起を形成してい
る。この突起のうちの粗大突起が前記高速工程において
破壊されやすい。粗大突起の破壊により生じた破片は、
ビデオテープの録画再生の時にドロップアウトとなる。
粗大突起の原因物としては、添加粒子のうちの粒子径が
特に大きい単一粒子や、粒子が凝集して粗大粒子を形成
したもの、ポリマーの製造工程におけるコンタミネーシ
ョンなどがある。フィルムに添加する粒子として球形シ
リカなどの外部粒子を使用すると、マトリックスのポリ
マーとの親和性が弱いために、粒子の周りにボイドを生
じ易い。そのため突起が何等かの衝撃を受けた場合に、
突起の下にある粒子が脱落しやすい。これを防ぐ目的
で、内部析出型粒子によって突起を形成させる。この内
部析出型粒子は、基材との親和性が良く、基材との間に
強固な結合を達成しつつ表面突起の形成が可能なもので
ある。この内部析出型粒子を薄膜積層部（Ａ層）に含有
させることにより、高さの揃ったブロ−ドな突起をフィ
ルム表面に形成することができる。外部粒子を必要に応
じて併用することができる。このブロ−ドな突起によ
り、その谷間に存在する外部粒子による突起は高速工程
において保護されることになり、結果的に外部粒子の削
れも低減することができる。このように薄膜積層部Ａに
は他の外部粒子が含有されていても良い。適切な他の粒
子も併用して含有させることにより、高速削れ性、電磁
変換特性を一層向上させることができる。

【００１１】層（Ａ）に含有される外部粒子としては、
一次粒子径が５から２００ｎｍ、好ましくは１０から１
００ｎｍの平均凝集度が５から１００の凝集粒子（Ａ）
がある。含有量としては、２重量％以下、好ましくは
０．０５から２重量％、さらに好ましくは０．１から１
重量％が好ましい。２重量％以上添加すると凝集度が極
端に大きい粗大粒子が生じる可能性が高くなる。粒子の
種類としては、アルファ型、ガンマ型、デルタ型、シ−
タ型のアルミナ粒子、ジルコニア、シリカ、チタン粒子
などがある。これらの粒子は実質的にフィルム表面に突
起を形成せず、地肌の補強を目的に添加される。

【００１２】また層（Ａ）に含有される外部粒子のう
ち、突起を形成してフィルム表面の摩擦を低減する目的
で添加されるものとしては、平均粒子径が０．０５から
３．０ミクロン、好ましくは０．１から２ミクロン、さ
らに好ましくは０．２から１ミクロンの単分散粒子Ｂ
（平均凝集度５．０未満）がある。粒子の種類としては
炭酸カルシウム、単分散シリカ粒子ジビニルベンゼン粒
子、シリコ−ン粒子、酸化チタン粒子、炭化ケイ素、窒
化ケイ素、窒化チタン、酸化スズなどがある。含有量は
３重量％以下が好ましく、さらに好ましくは０．０５か
ら３重量％、好ましくは０．０５から２重量％である。
３重量％より大きくなると、未分散の凝集物が存在する
確率が高くなり、高速工程において削れを生じやすい。

【００１３】この粒子Ｂにあっては、その平均粒子径ｄ
と層（Ａ）の厚みｔとの関係が、０．２ｄ≦ｔ≦１０
ｄ、好ましくは０．３ｄ≦ｔ≦５ｄの範囲にあることが
望ましい。

【００１４】次に上記第二の方法について述べる。この
方法は内部析出粒子を使用しないで、外部粒子のみを用
いる。内部析出粒子は前記したように様々な長所がある
が、ブロ−ドな突起を作るために電磁変換特性に対して
は若干低下させる場合がある。電磁変換特性を特にレベ
ルの高いものにしたい場合、この内部析出粒子を使用し
ないで、上記粒子Ｂに属する突起形成用粒子のみを薄膜
積層部（Ａ）に添加する。この場合、薄膜積層部（Ａ）
に対する含有量としては０．０５重量％以上０．３％未
満が好ましく、さらに好ましくは０．１重量％以上０．
３重量％未満である。

