JPH08141405A - 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 - Google Patents
内燃機関の排気ガス浄化用触媒Info
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- JPH08141405A JPH08141405A JP6283891A JP28389194A JPH08141405A JP H08141405 A JPH08141405 A JP H08141405A JP 6283891 A JP6283891 A JP 6283891A JP 28389194 A JP28389194 A JP 28389194A JP H08141405 A JPH08141405 A JP H08141405A
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- catalyst
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- catalyst layer
- exhaust gas
- adsorbent
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2240/00—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being
- F01N2240/18—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being an adsorber or absorber
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2570/00—Exhaust treating apparatus eliminating, absorbing or adsorbing specific elements or compounds
- F01N2570/12—Hydrocarbons
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- Treating Waste Gases (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】内燃機関の冷間時における未浄化ＨＣの排出を
防止するとともに、その後の排気ガス中のＨＣ及びＮＯ
ｘを効率良く分解することができる触媒を提供する。 【構成】担体１の上に、無機結晶性モレキュラーシーブ
よりなるＨＣ吸着剤を有し且つＰｄを触媒金属とする第
１触媒層２を形成し、該第１触媒層２の上に、希土類酸
化物を主成分とする希土類酸化物層３を形成し、該希土
類酸化物層３の上に、無機結晶性モレキュラーシーブよ
りなるＨＣ吸着剤を有し且つＰｔ及びＲｈのうちの少な
くとも一方を触媒金属とする第２触媒層４を形成する。
防止するとともに、その後の排気ガス中のＨＣ及びＮＯ
ｘを効率良く分解することができる触媒を提供する。 【構成】担体１の上に、無機結晶性モレキュラーシーブ
よりなるＨＣ吸着剤を有し且つＰｄを触媒金属とする第
１触媒層２を形成し、該第１触媒層２の上に、希土類酸
化物を主成分とする希土類酸化物層３を形成し、該希土
類酸化物層３の上に、無機結晶性モレキュラーシーブよ
りなるＨＣ吸着剤を有し且つＰｔ及びＲｈのうちの少な
くとも一方を触媒金属とする第２触媒層４を形成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は内燃機関の排気ガス浄化
用触媒に関する。
用触媒に関する。
【０００２】
【従来の技術】内燃機関の排気ガス中のＨＣ（炭化水
素）、ＣＯ（一酸化炭素）及びＮＯｘ（窒素酸化物）を
浄化する触媒として、モノリス担体の上にゼオライトを
主成分とする第１触媒層を設け、該第１触媒層の上に酸
化還元能を備えた貴金属触媒をを主成分とする第２触媒
層を設けてなるものが知られている（特開平２−５６２
４７号公報参照）。上記第１触媒層には必要に応じてＰ
ｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の貴金属やＣｅＯ2 （セリア）、Ｌａ
2 Ｏ3 （ランタナ）等の希土類酸化物が担持され、上記
第２触媒層はアルミナコート層にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の
貴金属が担持され、必要に応じて上記希土類酸化物や酸
化ジルコニウム等が担持される。
素）、ＣＯ（一酸化炭素）及びＮＯｘ（窒素酸化物）を
浄化する触媒として、モノリス担体の上にゼオライトを
主成分とする第１触媒層を設け、該第１触媒層の上に酸
化還元能を備えた貴金属触媒をを主成分とする第２触媒
層を設けてなるものが知られている（特開平２−５６２
４７号公報参照）。上記第１触媒層には必要に応じてＰ
ｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の貴金属やＣｅＯ2 （セリア）、Ｌａ
2 Ｏ3 （ランタナ）等の希土類酸化物が担持され、上記
第２触媒層はアルミナコート層にＰｔ、Ｐｄ、Ｒｈ等の
貴金属が担持され、必要に応じて上記希土類酸化物や酸
化ジルコニウム等が担持される。
【０００３】上記排気ガス浄化用触媒は、内燃機関の冷
間時で且つ空燃比がリッチの状態にあるときに排気ガス
中のＨＣを上記第１触媒層のゼオライトによって吸着
し、暖機によって排気ガス温度及び触媒温度が上昇した
ときに、上記第１触媒層から脱離するＨＣ、排気ガス中
のＨＣ及びＣＯの酸化とＮＯｘの還元とを上記第２触媒
層によって行なうものである。
間時で且つ空燃比がリッチの状態にあるときに排気ガス
中のＨＣを上記第１触媒層のゼオライトによって吸着
し、暖機によって排気ガス温度及び触媒温度が上昇した
ときに、上記第１触媒層から脱離するＨＣ、排気ガス中
のＨＣ及びＣＯの酸化とＮＯｘの還元とを上記第２触媒
層によって行なうものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、上記Ｐ
