JPH08121956A - 真空乾燥装置 - Google Patents
真空乾燥装置Info
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- JPH08121956A JPH08121956A JP27979494A JP27979494A JPH08121956A JP H08121956 A JPH08121956 A JP H08121956A JP 27979494 A JP27979494 A JP 27979494A JP 27979494 A JP27979494 A JP 27979494A JP H08121956 A JPH08121956 A JP H08121956A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】水の持ち込み量の多少にかかわらず、またワ−
クの形状・材質にかかわらずに、乾燥完了時点を、ワ−
クの被加熱許容時間範囲内のごく短い時間内でモニタ−
することにより、不完全乾燥やワ−クの損傷等の事故発
生を防止し、精度の高い乾燥を実現する真空乾燥装置を
提供する。 【構成】真空槽２内でワ−クを支持する治具および／ま
たはワ−ク収納容器８並びに治具、ワ−ク収納容器を所
定位置にセットするための架台１０のそれぞれを、赤外
線吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、ま
たは赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成するととも
に、遠赤外線ヒ−タ−３を備えた真空槽２内で乾燥させ
るワ−クの乾燥検出手段として、継続的に一定時間毎の
真空槽内の減圧度の変化量を測定する減圧度変化量検出
部と、目標減圧度よりも低い減圧度の近傍値を設定しそ
れよりも高い減圧度においてのみ信号を発する信号検出
部を備えたモニタ−を設ける。
クの形状・材質にかかわらずに、乾燥完了時点を、ワ−
クの被加熱許容時間範囲内のごく短い時間内でモニタ−
することにより、不完全乾燥やワ−クの損傷等の事故発
生を防止し、精度の高い乾燥を実現する真空乾燥装置を
提供する。 【構成】真空槽２内でワ−クを支持する治具および／ま
たはワ−ク収納容器８並びに治具、ワ−ク収納容器を所
定位置にセットするための架台１０のそれぞれを、赤外
線吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、ま
たは赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成するととも
に、遠赤外線ヒ−タ−３を備えた真空槽２内で乾燥させ
るワ−クの乾燥検出手段として、継続的に一定時間毎の
真空槽内の減圧度の変化量を測定する減圧度変化量検出
部と、目標減圧度よりも低い減圧度の近傍値を設定しそ
れよりも高い減圧度においてのみ信号を発する信号検出
部を備えたモニタ−を設ける。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は水洗浄したプリント基
板、ハ−ドディスク等の電機・電子関連機器、ブレ−キ
部品、電装部品等の自動車・機械金属関連機器、カメラ
部品、時計部品等の精密・光学関連機器等の各種ワ−ク
を、遠赤外線を備えた真空槽で効率よく、短時間で乾燥
したり、ワ−クの乾燥をモニタ−で検出できるようにし
た真空乾燥装置に関する。
板、ハ−ドディスク等の電機・電子関連機器、ブレ−キ
部品、電装部品等の自動車・機械金属関連機器、カメラ
部品、時計部品等の精密・光学関連機器等の各種ワ−ク
を、遠赤外線を備えた真空槽で効率よく、短時間で乾燥
したり、ワ−クの乾燥をモニタ−で検出できるようにし
た真空乾燥装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、水洗浄後のワ−クを真空乾燥する
場合、ワ−クが完全に乾いているか否かは外部から観察
することは出来ないためにワ−クの種類、水の付着具合
等を考慮して経験と勘で乾燥時間を決めるなどしてい
た。また遠赤外線吸収体であるプリント基板とかフィル
ム状のワ−クには過過熱しすぎて損傷を与えてしまった
り、遠赤外線反射体であるアルミパ−ツのようなものは
遠赤外線が反射してしまうために熱を与え続けることが
できず十分な乾燥が出来なかったり、時間がかかりすぎ
るという難点があった。したがって真空乾燥後のワ−ク
が完全に乾燥していないで残留洗浄水が付着している場
合や乾燥に時間がかかり洗浄工程との関係で連続的な処
理ができない等の難点があった。
場合、ワ−クが完全に乾いているか否かは外部から観察
することは出来ないためにワ−クの種類、水の付着具合
等を考慮して経験と勘で乾燥時間を決めるなどしてい
た。また遠赤外線吸収体であるプリント基板とかフィル
ム状のワ−クには過過熱しすぎて損傷を与えてしまった
り、遠赤外線反射体であるアルミパ−ツのようなものは
遠赤外線が反射してしまうために熱を与え続けることが
できず十分な乾燥が出来なかったり、時間がかかりすぎ
るという難点があった。したがって真空乾燥後のワ−ク
が完全に乾燥していないで残留洗浄水が付着している場
合や乾燥に時間がかかり洗浄工程との関係で連続的な処
理ができない等の難点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ワ−クおよびワ−ク収
納容器の真空槽への水の持ち込み量は、同じ種類のワ−
クであっても、また同じワ−ク収納容器を用いたとして
も一定しないのであるから、乾燥完了の正確な時点を知
ることは困難であった。したがって未乾燥の状態のワ−
クが出現してしまったり、あるいは過加熱によってワ−
クを損傷してしまうケ−スも多くみられた。また従来の
真空乾燥では、乾燥に時間がかかりすぎるためにワ−ク
に水しみが発生してしまい、いわゆる乾燥不良のケ−ス
が多々みられた。さらに従来の水洗浄ラインでは、真空
乾燥にのみ時間がかかりすぎ、洗浄工程およびリンス工
程とのタクト時間が合致させにくく、ライン体制に導入
するのは困難であった。
納容器の真空槽への水の持ち込み量は、同じ種類のワ−
クであっても、また同じワ−ク収納容器を用いたとして
も一定しないのであるから、乾燥完了の正確な時点を知
ることは困難であった。したがって未乾燥の状態のワ−
クが出現してしまったり、あるいは過加熱によってワ−
クを損傷してしまうケ−スも多くみられた。また従来の
真空乾燥では、乾燥に時間がかかりすぎるためにワ−ク
に水しみが発生してしまい、いわゆる乾燥不良のケ−ス
が多々みられた。さらに従来の水洗浄ラインでは、真空
乾燥にのみ時間がかかりすぎ、洗浄工程およびリンス工
程とのタクト時間が合致させにくく、ライン体制に導入
するのは困難であった。
【０００４】本発明は上記の点に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、水の持ち込み量の多少に
かかわらず、またワ−クの形状・材質にかかわらずに、
乾燥完了時点を、ワ−クの被加熱許容時間範囲内のごく
短い時間内でモニタ−することにより、不完全乾燥やワ
−クの損傷等の事故発生を防止し、精度の高い乾燥を実
現する真空乾燥装置を提供することにある。また遠赤外
線照射されるワ−クの照射温度を検出し遠赤外線ヒ−タ
−の表面温度を制御するようにして被加熱許容温度範囲
でワ−クが照射されるようにしてワ−クの過加熱を排除
して損傷のない加熱乾燥を実現したものである。
で、その目的とするところは、水の持ち込み量の多少に
かかわらず、またワ−クの形状・材質にかかわらずに、
乾燥完了時点を、ワ−クの被加熱許容時間範囲内のごく
短い時間内でモニタ−することにより、不完全乾燥やワ
−クの損傷等の事故発生を防止し、精度の高い乾燥を実
現する真空乾燥装置を提供することにある。また遠赤外
線照射されるワ−クの照射温度を検出し遠赤外線ヒ−タ
−の表面温度を制御するようにして被加熱許容温度範囲
でワ−クが照射されるようにしてワ−クの過加熱を排除
して損傷のない加熱乾燥を実現したものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係る真空乾燥装
置は、真空槽内でワ−クを支持する治具および／または
ワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納容器を所定
位置にセットするための架台のそれぞれを、赤外線吸収
能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、または赤
外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成するとともに、遠
赤外線ヒ−タ−を備えた真空槽内で乾燥させるワ−クの
乾燥検出手段として、継続的に一定時間毎の真空槽内の
減圧度の変化量を測定する減圧度変化量検出部と、目標
減圧度よりも低い減圧度の近傍値を設定しそれよりも高
い減圧度においてのみ信号を発する信号検出部を備えた
モニタ−を設けたものである。
置は、真空槽内でワ−クを支持する治具および／または
ワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納容器を所定
位置にセットするための架台のそれぞれを、赤外線吸収
能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、または赤
外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成するとともに、遠
赤外線ヒ−タ−を備えた真空槽内で乾燥させるワ−クの
乾燥検出手段として、継続的に一定時間毎の真空槽内の
減圧度の変化量を測定する減圧度変化量検出部と、目標
減圧度よりも低い減圧度の近傍値を設定しそれよりも高
い減圧度においてのみ信号を発する信号検出部を備えた
モニタ−を設けたものである。
【０００６】また真空槽内でワ−クを支持する治具およ
び／またはワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納
容器を所定位置にセットするための架台のそれぞれを、
赤外線吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成する
か、または赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成する
とともに前記治具および／またはワ−ク収納容器自体
に、又はその治具、収納容器と接するか近傍に、赤外線
吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成した温度検出
部を設けるか、または赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材
で形成した温度検出部を設け、該検出部の信号により遠
赤外線ヒ−タ−の表面温度を制御する温度制御部を備え
た真空乾燥装置である。
び／またはワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納
容器を所定位置にセットするための架台のそれぞれを、
赤外線吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成する
か、または赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成する
とともに前記治具および／またはワ−ク収納容器自体
に、又はその治具、収納容器と接するか近傍に、赤外線
吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成した温度検出
部を設けるか、または赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材
で形成した温度検出部を設け、該検出部の信号により遠
赤外線ヒ−タ−の表面温度を制御する温度制御部を備え
た真空乾燥装置である。
【０００７】さらにワ−クを支持する治具および／また
はワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納容器を所
定位置にセットするための架台のそれぞれを、赤外線吸
収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、または
赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成し、かつワ−ク
に角度をもたせて支持、乾燥させる治具および／または
ワ−ク収納容器を斜めに傾斜した板状材で形成した真空
乾燥装置である。
はワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納容器を所
定位置にセットするための架台のそれぞれを、赤外線吸
収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、または
赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成し、かつワ−ク
に角度をもたせて支持、乾燥させる治具および／または
ワ−ク収納容器を斜めに傾斜した板状材で形成した真空
乾燥装置である。
【０００８】また真空乾燥するワ−クは水洗浄における
乾燥工程の前工程であるリンス工程で、温純水によって
リンスを行い、かつ、その後に水きりのための温風ブロ
ウを行ったワ−クを使用した真空乾燥装置である。
乾燥工程の前工程であるリンス工程で、温純水によって
リンスを行い、かつ、その後に水きりのための温風ブロ
ウを行ったワ−クを使用した真空乾燥装置である。
【０００９】
【作用】水洗浄の真空乾燥装置において、減圧度がその
所定の目標減圧度に到達するのを妨げる要素の一つに乾
燥過程における飽和水蒸気の発生がある。つまり飽和水
蒸気が真空槽内で発生している以上、所定の目標減圧度
には到達しないのである。それならば、仮に、真空槽に
一切のリ−クのない状態を維持できれば、かつ、真空ポ
ンプがその自らの内部温度変化や吸引エア−温度の変化
等に左右されない一定したバキュ−ムクリアランスを有
することができれば、目標減圧度を設定してそこに到達
した時点をもって乾燥終了時点であると言えるはずであ
る。しかし実際には、まったくリ−クのない真空槽を得
ることはなかなか困難であり、真空ポンプのバキュ−ム
クリアランス精度は熱等の理由により変化し得るので、
目標減圧度に到達しても、乾燥が完了していないケ−ス
も出現するし、また乾燥が終了していても目標減圧度に
到達しないケ−スも出現し得る。
所定の目標減圧度に到達するのを妨げる要素の一つに乾
燥過程における飽和水蒸気の発生がある。つまり飽和水
蒸気が真空槽内で発生している以上、所定の目標減圧度
には到達しないのである。それならば、仮に、真空槽に
一切のリ−クのない状態を維持できれば、かつ、真空ポ
ンプがその自らの内部温度変化や吸引エア−温度の変化
等に左右されない一定したバキュ−ムクリアランスを有
することができれば、目標減圧度を設定してそこに到達
した時点をもって乾燥終了時点であると言えるはずであ
る。しかし実際には、まったくリ−クのない真空槽を得
ることはなかなか困難であり、真空ポンプのバキュ−ム
クリアランス精度は熱等の理由により変化し得るので、
目標減圧度に到達しても、乾燥が完了していないケ−ス
も出現するし、また乾燥が終了していても目標減圧度に
到達しないケ−スも出現し得る。
【００１０】そこで本発明者が注目したのが、目標減圧
度近傍値における一定時間毎の減圧度の変化量の推移で
ある。それは、目標減圧度近傍値において真空槽内の水
分が少なくなればなるほど減圧度の変化量は小さくなる
という実験結果である。すなわち、目標減圧度近傍値に
おいて乾燥時間が経過すればするほど減圧度の変化量は
小さくなるという実験結果である。ゆえに、実験値によ
って、目標減圧度近傍値において所定の時間内に所定の
減圧度変化量になれば、そこを乾燥完了後かつ過加熱前
の乾燥工程終了時点として認識できるのである。例え
ば、目標減圧度が１．５〜１．２ｔｏｒｒであった場
合、２ｔｏｒｒ以上の減圧度において測定される数値の
みを有効値として、乾燥経過時間１０秒間で０．１ｔｏ
ｒｒの変化量になった時点を、ワ−クの許容被加熱範囲
内の乾燥作業の終了時点であると認定できるのである。
度近傍値における一定時間毎の減圧度の変化量の推移で
ある。それは、目標減圧度近傍値において真空槽内の水
分が少なくなればなるほど減圧度の変化量は小さくなる
という実験結果である。すなわち、目標減圧度近傍値に
おいて乾燥時間が経過すればするほど減圧度の変化量は
小さくなるという実験結果である。ゆえに、実験値によ
って、目標減圧度近傍値において所定の時間内に所定の
減圧度変化量になれば、そこを乾燥完了後かつ過加熱前
の乾燥工程終了時点として認識できるのである。例え
ば、目標減圧度が１．５〜１．２ｔｏｒｒであった場
合、２ｔｏｒｒ以上の減圧度において測定される数値の
みを有効値として、乾燥経過時間１０秒間で０．１ｔｏ
ｒｒの変化量になった時点を、ワ−クの許容被加熱範囲
内の乾燥作業の終了時点であると認定できるのである。
【００１１】目標減圧度近傍値、乾燥経過時間、および
減圧度変化量の相関関係については、必ずしも上記数値
にこだわらない。目標減圧度近傍値にてモニタ−してい
く理由であるが、ワ−クやワ−ク収納容器が真空槽内に
持ち込む水の量が相当に多い場合とか、ワ−クの被加熱
許容温度が相当に低温である場合等においては、ワ−ク
等に与える熱エネルギ−よりも水の蒸発潜熱の方が大き
くなってしまう可能性があり、この場合は水の蒸発が一
時的に停止するので、一定時間内における減圧度の変化
量が目標減圧度近傍値以外でもほとんどゼロに近くなる
ことがあり得るからである。なお、前記のごとくの目標
減圧度の近傍値にてのモニタ−であれば、すでに残水分
がわずかになっているので途中で乾燥が停止することは
あり得ず、一定時間内で一定の減圧度の変化量になった
時点を乾燥完了後の近時点としてとらえ乾燥工程を終了
できることが実験によって判明している。
減圧度変化量の相関関係については、必ずしも上記数値
にこだわらない。目標減圧度近傍値にてモニタ−してい
く理由であるが、ワ−クやワ−ク収納容器が真空槽内に
持ち込む水の量が相当に多い場合とか、ワ−クの被加熱
許容温度が相当に低温である場合等においては、ワ−ク
等に与える熱エネルギ−よりも水の蒸発潜熱の方が大き
くなってしまう可能性があり、この場合は水の蒸発が一
時的に停止するので、一定時間内における減圧度の変化
量が目標減圧度近傍値以外でもほとんどゼロに近くなる
ことがあり得るからである。なお、前記のごとくの目標
減圧度の近傍値にてのモニタ−であれば、すでに残水分
がわずかになっているので途中で乾燥が停止することは
あり得ず、一定時間内で一定の減圧度の変化量になった
時点を乾燥完了後の近時点としてとらえ乾燥工程を終了
できることが実験によって判明している。
【００１２】温度検出部を、ワ−クを支持する治具およ
び／またはワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納
容器を所定位置にセットするための架台のそれぞれと同
等の条件の性能を有するものとし、ワ−クを支持する治
具および／またはワ−ク収納容器そのものに、またはそ
の治具、収納容器と接するか近傍に設けることで、ワ−
クを支持する治具および／またはワ−ク収納容器がどの
程度の赤外線の熱エネルギ−を吸収しているのかを検出
できる。そのワ−ク収納容器に与えられた熱エネルギ−
がワ−クに熱伝導で与えられるわけであるので、ワ−ク
を支持する治具および／またはワ−ク収納容器が受ける
熱エネルギ−を検出することは重要である。この検出方
式にそって、実験によって適性温度をあらかじめ設定し
ておき、温度検出部からの信号によって遠赤外線ヒ−タ
−の表面温度を制御することで、精度の高い温度コント
ロ−ルが可能となる。
び／またはワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納
容器を所定位置にセットするための架台のそれぞれと同
等の条件の性能を有するものとし、ワ−クを支持する治
具および／またはワ−ク収納容器そのものに、またはそ
の治具、収納容器と接するか近傍に設けることで、ワ−
クを支持する治具および／またはワ−ク収納容器がどの
程度の赤外線の熱エネルギ−を吸収しているのかを検出
できる。そのワ−ク収納容器に与えられた熱エネルギ−
がワ−クに熱伝導で与えられるわけであるので、ワ−ク
を支持する治具および／またはワ−ク収納容器が受ける
熱エネルギ−を検出することは重要である。この検出方
式にそって、実験によって適性温度をあらかじめ設定し
ておき、温度検出部からの信号によって遠赤外線ヒ−タ
−の表面温度を制御することで、精度の高い温度コント
ロ−ルが可能となる。
【００１３】ワ−クの保持部分を板状材等で斜めに形成
することで、赤外線の熱エネルギ−を吸収できる面積を
大きくできる。吸収する面積が大きくなればそれだけ吸
収できる熱エネルギ−量を増大できるので、乾燥時間の
短縮に寄与することとなる。また、ワ−クの保持部分を
斜めに形成し、かつ同時にワ−クを斜めに保持すること
で、水きりの効果で乾燥時間を短縮でき、一方ワ−クの
搭載数量を増大させることもできる。
することで、赤外線の熱エネルギ−を吸収できる面積を
大きくできる。吸収する面積が大きくなればそれだけ吸
収できる熱エネルギ−量を増大できるので、乾燥時間の
短縮に寄与することとなる。また、ワ−クの保持部分を
斜めに形成し、かつ同時にワ−クを斜めに保持すること
で、水きりの効果で乾燥時間を短縮でき、一方ワ−クの
搭載数量を増大させることもできる。
【００１４】架台もワ−クを支持する治具および／また
はワ−ク収納容器と同等の条件の性能を有するものと
し、架台そのものに付着した水と架台とワ−ク収納容器
との間に付着した水をも速やかに乾燥できる。
はワ−ク収納容器と同等の条件の性能を有するものと
し、架台そのものに付着した水と架台とワ−ク収納容器
との間に付着した水をも速やかに乾燥できる。
【００１５】リンス工程において、リンス水を温純水に
することでワ−クおよびワ−ク収納容器に予備加熱を行
い、のちに同リンス槽内でワ−ク収納容器を引き上げ後
に温風ブロウして水きりを行うことで、ワ−クおよびワ
−ク収納容器が自ら熱量をもっていることと同時に温風
ブロウによって水の持ち込み量が少なくなることのため
に乾燥時間を大幅に短縮できる。
することでワ−クおよびワ−ク収納容器に予備加熱を行
い、のちに同リンス槽内でワ−ク収納容器を引き上げ後
に温風ブロウして水きりを行うことで、ワ−クおよびワ
−ク収納容器が自ら熱量をもっていることと同時に温風
ブロウによって水の持ち込み量が少なくなることのため
に乾燥時間を大幅に短縮できる。
【００１６】
【実施例】図１のごとくの５０ｃｍ角の立方体の真空槽
内の天井面、床面、両側面の４ヵ所に遠赤外線ヒ−タ−
３をセットした。この遠赤外線ヒ−タ−３は配線取り出
し口（図示せず）を介して真空槽本体２の外部に設けた
電力調節器１４に接続する。図中、１は真空槽の扉、４
は真空ポンプに接続する排気口、５は給気口をそれぞれ
示す。温度検出部６ａは、熱電対の温度感知部をはさみ
こむようにして２枚のアルミ板をフッ素樹脂で黒色に塗
装して装着した。温度検出部６ａの位置は、図２のよう
に架台１０の直下の近傍とした。架台１０はステンレス
で形成し、温度検出部６ａと同様にフッ素樹脂で黒色に
塗装した。真空槽本体２の熱電対取り出し口６より熱電
対を真空槽本体２の外部の温度調節器１３に接続した。
この制御はＰＩＤ制御とした。
内の天井面、床面、両側面の４ヵ所に遠赤外線ヒ−タ−
３をセットした。この遠赤外線ヒ−タ−３は配線取り出
し口（図示せず）を介して真空槽本体２の外部に設けた
電力調節器１４に接続する。図中、１は真空槽の扉、４
は真空ポンプに接続する排気口、５は給気口をそれぞれ
示す。温度検出部６ａは、熱電対の温度感知部をはさみ
こむようにして２枚のアルミ板をフッ素樹脂で黒色に塗
装して装着した。温度検出部６ａの位置は、図２のよう
に架台１０の直下の近傍とした。架台１０はステンレス
で形成し、温度検出部６ａと同様にフッ素樹脂で黒色に
塗装した。真空槽本体２の熱電対取り出し口６より熱電
対を真空槽本体２の外部の温度調節器１３に接続した。
この制御はＰＩＤ制御とした。
【００１７】減圧度変化量検出部と、目標減圧度よりも
低い減圧度の近傍値を設定しそれよりも高い減圧度にお
いてのみ信号を発する信号検出部を備えたモニタ−は次
の構成によって得られる。すなわち、７の減圧度取り出
し口よりパイプを使用して１１の真空計に接続し、さら
に真空計１１と調節計１２を接続した。調節計１２はデ
ジタル調節計を用い、指定時間内における減圧度の変化
量を連続的に測定し、かつ指定の減圧度以上の範囲で指
定の時間内に指定の減圧度の変化量に達した時点で信号
が送られるようにした。８のワ−ク収納容器はステンレ
スで形成しフッ素樹脂で黒色に塗装し遠赤外線を効率よ
く吸収できるようにした。
低い減圧度の近傍値を設定しそれよりも高い減圧度にお
いてのみ信号を発する信号検出部を備えたモニタ−は次
の構成によって得られる。すなわち、７の減圧度取り出
し口よりパイプを使用して１１の真空計に接続し、さら
に真空計１１と調節計１２を接続した。調節計１２はデ
ジタル調節計を用い、指定時間内における減圧度の変化
量を連続的に測定し、かつ指定の減圧度以上の範囲で指
定の時間内に指定の減圧度の変化量に達した時点で信号
が送られるようにした。８のワ−ク収納容器はステンレ
スで形成しフッ素樹脂で黒色に塗装し遠赤外線を効率よ
く吸収できるようにした。
【００１８】図３（ａ）、（ｂ）の８ａ，８ｂはワ−ク
収納容器の具体的な形成例であるが、ワ−ク９のうち９
ａのようなワ−クにはこれを支持するために肉厚パイプ
を溶接し、かつ１５ａの位置でワ−クとパイプの先端面
が接するように形成した。また９ｂのようなワ−クには
保持するための板材に穴あけを施し、その穴にワ−クを
さして保持し、かつ１５ｂの位置でワ−クとワ−ク収納
容器が接するように形成した。なお、８ｂのワ−ク収納
容器のように保持部分の板材を逆方向に交互に取り付け
ればワ−クの脱着が容易になる。要は保持する部分が板
材等で斜めに形成されればよいので、その取り付け方法
や取り付けの角度等はワ−クに合わせて形成すればよ
い。
収納容器の具体的な形成例であるが、ワ−ク９のうち９
ａのようなワ−クにはこれを支持するために肉厚パイプ
を溶接し、かつ１５ａの位置でワ−クとパイプの先端面
が接するように形成した。また９ｂのようなワ−クには
保持するための板材に穴あけを施し、その穴にワ−クを
さして保持し、かつ１５ｂの位置でワ−クとワ−ク収納
容器が接するように形成した。なお、８ｂのワ−ク収納
容器のように保持部分の板材を逆方向に交互に取り付け
ればワ−クの脱着が容易になる。要は保持する部分が板
材等で斜めに形成されればよいので、その取り付け方法
や取り付けの角度等はワ−クに合わせて形成すればよ
い。
【００１９】本実施例は図３（ａ）の場合をもって説明
する。ワ−ク９ａはＨＤＤモ−タ−部品であるアルミハ
ブを使用した。３０ｃｍ四方大のワ−ク収納容器に４９
個のワ−クを収納した。温度検出部の制御温度を１２０
℃に設定した。ワ−クの被過熱許容温度は６０℃である
が水の蒸発潜熱がワ−クやワ−ク収納容器８ａの温度を
下げるので、また乾燥モニタ−により乾燥完了後速やか
に加熱を停止することによりワ−クには被加熱許容温度
以上には加熱されないのである。
する。ワ−ク９ａはＨＤＤモ−タ−部品であるアルミハ
ブを使用した。３０ｃｍ四方大のワ−ク収納容器に４９
個のワ−クを収納した。温度検出部の制御温度を１２０
℃に設定した。ワ−クの被過熱許容温度は６０℃である
が水の蒸発潜熱がワ−クやワ−ク収納容器８ａの温度を
下げるので、また乾燥モニタ−により乾燥完了後速やか
に加熱を停止することによりワ−クには被加熱許容温度
以上には加熱されないのである。
【００２０】収納容器は８ａのごとくに形成し、遠赤外
線を吸収できるを面積大きくとることに努め、かつ水き
りが良好に行われ、ワ−ク９ａの搭載数量もできる限り
多くするようにした。乾燥のモニタ−条件であるが真空
槽内に水分のない状態で減圧したところ２ｔｏｒｒで減
圧度が変化しなくなったので、３ｔｏｒｒよりも高い減
圧度においてのみ乾燥完了の信号を得ることができるも
のとして、１０秒間に０．１ｔｏｒｒの減圧度の変化量
になった時点をモニタ−することとした。真空ポンプは
３．７ｋｗのドライポンプを用い、約４５秒で２ｔｏｒ
ｒ程度まで減圧できるようにした。
線を吸収できるを面積大きくとることに努め、かつ水き
りが良好に行われ、ワ−ク９ａの搭載数量もできる限り
多くするようにした。乾燥のモニタ−条件であるが真空
槽内に水分のない状態で減圧したところ２ｔｏｒｒで減
圧度が変化しなくなったので、３ｔｏｒｒよりも高い減
圧度においてのみ乾燥完了の信号を得ることができるも
のとして、１０秒間に０．１ｔｏｒｒの減圧度の変化量
になった時点をモニタ−することとした。真空ポンプは
３．７ｋｗのドライポンプを用い、約４５秒で２ｔｏｒ
ｒ程度まで減圧できるようにした。
【００２１】工程であるが、まずリンス槽（図示せず）
の純水を５５℃に加熱しワ−クを収納したワ−ク収納容
器を６０秒間沈めリンスと予備加熱を同時に行うことと
した。次に同槽上収容容器を引き上げ、５０℃の温風に
て１０秒間ブロウして水きりを行った。次に速やかに真
空乾燥槽に移し、減圧を開始した。減圧度の変化量が指
定の値に到達して乾燥完了の信号が発せられたのは、減
圧開始後８０秒の時点であった。すなわち、乾燥所要時
間は８０秒であった。乾燥の確認は、あらかじめ重量を
計量しておいた５個のワ−クの乾燥終了後の重量を計測
することで確認した。
の純水を５５℃に加熱しワ−クを収納したワ−ク収納容
器を６０秒間沈めリンスと予備加熱を同時に行うことと
した。次に同槽上収容容器を引き上げ、５０℃の温風に
て１０秒間ブロウして水きりを行った。次に速やかに真
空乾燥槽に移し、減圧を開始した。減圧度の変化量が指
定の値に到達して乾燥完了の信号が発せられたのは、減
圧開始後８０秒の時点であった。すなわち、乾燥所要時
間は８０秒であった。乾燥の確認は、あらかじめ重量を
計量しておいた５個のワ−クの乾燥終了後の重量を計測
することで確認した。
【００２２】なお、真空乾燥槽より取り出した直後にワ
−クの表面温度を計測したところ、低くは３０℃から高
くとも４５℃の範囲内であったのでワ−クへの過加熱は
行われていないことが確認された。また、ワ−ク表面に
おける水しみの発生は発見されなかった。
−クの表面温度を計測したところ、低くは３０℃から高
くとも４５℃の範囲内であったのでワ−クへの過加熱は
行われていないことが確認された。また、ワ−ク表面に
おける水しみの発生は発見されなかった。
【００２３】全く同様の条件設定で、プリント基板やコ
ネクタ−等を内蔵する金属と樹脂の複合部品等の多種の
ワ−クの乾燥実験を行ったが、乾燥時間は各々異なるも
のの、短時間で精度の高い乾燥が得られることを確認し
た。
ネクタ−等を内蔵する金属と樹脂の複合部品等の多種の
ワ−クの乾燥実験を行ったが、乾燥時間は各々異なるも
のの、短時間で精度の高い乾燥が得られることを確認し
た。
【００２４】乾燥モニタ−の条件設定であるが、ワ−ク
の被加熱許容温度の制限による加熱温度の高低等により
種々の設定が考えられるので、ワ−クに合わせた条件設
定をすればよく、上記条件にはこだわらない。
の被加熱許容温度の制限による加熱温度の高低等により
種々の設定が考えられるので、ワ−クに合わせた条件設
定をすればよく、上記条件にはこだわらない。
【００２５】
【発明の効果】従来、減圧下で遠赤外線エネルギ−を十
分に与えることが困難であるとされていた遠赤外線反射
体であるワ−クにも、収納容器からの熱伝導によって十
分に熱エネルギ−を与えることができるので、また遠赤
外線吸収体のワ−クには遠赤外線の直接照射によっても
十分に熱エネルギ−を与えることができるので、ワ−ク
の材質を問わないで、精度の高い迅速な乾燥が実現でき
る。
分に与えることが困難であるとされていた遠赤外線反射
体であるワ−クにも、収納容器からの熱伝導によって十
分に熱エネルギ−を与えることができるので、また遠赤
外線吸収体のワ−クには遠赤外線の直接照射によっても
十分に熱エネルギ−を与えることができるので、ワ−ク
の材質を問わないで、精度の高い迅速な乾燥が実現でき
る。
【００２６】乾燥完了のごく近い時点を自動的にモニタ
−できるので、乾燥未完了とかワ−クの熱による損傷と
かの乾燥不良をまねくことなく、精度の高い乾燥が実現
できる。
−できるので、乾燥未完了とかワ−クの熱による損傷と
かの乾燥不良をまねくことなく、精度の高い乾燥が実現
できる。
【００２７】乾燥所要時間が短いので、洗浄、リンス工
程とのタクト連絡が無理なくでき、真空乾燥であっても
ライン生産に支障を与えない。
程とのタクト連絡が無理なくでき、真空乾燥であっても
ライン生産に支障を与えない。
【図１】本発明の一実施例を示す真空乾燥装置の斜視図
である。
である。
【図２】真空槽内に、架台、ワ−ク、ワ−ク収容容器、
温度検出部及び遠赤外線ヒ−タ−をセットした場合の説
明図である。
温度検出部及び遠赤外線ヒ−タ−をセットした場合の説
明図である。
【図３】ワ−ク収納容器にワ−クを装着した場合の説明
図で、（ａ）、（ｂ）はワ−ク収納容器の具体的な形成
例を示す。
図で、（ａ）、（ｂ）はワ−ク収納容器の具体的な形成
例を示す。
【図４】（ａ）は乾燥が途中段階で停止されずに進んだ
場合のグラフ、（ｂ）はワ−クの被加熱許容温度の制限
での時点で一旦、乾燥が停止するかそれに近い状態にな
り再び乾燥が進んでゆく場合のグラフである。この場
合、α時点とβ時点のカ−ブはごく類似したものとな
る。
場合のグラフ、（ｂ）はワ−クの被加熱許容温度の制限
での時点で一旦、乾燥が停止するかそれに近い状態にな
り再び乾燥が進んでゆく場合のグラフである。この場
合、α時点とβ時点のカ−ブはごく類似したものとな
る。
１ 真空槽の扉 ２ 真空槽本体 ３ 遠赤外線ヒ−タ− ４ 排気口 ５ 給気口 ６ 熱電対取り出し口 ６ａ 温度検出部 ７ 減圧度取り出し口 ８ ワ−ク収容容器 ８ａ ワ−ク収容容器の一例 ８ｂ ワ−ク収容容器の一例 ９ ワ−ク ９ａ ワ−クの一例 ９ｂ ワ−クの一例 １０ 架台 １１ 真空計 １２ 調節計 １３ 温度調節器 １４ 電力調節器 １５ａ ワ−クとワ−ク収納容器との接触位置 １５ｂ ワ−クとワ−ク収納容器との接触位置
Claims (4)
- 【請求項１】 真空槽内でワ−クを支持する治具および
／またはワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納容
器を所定位置にセットするための架台のそれぞれを、赤
外線吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、
または赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成するとと
もに、遠赤外線ヒ−タ−を備えた真空槽内で乾燥させる
ワ−クの乾燥検出手段として、継続的に一定時間毎の真
空槽内の減圧度の変化量を測定する減圧度変化量検出部
と、目標減圧度よりも低い減圧度の近傍値を設定しそれ
よりも高い減圧度においてのみ信号を発する信号検出部
を備えたモニタ−を設けたことを特徴とする真空乾燥装
置。 - 【請求項２】 真空槽内でワ−クを支持する治具および
／またはワ−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納容
器を所定位置にセットするための架台のそれぞれを、赤
外線吸収能の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、
または赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成するとと
もに前記治具および／またはワ−ク収納容器自体に、又
はその治具、収納容器と接するか近傍に、赤外線吸収能
の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成した温度検出部を設
けるか、または赤外線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成
した温度検出部を設け、該検出部の信号により遠赤外線
ヒ−タ−の表面温度を制御する温度制御部を備えたこと
を特徴とする真空乾燥装置。 - 【請求項３】 ワ−クを支持する治具および／またはワ
−ク収納容器並びに前記治具、ワ−ク収納容器を所定位
置にセットするための架台のそれぞれを、赤外線吸収能
の高い耐熱、耐水性膜体で被覆形成するか、または赤外
線吸収能の高い耐熱、耐水材で形成し、かつワ−クに角
度をもたせて支持、乾燥させる治具および／またはワ−
ク収納容器を斜めに傾斜した板状材で形成したことを特
徴とする請求項１又は２記載の真空乾燥装置。 - 【請求項４】 真空乾燥するワ−クは水洗浄における乾
燥工程の前工程であるリンス工程で、温純水によってリ
ンスを行い、かつ、その後に水きりのための温風ブロウ
を行ったワ−クを使用したことを特徴とする請求項１、
２又は３記載の真空乾燥装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6279794A JP2814424B2 (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | 真空乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6279794A JP2814424B2 (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | 真空乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08121956A true JPH08121956A (ja) | 1996-05-17 |
| JP2814424B2 JP2814424B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=17616007
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6279794A Expired - Fee Related JP2814424B2 (ja) | 1994-10-20 | 1994-10-20 | 真空乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2814424B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008232567A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Honda Motor Co Ltd | 減圧乾燥方法及び減圧乾燥装置 |
| JP2009156499A (ja) * | 2007-12-26 | 2009-07-16 | Ulvac Japan Ltd | 真空乾燥装置における乾燥終点の確認方法 |
| JP2013113532A (ja) * | 2011-11-30 | 2013-06-10 | Shunichi Yagi | 凍結乾燥方法とその装置 |
| JP2015055454A (ja) * | 2013-09-13 | 2015-03-23 | ふたみ青果株式会社 | 凍結乾燥における被乾燥物の乾燥方法とその凍結乾燥装置 |
| CN105792536A (zh) * | 2016-03-04 | 2016-07-20 | 广德英菲特电子有限公司 | 一种pcb板烘干装置 |
| JP2018042491A (ja) * | 2016-09-14 | 2018-03-22 | 有限会社サンテクノ久我 | 食品用乾燥装置 |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JPS5967798U (ja) * | 1982-10-29 | 1984-05-08 | 古河電気工業株式会社 | 遠赤外線加熱炉 |
| JPH0268479A (ja) * | 1988-09-02 | 1990-03-07 | Pioneer Electron Corp | 光ディスク原盤の加熱乾燥装置 |
| JPH04132388U (ja) * | 1991-05-24 | 1992-12-08 | 千住金属工業株式会社 | 真空乾燥装置 |
| JPH0669184A (ja) * | 1992-08-12 | 1994-03-11 | Hitachi Ltd | ベーパ乾燥装置 |
| JPH06163508A (ja) * | 1992-11-27 | 1994-06-10 | Fuji Electric Co Ltd | 基板の乾燥方法および装置 |
-
1994
- 1994-10-20 JP JP6279794A patent/JP2814424B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| JP2018042491A (ja) * | 2016-09-14 | 2018-03-22 | 有限会社サンテクノ久我 | 食品用乾燥装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2814424B2 (ja) | 1998-10-22 |
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