JPH08119935A - ２−ピロリジノン誘導体の製造方法 - Google Patents
２−ピロリジノン誘導体の製造方法Info
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- JPH08119935A JPH08119935A JP7219974A JP21997495A JPH08119935A JP H08119935 A JPH08119935 A JP H08119935A JP 7219974 A JP7219974 A JP 7219974A JP 21997495 A JP21997495 A JP 21997495A JP H08119935 A JPH08119935 A JP H08119935A
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】本製法は優れたピロリジノン誘導体（２）の製
法である。 【解決手段】 下記反応式に示すピロリジノン誘導体
（２）の製法 【化１】 上記式中、Ｘはハロゲン原子；Ｒ1 はＨ，保護基；Ｒ2
は保護基を示す。
法である。 【解決手段】 下記反応式に示すピロリジノン誘導体
（２）の製法 【化１】 上記式中、Ｘはハロゲン原子；Ｒ1 はＨ，保護基；Ｒ2
は保護基を示す。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は医薬用抗菌剤の合成
中間体として有用な光学活性な２−ピロリジノン誘導体
の製造方法に関する。
中間体として有用な光学活性な２−ピロリジノン誘導体
の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】光学活性な４−ヒドロキシ−２−ピロリ
ジノンについては光学活性なＳ若しくはＲ配位の４−ア
ミノ−３−ヒドロキシ酪酸を原料とする方法が知られて
いるが、収率の良好なものはヘキサメチルジシラザン等
の高価な縮合剤を用いる必要がある（Ｓｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ，１９７８，６１４）。また光学純度の低い（Ｓ）−
４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸を２５％アンモニア水
で加熱して（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピロリジノン
を製造する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓｅａｒｃｈ
（Ｓ），１９８４，１３２）があるが、収率も低く、光
学純度も高いものが得られない等の問題点を有し、いず
れも工業的製法としては不向きである。
ジノンについては光学活性なＳ若しくはＲ配位の４−ア
ミノ−３−ヒドロキシ酪酸を原料とする方法が知られて
いるが、収率の良好なものはヘキサメチルジシラザン等
の高価な縮合剤を用いる必要がある（Ｓｙｎｔｈｅｓｉ
ｓ，１９７８，６１４）。また光学純度の低い（Ｓ）−
４−クロロ−３−ヒドロキシ酪酸を２５％アンモニア水
で加熱して（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピロリジノン
を製造する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓｅａｒｃｈ
（Ｓ），１９８４，１３２）があるが、収率も低く、光
学純度も高いものが得られない等の問題点を有し、いず
れも工業的製法としては不向きである。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明者は、これらの
問題点を解決し、多量に高品質の光学活性な２−ピロリ
ジノン誘導体を得る目的で鋭意検討したところ、Ｒ配位
若しくはＳ配位を有する式（１）を有する化合物をアジ
ド基を有する式（２）を有する化合物に導びき、ついで
アミノ基を有する式（３）を有する化合物を得、室温下
放置乃至は加熱することにより、Ｒ配位若しくはＳ配位
を有する式（４）が効率良く得られたことを見出し、発
明を完成させたものである。
問題点を解決し、多量に高品質の光学活性な２−ピロリ
ジノン誘導体を得る目的で鋭意検討したところ、Ｒ配位
若しくはＳ配位を有する式（１）を有する化合物をアジ
ド基を有する式（２）を有する化合物に導びき、ついで
アミノ基を有する式（３）を有する化合物を得、室温下
放置乃至は加熱することにより、Ｒ配位若しくはＳ配位
を有する式（４）が効率良く得られたことを見出し、発
明を完成させたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明はＲ配位若しくは
Ｓ配位を有する式
Ｓ配位を有する式
【０００５】
【化５】
【０００６】（式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1 は水素原
子若しくは水酸基の保護基を示し、Ｒ2 はカルボキシル
