JPH08143689A - ポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法 - Google Patents
ポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH08143689A JPH08143689A JP2413273A JP41327390A JPH08143689A JP H08143689 A JPH08143689 A JP H08143689A JP 2413273 A JP2413273 A JP 2413273A JP 41327390 A JP41327390 A JP 41327390A JP H08143689 A JPH08143689 A JP H08143689A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polysilazane
- resin
- coating
- film
- coating film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Paints Or Removers (AREA)
- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 耐擦傷性、耐摩耗性及び耐薬品性にすぐれた
被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法を提供する。 【構成】 ポリシラザンの硬化被膜を樹脂成形品の表面
に接着させる。このような成形品は、樹脂成形体の表面
にポリシラザンの被膜を形成する工程と、このポリシラ
ザン被膜を有する樹脂成形体を熱処理又は電子線処理す
る工程からなる方法や、樹脂シートの表面にポリシラザ
ンの被膜を形成する工程と、このポリシラザン被膜を有
する樹脂シートを成形加工する工程と、この成形加工し
た成形体を熱処理又は電子線処理する工程からなる方法
により製造される。
被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法を提供する。 【構成】 ポリシラザンの硬化被膜を樹脂成形品の表面
に接着させる。このような成形品は、樹脂成形体の表面
にポリシラザンの被膜を形成する工程と、このポリシラ
ザン被膜を有する樹脂成形体を熱処理又は電子線処理す
る工程からなる方法や、樹脂シートの表面にポリシラザ
ンの被膜を形成する工程と、このポリシラザン被膜を有
する樹脂シートを成形加工する工程と、この成形加工し
た成形体を熱処理又は電子線処理する工程からなる方法
により製造される。
Description
【０００１】
【技術分野】本発明は、ポリシラザン硬化被膜を表面に
有する樹脂成形体及びその製造方法に関するものであ
る。
有する樹脂成形体及びその製造方法に関するものであ
る。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】樹脂成形体表面を改質する
ために、その樹脂表面に、α−アルミナや二酸化ケイ素
等の金属酸化物を含む被膜を形成することは知られてい
る（特開昭６１−２８１１３３号、特開昭６３−１１４
９５７号、特開昭６３−３０１２６７号、特開平２−２
０６６２４号等）。樹脂表面にこのような金属酸化物含
有被膜を形成することによって耐擦傷性、耐摩耗性等の
性状において改善された表面が得られるが、無機ガラス
表面等の無機質表面に比べると未だ十分なものとは言え
ない。
ために、その樹脂表面に、α−アルミナや二酸化ケイ素
等の金属酸化物を含む被膜を形成することは知られてい
る（特開昭６１−２８１１３３号、特開昭６３−１１４
９５７号、特開昭６３−３０１２６７号、特開平２−２
０６６２４号等）。樹脂表面にこのような金属酸化物含
有被膜を形成することによって耐擦傷性、耐摩耗性等の
性状において改善された表面が得られるが、無機ガラス
表面等の無機質表面に比べると未だ十分なものとは言え
ない。
【０００３】また、樹脂成形体表面を改質するために、
イオンプレーティング等のＰＶＤ法により二酸化ケイ素
被膜を樹脂表面に形成する方法も知られているが、この
場合、二酸化ケイ素被膜の密着性が十分ではなく、剥離
やクラックが生じるという問題がある。
イオンプレーティング等のＰＶＤ法により二酸化ケイ素
被膜を樹脂表面に形成する方法も知られているが、この
場合、二酸化ケイ素被膜の密着性が十分ではなく、剥離
やクラックが生じるという問題がある。
【０００４】
【発明の課題】本発明は、従来の樹脂表面改質技術に見
られる前記問題点を解決し、耐擦傷性、耐摩耗性及び耐
薬品性にすぐれた被膜を有する樹脂成形体及びその製造
方法を提供することをその課題とする。
られる前記問題点を解決し、耐擦傷性、耐摩耗性及び耐
薬品性にすぐれた被膜を有する樹脂成形体及びその製造
方法を提供することをその課題とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前記課題
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。
を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、本発明を完成する
に至った。
【０００６】即ち、本発明によれば、ポリシラザン硬化
被膜を表面の少なくとも一部に有する樹脂成形体が提供
される。
被膜を表面の少なくとも一部に有する樹脂成形体が提供
される。
【０００７】また、本発明によれば、樹脂成形体の表面