【００１５】この場合も必要に応じて、地肌補強のため
に前記粒子（Ａ）を併用してもよいが、含有量は１重量
％以下、好ましくは０．７重量％以下、さらに好ましく
は０．５重量％以下に抑えることが望ましい。

【００１６】本発明フィルムにおいては、主に前述の層
（Ａ）の表面の突起に関しては、その表面粗さパラメー
タＰ１０が３５０ｎｍ以下、好ましくは３００ｎｍ以下
であることが好ましい。この値よりも大きいと、高速削
れ性が低下するとともに、電磁変換特性が低下するおそ
れがある。

【００１７】また、上記層（Ａ）の表面の突起の高さに
関しては、その突起高さ分布の相対標準偏差が１．２以
下、好ましくは１．０以下であることが好ましい。この
値よりも大きいと、望ましくない粗大突起が存在し、そ
の部分が削り取られやすくなって高速削れ性が低下する
とともに、電磁変換特性も低下するおそれがある。

【００１８】さらに本発明フィルムにおいては、他方の
層（Ｂ）は特に限定されず、求められる表面特性に応じ
て、その構成を決定できる。たとえば、層（Ｂ）の表面
を極力平滑面に構成する場合には、この層の粒子含有量
（外部粒子、内部析出型粒子）を小さく抑えればよい。
このようにすれば、層（Ａ）の表面では、上述の如く高
速削れ性に優れ、均一な所望突起高さの突起が形成さ
れ、電磁変換特性に優れた表面を形成でき、層（Ｂ）の
表面については、目標とする平滑面とすることができ
る。

【００１９】次に、本発明のポリエステルフィルムは、
これを構成する上記各層の少なくとも一層が二軸に配向
している必要がある。２層以上の積層構造の内、全部の
層が二軸に配向していると特に好ましい。全ての層が無
配向や一軸配向では本発明の特性を満足することはでき
ない。

【００２０】本発明を構成するポリエステルは特に限定
されないが、エチレンテレフタレート、エチレンα，β
−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン４，４' −ジカ
ルボキシレート、エチレン２，６−ナフタレート単位か
ら選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分と
する場合に特に好ましい。中でもエチレンテレフタレー
トを主要構成成分とするポリエステルの場合が特に好ま
しい。なお、本発明を阻害しない範囲内で、２種以上の
ポリエステルを混合しても良いし、共重合ポリマを用い
ても良い。

【００２１】また本発明のフィルム中には、本発明の目
的を阻害しない範囲内で、他種ポリマをブレンドしても
よいし、また酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、紫外線吸収
剤などの有機添加剤が通常添加される程度添加されてい
てもよい。

【００２２】本発明の積層ポリエステルフィルムの層
（Ａ）のポリマ固有粘度は、０．４〜０．９の範囲であ
ると高速削れ性をより一層良好とするので特に好まし
い。さらに層（Ｂ）とのポリマ固有粘度の差が０．１以
内であるとより一層高速削れ性が良好となるので非常に
好ましい。

【００２３】次に本発明フィルムの製造方法について説
明する。

【００２４】まず、内部析出型粒子の生成方法は次の方
法が有効である。すなわち、内部析出型粒子は、所定
のジカルボン酸とエチレングリコールとの直接エステル
化を経て重縮合する過程あるいは、所定のジカルボン
酸のジメチルエステルとエチレングリコールとのエステ
ル交換反応を経て重縮合を行なう過程において、グリコ
ールに可溶性のカルシウム化合物、マグネシウム化合
物、マンガン化合物、リチウム化合物のすくなくとも一
種と、好ましくは、リンの酸および／またはエステル化
合物を適当な方法で添加することによって生成される、
内部析出型粒子を生成するための化合物の添加は、エス
テル化反応またはエステル交換反応が実質的に終了した
時点から重縮合反応のあまり進んでいない初期の段階ま
での任意の時期に、カルシウム化合物、リチウム化合物
の少なくとも一種をグリコール溶液として反応系に添加
するのがよい。