ｔ、Ｐｄ及びＲｈの触媒金属としての機能に関し、Ｐｔ
及びＰｄは酸化能が高いが、それに比べてＲｈは酸化能
が低いこと、従って、Ｐｔ及びＰｄはＨＣの浄化に有効
であること、また、ＰｔとＲｈとを組み合わせた場合に
はＨＣの酸化と共にＮＯｘの分解が比較的効率良く進
む、という知見を得ていた。
ｔ、Ｐｄ及びＲｈの触媒金属としての機能に関し、Ｐｔ
及びＰｄは酸化能が高いが、それに比べてＲｈは酸化能
が低いこと、従って、Ｐｔ及びＰｄはＨＣの浄化に有効
であること、また、ＰｔとＲｈとを組み合わせた場合に
はＨＣの酸化と共にＮＯｘの分解が比較的効率良く進
む、という知見を得ていた。
【０００５】しかし、上記従来技術において、上記第１
触媒層の触媒金属又は第２触媒層の触媒金属として上記
Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈの三者を併用した場合には、Ｐｔと
Ｒｈとを併用した場合に比べてＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄
化率が共に低下するという問題がある。これはＰｔ，Ｒ
ｈとＰｄとが互いの触媒機能を阻害するように干渉し合
うためと考えられる。これに対して、例えばＰｄを第１
触媒層に、ＰｔやＲｈを第２触媒層にそれぞれ担持させ
ることにより、ＰｄをＰｔやＲｈから離すことが考えら
れるが、第１触媒層と第２触媒層との界面においてＰｄ
とＰｔ，Ｒｈとが接触し、必ずしも好結果が得られな
い。
触媒層の触媒金属又は第２触媒層の触媒金属として上記
Ｐｔ、Ｐｄ及びＲｈの三者を併用した場合には、Ｐｔと
Ｒｈとを併用した場合に比べてＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄
化率が共に低下するという問題がある。これはＰｔ，Ｒ
ｈとＰｄとが互いの触媒機能を阻害するように干渉し合
うためと考えられる。これに対して、例えばＰｄを第１
触媒層に、ＰｔやＲｈを第２触媒層にそれぞれ担持させ
ることにより、ＰｄをＰｔやＲｈから離すことが考えら
れるが、第１触媒層と第２触媒層との界面においてＰｄ
とＰｔ，Ｒｈとが接触し、必ずしも好結果が得られな
い。
【０００６】そこで、本発明は、上記Ｐｄをその本来の
触媒機能が発揮されるように上記ＰｔやＲｈと組み合わ
せ、内燃機関の冷間時及び暖機後のＨＣ浄化率を高める
とともに、ＮＯｘ浄化率を高めようとするものである。
触媒機能が発揮されるように上記ＰｔやＲｈと組み合わ
せ、内燃機関の冷間時及び暖機後のＨＣ浄化率を高める
とともに、ＮＯｘ浄化率を高めようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段及びその作用】本発明者
は、上記課題に対して種々の実験及び検討を加えた結
果、ＨＣ吸着剤とＰｄとを有する第１触媒層と、Ｐｔや
Ｒｈを有する第２触媒層との間に希土類酸化物を介在さ
せたときに、これらの触媒金属及びＨＣ吸着剤の各々が
その本来の有する機能を有効に発揮し、所期の目的を達
成することができることを見出だし、本発明を完成する
に至ったものである。以下、各請求項に係る発明を具体
的に説明する。
は、上記課題に対して種々の実験及び検討を加えた結
果、ＨＣ吸着剤とＰｄとを有する第１触媒層と、Ｐｔや
Ｒｈを有する第２触媒層との間に希土類酸化物を介在さ
せたときに、これらの触媒金属及びＨＣ吸着剤の各々が
その本来の有する機能を有効に発揮し、所期の目的を達
成することができることを見出だし、本発明を完成する
に至ったものである。以下、各請求項に係る発明を具体
的に説明する。
【０００８】＜請求項１に係る発明＞この発明は、担体
の上に、排気ガス中の炭化水素を吸着する無機結晶性モ
レキュラーシーブよりなるＨＣ吸着剤を有し且つＰｄを
触媒金属とする第１触媒層が形成され、上記第１触媒層
の上に、希土類酸化物を主成分とする希土類酸化物層が
形成され、上記希土類酸化物層の上に、上記ＨＣ吸着剤
を有し且つＰｔ及びＲｈのうちの少なくとも一方を触媒
金属とする第２触媒層が形成されていることを特徴とす
る内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
の上に、排気ガス中の炭化水素を吸着する無機結晶性モ
レキュラーシーブよりなるＨＣ吸着剤を有し且つＰｄを
触媒金属とする第１触媒層が形成され、上記第１触媒層
の上に、希土類酸化物を主成分とする希土類酸化物層が
形成され、上記希土類酸化物層の上に、上記ＨＣ吸着剤
を有し且つＰｔ及びＲｈのうちの少なくとも一方を触媒
金属とする第２触媒層が形成されていることを特徴とす
る内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
【０００９】当該発明においては、内燃機関の冷間時に
は排気ガス中のＨＣが第１触媒層及び第２触媒層のＨＣ
吸着剤に吸着されて、未浄化ＨＣの排出が防止される。
暖機によって排気ガス温度及び触媒温度が上昇してくる
と、上記第１触媒層のＨＣ吸着剤に吸着されていたＨＣ
の脱離が始まるが、この第１触媒層にはＰｄが触媒金属
として含まれているから、当該脱離ＨＣはＰｄに接触し
易く、このため、Ｐｄが当該ＨＣを酸化分解する触媒機
能を効率良く発揮する。また、第２触媒層においても、
そのＨＣ吸着剤に吸着されていたＨＣの脱離が始まり、
Ｐｔ又はＲｈによって該ＨＣが分解されるが、このＰｔ
やＲｈは排気ガス中のＮＯｘの浄化に有効な触媒金属で
あり、上記脱離・分解するＨＣを還元剤としてＮＯｘを
還元分解する触媒機能を発揮する。
は排気ガス中のＨＣが第１触媒層及び第２触媒層のＨＣ
吸着剤に吸着されて、未浄化ＨＣの排出が防止される。
暖機によって排気ガス温度及び触媒温度が上昇してくる
と、上記第１触媒層のＨＣ吸着剤に吸着されていたＨＣ
の脱離が始まるが、この第１触媒層にはＰｄが触媒金属
として含まれているから、当該脱離ＨＣはＰｄに接触し
易く、このため、Ｐｄが当該ＨＣを酸化分解する触媒機
能を効率良く発揮する。また、第２触媒層においても、
そのＨＣ吸着剤に吸着されていたＨＣの脱離が始まり、
Ｐｔ又はＲｈによって該ＨＣが分解されるが、このＰｔ
やＲｈは排気ガス中のＮＯｘの浄化に有効な触媒金属で
あり、上記脱離・分解するＨＣを還元剤としてＮＯｘを