の少なくとも一部にポリシラザンの被膜を形成する工程
と、このポリシラザン被膜を有する樹脂成形体を熱処理
又は電子線処理する工程からなるポリシラザン硬化被膜
を有する樹脂成形体の製造方法が提供される。
の少なくとも一部にポリシラザンの被膜を形成する工程
と、このポリシラザン被膜を有する樹脂成形体を熱処理
又は電子線処理する工程からなるポリシラザン硬化被膜
を有する樹脂成形体の製造方法が提供される。
【０００８】さらに、本発明によれば、樹脂シートの表
面の少なくとも一部にポリシラザンの被膜を形成する工
程と、このポリシラザン被膜を有する樹脂シートを成形
加工する工程と、この成形加工した成形体を熱処理又は
電子線処理する工程からなるポリシラザン硬化被膜を有
する樹脂成形体の製造方法が提供される。なお、本明細
書で言うポリシラザンの硬化被膜とは、ポリシラザンの
被膜を加熱処理又は電子線処理してセラミックス化させ
る際に、そのセラミック化の過程で生じる水素及び/又
は炭素を分子中に含有する耐熱性のポリシラザン硬化体
からなる被膜を意味する。
面の少なくとも一部にポリシラザンの被膜を形成する工
程と、このポリシラザン被膜を有する樹脂シートを成形
加工する工程と、この成形加工した成形体を熱処理又は
電子線処理する工程からなるポリシラザン硬化被膜を有
する樹脂成形体の製造方法が提供される。なお、本明細
書で言うポリシラザンの硬化被膜とは、ポリシラザンの
被膜を加熱処理又は電子線処理してセラミックス化させ
る際に、そのセラミック化の過程で生じる水素及び/又
は炭素を分子中に含有する耐熱性のポリシラザン硬化体
からなる被膜を意味する。
【０００９】本発明において用いられるポリシラザンと
しては、従来公知の各種のポリシラザンが使用できる
が、好ましくは以下のようなポリシラザンが挙げられ
る。 （１）一般式 の繰り返し単位を有する数平均分子量が１００〜５０，
０００の環状無機ポリシラザン、鎖状無機ポリシラザン
又はこれらの混合物（特開昭５９−２０７８１２号）。 (2) 原料として上記の如きポリシラザン又はＡ．Ｓｔｏ
ｃｋ，Ｂｅｒ，５４，ｐ７４０（１９２１）、Ｗ．Ｍ．
Ｓｃａｎｔｌｉｎ，Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ，１１（１９７２）、Ａ．ＳｅｙＦｅｒｔｈ，米
国特許第４，３９７，３２８号明細書等により開示され
たシラザン重合体をトリアルキルアミンの如き第３級ア
ミン類、立体障害性の基を有する第２級アミン類、フォ
スフィン等の如き塩基性化合物を溶媒とするか又はこれ
を非塩基性溶媒、例えば、炭化水素類に添加し−７８℃
〜３００℃で加熱し脱水素縮合反応を行わせることによ
り得られる数平均分子量２００〜５００，０００、好ま
しくは５００〜１００，０００の高重合体（特開平１−
１３８１０８号）。
しては、従来公知の各種のポリシラザンが使用できる
が、好ましくは以下のようなポリシラザンが挙げられ
る。 （１）一般式 の繰り返し単位を有する数平均分子量が１００〜５０，
０００の環状無機ポリシラザン、鎖状無機ポリシラザン
又はこれらの混合物（特開昭５９−２０７８１２号）。 (2) 原料として上記の如きポリシラザン又はＡ．Ｓｔｏ
ｃｋ，Ｂｅｒ，５４，ｐ７４０（１９２１）、Ｗ．Ｍ．
Ｓｃａｎｔｌｉｎ，Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ Ｃｈｅｍｉｓ
ｔｒｙ，１１（１９７２）、Ａ．ＳｅｙＦｅｒｔｈ，米
国特許第４，３９７，３２８号明細書等により開示され
たシラザン重合体をトリアルキルアミンの如き第３級ア
ミン類、立体障害性の基を有する第２級アミン類、フォ
スフィン等の如き塩基性化合物を溶媒とするか又はこれ
を非塩基性溶媒、例えば、炭化水素類に添加し−７８℃
〜３００℃で加熱し脱水素縮合反応を行わせることによ
り得られる数平均分子量２００〜５００，０００、好ま
しくは５００〜１００，０００の高重合体（特開平１−
１３８１０８号）。
【００１０】(3) 無機ポリシラザンの改質反応により得
られる重合体で架橋結合−ＮＨ−又は−ＮＨ−ＮＨ−を
有し、ケイ素原子に結合する窒素とケイ素との原子比(N
/Si)が0.8以上で数平均分子量が２００〜５００，００
０、好ましくは５００〜１００，０００のもの。この改
質ポリシラザンはアンモニア又はヒドラジンを使用して
ポリシラザンの脱水素縮合反応を行わせることにより製
造することができる（特開平１−１３８１０７号）。
られる重合体で架橋結合−ＮＨ−又は−ＮＨ−ＮＨ−を
有し、ケイ素原子に結合する窒素とケイ素との原子比(N
/Si)が0.8以上で数平均分子量が２００〜５００，００
０、好ましくは５００〜１００，０００のもの。この改
質ポリシラザンはアンモニア又はヒドラジンを使用して
ポリシラザンの脱水素縮合反応を行わせることにより製
造することができる（特開平１−１３８１０７号）。
【００１１】(4) 組成式（ＲＳｉＨＮＨ）x〔（ＲＳｉ
Ｈ）1.5Ｎ〕y （但し、式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、シクロ
アルキル基、アリール基、又はこれらの基以外でＳｉに
直結する原子が炭素である基、アルキルシリル基、アル
キルアミノ基、アルコキシ基を表わし、yは1-Xであり、
そして０．４＜x＜１である）で表わされるポリオルガ
ノヒドロシラザン（特開昭６２−１５６１３５号)。
Ｈ）1.5Ｎ〕y （但し、式中、Ｒはアルキル基、アルケニル基、シクロ
アルキル基、アリール基、又はこれらの基以外でＳｉに
直結する原子が炭素である基、アルキルシリル基、アル