【００２５】ここで使用しうるカルシウム、マグネシウ
ム、マンガン、リチウム化合物としては、ハロゲン化
物、硝酸塩、硫酸塩などの無機酸塩、酢酸塩、シュウ酸
塩、安息香酸塩などの有機酸塩、水素化物および酸化物
などのグリコール可溶性の化合物が最も好ましく使用さ
れるが、二種以上併用しても構わない。また、リン化合
物としてはリン酸、亜リン酸、ホスホン酸、およびこれ
らのエステル類、部分エステル類の一種以上が用いられ
る。

【００２６】外部粒子の量を調節する方法としては、上
記方法で高濃度の粒子マスターを作っておき、それを製
膜時に粒子を実質的に含有しないポリエステルで希釈し
て外部粒子の量を調節する方法が有効である。本発明の
場合、粒子マスターの濃度は０．５〜５％程度が適当で
ある。

【００２７】次にこのポリエステルのペレットを用いて
２層積層構造をもったポリエステルフィルムとする。上
記の方法にて得られたポリエステルのペレットを所定の
割合で混合し、乾燥したのち、公知の溶融積層用押出機
に供給し、スリット状のダイからシート状に押出し、キ
ャスティングロール上で冷却固化せしめて未延伸フィル
ムを作る。すなわち、２第の押出機、２層のマニホール
ドまたは合流ブロック（例えば角型合流部を有する合流
ブロック）を用いて積層し、口金から２層のシートを押
し出し、キャスティングロールで冷却して未延伸フィル
ムを作る。この場合、ポリマ流路にスタティックミキサ
ー、ギヤポンプを設置する方法は有効である。また、薄
膜積層部（Ａ）側のポリマーを押出す押出機の溶融温度
を他方より５〜１０℃低くすることが、有効である。

【００２８】次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二
軸配向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法ま
たは同時二軸延伸法を用いることができる。ただし、最
初に長手方向、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸
法を用い、長手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦
延伸倍率を３．５〜６．５倍で行なう方法は特に好まし
い。長手方向延伸温度はポリエステルの種類によって異
なり一概には言えないが、通常、その１段目を５０〜１
３０℃とし、２段目以降はそれより高くすることが有効
である。長手方向延伸速度は５０００〜５００００％／
分の範囲が好適である。幅方向の延伸方法としてはステ
ンタを用いる方法が一般的である。延伸倍率は、３．０
〜６．０倍の範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、
１０００〜２００００％／分、温度は８０〜１６０℃の
範囲が好適である。次にこの延伸フィルムを熱処理す
る。この場合の熱処理温度は１７０〜２２０℃、特に１
８０〜２００℃、時間は０．２〜２０秒の範囲が好適で
ある。

【００２９】［物性の測定方法ならびに効果の評価方
法］本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方法は
次の通りである。

【００３０】（１）粒子の平均粒径フィルムからポリマをプラズマ低温灰化処理法で除去
し、粒子を露出させる。処理条件はポリマは灰化される
が粒子は極力ダメージを受けない条件を選択する。その
粒子を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子画像
をイメージアナライザで処理する。ＳＥＭの倍率はおよ
そ２０００〜１００００倍、また、１回の測定での視野
は１辺がおよそ１０〜５０μｍから適宜選択する。観察
箇所をかえて粒子数５０００個以上で粒径とその体積分
率から、次式で体積平均径ｄを得る。

【００３１】ｄ＝Σｄｉ・Ｎｖｉここで、ｄｉは粒径、Ｎｖｉはその体積分率である。

【００３２】粒子がプラズマ低温灰化処理法で大幅にダ
メージを受ける場合には、以下の方法を用いても良い。

【００３３】フィルム断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥ
Ｍ）を用い、３０００〜１０００００倍で観察する。Ｔ
ＥＭの切片厚さは約１０００オングストロームとし、場
所をかえて５００視野以上測定し、上記式から体積平均
径ｄを求める。