還元分解する触媒機能を発揮する。
【００１０】また、内燃機関から新たに排出されるＨＣ
やＣＯは第１触媒層及び第２触媒層の各々のＨＣ吸着剤
に吸着され、各々の触媒金属によって酸化分解される。
そして、このような酸化反応に伴ってＮＯｘの還元分解
反応が進行する。
やＣＯは第１触媒層及び第２触媒層の各々のＨＣ吸着剤
に吸着され、各々の触媒金属によって酸化分解される。
そして、このような酸化反応に伴ってＮＯｘの還元分解
反応が進行する。
【００１１】しかして、上記第１触媒層と第２触媒層と
の間に介在する希土類酸化物は、上記ＰｔやＲｈとＰｄ
とが干渉し合うことを妨げるバリアの機能を果たし、こ
れらの触媒金属間の相互作用による触媒機能の低下が防
止される。一方、このようなバリアが排気ガス中のＨＣ
の拡散をも妨げるものであるならば、第１触媒層がＨＣ
の吸着・分解に有効に利用されないことになるが、当該
発明のバリアは希土類酸化物であり、この希土類酸化物
はＨＣの拡散を若干妨げるとしてもその程度は低く、第
１触媒層のＨＣ吸着剤による排気ガス中のＨＣの吸着の
支障にはならない。かえって、この希土類酸化物はＯ2
ストレージ効果を有するから、第１触媒層及び第２触媒
層におけるＨＣの酸化に有効に寄与することになる。
の間に介在する希土類酸化物は、上記ＰｔやＲｈとＰｄ
とが干渉し合うことを妨げるバリアの機能を果たし、こ
れらの触媒金属間の相互作用による触媒機能の低下が防
止される。一方、このようなバリアが排気ガス中のＨＣ
の拡散をも妨げるものであるならば、第１触媒層がＨＣ
の吸着・分解に有効に利用されないことになるが、当該
発明のバリアは希土類酸化物であり、この希土類酸化物
はＨＣの拡散を若干妨げるとしてもその程度は低く、第
１触媒層のＨＣ吸着剤による排気ガス中のＨＣの吸着の
支障にはならない。かえって、この希土類酸化物はＯ2
ストレージ効果を有するから、第１触媒層及び第２触媒
層におけるＨＣの酸化に有効に寄与することになる。
【００１２】ここに、上記担体としては、モノリス担体
であっても、ペレット状の担体であってもよい。また、
上記ＨＣ吸着剤としての無機結晶性モレキュラーシーブ
としては、結晶の骨格（結晶格子）を形成する金属とし
てＡｌを用いたアルミノシリケート（Ｙゼオライト、モ
ルデナイト、ＺＳＭ５、ベータゼオライトなど各種のゼ
オライト）、Ａｌに代えて或いはＡｌと共にＧａ、Ｃ
ｅ、Ｍｎ、Ｔｂなど他の金属を用いた他の結晶質多孔の
金属含有シリケート、さらには、ほとんどシリカだけか
らなるものや、Ｓｉを含まないものなど種々のものを採
用することができる。
であっても、ペレット状の担体であってもよい。また、
上記ＨＣ吸着剤としての無機結晶性モレキュラーシーブ
としては、結晶の骨格（結晶格子）を形成する金属とし
てＡｌを用いたアルミノシリケート（Ｙゼオライト、モ
ルデナイト、ＺＳＭ５、ベータゼオライトなど各種のゼ
オライト）、Ａｌに代えて或いはＡｌと共にＧａ、Ｃ
ｅ、Ｍｎ、Ｔｂなど他の金属を用いた他の結晶質多孔の
金属含有シリケート、さらには、ほとんどシリカだけか
らなるものや、Ｓｉを含まないものなど種々のものを採
用することができる。
【００１３】また、第１触媒層のＨＣ吸着剤と第２触媒
層のＨＣ吸着剤とには同じ種類の無機結晶性モレキュラ
ーシーブを用いても異なる種類の無機結晶性モレキュラ
ーシーブを用いてもよい。また、第１触媒層のＨＣ吸着
剤と第２触媒層のＨＣ吸着剤との量的な関係について
は、第１触媒層のＨＣ吸着剤量の方を多くすることが好
ましい。これは、内燃機関の冷間時に排出されるＨＣは
第１触媒層のＨＣ吸着剤に多く吸着させる方がその脱離
時に低温活性に優れたＰｄに効率良く接触し、さらには
第２触媒層のＰｔ又はＲｈに接触し、ＨＣ浄化率が高く
なるためである。
層のＨＣ吸着剤とには同じ種類の無機結晶性モレキュラ
ーシーブを用いても異なる種類の無機結晶性モレキュラ
ーシーブを用いてもよい。また、第１触媒層のＨＣ吸着
剤と第２触媒層のＨＣ吸着剤との量的な関係について
は、第１触媒層のＨＣ吸着剤量の方を多くすることが好
ましい。これは、内燃機関の冷間時に排出されるＨＣは
第１触媒層のＨＣ吸着剤に多く吸着させる方がその脱離
時に低温活性に優れたＰｄに効率良く接触し、さらには
第２触媒層のＰｔ又はＲｈに接触し、ＨＣ浄化率が高く
なるためである。
【００１４】＜請求項２に係る発明＞この発明は、上記
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記第１触媒層が、上記ＨＣ吸着剤よりな
るＨＣ吸着剤層と、該ＨＣ吸着剤層の上に形成されＰｄ
を触媒金属とするＰｄ触媒層とよりなることを特徴とす
る内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記第１触媒層が、上記ＨＣ吸着剤よりな
るＨＣ吸着剤層と、該ＨＣ吸着剤層の上に形成されＰｄ
を触媒金属とするＰｄ触媒層とよりなることを特徴とす
る内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
【００１５】当該発明において、第１触媒層をＨＣ吸着
剤層とＰｄ触媒層とに分けたのは、ＰｄをＨＣ吸着剤に
担持させることはＰｄの熱劣化を少なくする観点からは
どちらかというと否定的ものになるためであり、当該発
明のようにＨＣ吸着剤とＰｄとを別の層にして離した場
合にはＰｄの熱劣化防止に有利になる。
剤層とＰｄ触媒層とに分けたのは、ＰｄをＨＣ吸着剤に
担持させることはＰｄの熱劣化を少なくする観点からは
どちらかというと否定的ものになるためであり、当該発
明のようにＨＣ吸着剤とＰｄとを別の層にして離した場
合にはＰｄの熱劣化防止に有利になる。
【００１６】＜請求項３に係る発明＞この発明は、上記
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記希土類酸化物がＣｅＯ2 であることを
特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記希土類酸化物がＣｅＯ2 であることを
特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒である。
【００１７】この発明において、希土類酸化物としてＣ