キルアミノ基、アルコキシ基を表わし、yは1-Xであり、
そして０．４＜x＜１である）で表わされるポリオルガ
ノヒドロシラザン（特開昭６２−１５６１３５号)。
【００１２】本発明においては、さらに、酸素を含有さ
せたポリシロキサザン（特開昭６２−１９５０２４）
や、金属アルコキシド等を反応させたポリメタロシラザ
ン（特開平２−７７４２７号）、有機硼素化合物を反応
させたポリボロシラザン（特開平２−８４４３７号）等
も使用し得る。前記した各種のポリシラザンは、その種
類に応じて、常温で液状〜固体状を示す。本発明におい
て用いるポリシラザンは、樹脂との密着性の点では、ケ
イ素や窒素に直結する活性水素含有割合の高いものの使
用が好ましく、一般的には、ケイ素原子と窒素原子との
合計原子数１００に対し、９０以上、好ましくは１００
〜１５２の活性水素原子を有するものの使用が有利であ
る。
せたポリシロキサザン（特開昭６２−１９５０２４）
や、金属アルコキシド等を反応させたポリメタロシラザ
ン（特開平２−７７４２７号）、有機硼素化合物を反応
させたポリボロシラザン（特開平２−８４４３７号）等
も使用し得る。前記した各種のポリシラザンは、その種
類に応じて、常温で液状〜固体状を示す。本発明におい
て用いるポリシラザンは、樹脂との密着性の点では、ケ
イ素や窒素に直結する活性水素含有割合の高いものの使
用が好ましく、一般的には、ケイ素原子と窒素原子との
合計原子数１００に対し、９０以上、好ましくは１００
〜１５２の活性水素原子を有するものの使用が有利であ
る。
【００１３】本発明のポリシラザンの硬化被膜を有する
樹脂成形体を製造するには、前記ポリシラザンをコーテ
ィング材料として用い、これを樹脂成形体表面にコーテ
ィングし、その樹脂表面にポリシラザン被膜を形成した
後、これを加熱処理又は電子線処理する。ポリシラザン
が液状のものであれば、これを樹脂表面にコーティング
した後、空気や、不活性ガス（例えばＮ2、アルゴン
等）、還元性ガス（例えばアンモニア、ヒドラジン等）
または真空の雰囲気下において、常温からその樹脂の溶
融点又は分解点の間の温度、通常、８０〜２００℃の温
度に一定時間保持する。これによって、架橋化された固
体状ポリシラザンからなる被膜が得られる。また、ポリ
シラザンが固体状（粉末状）のものであれば、これを有
機溶媒に溶解し、この溶液を樹脂表面にコーティング
し、使用した有機溶媒を蒸発除去して固体状のポリシラ
ザン被膜とすることができる。
樹脂成形体を製造するには、前記ポリシラザンをコーテ
ィング材料として用い、これを樹脂成形体表面にコーテ
ィングし、その樹脂表面にポリシラザン被膜を形成した
後、これを加熱処理又は電子線処理する。ポリシラザン
が液状のものであれば、これを樹脂表面にコーティング
した後、空気や、不活性ガス（例えばＮ2、アルゴン
等）、還元性ガス（例えばアンモニア、ヒドラジン等）
または真空の雰囲気下において、常温からその樹脂の溶
融点又は分解点の間の温度、通常、８０〜２００℃の温
度に一定時間保持する。これによって、架橋化された固
体状ポリシラザンからなる被膜が得られる。また、ポリ
シラザンが固体状（粉末状）のものであれば、これを有
機溶媒に溶解し、この溶液を樹脂表面にコーティング
し、使用した有機溶媒を蒸発除去して固体状のポリシラ
ザン被膜とすることができる。
【００１４】ポリシラザンを含むコーティング材料に
は、有機アミンやカルボン酸無水物、イソシアネート、
チオール、カルボキシイミド、金属アルコキシド、金属
ハロゲン化物等の硬化剤を添加することができ、また金
属粉末やセラミックス粉末、例えば金属の窒化物や、酸
化物、炭化物等を適量添加することもできるし、さらに
チタン酸アルミニウムやシリコン樹脂を適量添加するこ
とができる。
は、有機アミンやカルボン酸無水物、イソシアネート、
チオール、カルボキシイミド、金属アルコキシド、金属
ハロゲン化物等の硬化剤を添加することができ、また金
属粉末やセラミックス粉末、例えば金属の窒化物や、酸
化物、炭化物等を適量添加することもできるし、さらに
チタン酸アルミニウムやシリコン樹脂を適量添加するこ
とができる。
【００１５】ポリシラザン被膜の加熱処理は、前記した
空気、不活性ガス、還元性ガスまたは真空の雰囲気下に
おいて、１００℃以上の温度で行われる。この場合、昇
温速度は１００℃／分以下、好ましくは２０℃／分以下
である。加熱温度の上限は、その樹脂の溶融点又は分解
点である。加熱処理によりポリシラザン被膜は硬化被膜
に変換される。本発明で用いるポリシラザンの特性につ
いて述べると、このものは、一般的には、空気又は酸素
雰囲気下で加熱処理すると、酸素の作用によりポリシラ
ザンの縮合又は分解が促進され、温度１００〜３００℃
程度の加熱では水素及び／又は炭素を含む硬化体が生成
され、約３００℃を超える加熱では水素や炭素を実質上
含まないセラミックスが形成される。一方、不活性ガス
や還元性雰囲気下での加熱においては、１００〜５００
℃程度までの加熱では、ポリシラザンの脱水素縮合が主
として起り、水素及び／又は炭素を含む硬化体が生成さ
れ、それ以上の温度では、ポリシラザンの分解が主とし
て起り、セラミックスが形成される。
空気、不活性ガス、還元性ガスまたは真空の雰囲気下に
おいて、１００℃以上の温度で行われる。この場合、昇
温速度は１００℃／分以下、好ましくは２０℃／分以下
である。加熱温度の上限は、その樹脂の溶融点又は分解
点である。加熱処理によりポリシラザン被膜は硬化被膜
に変換される。本発明で用いるポリシラザンの特性につ
いて述べると、このものは、一般的には、空気又は酸素