【００３４】（２）粒子の含有量ポリエステルは溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択
し、粒子をポリエステルから遠心分離し、粒子の全体重
量に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。
場合によっては赤外分光法の併用も有効である。

【００３５】（３）フィルム積層厚み表面からエッチングしながらＸＰＳ（Ｘ線電子光法）、
ＩＲ（赤外分光法）あるいはコンフォーカル顕微鏡など
で、その粒子濃度のデプスプロファイルを測定する。片
面に積層したフィルムにおける表層では、表面という界
面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて
粒子濃度は高くなる。

【００３６】本発明の片面に積層したフィルムの場合
は、深さ［Ｉ］で一旦極大値となった粒子濃度がまた減
少し始める。この濃度分布曲線をもとに極大値の粒子濃
度の１／２になる深さ［II］（ここで、II＞Ｉ）を積層
厚さとした。さらに、無機粒子などが含有されている場
合には、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用い
て、フィルム中の粒子のうち最も高濃度の粒子の起因す
る元素とポリエステルの炭素元素の濃度比（Ｍ⁺／
Ｃ⁺）を粒子濃度とし、ポリエステルＡ層の表面からの
深さ（厚さ）方向の分析を行なう。そして上記同様の手
法から積層厚さを得る。なお、フィルム断面観察あるい
は薄膜段差測定機などによって求めることもできる。

【００３７】（４）表面突起の高さ分布の標準偏差２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ＥＳＭ−３２００、
エリオニクス（株）製］と断面測定装置［ＰＭＳ−１、
エリオニクス（株）製］においてフィルム表面の平坦面
の高さを０として走査したときの突起の高さ測定値を画
像処理装置［ＩＢＡＳ２０００、カールツァイス（株）
製］に送り、画像処理装置上にフィルム表面突起画像を
再構築する。次に、この表面突起画像で突起部分を２値
化して得られた個々の突起の面積から円相当径を求めこ
れをその突起の平均径とする。また、この２値化された
個々の突起部分の中で最も高い値をその突起の高さと
し、これを個々の突起について求める。この測定を場所
をかえて５００回繰返し、測定された突起についてその
高さ分布を正規分布（高さ０の点を中心とする正規分
布）とみなして最小２乗法で近似して高さ分布の標準偏
差を求めた。また走査型電子顕微鏡の倍率は、１０００
〜８０００倍の間を選択する。

【００３８】（５）表面粗さパラメータＰ１０光干渉式３次元表面解析装置（ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−
３Ｄ、対物レンズ：４０〜２００倍、高解像度カメラ使
用が有効）を用いて、画像処理装置上にフィルム表面突
起画像を構築する。この表面突起画像で突起部分の最も
高い値から１０点について平均をＰ１０と定義した。２
０回の測定の平均値をもって値とした（単位ｎｍ）。

【００３９】（６）ポリマ固有粘度ｏ−クロロフェノールを溶媒として２５℃にて測定し
た。

【００４０】（７）高速削れ性フィルムを１／２インチ幅のテープ状にスリットしたも
のに角度９０゜で片刃を押しあて、０．５mm押し込んで
２００ｍ走行させる（速度：２００ｍ／ｍｉｎ、張力：
１００ｇ）。片刃に削りとられた粉の付着高さを顕微鏡
で読み取り、削れ量（μｍ）とした。この削れ量が１８
０μｍ以下の場合耐削れ性が良好、それを越える場合耐
削れ性が不良である。

【００４１】（８）電磁変換特性フィルムに下記組成の磁性塗料をグラビアロールにより
塗布し、磁気配向させ、乾燥させる。さらに、小型テス
トカレンダー装置（スチールロール／ナイロンロール、
５段）で、温度：７０℃、線圧：２００kg／cmでカレン
ダー処理した後、７０℃、４８時間キュアリングする。
上記テープ原反を１／２インチにスリットし、パンケー
キを作成した。このパンケーキから長さ２５０ｍの長さ
をＶＴＲカセットに組み込みＶＴＲカセットテープとし
た。