ｅＯ2 を用いるのは、該ＣｅＯ2 のＯ2 ストレージ効果
が高く、ＨＣの酸化分解に有利になるためである。
ｅＯ2 を用いるのは、該ＣｅＯ2 のＯ2 ストレージ効果
が高く、ＨＣの酸化分解に有利になるためである。
【００１８】＜請求項４に係る発明＞この発明は、上記
請求項３に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記担体がモノリス担体であって、該担体
１リットル当たりの上記ＣｅＯ2 の量が１５〜７０ｇで
あることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒で
ある。
請求項３に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記担体がモノリス担体であって、該担体
１リットル当たりの上記ＣｅＯ2 の量が１５〜７０ｇで
あることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒で
ある。
【００１９】当該発明において、モノリス担体を用いる
のは排気ガスと触媒層との接触に有利になるからであ
り、また、該担体１リットル当たりのＣｅＯ2 量を１５
以上とするのは第１触媒層のＰｄと第２触媒層のＰｔ又
はＲｈとを遮断する効果を確保するためであり、ＣｅＯ
2 量を７０ｇ以下とするのは、これよりもその量が多く
なると第２触媒層から第１触媒層へのＨＣの拡散に不利
になるためである。
のは排気ガスと触媒層との接触に有利になるからであ
り、また、該担体１リットル当たりのＣｅＯ2 量を１５
以上とするのは第１触媒層のＰｄと第２触媒層のＰｔ又
はＲｈとを遮断する効果を確保するためであり、ＣｅＯ
2 量を７０ｇ以下とするのは、これよりもその量が多く
なると第２触媒層から第１触媒層へのＨＣの拡散に不利
になるためである。
【００２０】＜請求項５に係る発明＞この発明は、上記
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記ＨＣ吸着剤が結晶性アルミノシリケー
トであることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触
媒である。
請求項１に記載されている内燃機関の排気ガス浄化用触
媒において、上記ＨＣ吸着剤が結晶性アルミノシリケー
トであることを特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触
媒である。
【００２１】当該発明において、ＨＣ吸着剤として上記
アルミノシリケートを用いるのは、これが耐熱性を有し
且つそのＨＣ吸着能が高いためである。
アルミノシリケートを用いるのは、これが耐熱性を有し
且つそのＨＣ吸着能が高いためである。
【００２２】
【発明の効果】請求項１に係る発明によれば、ＨＣ吸着
剤を有しＰｄを触媒金属とする第１触媒層と、ＨＣ吸着
剤を有しＰｔ又はＲｈを触媒金属とする第２触媒層との
間に、希土類酸化物を主成分とする希土類酸化物層を設
けたから、第２触媒層から第１触媒層へのＨＣの拡散を
許容しながら、Ｐｔ又はＲｈとＰｄとが干渉し合うこと
を避けることができ、このためＰｄの触媒機能を充分に
発揮させることができ、冷間時における未浄化ＨＣの排
出を防止しながら、該ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率を高
めることができる。
剤を有しＰｄを触媒金属とする第１触媒層と、ＨＣ吸着
剤を有しＰｔ又はＲｈを触媒金属とする第２触媒層との
間に、希土類酸化物を主成分とする希土類酸化物層を設
けたから、第２触媒層から第１触媒層へのＨＣの拡散を
許容しながら、Ｐｔ又はＲｈとＰｄとが干渉し合うこと
を避けることができ、このためＰｄの触媒機能を充分に
発揮させることができ、冷間時における未浄化ＨＣの排
出を防止しながら、該ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率を高
めることができる。
【００２３】請求項２に係る発明によれば、上記第１触
媒層をＨＣ吸着剤層とＰｄ触媒層とに分けたから、上記
Ｐｄの熱劣化を防止してその触媒機能を長期間にわたっ
て持続させる上で有利になる。
媒層をＨＣ吸着剤層とＰｄ触媒層とに分けたから、上記
Ｐｄの熱劣化を防止してその触媒機能を長期間にわたっ
て持続させる上で有利になる。
【００２４】請求項３に係る発明によれば、上記希土類
酸化物としてＣｅＯ2 を用いたから該ＣｅＯ2 の高いＯ
2 ストレージ効果をＨＣの酸化分解に利用することがで
き、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率の向上に有利になる。
酸化物としてＣｅＯ2 を用いたから該ＣｅＯ2 の高いＯ
2 ストレージ効果をＨＣの酸化分解に利用することがで
き、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率の向上に有利になる。
【００２５】請求項４に係る発明によれば、上記ＣｅＯ
2 の量をモノリス担体１リットル当たり１５〜７０ｇと
したから、第２触媒層から第１触媒層へＨＣを拡散させ
ながら、第１触媒層のＰｄと第２触媒層のＰｔ又はＲｈ
との接触を避ける上で有利になる。
2 の量をモノリス担体１リットル当たり１５〜７０ｇと
したから、第２触媒層から第１触媒層へＨＣを拡散させ
ながら、第１触媒層のＰｄと第２触媒層のＰｔ又はＲｈ
との接触を避ける上で有利になる。
【００２６】請求項５に係る発明によれば、上記ＨＣ吸
着剤として結晶性アルミノシリケートを用いたから、触
媒のＨＣ吸着能が高まり、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率
の向上に有利になる。
着剤として結晶性アルミノシリケートを用いたから、触
媒のＨＣ吸着能が高まり、ＨＣ浄化率及びＮＯｘ浄化率
の向上に有利になる。
【００２７】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。
する。
【００２８】＜実施例１＞ −触媒の調製− ＨＣ吸着剤としてプロトン型のＹゼオライト（ケイバン
比８０）粉末をコージェライト製のハニカム状のモノリ