基の保護基を示す。）で表わされる化合物をアルカリ金
属アジドと反応させ、式
子若しくは水酸基の保護基を示し、Ｒ2 はカルボキシル
基の保護基を示す。）で表わされる化合物をアルカリ金
属アジドと反応させ、式
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述したものと同意
義である。）で表わされる化合物とし、この化合物を還
元することにより、式
義である。）で表わされる化合物とし、この化合物を還
元することにより、式
【０００９】
【化７】
【００１０】（式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述したものと同意
義である。）で表わされる化合物とし、この化合物を閉
環反応を行い、式
義である。）で表わされる化合物とし、この化合物を閉
環反応を行い、式
【００１１】
【化８】
【００１２】（式中、Ｒ1 は前述したものと同意義であ
る。）で表わされる光学活性な２−ピロリジノン誘導体
の製造方法である。
る。）で表わされる光学活性な２−ピロリジノン誘導体
の製造方法である。
【００１３】式（１）の定義中、Ｘは塩素、臭素、ヨウ
素などのハロゲン原子を示し、Ｒ1の水酸基の保護基
は、たとえば、トリメチルシリル，トリエチルシリルな
どのシリル基；ベンジル，４−ニトロベンジル，２−ニ
トロベンジル，４−メトキシベンジルなどのアラルキル
基；アセチル，プロピオニル，ベンゾイルなどのアシル
基；メトキシカルボニル，アリルオキシカルボニルなど
の置換オキシカルボニル基またはテトラヒドロピラニ
ル，メトキシメチル，１−エトキシエチルなどのエーテ
ル基があげられる。Ｒ2 のカルボキシル基の保護基は、
たとえばメチル，エチル，若しくはｔｅｒｔ−ブチルの
ようなアルキル基；ベンジル，ジフェニルメチル，４−
ニトロベンジル若しくは２−ニトロベンジルのようなア
ラルキル基；アリル，２−クロロアリル，２−メチルア
リル若しくは３，３−ジメチルアリルのようなアルケニ
ル基；トリメチルシリル基；ピバロイルオキシメチル，
アセトキシメチルのようなアルカノイルオキシアルキル
基；１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル，１−
（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチルのようなア
ルコキシカルボニルオキシアルキル基；フタリジル，イ
ソダニル，メトキシメチル基があげられる。
素などのハロゲン原子を示し、Ｒ1の水酸基の保護基
は、たとえば、トリメチルシリル，トリエチルシリルな
どのシリル基；ベンジル，４−ニトロベンジル，２−ニ
トロベンジル，４−メトキシベンジルなどのアラルキル
基；アセチル，プロピオニル，ベンゾイルなどのアシル
基；メトキシカルボニル，アリルオキシカルボニルなど
の置換オキシカルボニル基またはテトラヒドロピラニ
ル，メトキシメチル，１−エトキシエチルなどのエーテ
ル基があげられる。Ｒ2 のカルボキシル基の保護基は、
たとえばメチル，エチル，若しくはｔｅｒｔ−ブチルの
ようなアルキル基；ベンジル，ジフェニルメチル，４−
ニトロベンジル若しくは２−ニトロベンジルのようなア
ラルキル基；アリル，２−クロロアリル，２−メチルア
リル若しくは３，３−ジメチルアリルのようなアルケニ
ル基；トリメチルシリル基；ピバロイルオキシメチル，
アセトキシメチルのようなアルカノイルオキシアルキル
基；１−（エトキシカルボニルオキシ）エチル，１−
（イソプロポキシカルボニルオキシ）エチルのようなア
ルコキシカルボニルオキシアルキル基；フタリジル，イ
ソダニル，メトキシメチル基があげられる。
【００１４】式（２）の定義中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述した
ものと同意義を示す。
ものと同意義を示す。
【００１５】
【発明の実施の形態】Ｒ配位若しくはＳ配位を有する式
（１）を有する化合物に、アジ化リチウム，アジ化カリ
ウム，アジ化ナトリウム等のアルカリ金属アジドを作用
させることによってＲ配位の（１）からはＲ配位の式
（２）を有する化合物を得ることができ、また、Ｓ配位
の（１）からはＳ配位の（２）を得ることができる。
（１）を有する化合物に、アジ化リチウム，アジ化カリ
ウム，アジ化ナトリウム等のアルカリ金属アジドを作用
させることによってＲ配位の（１）からはＲ配位の式
（２）を有する化合物を得ることができ、また、Ｓ配位
の（１）からはＳ配位の（２）を得ることができる。
【００１６】使用されるアルカリ金属アジドの量は化合
物（１）に対してモル比１〜５倍、好ましくは１．２〜
２倍である。本反応に使用される有機溶剤としてはベン
ゼン，トルエン，キシレン等の炭化水素類；塩化メチレ
ン，２，４−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水類，
テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル類，酢酸