雰囲気下で加熱処理すると、酸素の作用によりポリシラ
ザンの縮合又は分解が促進され、温度１００〜３００℃
程度の加熱では水素及び／又は炭素を含む硬化体が生成
され、約３００℃を超える加熱では水素や炭素を実質上
含まないセラミックスが形成される。一方、不活性ガス
や還元性雰囲気下での加熱においては、１００〜５００
℃程度までの加熱では、ポリシラザンの脱水素縮合が主
として起り、水素及び／又は炭素を含む硬化体が生成さ
れ、それ以上の温度では、ポリシラザンの分解が主とし
て起り、セラミックスが形成される。
【００１６】樹脂成形品には、フィルム、シート、トレ
ー、容器、中空体、ブロック等の各種の形状のものが包
含される。また、その成形品を構成する樹脂としては、
その軟化点が１００℃以上、好ましくは１３０℃以上の
ものが用いられる。このような樹脂としては、例えば、
ポリカーボネート、ポリイミド、フェノール樹脂、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、
ポリフェニレンサルファイド、エポキシ樹脂、ナイロ
ン、ポリプロピレン等が挙げられる。
ー、容器、中空体、ブロック等の各種の形状のものが包
含される。また、その成形品を構成する樹脂としては、
その軟化点が１００℃以上、好ましくは１３０℃以上の
ものが用いられる。このような樹脂としては、例えば、
ポリカーボネート、ポリイミド、フェノール樹脂、ポリ
エーテルエーテルケトン、ポリブチレンテレフタレー
ト、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、
ポリフェニレンサルファイド、エポキシ樹脂、ナイロ
ン、ポリプロピレン等が挙げられる。
【００１７】ポリシラザンを電子線処理する場合、その
電子線発生装置としては、（株）アイ・エレクトロンビ
ーム ＥＬＥＣＴＯＲＯＣＵＲＴＡＩＮ ＴＹＰＥ：Ｃ
Ｂ１７５／１５／１８０Ｌ等が用いられる。
電子線発生装置としては、（株）アイ・エレクトロンビ
ーム ＥＬＥＣＴＯＲＯＣＵＲＴＡＩＮ ＴＹＰＥ：Ｃ
Ｂ１７５／１５／１８０Ｌ等が用いられる。
【００１８】樹脂成形体表面に対するポリシラザン被膜
の形成方法としては、従来公知の各種の塗布方法、例え
ば、浸漬法やスプレー法等の方法が挙げられる。また、
本発明においては、あらかじめ形成したポリシラザンフ
ィルムを樹脂成形体表面に熱圧着させる方法も採用可能
である。
の形成方法としては、従来公知の各種の塗布方法、例え
ば、浸漬法やスプレー法等の方法が挙げられる。また、
本発明においては、あらかじめ形成したポリシラザンフ
ィルムを樹脂成形体表面に熱圧着させる方法も採用可能
である。
【００１９】本発明によるポリシラザンの硬化被膜を有
する樹脂成形体を得る方法としては、ポリシラザンの被
膜を有する樹脂シートを成形材料として用い、これを所
要形状に加工した後、熱処理や電子線処理する方法や、
ポリシラザン被膜を有する樹脂シートを加熱処理や電線
処理した後、所要形状に加工する方法等がある。被膜の
加工性を考えると、ポリシラザン被膜を有する樹脂シー
トを所要形状に加工した後、加熱処理又は電子線処理す
る方法が好ましい。
する樹脂成形体を得る方法としては、ポリシラザンの被
膜を有する樹脂シートを成形材料として用い、これを所
要形状に加工した後、熱処理や電子線処理する方法や、
ポリシラザン被膜を有する樹脂シートを加熱処理や電線
処理した後、所要形状に加工する方法等がある。被膜の
加工性を考えると、ポリシラザン被膜を有する樹脂シー
トを所要形状に加工した後、加熱処理又は電子線処理す
る方法が好ましい。
【００２０】
【発明の効果】本発明において、コーティング材料とし
て用いるポリシラザンは、そのケイ素原子や窒素原子に
結合する水素原子が活性水素として作用することから、
樹脂との接着性に非常にすぐれたものである。また、こ
のポリシラザンを熱処理や電子線処理により硬化させた
ものの樹脂に対する密着強度も非常に大きなものとな
り、耐久性にすぐれた被膜を与える。本発明で用いるポ
リシラザンは、その熱処理や電子線処理により、脱水素
縮合して架橋化されて硬質の硬化体となり、最終的には
セラミックスとなる。従って、樹脂表面上の被膜の性状
は、その熱処理や電子線処理の条件によって調節するこ
とができる。耐熱性、耐食性、耐摩耗性、耐擦傷性にす
ぐれた硬化被膜とするには、水素や炭素含有率ができる
だけ小さな被膜、例えば、水素と炭素の合計含有率が５
重量％以下、好ましくは、０．２〜２重量％の被膜とす
るのがよい。硬化被膜の厚さは、通常、０．１〜１００
μｍ、好ましくは０．５〜５０μｍである。
て用いるポリシラザンは、そのケイ素原子や窒素原子に
結合する水素原子が活性水素として作用することから、
樹脂との接着性に非常にすぐれたものである。また、こ
のポリシラザンを熱処理や電子線処理により硬化させた
ものの樹脂に対する密着強度も非常に大きなものとな
り、耐久性にすぐれた被膜を与える。本発明で用いるポ
リシラザンは、その熱処理や電子線処理により、脱水素
縮合して架橋化されて硬質の硬化体となり、最終的には
セラミックスとなる。従って、樹脂表面上の被膜の性状
は、その熱処理や電子線処理の条件によって調節するこ
とができる。耐熱性、耐食性、耐摩耗性、耐擦傷性にす
ぐれた硬化被膜とするには、水素や炭素含有率ができる
だけ小さな被膜、例えば、水素と炭素の合計含有率が５
重量％以下、好ましくは、０．２〜２重量％の被膜とす
るのがよい。硬化被膜の厚さは、通常、０．１〜１００
μｍ、好ましくは０．５〜５０μｍである。
【００２１】本発明で用いるポリシラザンの硬化被膜