ス担体（４００セル／inch2 ）にウォッシュコートし、
このコート層にＰｄを含浸法によって担持させることに
よって、ＨＣ吸着剤を有しＰｄを触媒金属とする第１触
媒層を形成した。
比８０）粉末をコージェライト製のハニカム状のモノリ
ス担体（４００セル／inch2 ）にウォッシュコートし、
このコート層にＰｄを含浸法によって担持させることに
よって、ＨＣ吸着剤を有しＰｄを触媒金属とする第１触
媒層を形成した。
【００２９】上記ウォッシュコートは、上記Ｙゼオライ
トとバインダとしての水和アルミナとを１００：２０の
重量比で合わせ適量の純水を加えて撹拌混合することに
よりスラリーを作製し、該スラリーに上記担体を浸漬し
引き上げて余分なスラリーを吹き飛ばし乾燥するという
工程を繰り返すことによって所定量のＹゼオライトを上
記担体に担持させた後に、５００℃×２時間の焼成を行
なう、というものである。また、上記Ｐｄの含浸担持
は、所定濃度の硝酸パラジウム水溶液を上記担体のＨＣ
吸着剤層に含浸させ、乾燥及び焼成（５００℃×２時
間）を行なう、というものである。
トとバインダとしての水和アルミナとを１００：２０の
重量比で合わせ適量の純水を加えて撹拌混合することに
よりスラリーを作製し、該スラリーに上記担体を浸漬し
引き上げて余分なスラリーを吹き飛ばし乾燥するという
工程を繰り返すことによって所定量のＹゼオライトを上
記担体に担持させた後に、５００℃×２時間の焼成を行
なう、というものである。また、上記Ｐｄの含浸担持
は、所定濃度の硝酸パラジウム水溶液を上記担体のＨＣ
吸着剤層に含浸させ、乾燥及び焼成（５００℃×２時
間）を行なう、というものである。
【００３０】次に上記第１触媒層の上に希土類酸化物と
してＣｅＯ2 をウォッシュコートによって担持させるこ
とにより、ＣｅＯ2 層を形成した。このウォッシュコー
トに用いたスラリーはＣｅＯ2 と水和アルミナとを１０
０：２０の重量比で合わせ適量の純水を加えてなるもの
であり、ウォッシュコート方法は上記ＨＣ吸着剤のウォ
ッシュコートの場合と同じである。
してＣｅＯ2 をウォッシュコートによって担持させるこ
とにより、ＣｅＯ2 層を形成した。このウォッシュコー
トに用いたスラリーはＣｅＯ2 と水和アルミナとを１０
０：２０の重量比で合わせ適量の純水を加えてなるもの
であり、ウォッシュコート方法は上記ＨＣ吸着剤のウォ
ッシュコートの場合と同じである。
【００３１】次に上記第１触媒層のＨＣ吸着剤と同じＹ
ゼオライト粉末、硝酸白金−Ｐソルト溶液（ジニトロジ
アミン白金(II)硝酸酸性水溶液）、硝酸ロジウム、水和
アルミナ及び純水を撹拌混合することによってスラリー
を作製した。そして、このスラリーを上記担体にウォッ
シュコートすることによってＨＣ吸着剤を有しＰｔ及び
Ｒｈを触媒金属とする第２触媒層を上記ＣｅＯ2 層の上
に形成した。
ゼオライト粉末、硝酸白金−Ｐソルト溶液（ジニトロジ
アミン白金(II)硝酸酸性水溶液）、硝酸ロジウム、水和
アルミナ及び純水を撹拌混合することによってスラリー
を作製した。そして、このスラリーを上記担体にウォッ
シュコートすることによってＨＣ吸着剤を有しＰｔ及び
Ｒｈを触媒金属とする第２触媒層を上記ＣｅＯ2 層の上
に形成した。
【００３２】上記第２触媒層を形成するためのスラリー
の各成分の濃度については、Ｙゼオライトを３００ｇ／
Ｌ、Ｐｔを１１．１ｇ／Ｌ、Ｒｈを２．２ｇ／Ｌ、水和
アルミナを６０ｇ／Ｌとした。
の各成分の濃度については、Ｙゼオライトを３００ｇ／
Ｌ、Ｐｔを１１．１ｇ／Ｌ、Ｒｈを２．２ｇ／Ｌ、水和
アルミナを６０ｇ／Ｌとした。
【００３３】従って、本例の触媒構造は図１に示すよう
に、担体１の上に第１触媒層２、ＣｅＯ2 層３及び第２
触媒層４が下から順に積層されたものになっている。
に、担体１の上に第１触媒層２、ＣｅＯ2 層３及び第２
触媒層４が下から順に積層されたものになっている。
【００３４】−触媒の評価− ［ＮＯｘ浄化性能］上記触媒の調製法によって、担体１
リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸着剤担持量を１０
０ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、ＣｅＯ2 担持量を３０ｇと
し、第２触媒層のＰｔ及びＲｈを合わせた担持量を互い
に異なるものとした数種類の触媒を調製した。そして、
これらの触媒に加熱処理を施した後に各触媒を模擬排気
ガス流通装置に組み込み、各触媒の入口ガス温度が４０
０℃の時のＮＯｘ浄化率（ＮＯｘ Ｃ４００）を調べ
た。測定条件は次の通りである。
リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸着剤担持量を１０
０ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、ＣｅＯ2 担持量を３０ｇと
し、第２触媒層のＰｔ及びＲｈを合わせた担持量を互い
に異なるものとした数種類の触媒を調製した。そして、
これらの触媒に加熱処理を施した後に各触媒を模擬排気
ガス流通装置に組み込み、各触媒の入口ガス温度が４０
０℃の時のＮＯｘ浄化率（ＮＯｘ Ｃ４００）を調べ
た。測定条件は次の通りである。
【００３５】加熱処理；９００℃×５０時間（大気中） 模擬排気ガス；成分 Ｎ2 ，ＣＯ2 ，ＣＯ，Ｃ3 Ｈ6 ，
Ｏ2 ，Ｈ2 ，ＮＯ 但し、Ａ／Ｆ＝１５．０であり、Ｈ2 Ｏを１０％添加し
ている。 空間速度；ＳＶ＝６００００ｈ-1 模擬排気ガスの昇温速度；３０度／分（室温から５００
℃まで昇温）
Ｏ2 ，Ｈ2 ，ＮＯ 但し、Ａ／Ｆ＝１５．０であり、Ｈ2 Ｏを１０％添加し
ている。 空間速度；ＳＶ＝６００００ｈ-1 模擬排気ガスの昇温速度；３０度／分（室温から５００
℃まで昇温）
【００３６】模擬排気ガスのＡ／Ｆ値を理論空燃比より
もリーン側に設定したのは、触媒によるＮＯｘの浄化を
難しいものとして、各触媒に性能差が出やすいようにす
るためである。
もリーン側に設定したのは、触媒によるＮＯｘの浄化を
難しいものとして、各触媒に性能差が出やすいようにす
るためである。
【００３７】結果は図２に示されている。同図によれ
ば、ＮＯｘ浄化率はＰｔ及びＲｈの担持量に支配されて