エチル等のエステル類，ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類，ジメチルスルホキシド等
のスルホキシド類があげられ、好適にはアミド類があげ
られる。反応温度は４０〜１２０℃で特に好適には８０
〜１１０℃である。反応時間は反応温度によって異るが
通常３〜１０時間であり、好ましくは４〜７時間であ
る。また、用いる溶媒によっては、反応を円滑に進行さ
せるために、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム，臭化
テトラｎ−ブチルアンモニウム，ヨウ化テトラｎ−ブチ
ルアンモニウム等のような相関移動触媒の存在下で行う
のが好適であり、特に好適には臭化テトラｎ−ブチルア
ンモニウム，ヨウ化テトラｎ−ブチルアンモニウムであ
る。
物（１）に対してモル比１〜５倍、好ましくは１．２〜
２倍である。本反応に使用される有機溶剤としてはベン
ゼン，トルエン，キシレン等の炭化水素類；塩化メチレ
ン，２，４−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水類，
テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル類，酢酸
エチル等のエステル類，ジメチルホルムアミド，ジメチ
ルアセトアミド等のアミド類，ジメチルスルホキシド等
のスルホキシド類があげられ、好適にはアミド類があげ
られる。反応温度は４０〜１２０℃で特に好適には８０
〜１１０℃である。反応時間は反応温度によって異るが
通常３〜１０時間であり、好ましくは４〜７時間であ
る。また、用いる溶媒によっては、反応を円滑に進行さ
せるために、塩化テトラｎ−ブチルアンモニウム，臭化
テトラｎ−ブチルアンモニウム，ヨウ化テトラｎ−ブチ
ルアンモニウム等のような相関移動触媒の存在下で行う
のが好適であり、特に好適には臭化テトラｎ−ブチルア
ンモニウム，ヨウ化テトラｎ−ブチルアンモニウムであ
る。
【００１７】目的とする化合物は、クロマトグラフィー
または蒸留等により精製することができる。
または蒸留等により精製することができる。
【００１８】式（３）の定義中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述した
ものと同意義を示す。
ものと同意義を示す。
【００１９】Ｒ配位若しくはＳ配位を有する式（２）を
有する化合物は水素添加反応、金属と酸を用いる還元反
応、金属とアルコール類を用いる還元反応、金属ハイド
ライドを用いる還元反応、リン化合物を用いる還元反応
等によりＲ配位を有する（２）からはＲ配位を有する式
（３）の化合物を得ることができ、またＳ配位を有する
（２）からはＳ配位を有する（３）を得ることができ
る。好適には水素添加による還元反応である。
有する化合物は水素添加反応、金属と酸を用いる還元反
応、金属とアルコール類を用いる還元反応、金属ハイド
ライドを用いる還元反応、リン化合物を用いる還元反応
等によりＲ配位を有する（２）からはＲ配位を有する式
（３）の化合物を得ることができ、またＳ配位を有する
（２）からはＳ配位を有する（３）を得ることができ
る。好適には水素添加による還元反応である。
【００２０】水素添加反応では触媒として５％〜１０％
パラジウム炭素、５％白金炭素、ラネーニッケル，リン
ドラー触媒等を用いることができる。使用される触媒の
量は化合物（２）に対して重量比０．０２〜１．０倍、
好ましくは０．０５〜０．５倍である。本反応は通常有
機溶剤中で行われ、有機溶剤としては、ベンゼン，トル
エン，キシレン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル
類、メタノール，エタノール，イソプロピルアルコール
等のアルコール類、ジメチルホルムアミド，ジメチルア
セトアミド等のアミド類があげられ、好適にはアルコー
ル類があげられる。反応温度は０〜４０℃で特に好適に
は１０〜３０℃である。水素の圧力は１〜４気圧が好適
である。反応時間は反応温度や水素の圧力により異るが
好ましくは０．５〜２．０時間である。
パラジウム炭素、５％白金炭素、ラネーニッケル，リン
ドラー触媒等を用いることができる。使用される触媒の
量は化合物（２）に対して重量比０．０２〜１．０倍、
好ましくは０．０５〜０．５倍である。本反応は通常有
機溶剤中で行われ、有機溶剤としては、ベンゼン，トル
エン，キシレン等の炭化水素類、テトラヒドロフラン、
ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステル
類、メタノール，エタノール，イソプロピルアルコール
等のアルコール類、ジメチルホルムアミド，ジメチルア
セトアミド等のアミド類があげられ、好適にはアルコー
ル類があげられる。反応温度は０〜４０℃で特に好適に
は１０〜３０℃である。水素の圧力は１〜４気圧が好適
である。反応時間は反応温度や水素の圧力により異るが
好ましくは０．５〜２．０時間である。