は、収縮が少なく、ワレ発生の極めて少ないもので、か
つ緻密なものであることから、ピンホールの発生の殆ん
どないものである。
は、収縮が少なく、ワレ発生の極めて少ないもので、か
つ緻密なものであることから、ピンホールの発生の殆ん
どないものである。
【００２２】
【実施例】次に本発明を実施例によりさらに詳細に説明
する。
する。
【００２３】参考例１ 内容積１０ ｌの四つ口フラスコにガス吹込み管、メカ
ニカルスターラー、ジューコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つ口フ
ラスコに脱気した乾燥ピリジン５ ｌを入れ、これを氷
冷した。次に、ジクロロシラン５１６ｇを加えると白色
固体状のアダクト（ＳｉＨ2Ｃｌ2・２Ｃ5Ｈ6Ｎ）が生成
した。反応混合物を氷冷し、撹拌しながら、水酸化ナト
リウム管及び活性炭管を通して精製したアンモニア５１
０ｇを吹込んだ。反応終了後、反応混合物を遠心分離
し、乾燥ピリジンを用いて洗浄した後、さらに窒素雰囲
気下で濾過して、濾液８．５ ｌを得た。得られた無機
ポリシラザンの数平均分子量はＧＰＣにより測定したと
ころ、９８０であった。
ニカルスターラー、ジューコンデンサーを装置した。反
応器内部を脱酸素した乾燥窒素で置換した後、四つ口フ
ラスコに脱気した乾燥ピリジン５ ｌを入れ、これを氷
冷した。次に、ジクロロシラン５１６ｇを加えると白色
固体状のアダクト（ＳｉＨ2Ｃｌ2・２Ｃ5Ｈ6Ｎ）が生成
した。反応混合物を氷冷し、撹拌しながら、水酸化ナト
リウム管及び活性炭管を通して精製したアンモニア５１
０ｇを吹込んだ。反応終了後、反応混合物を遠心分離
し、乾燥ピリジンを用いて洗浄した後、さらに窒素雰囲
気下で濾過して、濾液８．５ ｌを得た。得られた無機
ポリシラザンの数平均分子量はＧＰＣにより測定したと
ころ、９８０であった。
【００２４】参考例２ 参考例１で得られた無機ポリシラザンのピリジン溶液
（無機ポリシラザン濃度：６．２％）２００ｍｌを内容
積５００ｍｌの耐圧反応容器に入れ、窒素雰囲気、密閉
系で１２５℃で３時間撹拌しながら反応を行った。この
間大量の気体が発生したが、ガスクロマトグラフィー測
定により、この気体は水素であることが確認された。室
温に冷却後、乾燥Ｏ−キシレン４００ｍｌを加え、圧力
３〜５ｍｍＨｇ、温度５０〜７０℃で溶媒を除いたとこ
ろ、白色粉末が１１ｇ得られ、この粉末は有機溶媒に可
溶であった。この重合体粉末の数平均分子量は２２０
０、Ｓｉ／Ｎ比は１．２９であった。
（無機ポリシラザン濃度：６．２％）２００ｍｌを内容
積５００ｍｌの耐圧反応容器に入れ、窒素雰囲気、密閉
系で１２５℃で３時間撹拌しながら反応を行った。この
間大量の気体が発生したが、ガスクロマトグラフィー測
定により、この気体は水素であることが確認された。室
温に冷却後、乾燥Ｏ−キシレン４００ｍｌを加え、圧力
３〜５ｍｍＨｇ、温度５０〜７０℃で溶媒を除いたとこ
ろ、白色粉末が１１ｇ得られ、この粉末は有機溶媒に可
溶であった。この重合体粉末の数平均分子量は２２０
０、Ｓｉ／Ｎ比は１．２９であった。
【００２５】参考例３ 参考例１で得られた無機ポリシラザンのピリジン溶液
（無機ポリシラザン濃度：６．２％）１００ｍｌを内容
積５００ｍｌのエバポレーターに入れ、乾燥Ｏ−キシレ
ン３００ｍｌを加え、圧力３〜５ｍｍＨｇ、温度５０〜
７０℃で溶媒を除いたところ、６ｇの液状の無機ポリシ
ラザンが得られた。
（無機ポリシラザン濃度：６．２％）１００ｍｌを内容
積５００ｍｌのエバポレーターに入れ、乾燥Ｏ−キシレ
ン３００ｍｌを加え、圧力３〜５ｍｍＨｇ、温度５０〜
７０℃で溶媒を除いたところ、６ｇの液状の無機ポリシ
ラザンが得られた。
【００２６】実施例１ 参考例２で得た無機シラザン高重合体の２０ｗｔ％ｏ−
キシレン溶液中に、厚さ５ｍｍのポリイミド樹脂基板を
浸漬した後、乾燥し、次いで２００℃で１時間大気中で
熱処理することにより、無色透明なＳｉ−Ｎ−Ｏ結合を
有するポリシラザン硬化被膜（厚さ：約１μｍ）をその
基板表面に形成した。この被膜はピンホールやクラック
のない極めて緻密なものであった。この被膜の形成され
た基板の硬度をマイクロビッカース硬度計（荷重：１０
ｇ）により測定した結果、７３ｋｇｆ／ｍｍ2であり、
ポリイミド樹脂基板の硬度が３５ｋｇ／ｍｍ2であるの
に比べて、表面硬度が著しく増大したことが確認され
た。また、前記のようにして得られたポリシラザン硬化
被膜を有するポリイミド樹脂基板について、その被膜密
着性を、ＪＩＳ Ｄ−０２０２に準じたクロスカットテ
ープ試験法により調べたところ、１００／１００の結果
が得られ、すぐれた密着性を有することが確認された。
さらに、その被膜を有する基板表面の鉛筆硬度（荷重：
１００ｇ）を調べたところ、９Ｈ以上であることが確認
され、さらにまたその耐擦傷性を調べたところ、表面に
は何らの異常もなく、すぐれた耐擦傷を有することが確
認された。なお、前記耐擦傷性は、スチールウールで基
板の被膜面を１０回擦った後のその被膜面の状態を目視
により観察することで行った。
キシレン溶液中に、厚さ５ｍｍのポリイミド樹脂基板を
浸漬した後、乾燥し、次いで２００℃で１時間大気中で
熱処理することにより、無色透明なＳｉ−Ｎ−Ｏ結合を
有するポリシラザン硬化被膜（厚さ：約１μｍ）をその
基板表面に形成した。この被膜はピンホールやクラック
のない極めて緻密なものであった。この被膜の形成され
た基板の硬度をマイクロビッカース硬度計（荷重：１０
ｇ）により測定した結果、７３ｋｇｆ／ｍｍ2であり、
ポリイミド樹脂基板の硬度が３５ｋｇ／ｍｍ2であるの
に比べて、表面硬度が著しく増大したことが確認され