いることがわかる。また、Ｐｔ及びＲｈの担持量の合計
を１ｇ／Ｌ以上にすれば、高いＮＯｘ浄化率が得られる
ことがわかる。
ば、ＮＯｘ浄化率はＰｔ及びＲｈの担持量に支配されて
いることがわかる。また、Ｐｔ及びＲｈの担持量の合計
を１ｇ／Ｌ以上にすれば、高いＮＯｘ浄化率が得られる
ことがわかる。
【００３８】なお、図２では参考のために横軸として第
２触媒層のＨＣ吸着剤の担持量を併記したが、第２触媒
層の形成においてはＨＣ吸着剤（Ｙゼオライト）と触媒
金属（Ｐｔ及びＲｈ）が同時に担持されるため、Ｐｔ及
びＲｈの担持量の合計とＨＣ吸着剤の担持量とは対応し
た関係にある。
２触媒層のＨＣ吸着剤の担持量を併記したが、第２触媒
層の形成においてはＨＣ吸着剤（Ｙゼオライト）と触媒
金属（Ｐｔ及びＲｈ）が同時に担持されるため、Ｐｔ及
びＲｈの担持量の合計とＨＣ吸着剤の担持量とは対応し
た関係にある。
【００３９】［ＨＣライトオフ性能］上記触媒の調製法
によって、担体１リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸
着剤担持量を１００ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、第２触媒層
のＨＣ吸着剤担持量を２５ｇ／Ｌ、Ｐｔ及びＲｈを合わ
せた担持量を１．２ｇとし、ＣｅＯ2 担持量を互いに異
なるものとした数種類の触媒を調製した。そして、これ
らの触媒に加熱処理を施した後に各触媒を模擬排気ガス
流通装置に組み込み、ＨＣのライトオフ温度、すなわ
ち、ＨＣ浄化率が５０％になるときの排気ガス温度（Ｈ
Ｃ Ｔ５０）を調べた。測定条件は模擬排気ガスの空燃
比を除いて上記ＮＯｘ浄化性能の評価の場合と同じであ
る。模擬排気ガスの空燃比に関しては、Ａ／Ｆ＝１４．
７を中心として±０．９の幅で変動させた。この変動の
周波数は１Ｈｚとした。
によって、担体１リットル当たりの第１触媒層のＨＣ吸
着剤担持量を１００ｇ、Ｐｄ担持量を７ｇ、第２触媒層
のＨＣ吸着剤担持量を２５ｇ／Ｌ、Ｐｔ及びＲｈを合わ
せた担持量を１．２ｇとし、ＣｅＯ2 担持量を互いに異
なるものとした数種類の触媒を調製した。そして、これ
らの触媒に加熱処理を施した後に各触媒を模擬排気ガス
流通装置に組み込み、ＨＣのライトオフ温度、すなわ
ち、ＨＣ浄化率が５０％になるときの排気ガス温度（Ｈ
Ｃ Ｔ５０）を調べた。測定条件は模擬排気ガスの空燃
比を除いて上記ＮＯｘ浄化性能の評価の場合と同じであ
る。模擬排気ガスの空燃比に関しては、Ａ／Ｆ＝１４．
７を中心として±０．９の幅で変動させた。この変動の
周波数は１Ｈｚとした。
【００４０】結果は図３に示されている。同図によれ
ば、ＣｅＯ2 担持量が３０ｇ／ＬのときのＨＣのライト
オフ温度が最も低く、これよりも該担持量が少なくなる
場合も多くなる場合もライトオフ温度が高くなってい
る。ＣｅＯ2 担持量が少ない場合にＨＣライトオフ温度
が高くなっているのは、第１触媒層のＰｄと第２触媒層
のＰｔ及びＲｈとが互いに干渉し、それらの触媒機能が
充分に発揮されなくなるためと考えられ、ＣｅＯ2 担持
量が多くなった場合にＨＣライトオフ温度が高くなって
いるのは、第１触媒層へのＨＣの拡散移動がＣｅＯ2 に
よって妨げられるためと考えられる。
ば、ＣｅＯ2 担持量が３０ｇ／ＬのときのＨＣのライト
オフ温度が最も低く、これよりも該担持量が少なくなる
場合も多くなる場合もライトオフ温度が高くなってい
る。ＣｅＯ2 担持量が少ない場合にＨＣライトオフ温度
が高くなっているのは、第１触媒層のＰｄと第２触媒層
のＰｔ及びＲｈとが互いに干渉し、それらの触媒機能が
充分に発揮されなくなるためと考えられ、ＣｅＯ2 担持
量が多くなった場合にＨＣライトオフ温度が高くなって
いるのは、第１触媒層へのＨＣの拡散移動がＣｅＯ2 に
よって妨げられるためと考えられる。
【００４１】そして、同図によれば、ＣｅＯ2 担持量が
１００ｇ／Ｌを越えると、ＣｅＯ2の担持量が零である
比較例のＨＣライトオフ温度よりも高くなっており、こ
のことから、ＣｅＯ2 担持量は１００ｇ／Ｌ以下にする
ことが好適であること、特にＣｅＯ2 担持量を１５〜７
０ｇ／Ｌにすれば高いＨＣ浄化率が得られることがわか
る。
１００ｇ／Ｌを越えると、ＣｅＯ2の担持量が零である
比較例のＨＣライトオフ温度よりも高くなっており、こ
のことから、ＣｅＯ2 担持量は１００ｇ／Ｌ以下にする
ことが好適であること、特にＣｅＯ2 担持量を１５〜７
０ｇ／Ｌにすれば高いＨＣ浄化率が得られることがわか
る。
【００４２】なお、上記４００セル／inch2 のハニカム
状モノリス担体の場合、その容量Ｖ（リットルＬ）と触
媒材料がコーティングされる壁面積Ｓ（ｍ2 ）との関係
は「Ｓ＝３．１５×Ｖ」となる。従って、ＣｅＯ2 担持
量が１００ｇ／Ｌ以下ということは、単位面積当たりの
ＣｅＯ2 層の量（ＣｅＯ2 と水和アルミナとを合わせた
量）に換算すると、概算では３８ｇ／ｍ2 以下というこ
とになり、同じくＣｅＯ2 担持量が１５〜７０ｇ／Ｌと
いうことは、５．７〜２６．７ｇ／ｍ2 ということにな
る。
状モノリス担体の場合、その容量Ｖ（リットルＬ）と触
媒材料がコーティングされる壁面積Ｓ（ｍ2 ）との関係
は「Ｓ＝３．１５×Ｖ」となる。従って、ＣｅＯ2 担持
量が１００ｇ／Ｌ以下ということは、単位面積当たりの
ＣｅＯ2 層の量（ＣｅＯ2 と水和アルミナとを合わせた
量）に換算すると、概算では３８ｇ／ｍ2 以下というこ
とになり、同じくＣｅＯ2 担持量が１５〜７０ｇ／Ｌと
いうことは、５．７〜２６．７ｇ／ｍ2 ということにな
る。
【００４３】［Ｐｄ担持量とＨＣライトオフ性能等につ
いて］コージェライト製のハニカム状モノリス担体にプ
ロトン型のＹゼオライト（ケイバン比８０）粉末がウォ
ッシュコート法によって担持量が１３０ｇ／Ｌとなるよ
うに担持され、このコート層にＰｄを含浸法によって種
々の担持量で担持されてなる複数種の触媒を調製した。
そして、これらの触媒を用いてＰｄ担持量の変化に対す
るＨＣライトオフ温度の変化を調べた。上記ウォッシュ
コート法及び含浸法は先の触媒における第１触媒層を形
成するときの方法と同じであり、また、ＨＣライトオフ
性能の測定条件及び方法も先と同じである。
いて］コージェライト製のハニカム状モノリス担体にプ