【００４２】（磁性塗料の組成）・Ｃｏ含有酸化鉄：１００重量部・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体：１０重量部・ポリウレタンエラストマ：１０重量部・ポリイソシアネート：５重量部・レシチン：１重量部・メチルエチルケトン：７５重量部・メチルイソプチルケトン：７５重量部・トルエン：７５重量部・カーボンブラック：２重量部・ラウリン酸：１．５重量部このテープに家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形発生
器により１００％クロマ信号を記録し、その再生信号か
らカラービデオノイズ測定器でクロマＳ／Ｎを測定し
た。

【００４３】（９）低速レザー削れフィルムを１／２インチ幅のテープ状にスリットしたも
のに角度９０度で片刃を押し当て、１ｍｍ押し込んで１
０ｃｍ走行させる（速度：３．３ｃｍ／ｍｉｎ、張力１
００ｇ）。片刃に削り取られた粉の付着高さを顕微鏡で
読取り、削れ量とした。この削れ量が４０ミクロン以下
の場合が耐削れ性良好、それを越える場合耐削れ性が不
良である。

【００４４】（１０）粒子の平均凝集度粒子を含有したフィルムを、フィルム平面に垂直に厚さ
１０００オングストロームの薄切り片とし、透過型電子
顕微鏡（例えば日本電子製ＪＥＭ−１２００ＥＸなど）
を用いて、１０万倍程度の倍率で粒子を観察すると、こ
れ以上粒子を分割できない最小の粒子（一次粒子）を観
察することができる。この観察を２０視野について行な
い、一つの凝集粒子がいくつの一次粒子でできているか
を数え、平均した値を平均凝集度とした。

【００４５】

【実施例】次に実施例に基づき、本発明の実施態様を説
明する。

【００４６】実施例１内部析出型粒子含有ペレットを５０重量部、さらに粒子
を含有しないポリエチレンテレフタレートのペレットを
５０重量部混ぜ合わせ、ベント式二軸混練押出機１に供
給し、２８０℃で溶解した（ポリマＩ）。更に、もう１
大の押出機２を用意し、実質的に粒子を含有しないペレ
ットを１８０℃で３時間減圧乾燥（３Ｔｏｒｒ）し、押
出機２に供給して２９０℃で溶解した（ポリマＩＩ）。
この２つのポリマを、それぞれ高精度盧過した後、矩形
積層部を備えた３層合流ブロックにて、（Ｂ）層部にポ
リマＩＩを、（Ａ）層部にポリマＩがくるように積層
（Ａ／Ｂ／Ａ）し、フィッシュテール型の口金よりシー
ト状にして押し出した後、静電印加キャスト法を用いて
表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷
却固化し、厚さ約１６０μｍの未延伸フィルムを作っ
た。この時のドラフト比は６．５であった。

【００４７】この未延伸フィルムを長手方向に３段階に
分け、１２３℃で１．２倍、１２６℃で１．４５倍、１
１４℃で２．３倍それぞれ延伸した。この一軸フィルム
をステンタを用いて幅方向に２段階に分け、１１１℃で
３．７倍、１１３℃で１．２倍延伸し、低長下で２００
℃にて５秒間熱処理し、厚さ１４μｍのフィルムを得
た。二軸延伸フィルムの積層厚み比は、Ａ層／Ｂ層／Ａ
層が１／１２／１（μｍ）であった。また、表目粗さパ
ラメータＰ１０は、１５０で、突起高さ分布の相対標準
偏差は０．８であった。

【００４８】このフィルムの電磁変換特性を測定する
と、３．０ｄＢであった。また、積層部Ａの高速削れ性
も１４０（μｍ）と良好であった。このように、一方の
層（Ａ）に含有される粒子の種類及び積層構成が本発明
の範囲内である場合には、電磁変換特性、高速削れ性と
もに良好なフィルムとすることができる。

【００４９】実施例２〜１２、比較例１、２、３、４、
５実施例１と同様にして二軸配向ポリエステルフィルムを
作成した。実施例２〜４および実施例１０、１１につい
ては内部析出型粒子に加え、それぞれ表１に示す外部粒
子を層（Ａ）に添加した。また実施例５〜９、１２にお
いては、薄膜積層部（Ａ）に粒子Ｂに属する不活性粒子
のみを少量添加した。表１に示すように、内部析出粒子
の有無、積層構成、外部粒子の含有量が本発明の範囲の
中にない場合は電磁変換特性、高速あるいは低速レザー
削れを同時に良好なフィルムは得られなかった。

【００５０】

【表１】

【表２】

【００５１】

【発明の効果】本発明の３層以上の構造からなる二軸配
向ポリエステルフィルムによれば、その少なくとも１つ
の層（Ａ）が３ミクロン以下の薄膜積層とし、この層に
内部析出型の粒子および単分散不活性粒子または凝集粒
子が含有されているか、単分散不活性粒子が小量（０．
３重量％未満）含有されていることにより、磁気記録媒
体用の支持体として用いた場合に、高速工程におけるフ
ィルム表面の削れを著しく低減し得る二軸配向ポリエス
テルフィルムを提供することができる。

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｇ１１Ｂ 5/704 // Ｃ０８Ｊ 5/18 ＣＦＤＢ２９Ｋ 67:00 105:16 Ｂ２９Ｌ 9:00 (72)発明者大島桂典滋賀県大津市園山１丁目１番１号東レ株式会社滋賀事業場内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも３層以上の積層構造を有して
おり、その最表層の少なくとも１層の積層厚みが０．０
１μｍ以上３μｍ以下の薄膜積層（Ａ層）であり、少な
くとも前記Ａ層に内部析出粒子を含有し、さらに前記Ａ
層に平均粒径が５〜200nm の凝集粒子（平均凝集度５〜
１００）を２重量％以下含有していることを特徴とする
二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項２】Ａ層に含有されている凝集粒子（平均凝
集度５〜１００）のＡ層における含有量が０．０５〜２
重量％であることを特徴とする請求項１に記載の二軸配
向積層ポリエステルフィルム。
【請求項３】Ａ層に平均粒径０．０５μｍ以上３μｍ
以下の単分散粒子（平均凝集度５未満）が３重量％以下
含有されていることを特徴とする請求項１または２に記
載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項４】Ａ層に含有されている単分散粒子（平均
凝集度５未満）のＡ層における含有量が０．０５以上３
重量％以下であることを特徴とする請求項１ないし３に
記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項５】少なくとも３層以上の積層構造を有して
おり、その最表層の少なくとも１層の積層厚みが０．０
１μｍ以上３μｍ以下の薄膜積層（Ａ層）であり、前記
Ａ層に平均粒径が０．０５μｍ以上３μｍ以下の単分散
粒子（平均凝集度５未満）を０．０５重量％以上０．３
重量％未満含有していることを特徴とする二軸配向積層
ポリエステルフィルム。
【請求項６】前記Ａ層に含有されている単分散粒子
（平均凝集度５未満）の平均粒径ｄ（μｍ）とＡ層の膜
厚ｔ（μｍ）との関係が、０．２ｄ≦ｔ≦１０ｄである
ことを特徴とする請求項３ないし５に記載の二軸配向積
層ポリエステルフィルム。
【請求項７】前記Ａ層の表面粗さパラメ−タＰ１０が
３５０ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし
６に記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項８】前記Ａ層の表面の突起高さ分布の相対標
準偏差が１．２以下であることを特徴とする請求項１な
いし７に記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。
【請求項９】前記Ａ層の表面の低速レザ−削れの値が
４０μｍ以下であることを特徴とする請求項１ないし８
に記載の二軸配向積層ポリエステルフィルム。