た。また、前記のようにして得られたポリシラザン硬化
被膜を有するポリイミド樹脂基板について、その被膜密
着性を、ＪＩＳ Ｄ−０２０２に準じたクロスカットテ
ープ試験法により調べたところ、１００／１００の結果
が得られ、すぐれた密着性を有することが確認された。
さらに、その被膜を有する基板表面の鉛筆硬度（荷重：
１００ｇ）を調べたところ、９Ｈ以上であることが確認
され、さらにまたその耐擦傷性を調べたところ、表面に
は何らの異常もなく、すぐれた耐擦傷を有することが確
認された。なお、前記耐擦傷性は、スチールウールで基
板の被膜面を１０回擦った後のその被膜面の状態を目視
により観察することで行った。
【００２７】実施例２ 参考例３で得られた液状無機ポリシラザンを塗布液とし
て用い、スピンコーターにより、厚さ５ｍｍのポリカー
ボネート基板に塗布し、乾燥後、１３０℃で１時間、大
気中で熱処理し、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ結合を有する無色透明な
ポリシラザン硬化被膜を形成した。この被膜の膜厚は約
０．５μｍであり、この被膜はピンホールやクラックの
ない極めて緻密なものであった。このようにして得られ
たポリシラザン硬化被膜を有するポリカーボネート基板
について、その表面性状を調べたところ、次の結果が得
られた。 耐薬品性：２００回以上 密着性 ：１００／１００ 鉛筆硬度：７Ｈ 耐擦傷性：良好 なお、耐薬品性は、キシレン払拭試験により基板表面に
異常が生じるまで払拭した時のその払拭回数で示した。
て用い、スピンコーターにより、厚さ５ｍｍのポリカー
ボネート基板に塗布し、乾燥後、１３０℃で１時間、大
気中で熱処理し、Ｓｉ−Ｎ−Ｏ結合を有する無色透明な
ポリシラザン硬化被膜を形成した。この被膜の膜厚は約
０．５μｍであり、この被膜はピンホールやクラックの
ない極めて緻密なものであった。このようにして得られ
たポリシラザン硬化被膜を有するポリカーボネート基板
について、その表面性状を調べたところ、次の結果が得
られた。 耐薬品性：２００回以上 密着性 ：１００／１００ 鉛筆硬度：７Ｈ 耐擦傷性：良好 なお、耐薬品性は、キシレン払拭試験により基板表面に
異常が生じるまで払拭した時のその払拭回数で示した。
【００２８】比較例１ 特開平２−２０６６２４号に記載の方法に従って、厚さ
５ｍｍのポリカーボネート基板上に、先ず鶴脂被膜を形
成し、その上に二酸化ケイ素被膜を形成した。この場
合、樹脂被膜は、無水マレイン酸とＰ−アミノスチレン
との共重合体からなるもので、その厚さは約１μｍであ
る。このようにして得られた二酸化ケイ素被膜を有する
ポリカーボネート基板について、その表面性状を調べた
ところ、次の結果が得られた。 耐薬品性：８３回 密着性 ：１００／１００ 鉛筆硬度：６Ｈ 耐擦傷性：良好
５ｍｍのポリカーボネート基板上に、先ず鶴脂被膜を形
成し、その上に二酸化ケイ素被膜を形成した。この場
合、樹脂被膜は、無水マレイン酸とＰ−アミノスチレン
との共重合体からなるもので、その厚さは約１μｍであ
る。このようにして得られた二酸化ケイ素被膜を有する
ポリカーボネート基板について、その表面性状を調べた
ところ、次の結果が得られた。 耐薬品性：８３回 密着性 ：１００／１００ 鉛筆硬度：６Ｈ 耐擦傷性：良好
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 磯田 武志 埼玉県入間郡大井町西鶴ケ岡１丁目３番１ 号 東燃株式会社総合研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 ポリシラザン硬化被膜を表面の少なくと
も一部に有する樹脂成形体。 - 【請求項２】 樹脂成形体の表面の少なくとも一部にポ
リシラザンの被膜を形成する工程と、このポリシラザン
被膜を有する樹脂成形体を熱処理又は電子線処理する工
程からなるポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体の
製造方法。 - 【請求項３】 樹脂シートの表面の少なくとも一部にポ
リシラザンの被膜を形成する工程と、このポリシラザン
被膜を有する樹脂シートを成形加工する工程と、この成
形加工した成形体を熱処理又は電子線処理する工程から
なるポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02413273A JP3136412B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | ポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02413273A JP3136412B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | ポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08143689A true JPH08143689A (ja) | 1996-06-04 |
| JP3136412B2 JP3136412B2 (ja) | 2001-02-19 |
Family
ID=18521950