ロトン型のＹゼオライト（ケイバン比８０）粉末がウォ
ッシュコート法によって担持量が１３０ｇ／Ｌとなるよ
うに担持され、このコート層にＰｄを含浸法によって種
々の担持量で担持されてなる複数種の触媒を調製した。
そして、これらの触媒を用いてＰｄ担持量の変化に対す
るＨＣライトオフ温度の変化を調べた。上記ウォッシュ
コート法及び含浸法は先の触媒における第１触媒層を形
成するときの方法と同じであり、また、ＨＣライトオフ
性能の測定条件及び方法も先と同じである。
【００４４】結果は図４に示されている。同図によれ
ば、Ｐｄ担持量を多くすればＨＣライトオフ温度が低下
するが、ある量以上になるとＨＣライトオフ温度の低下
はそれほど進まなくなっている。このようなＰｄ担持量
とＨＣライトオフ性能との関係は希土類酸化物層及び第
２触媒層を設けた場合も同じであり、従って、ＨＣライ
トオフ性能の向上のためにはＰｄ担持量を６ｇ／Ｌ以上
にすることが適当である言うことができる。
ば、Ｐｄ担持量を多くすればＨＣライトオフ温度が低下
するが、ある量以上になるとＨＣライトオフ温度の低下
はそれほど進まなくなっている。このようなＰｄ担持量
とＨＣライトオフ性能との関係は希土類酸化物層及び第
２触媒層を設けた場合も同じであり、従って、ＨＣライ
トオフ性能の向上のためにはＰｄ担持量を６ｇ／Ｌ以上
にすることが適当である言うことができる。
【００４５】＜実施例２＞ −触媒の調製− ＨＣ吸着剤としてプロトン型のベータゼオライト（ケイ
バン比２５）粉末をコージェライト製のハニカム状モノ
リス担体にウォッシュコートをすることによってＨＣ吸
着剤層を形成した。このウォッシュコートにおけるバイ
ンダその他の条件及び方法は実施例１の第１触媒層の場
合と同じであり、上記ベータゼオライトの担持量は１０
０ｇ／Ｌとした。
バン比２５）粉末をコージェライト製のハニカム状モノ
リス担体にウォッシュコートをすることによってＨＣ吸
着剤層を形成した。このウォッシュコートにおけるバイ
ンダその他の条件及び方法は実施例１の第１触媒層の場
合と同じであり、上記ベータゼオライトの担持量は１０
０ｇ／Ｌとした。
【００４６】次にγ−アルミナ、水和アルミナ、硝酸パ
ラジウム水溶液及び純水を撹拌混合することによってス
ラリーを作製した（このスラリーの各成分の濃度はγ−
アルミナが２００ｇ／Ｌ、Ｐｄが７０ｇ／Ｌ、水和アル
ミナが４０ｇ／Ｌである。）。そして、上記スラリーを
上記担体にウォッシュコートすることによって上記ＨＣ
吸着剤層の上にＰｄ触媒層を形成した。Ｐｄ担持量は担
体１リットル当たり７ｇある。この場合、上記ＨＣ吸着
剤層とＰｄ触媒層とによって第１触媒層が構成されてい
る。
ラジウム水溶液及び純水を撹拌混合することによってス
ラリーを作製した（このスラリーの各成分の濃度はγ−
アルミナが２００ｇ／Ｌ、Ｐｄが７０ｇ／Ｌ、水和アル
ミナが４０ｇ／Ｌである。）。そして、上記スラリーを
上記担体にウォッシュコートすることによって上記ＨＣ
吸着剤層の上にＰｄ触媒層を形成した。Ｐｄ担持量は担
体１リットル当たり７ｇある。この場合、上記ＨＣ吸着
剤層とＰｄ触媒層とによって第１触媒層が構成されてい
る。
【００４７】次に上記Ｐｄ触媒層の上にＣｅＯ2 をウォ
ッシュコートによって担体１リットル当たり３０ｇ担持
させることにより、ＣｅＯ2 層を形成した。このウォッ
シュコートの方法は実施例１のＣｅＯ2 のウォッシュコ
ートと同じである。
ッシュコートによって担体１リットル当たり３０ｇ担持
させることにより、ＣｅＯ2 層を形成した。このウォッ
シュコートの方法は実施例１のＣｅＯ2 のウォッシュコ
ートと同じである。
【００４８】次にプロトン型のＹゼオライト（ケイバン
比３０）粉末、硝酸白金−Ｐソルト溶液、硝酸ロジウ
ム、水和アルミナ及び純水を撹拌混合することによって
スラリーを作製した。そして、このスラリーを上記担体
にウォッシュコートすることによってＨＣ吸着剤を有し
Ｐｔ及びＲｈを触媒金属とする第２触媒層を上記ＣｅＯ
2 層の上に形成した。このスラリーの各成分の濃度は実
施例１の第２触媒層を形成するときのスラリーと同じで
あり、また、本例の場合、上記Ｐｔ及びＲｈを合わせた
担持量は担体１リットル当たり１．６ｇである。
比３０）粉末、硝酸白金−Ｐソルト溶液、硝酸ロジウ
ム、水和アルミナ及び純水を撹拌混合することによって
スラリーを作製した。そして、このスラリーを上記担体
にウォッシュコートすることによってＨＣ吸着剤を有し
Ｐｔ及びＲｈを触媒金属とする第２触媒層を上記ＣｅＯ
2 層の上に形成した。このスラリーの各成分の濃度は実
施例１の第２触媒層を形成するときのスラリーと同じで
あり、また、本例の場合、上記Ｐｔ及びＲｈを合わせた
担持量は担体１リットル当たり１．６ｇである。
【００４９】従って、本例の触媒構造は図５に示すよう
に、担体１の上にＨＣ吸着剤層２ａとＰｄ触媒層２ｂと
よりなる第１触媒層２、ＣｅＯ2 層３及び第２触媒層４
が下から順に積層されたものになっている。
に、担体１の上にＨＣ吸着剤層２ａとＰｄ触媒層２ｂと
よりなる第１触媒層２、ＣｅＯ2 層３及び第２触媒層４
が下から順に積層されたものになっている。
【００５０】−触媒の評価− 上記触媒について、実施例１の場合と同じ条件及び方法
によってＮＯｘ−Ｃ４００及びＨＣ−Ｔ５０を測定した
ところ、次のようになった。
によってＮＯｘ−Ｃ４００及びＨＣ−Ｔ５０を測定した
ところ、次のようになった。
【００５１】ＮＯｘ−Ｃ４００；１９％ ＨＣ−Ｔ５０；２７２℃ 上記結果から本例の場合も高いＨＣ浄化率と高いＮＯｘ
浄化率とが得られることがわかる。
浄化率とが得られることがわかる。
【図１】実施例１の触媒構造を示す断面図
【図２】触媒入口ガス温度が４００℃のときのＮＯｘ浄
化率とＰｔ・Ｒｈ担持量との関係を示すグラフ図
化率とＰｔ・Ｒｈ担持量との関係を示すグラフ図
【図３】ＣｅＯ2 担持量とＨＣ浄化におけるライトオフ
温度との関係を示すグラフ図
温度との関係を示すグラフ図
【図４】Ｐｄ含浸担持量とＨＣ浄化におけるライトオフ
温度との関係を示すグラフ図
温度との関係を示すグラフ図
【図５】実施例２の触媒構造を示す断面図
１ 担体 ２ 第１触媒層 ２ａ ＨＣ吸着剤層 ２ｂ Ｐｄ触媒層 ３ ＣｅＯ2 層（希土類酸化物層） ４ 第２触媒層
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｂ０１Ｄ 53/86 ＺＡＢ 53/94 Ｂ０１Ｊ 29/12 ＺＡＢ Ａ 29/70 ＺＡＢ Ａ Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢ １０２ Ｂ １０２ Ｈ １０４ Ａ
Claims (5)
- 【請求項１】 担体の上に、排気ガス中の炭化水素を吸
着する無機結晶性モレキュラーシーブよりなるＨＣ吸着
剤を有し且つＰｄを触媒金属とする第１触媒層が形成さ
れ、 上記第１触媒層の上に、希土類酸化物を主成分とする希
土類酸化物層が形成され、 上記希土類酸化物層の上に、上記ＨＣ吸着剤を有し且つ
Ｐｔ及びＲｈのうちの少なくとも一方を触媒金属とする
第２触媒層が形成されていることを特徴とする内燃機関
の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項２】 請求項１に記載されている内燃機関の排
気ガス浄化用触媒において、 上記第１触媒層が、上記ＨＣ吸着剤よりなるＨＣ吸着剤
層と、該ＨＣ吸着剤層の上に形成されＰｄを触媒金属と
するＰｄ触媒層とよりなることを特徴とする内燃機関の
排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項３】 請求項１に記載されている内燃機関の排
気ガス浄化用触媒において、 上記希土類酸化物がＣｅＯ2 であることを特徴とする内
燃機関の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項４】 請求項３に記載されている内燃機関の排
気ガス浄化用触媒において、 上記担体がモノリス担体であって、該担体１リットル当
たりの上記ＣｅＯ2 の量が１５〜７０ｇであることを特
徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒。 - 【請求項５】 請求項１に記載されている内燃機関の排
気ガス浄化用触媒において、 上記ＨＣ吸着剤が結晶性アルミノシリケートであること
を特徴とする内燃機関の排気ガス浄化用触媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6283891A JPH08141405A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6283891A JPH08141405A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08141405A true JPH08141405A (ja) | 1996-06-04 |
Family
ID=17671526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6283891A Withdrawn JPH08141405A (ja) | 1994-11-18 | 1994-11-18 | 内燃機関の排気ガス浄化用触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08141405A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11156159A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-06-15 | Mazda Motor Corp | 排気ガス浄化装置、排気ガス浄化材及び排気ガス浄化材の製造方法 |
| JP2001526586A (ja) * | 1997-05-07 | 2001-12-18 | エンゲルハード・コーポレーシヨン | フォーウエイディーゼル排気ガス触媒および使用方法 |
| WO2003033119A1 (fr) * | 2001-10-15 | 2003-04-24 | Valtion Teknillinen Tutkimuskeskus | Procede de reduction catalytique d'oxydes d'azote et catalyseur correspondant |
| EP2692436A1 (en) * | 2011-03-29 | 2014-02-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas purification catalyst |
-
1994
- 1994-11-18 JP JP6283891A patent/JPH08141405A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001526586A (ja) * | 1997-05-07 | 2001-12-18 | エンゲルハード・コーポレーシヨン | フォーウエイディーゼル排気ガス触媒および使用方法 |
| JPH11156159A (ja) * | 1997-09-25 | 1999-06-15 | Mazda Motor Corp | 排気ガス浄化装置、排気ガス浄化材及び排気ガス浄化材の製造方法 |
| WO2003033119A1 (fr) * | 2001-10-15 | 2003-04-24 | Valtion Teknillinen Tutkimuskeskus | Procede de reduction catalytique d'oxydes d'azote et catalyseur correspondant |
| EP2692436A1 (en) * | 2011-03-29 | 2014-02-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Exhaust gas purification catalyst |
| EP2692436A4 (en) * | 2011-03-29 | 2014-10-01 | Toyota Motor Co Ltd | EMISSION CONTROL CATALYST |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020205 |