【００２１】金属と酸を用いる還元反応では使用する金
属としては粒状または粉末状の亜鉛、塩化クロム等を用
いることができる。使用する金属の量は化合物（２）に
対して重量比５〜１５であり、好適には８〜１０倍であ
る。使用する酸としては塩酸等の鉱酸および酢酸等の有
機酸である。使用する酸の量は化合物（２）の重量に対
し、体積比として５〜１５倍であり、好適には８〜１０
倍である。反応溶媒としてはアセトンおよびその水溶液
が好ましい。
属としては粒状または粉末状の亜鉛、塩化クロム等を用
いることができる。使用する金属の量は化合物（２）に
対して重量比５〜１５であり、好適には８〜１０倍であ
る。使用する酸としては塩酸等の鉱酸および酢酸等の有
機酸である。使用する酸の量は化合物（２）の重量に対
し、体積比として５〜１５倍であり、好適には８〜１０
倍である。反応溶媒としてはアセトンおよびその水溶液
が好ましい。
【００２２】金属とアルコール類を用いる還元反応では
使用する金属としては粒状または粉末状のマグネシウ
ム、粒状または粉末状のカルシウム、四塩化錫等があげ
られる。使用する金属の量は化合物（２）に対して重量
比０．１〜５．０倍であり、好適には０．２〜３．０倍
である。使用するアルコール類はメタノール，エタノー
ル，イソプロパノール等であり、好適にはメタノール，
エタノールである。
使用する金属としては粒状または粉末状のマグネシウ
ム、粒状または粉末状のカルシウム、四塩化錫等があげ
られる。使用する金属の量は化合物（２）に対して重量
比０．１〜５．０倍であり、好適には０．２〜３．０倍
である。使用するアルコール類はメタノール，エタノー
ル，イソプロパノール等であり、好適にはメタノール，
エタノールである。
【００２３】金属ハイドライドを用いる還元反応では使
用する金属ハイドライドとしては水素化ホウ素ナトリウ
ム，水素化リチウムアルミニウム等があげられる。使用
する金属ハイドライドの量は化合物（２）に対してモル
比２．０〜５．０倍、好適には２．５〜３．５倍であ
る。使用する有機溶媒としては、エーテル，テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、メタノール，エタノール等の
アルコール類である。反応温度は室温から使用する溶媒
の還流温度の範囲であり、反応時間は反応温度にもよる
が３〜１５時間である。
用する金属ハイドライドとしては水素化ホウ素ナトリウ
ム，水素化リチウムアルミニウム等があげられる。使用
する金属ハイドライドの量は化合物（２）に対してモル
比２．０〜５．０倍、好適には２．５〜３．５倍であ
る。使用する有機溶媒としては、エーテル，テトラヒド
ロフラン等のエーテル類、メタノール，エタノール等の
アルコール類である。反応温度は室温から使用する溶媒
の還流温度の範囲であり、反応時間は反応温度にもよる
が３〜１５時間である。
【００２４】リン化合物を用いる還元反応ではトリフェ
ニルホスフィン等のトリアルキルフォスフィン類，トリ
エステルホスファイト等のトリアルキルフォスファイト
類が使用される。使用されるリン化合物の使用量は化合
物（２）に対してモル比１．０〜３．０倍であり、好適
には１．０〜１．５倍である。反応は有機溶剤と水の混
合溶液中で行われ、有機溶剤としては、ジエチルエーテ
ル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル類，
メタノール，エタノール，イソプロピルアルコール等の
アルコール類が用いられる。反応温度は室温下で、反応
時間は１５〜２０時間である。
ニルホスフィン等のトリアルキルフォスフィン類，トリ
エステルホスファイト等のトリアルキルフォスファイト
類が使用される。使用されるリン化合物の使用量は化合
物（２）に対してモル比１．０〜３．０倍であり、好適
には１．０〜１．５倍である。反応は有機溶剤と水の混
合溶液中で行われ、有機溶剤としては、ジエチルエーテ
ル，テトラヒドロフラン，ジオキサン等のエーテル類，
メタノール，エタノール，イソプロピルアルコール等の
アルコール類が用いられる。反応温度は室温下で、反応
時間は１５〜２０時間である。
【００２５】上記の種々の還元反応により得られる化合
物（３）は常法（たとえばクロマトグラフィーまたは塩
酸塩として）により精製することができる。
物（３）は常法（たとえばクロマトグラフィーまたは塩
酸塩として）により精製することができる。
【００２６】式（４）の定義中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述した
ものと同意義を示す。
ものと同意義を示す。
【００２７】Ｒ配位若しくはＳ配位を有する式（３）を
有する化合物は室温下放置または加熱閉環することによ
り、Ｒ配位の（３）からはＲ配位の式（４）を有する化
合物を得ることができ、またＳ配位の（３）からはＳ配
位の（４）を得ることができる。
有する化合物は室温下放置または加熱閉環することによ
り、Ｒ配位の（３）からはＲ配位の式（４）を有する化
合物を得ることができ、またＳ配位の（３）からはＳ配