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02413273A Expired - Fee Related JP3136412B2 (ja) | 1990-12-21 | 1990-12-21 | ポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3136412B2 (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09157544A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-06-17 | Tonen Corp | シリカ系被膜付き基材の製造方法及び本方法で製造されたシリカ系被膜付き基材 |
| JPH09183663A (ja) * | 1995-10-30 | 1997-07-15 | Tonen Corp | プラスチックフィルムにＳｉＯ２系セラミックスを被覆する方法 |
| US6383641B1 (en) | 1997-08-15 | 2002-05-07 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent coated molded product and method for producing the same |
| US6600717B2 (en) | 2000-09-14 | 2003-07-29 | Tdk Corporation | Optical information medium |
| WO2003081296A1 (fr) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Tdk Corporation | Article a couche de revetement dur composite et procede de formation de cette couche |
| JP2007039694A (ja) * | 2006-08-21 | 2007-02-15 | Clariant Internatl Ltd | ハードコート膜を被覆したポリカーボネート製品及びその製法 |
| JP2012148416A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Mitsui Chemicals Inc | 積層体およびその製造方法 |
| JP2015522454A (ja) * | 2012-06-25 | 2015-08-06 | コーロン インダストリーズ インク | 透明ポリイミド基板およびその製造方法 |
| KR20210130647A (ko) | 2020-04-22 | 2021-11-01 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 밀착성 조성물, 피복 기재 및 경화물 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6054127B2 (ja) * | 2012-10-10 | 2016-12-27 | Dmg森精機株式会社 | 工作機械 |
| CN105226960B (zh) | 2014-05-28 | 2018-03-20 | 台达电子企业管理（上海）有限公司 | 功率模块 |
-
1990
- 1990-12-21 JP JP02413273A patent/JP3136412B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH09183663A (ja) * | 1995-10-30 | 1997-07-15 | Tonen Corp | プラスチックフィルムにＳｉＯ２系セラミックスを被覆する方法 |
| JPH09157544A (ja) * | 1995-12-05 | 1997-06-17 | Tonen Corp | シリカ系被膜付き基材の製造方法及び本方法で製造されたシリカ系被膜付き基材 |
| US6383641B1 (en) | 1997-08-15 | 2002-05-07 | Asahi Glass Company Ltd. | Transparent coated molded product and method for producing the same |
| US6600717B2 (en) | 2000-09-14 | 2003-07-29 | Tdk Corporation | Optical information medium |
| US7226651B2 (en) | 2002-03-26 | 2007-06-05 | Tdk Corporation | Article with composite hardcoat layer and method for forming composite hardcoat layer |
| WO2003081296A1 (fr) * | 2002-03-26 | 2003-10-02 | Tdk Corporation | Article a couche de revetement dur composite et procede de formation de cette couche |
| CN100392432C (zh) * | 2002-03-26 | 2008-06-04 | Tdk株式会社 | 具有复合硬质涂层的物体及复合硬质涂层的形成方法 |
| JP2007039694A (ja) * | 2006-08-21 | 2007-02-15 | Clariant Internatl Ltd | ハードコート膜を被覆したポリカーボネート製品及びその製法 |
| JP2012148416A (ja) * | 2011-01-17 | 2012-08-09 | Mitsui Chemicals Inc | 積層体およびその製造方法 |