位の（４）を得ることができる。
【００２８】閉環反応は無溶媒下または有機溶媒中で実
施される。使用される有機溶媒としては、ベンゼン，ト
ルエン，キシレン等の炭化水素類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステ
ル類、メタノール，エタノール，イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類、ジメチルホルムアミド，ジメチル
アセトアミド等のアミド類があげられ、好適にはエステ
ル類、アルコール類があげられる。反応温度は、室温乃
至用いる有機溶剤の還流温度で、好適には５０〜７０℃
である。反応時間は反応温度によって異るが好ましくは
４．０〜６．０時間である。
施される。使用される有機溶媒としては、ベンゼン，ト
ルエン，キシレン等の炭化水素類、テトラヒドロフラ
ン、ジオキサン等のエーテル類、酢酸エチル等のエステ
ル類、メタノール，エタノール，イソプロピルアルコー
ル等のアルコール類、ジメチルホルムアミド，ジメチル
アセトアミド等のアミド類があげられ、好適にはエステ
ル類、アルコール類があげられる。反応温度は、室温乃
至用いる有機溶剤の還流温度で、好適には５０〜７０℃
である。反応時間は反応温度によって異るが好ましくは
４．０〜６．０時間である。
【００２９】化合物（４）は反応終了後、溶媒を濃縮
し、アルコール類、エステル類等乃至はそれらの混合液
から結晶化し、単離することができる。
し、アルコール類、エステル類等乃至はそれらの混合液
から結晶化し、単離することができる。
【００３０】また、本反応は式（２）の化合物の還元反
応において用いる方法や用いる溶媒により、式（３）の
化合物を単離することなく、反応溶媒や抽出溶媒を加熱
する連続操作で式（４）の化合物を得ることができる。
応において用いる方法や用いる溶媒により、式（３）の
化合物を単離することなく、反応溶媒や抽出溶媒を加熱
する連続操作で式（４）の化合物を得ることができる。
【００３１】以下に実施例をあげて説明するが、本発明
はこれらに限定されるものではない。
はこれらに限定されるものではない。
【００３２】
【発明の効果】本発明により効率よくかつ大量に２−ピ
ロリジノン誘導体が得られる。ここに得られた２−ピロ
リジノン誘導体は特開平２−４９７８３号公報に記載さ
れた方法によりすぐれた抗菌剤であるカルバペネム誘導
体へ導くことができる。
ロリジノン誘導体が得られる。ここに得られた２−ピロ
リジノン誘導体は特開平２−４９７８３号公報に記載さ
れた方法によりすぐれた抗菌剤であるカルバペネム誘導
体へ導くことができる。
【００３３】
実施例１（Ｓ）−４−アジド−３−ヒドロキシ酪酸エチル （Ｓ）−４−クロロ−３−ヒドロキイ酪酸エチル（１０
０ｇ）をジメチルホルムアミド（１ ｌ）に溶解し、ナ
トリウムアジド（７８．０ｇ）を加えた後、１００℃、
３時間加熱した。反応液を室温まで冷却したのち、水を
加え、酢酸エチルにより抽出した。得られた有機層を１
０％食塩水、飽和食塩水で洗浄、さらに硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後溶媒を減圧下留去し、油状の（Ｓ）−４
−アジド−３−ヒドロキシ酪酸エチル（９４．７ｇ）を
得た（収率９１％）。
０ｇ）をジメチルホルムアミド（１ ｌ）に溶解し、ナ
トリウムアジド（７８．０ｇ）を加えた後、１００℃、
３時間加熱した。反応液を室温まで冷却したのち、水を
加え、酢酸エチルにより抽出した。得られた有機層を１
０％食塩水、飽和食塩水で洗浄、さらに硫酸マグネシウ
ムで乾燥した後溶媒を減圧下留去し、油状の（Ｓ）−４
−アジド−３−ヒドロキシ酪酸エチル（９４．７ｇ）を
得た（収率９１％）。
【００３４】 赤外線吸収スペクトル（NaCl) 2102cm-1，1725cm-1 核磁気共鳴スペクトル (CDCl3 ，TMS 内部標準） δppm:1.28(3H,t,J=7.20Hz),2.54(2H,d,J=6.39Hz),3.35
(2H,d,J=5.31Hz),3.20-3.45(1H,m),4.19(2H,q,J=7.20H
z) 。
(2H,d,J=5.31Hz),3.20-3.45(1H,m),4.19(2H,q,J=7.20H
z) 。
【００３５】実施例２（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピロリジノン （Ｓ）−４−アジド−３−ヒドロキイ酪酸エチル（９
０．０ｇ）をメタノール（４５０ｍｌ）に溶解し、５
０．１％水分含量のパラジウム−炭素粉末（パラジウム
含量，７５重量％，１８０ｇ）加え、水素気圧下（３．
０ｋｇ重／ｃｍ2 ）２０℃、１．５時間反応を行った。
その後反応液を濾過し、メタノール（４５０ｍｌ）で洗
浄し、反応濾液そのまま６０℃，５．０時間加熱した。
反応終了後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をエタ
ノール酢酸エチルにより再結晶を行ない、白色結晶の
（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピロリジノン（３８．０
ｇ）を得た。
０．０ｇ）をメタノール（４５０ｍｌ）に溶解し、５
０．１％水分含量のパラジウム−炭素粉末（パラジウム
含量，７５重量％，１８０ｇ）加え、水素気圧下（３．
０ｋｇ重／ｃｍ2 ）２０℃、１．５時間反応を行った。
その後反応液を濾過し、メタノール（４５０ｍｌ）で洗
浄し、反応濾液そのまま６０℃，５．０時間加熱した。
反応終了後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をエタ
ノール酢酸エチルにより再結晶を行ない、白色結晶の
（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピロリジノン（３８．０
ｇ）を得た。
【００３６】融点 １５８〜１６１℃ 施光度［α］D 24 − 55.24°(C=1.0 , H2O) 赤外線吸収スペクトル（KBr)νmax cm-1: 3247,3145,16
72,1483,1446,1416. 核磁気共鳴スペクトル (400MHz，D2O 内部標準，トリメ
チルシリルプロピオン酸ナトリウム−d4) δppm:2.28(1H,dd,J=17.72,1.64Hz),2.77(1H,dd,J=17.7
2,6.72Hz),3.34(1H,dd,J=11.75,1.03Hz),3.72(1H,dd,J=
11.75,5.21Hz),4.60-4.64(1H,m) 。 実施例３（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピリジノン （Ｓ）−４−アミノ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（１．
８５ｇ）をメタノール（１９ｍｌ）に溶解し、６０℃、
５．０時間反応を行った。以下実施例２と同様に処理、
精製して結晶状の（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピロリ
ジノン（０．６７ｇ）を得た。このものは、融点、施光
度核スペクトルにおいて実施例２で得られたものと一致
した。
72,1483,1446,1416. 核磁気共鳴スペクトル (400MHz，D2O 内部標準，トリメ
チルシリルプロピオン酸ナトリウム−d4) δppm:2.28(1H,dd,J=17.72,1.64Hz),2.77(1H,dd,J=17.7
2,6.72Hz),3.34(1H,dd,J=11.75,1.03Hz),3.72(1H,dd,J=
11.75,5.21Hz),4.60-4.64(1H,m) 。 実施例３（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピリジノン （Ｓ）−４−アミノ−３−ヒドロキシ酪酸エチル（１．
８５ｇ）をメタノール（１９ｍｌ）に溶解し、６０℃、
５．０時間反応を行った。以下実施例２と同様に処理、
精製して結晶状の（Ｓ）−４−ヒドロキシ−２−ピロリ
ジノン（０．６７ｇ）を得た。このものは、融点、施光
度核スペクトルにおいて実施例２で得られたものと一致
した。
フロントページの続き (72)発明者 川本 勲 東京都品川区広町１丁目２番58号 三共株 式会社内
Claims (1)
- 【請求項１】 Ｒ配位若しくはＳ配位を有する式 【化１】 （式中、Ｘはハロゲン原子、Ｒ1 は水素原子若しくは水
酸基の保護基を示し、Ｒ2 はカルボキシル基の保護基を
示す。）で表わされる化合物をアルカリ金属アジドと反
応させ、式 【化２】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述したものと同意義である。）
で表わされる化合物とし、この化合物を還元することに
より、式 【化３】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前述したものと同意義である。）
で表わされる化合物とし、この化合物を閉環反応を行
い、式 【化４】 （式中、Ｒ1 は前述したものと同意義である。）で表わ
される光学活性な２−ピロリジノン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7219974A JP2962402B2 (ja) | 1994-08-31 | 1995-08-29 | ２−ピロリジノン誘導体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6-206608 | 1994-08-31 | ||
| JP20660894 | 1994-08-31 | ||
| JP7219974A JP2962402B2 (ja) | 1994-08-31 | 1995-08-29 | ２−ピロリジノン誘導体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08119935A true JPH08119935A (ja) | 1996-05-14 |
| JP2962402B2 JP2962402B2 (ja) | 1999-10-12 |
Family
ID=26515760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7219974A Expired - Fee Related JP2962402B2 (ja) | 1994-08-31 | 1995-08-29 | ２−ピロリジノン誘導体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2962402B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844242A1 (en) * | 1996-11-26 | 1998-05-27 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method of producing 4-hydroxy-2-pyrrolidinone and method of purifying the same |
| WO2000069817A1 (fr) * | 1999-05-14 | 2000-11-23 | Kaneka Corporation | Procede de production d'acides azetidine -2- carboxyliques optiquement actifs |
| US6252089B1 (en) | 1997-11-25 | 2001-06-26 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method of producing 4-hydroxy-2-pyrrolidinone and method of purifying the same |
-
1995
- 1995-08-29 JP JP7219974A patent/JP2962402B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0844242A1 (en) * | 1996-11-26 | 1998-05-27 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method of producing 4-hydroxy-2-pyrrolidinone and method of purifying the same |
| US6031113A (en) * | 1996-11-26 | 2000-02-29 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method of producing 4-hydroxy-2-pyrrolidinone and method of purifying the same |
| US6153766A (en) * | 1996-11-26 | 2000-11-28 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method of producing 4-hydroxy-2-pyrrolidinone and method of purifying the same |
| US6252089B1 (en) | 1997-11-25 | 2001-06-26 | Daicel Chemical Industries, Ltd. | Method of producing 4-hydroxy-2-pyrrolidinone and method of purifying the same |
| WO2000069817A1 (fr) * | 1999-05-14 | 2000-11-23 | Kaneka Corporation | Procede de production d'acides azetidine -2- carboxyliques optiquement actifs |
| US6838567B1 (en) | 1999-05-14 | 2005-01-04 | Kaneka Corporation | Process for producing optically active azetidine-2-carboxylic acids |
| US7262308B2 (en) | 1999-05-14 | 2007-08-28 | Kaneka Corporation | Process for producing optically active azetidine-2-carboxylic acids |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2962402B2 (ja) | 1999-10-12 |
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