| JP2015522454A (ja) * | 2012-06-25 | 2015-08-06 | コーロン インダストリーズ インク | 透明ポリイミド基板およびその製造方法 |
| KR20210130647A (ko) | 2020-04-22 | 2021-11-01 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 밀착성 조성물, 피복 기재 및 경화물 |
| EP3907265A1 (en) | 2020-04-22 | 2021-11-10 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Adhesive composition, covered substrate, and cured product |
| US11760903B2 (en) | 2020-04-22 | 2023-09-19 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Adhesive composition, covering substrate, and cured product |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3136412B2 (ja) | 2001-02-19 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3666915B2 (ja) | セラミックスの低温形成方法 | |
| JP2613787B2 (ja) | 無機シラザン高重合体、その製造方法及びその用途 | |
| JP3212400B2 (ja) | セラミックコーティング用組成物及びコーティング方法 | |
| US4689252A (en) | Polysilazane composition which can crosslink in the presence of a metal compound catalyzing a hydrosilylation reaction | |
| JPH05238827A (ja) | コーティング用組成物及びコーティング方法 | |
| US5405655A (en) | Temperature-resistant and/or nonwetting coatings of cured, silicon-containing polymers | |
| JPH06122852A (ja) | コーティング用組成物及びコーティング方法 | |
| JPH08143689A (ja) | ポリシラザン硬化被膜を有する樹脂成形体及びその製造方法 | |
| JPH0319875B2 (ja) | ||
| JPH04153283A (ja) | 耐熱性絶縁塗料 | |
| JP3053224B2 (ja) | セラミックス被膜を有する鋼板又は鋼板成形体の製造方法 | |
| JPH01138107A (ja) | 改質ポリシラザン、その製造方法及びその用途 | |
| JP3696311B2 (ja) | ポリシラザン組成物、ポリシラザン溶液の調製方法、該組成物を用いたコーティング用組成物及び該コーティング用組成物を用いて得られるセラミックス被膜付プラスチック | |
| JP2670501B2 (ja) | コーティング用組成物及びコーティング方法 | |
| Gunji et al. | Preparation and characterization of organic–inorganic hybrids and coating films from 3‐methacryloxypropylpolysilsesquioxane | |
| JP4122891B2 (ja) | 傾斜組成を有するセラミックス薄膜被覆材料及びその製造方法 | |
| JPS63191832A (ja) | 新規ポリアルミノシラザン及びその製造方法 | |
| JPH09183663A (ja) | プラスチックフィルムにＳｉＯ２系セラミックスを被覆する方法 | |
| JPH0422190B2 (ja) | ||
| CA1288645C (en) | Process for preparing a silicon carbide protective coating | |
| US5124283A (en) | Hardening of fusible polysilazanes and SiC/Si3 N4 ceramics produced therefrom | |
| JPH09175868A (ja) | ハードコート膜を被覆したポリカーボネート製品及びその製法 | |
| KR101110351B1 (ko) | 그라파이트 폼 구조물 | |
| JP3993330B2 (ja) | ＳｉＯ２系セラミックス膜の形成方法 | |
| JPH05295563A (ja) | 被膜を有する金属質材料並びにその金属質材料の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081208 Year of fee payment: 8 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091208 Year of fee payment: 9 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |