JPH08118826A

JPH08118826A - 転写シート

Info

Publication number: JPH08118826A
Application number: JP6288875A
Authority: JP
Inventors: Shinichi Kurokawa; 黒川　　真一; Katsuyuki Oshima; 克之大嶋; Kotaro Danjo; 耕太郎檀上
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1994-10-28
Filing date: 1994-10-28
Publication date: 1996-05-14

Abstract

(57)【要約】【目的】サーマルヘッドの如き加熱媒体による転写を行
っても、スティッキング等の問題が生じることなく光回
折構造を任意の転写パターンで被転写材に良好に転写形
成することができる転写シートを提供する。【構成】回折格子やホログラムの干渉縞が記録されてい
る光回折構造形成層４が基材シート３の一方の面に設け
られているとともに、該基材シート３の他方の面にはリ
ン酸エステル系界面活性剤及び／又はモース硬度が３未
満の粒子が含有されている背面滑性層２が設けられてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は転写シートに関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、ホログラムや回折格子等の光回折構造をクレジット
カード、キャッシュカード、金券類等の各種の基材に設
けるには、転写シートを用いて光回折構造を転写形成す
るといった方法が採られており、通常用いられるこの種
の転写シートとしては基材シート上に剥離層、光回折構
造が形成されている樹脂層、及び接着剤層を順次積層し
てなる構成のものが知られている（例えば、特開平４−
２８１４８９号公報等）。

【０００３】上記の如き転写シートによって被転写材た
る各種基材に光回折構造を転写形成するための具体的な
手段としては、ホットスタンプによる加熱転写が一般的
であるが、ホットスタンプによる転写はその転写パター
ンが一定のものに限られてしまい、光回折構造の転写パ
ターンを変えるにはその都度ホットスタンプの金型を交
換したりしなければならないという不具合があるため、
ホットスタンプによる加熱転写は光回折構造を同一パタ
ーンで大量に転写形成する場合には適しているものの、
光回折構造をその目的や用途に応じた種々の異なるパタ
ーンでもって個別的に転写形成するには不向きであると
いう問題を有していた。

【０００４】一方、所望の転写パターンに応じて発熱部
位を自由に変えることのできるサーマルヘッドの如き加
熱媒体を用いれば、光回折構造を任意のパターンで転写
形成することができるかのように思われるが、被転写材
に光回折構造を転写形成すべく前述の如き転写シートを
そのまま用いてその光回折構造が設けられていない裏面
からサーマルヘッドによる加熱転写を行うと、基材シー
トがサーマルヘッドと融着してしまう、所謂スティッキ
ング現象が発生して転写シートが走行不能となってしま
ったり、著しい場合にはその部分から転写シートが破断
してしまう等の問題があった。

【０００５】本発明は上記問題に鑑みなされた発明であ
って、サーマルヘッドの如き加熱媒体による転写を行っ
ても、スティッキング等の問題が生じることなく光回折
構造を任意の転写パターンで被転写材に良好に転写形成
することができる転写シートを提供することを目的とす
るものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】即ち、本発明転写シート
は光回折構造形成層が基材シートの一方の面に設けられ
ているとともに、該基材シートの他方の面には背面滑性
層が設けられていることを特徴とする。

【０００７】また、本発明では、背面滑性層を反応性水
酸基を有する樹脂とポリイソシアネートからなり、且つ
これに液状の滑剤又は固形の滑剤を加えてなるものとす
ることができる。

【０００８】

【実施例】以下、本発明転写シートを図面に基づき詳細
に説明する。

【０００９】図１は本発明転写シート１の一例を示す断
面図であって、本発明転写シート１は、光回折構造形成
層４が基材シート３の一方の面に設けられているととも
に、該基材シート３の他方の面には背面滑性層２が設け
られており、転写時に加熱媒体からの熱伝導が阻害され
ないよう、転写シート１全体の厚みが５〜３０μｍとな
るように構成されているのが好ましい。尚、図中７、８
は、それぞれ本発明において必要に応じて設けられる剥
離層と感熱接着剤層である。

【００１０】本発明転写シート１における背面滑性層２
中には、該背面滑性層２に滑性を付与すべく液状の滑剤
としてリン酸エステル系界面活性剤及び／又は固形の滑
剤としてモース硬度が３未満の粒子が含有されており、
上記リン酸エステル系界面活性剤としては、炭素数６〜
２０、好ましくは炭素数１２〜１８の飽和又は不飽和の
高級アルコール（例えば、セチルアルコール、ステアリ
ルアルコール、オレイルアルコール等）のモノリン酸エ
ステル又はジリン酸エステル等の長鎖アルキルリン酸エ
ステル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル又はポ
リオキシアルキレンアルキルアリールエーテル等のリン
酸エステル、又は前述の如き高級アルコール、炭素数８
〜１２のアルキル基を少なくとも１〜２個有するアルキ
ルフェノール（例えば、ノニルフェノール、ドデシルフ
ェノール等）やアルキルナフトール又はジフェニルフェ
ノールのアルキレンオキサイド付加物（通常、付加モル
数１〜８）のモノリン酸エステル塩又はジリン酸エステ
ル塩等の非イオン性又は陰イオン性リン酸エステル界面
活性剤が用いられ、モース硬度が３未満の粒子として
は、タルク、カオリン、セキボク、硝石、石膏、ブルー
ス石、マイクロシリカ等の無機粒子や、アクリル樹脂、
テフロン樹脂、シリコーン樹脂、ラウロイル樹脂、フェ
ノール樹脂、架橋ポリアセタール樹脂等からなる合成樹
脂粒子等が用いられる。

【００１１】尚、上記モース硬度が３未満の粒子は、そ
の粒径が０．０１〜１０μｍ程度であるのが好ましく、
背面滑性層２の厚みの３０〜４００％の範囲にあるもの
が好適である。更に、当該粒子の形状は球形に近い程背
面滑性層２に優れた滑性を付与することができる。ま
た、天然の無機粒子を用いる場合、不純物の含有量が５
％未満であれば本発明において何ら支障なくこれを用い
ることができる。

【００１２】本発明では基材シート３上に充分な被膜強
度をもって背面滑性層２を設けることが可能であれば、
該背面滑性層２は上記リン酸エステル系界面活性剤及び
／又はモース硬度が３未満の粒子のみから構成されてい
ても良いが、被膜強度を充分なものとするためにリン酸
エステル系界面活性剤やモース硬度が３未満の粒子を樹
脂バインダーに配合して背面滑性層２を構成するのが好
ましい。この場合に用いられる樹脂バインダーとして
は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、又は電離放射線硬化
性樹脂のいずれであっても良いが、柔軟性、ヘッド追従
性の点から熱可塑性樹脂やその架橋体が好ましい。

【００１３】このような熱可塑性樹脂としては、ポリエ
ステル系樹脂、ポリアクリル酸エステル系樹脂、ポリ酢
酸ビニル系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリウ
レタン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリスチレン系
樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポ
リアミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリ
レート系樹脂、ポリアクリルアミド系樹脂、ポリビニル
クロリド系樹脂等を用いることができるが、本発明では
ポリビニルブチラールやポリビニルアセタール等の反応
性水酸基を有する樹脂を用いるのが好ましい。

【００１４】また、上記樹脂バインダーにリン酸エステ
ル系界面活性剤及び／又はモース硬度が３未満の粒子を
配合する場合には、リン酸エステル系界面活性剤は後述
するアルカリ性物質を含め樹脂バインダー１００重量部
に対して５〜５００重量部の割合で配合するのが好まし
く、モース硬度が３未満の粒子は樹脂バインダー１００
重量部に対して５〜４０重量部の割合で配合するのが好
ましい。尚、樹脂バインダーに対するリン酸エステル系
界面活性剤やモース硬度が３未満の粒子の配合量が少な
い場合には背面滑性層２に充分な滑性が得られなくな
り、配合量が多過ぎる場合には背面滑性層２の可撓性や
被膜強度が低下してしまう。

【００１５】更に、上記樹脂バインダーには、背面滑性
層２の耐熱性や基材シート３との密着性、背面滑性層２
を塗工形成する際の塗工性等を向上させるために、ポリ
イソシアネートを架橋剤として添加するのが好ましく、
このようなポリイソシアネートとしては従来公知の塗
料、接着剤、ポリウレタン等の合成に使用されているい
ずれのものであっても良いが、例えば、「武田薬品
（株）製；タケネート」、「大日本インキ化学（株）
製；バーノック」、「日本ポリウレタン（株）製；コロ
ネート」、「旭化成工業（株）製；デュラネート」、
「バイエル（株）製；ディスモジュール」等として市販
されているものを用いることができる。

【００１６】そして、ポリイソシアネートを樹脂バイン
ダーの架橋剤として用いる場合、ポリイソシアネートは
樹脂バインダー１００重量部に対して５〜２００重量部
の割合で添加し、ＮＣＯ／ＯＨの比が０．８〜２．０程
度となるようにするのが好ましく、このときのポリイソ
シアネートの添加量が少ないと架橋密度が低く耐熱性が
不充分になってしまい、また、ポリイソシアネートの添
加量が多過ぎると形成される塗膜の収縮の制御が困難に
なってしまうとともに、硬化時間が長くなってしまった
り、背面滑性層２中に残存する未反応のＮＣＯ基が空気
中の水分と反応してしまったりする等の不都合が生じて
しまう。

【００１７】また、本発明転写シート１の背面滑性層２
中には、前述の如きリン酸エステル系界面活性剤とモー
ス硬度が３未満の粒子との両方又はいずれか一方が含有
されていれば良いが、リン酸エステル系界面滑性剤を背
面滑性層２中に含有せしめる場合には、サーマルヘッド
等の加熱媒体から背面滑性層２に熱が印加される際にリ
ン酸エステル系界面活性剤やその分解物から生じる酸根
を中和して、加熱媒体が腐食されるのを防ぐことができ
るようにアルカリ性物質を添加しておくのが好ましい。

【００１８】このようなアルカリ性物質としては、ハイ
ドロタルサイト、水酸化アルミニウム、珪酸アルミニウ
ム、珪酸マグネシウム、炭酸マグネシウム、水酸化アル
ミナ・マグネシウムアルミニウムグリシネート、水酸化
マグネシウム、酸化マグネシウム等のアルカリ性無機化
合物や、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピル
アミン、ブチルアミン、ジブチルアミン、トリブチルア
ミン、ペンチルアミン、ジペンチルアミン、トリペンチ
ルアミン、トリヘキシルアミン、トリオクチルアミン、
デシルアミン、ドデシルアミン、ジドデシルアミン、ト
リデシルアミン、テトラデシルアミン、ペンタデシルア
ミン、ヘキサデシルアミン、ヘプタデシルアミン、オク
タデシルアミン、エイコシルアミン、ドコシルアミン、
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、プロパノールアミン、ジプロパノールアミ
ン、イソプロパノールアミン、Ｎ−メチル−ノニルアミ
ン、Ｎ−メチル−デシルアミン、Ｎ−エチル−パルミチ
ルアミン等のアミン類を例示することができ、これらの
ものは単独で用いても混合して用いても良い。尚、アル
カリ性無機化合物を添加する場合には、モース硬度が３
未満のものを添加するのが好ましい。また、アミンは常
温不揮発性であるとともに沸点が２００℃以上のものが
好ましい。

【００１９】また、上記アルカリ性物質はリン酸エステ
ル系界面滑性剤１モル当たり０．１〜１０モル程度の割
合で添加されるのが好ましく、リン酸エステル系界面滑
性剤に対するアルカリ性物質の添加量が少ないとリン酸
エステル系界面活性剤やその分解物から生じた酸根を完
全に中和することができず、また添加量を必要以上に多
くしても得られる効果の向上は見られない。

【００２０】更に、本発明ではリン酸エステル系界面活
性剤及び／又はモース硬度が３未満の粒子に加えて、ワ
ックス、シリコーンオイル、高級脂肪酸アミド、エステ
ル、リン酸エステル系界面活性剤以外の界面活性剤等の
滑剤や、４級アンモニウム塩、リン酸エステル等の帯電
防止剤等を、本発明の目的を妨げない範囲で必要に応じ
て添加することもできる。

【００２１】これらのことにより、０．３ｍｊ／ｄｏｔ
以上さらには、０．８ｍｊ／ｄｏｔ以上の印加エネルギ
ーを与えても、所望の転写適性を得ることができる。特
に、後述する光回折構造は、感熱転写リボンのような低
エネルギー（０．１〜０．３ｍｊ／ｄｏｔ）では、被転
写部分の膜強度や厚さにより良好に転写せしめることが
できないため、背面滑性層はより耐熱性、熱スベリ性の
高いものであることが要求される。また、光回折構造形
成層が、硬化性樹脂からなっていたり、無機薄膜の如く
硬質の薄膜で形成されている場合、背面滑性層からのブ
リード性成分が、その硬化膜上に付着したまま残存し易
くなり、その付着成分が多くなると界面剥離を生じ、転
写中若しくは転写後にその界面で剥離する現象が起こる
ことがある。従って、その場合には、例えば固形の滑剤
を用いたり、固形の滑剤の比率を高めたりする等して付
着性の少ない背面滑性層とするのが望ましい。

【００２２】本発明転写シート１における背面滑性層２
は、該背面滑性層２を構成する上記組成成分を適宜選択
してアセトン、メチルエチルケトン、トルエン、キシレ
ン等の適当な溶剤中に溶解又は分散せしめて調製した塗
工液を用い、グラビアコーター、ロールコーター、ワイ
ヤーバー等により塗工形成することができ、鉛筆硬度で
Ｈ〜２Ｈ程度の硬度になるよう固形分基準で５．０ｇ／
ｍ²以下、好ましくは０．１〜１．０ｇ／ｍ²の厚みに
形成するのが好ましい。尚、樹脂バインダーの架橋剤と
してイソシアネートを添加した場合には、未反応のイソ
シアネート基が残っている場合が多いので、背面滑性層
２を塗工形成した後に充分な熟成処理を施すのが好まし
い。

【００２３】また、転写層は多層構造になり総厚さが大
きくなるため、光回折構造の解像度を上げるためには、
背面滑性層上で面方向へ熱拡散しにくくする必要があ
る。そのためには、背面滑性層の熱伝導率を１．０×１
０^-4ｋｃａｌ／ｍｓ．℃以下、好ましくは０．２×１０
^-4ｋｃａｌ／ｍｓ．℃以下とする必要がある。

【００２４】一方、発明転写シート１における基材シー
ト３としては、ある程度の剛性と耐熱性を有する３〜２
５μｍ程度のものが用いられ、具体的には、コンデンサ
ーペーパー等の各種加工紙、又はポリエステル、ポリス
チレン、ポリプロピレン、ポリサルフォン、ポリフェニ
レンサルファイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、１，４−ポリシクロヘキシレン
ジメチルテレフタレート、アラミド、ポリカーボネー
ト、ポリビニルアルコール、セロファン等からなる合成
樹脂シートを例示することができるが、寸法安定性、耐
熱性、強靱性等からポリエチレンテレフタレートが特に
好ましい。

【００２５】上記基材シート３の光回折構造形成層４が
設けられる側には、剥離性、箔切れ性を向上させるため
に必要に応じて剥離層７を０．１〜１．０μｍ程度の厚
みで設けることができるが、その材質は基材シート３の
材質に応じて適宜選択され、ポリメタクリル酸エステ
ル、ポリ塩化ビニル、セルロース、シリコーン、炭化水
素を主成分とするワックス類、ポリスチレン、塩化ゴ
ム、カゼイン、各種界面滑性剤、金属酸化物等を例示す
ることができ、これらのものは単独で用いても又は２種
以上を混合して用いても良い。尚、基材シート３自体が
剥離性を有していれば剥離層７を設ける必要は特にな
く、この場合には剥離層７が設けられる位置に転写後の
光回折構造形成層４を保護する表面保護層を設けること
もできる。

【００２６】また、これらの層を任意の形状に破断しや
すくするために、マイクロシリカ等の微粉末を１０％以
下の量で添加しても良い。もちろん、透明性が要求され
るためその粒径は１μｍ以下に限定される。

【００２７】また、必要に応じて設けられる感熱接着剤
層８を構成する樹脂としては、ポリアクリル酸エステ
ル、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリプロピレン、ポリエス
テル、ポリウレタン、ロジン又はロジン変成マレイン
酸、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。

【００２８】接着剤層にも任意の形状に破断しやすくす
るために、マイクロシリカ等の微粉末を添加することが
でき、目的に応じて１〜２００％添加することができ
る。また、１μｍ以下の微粒子は、転写時、層に凹凸を
発生させたりする等の反射薄膜層への影響が小さく良好
である。

【００２９】本発明において光回折構造とは回折格子又
はホログラムを意味し、本発明転写シート１の一方の面
に設けられる光回折構造形成層４には、回折格子やホロ
グラムの干渉縞が記録されている。光回折構造形成層４
に記録する回折格子やホログラムの干渉縞は、表面凹凸
のレリーフとして記録されているもの（ホログラムを例
にとれば、干渉縞がこのように記録されているものは
「平面ホログラム」と一般に称されている）、その厚み
方向に立体的に記録されているもの（ホログラムを例に
とれば、干渉縞がこのように記録されているものは「体
積ホログラム」と一般に称されている）、又は透過率の
変化による光の振幅の変化で回折が起こるように記録さ
れているもの（ホログラムを例にとれば、干渉縞がこの
ように記録されているものは「振幅ホログラム」と一般
に称されている）のいずれであっても良く、光回折構造
としてのホログラムについてその具体例を挙げると、フ
レネルホログラム、フラウンホーファーホログラム、レ
ンズレスフーリエ変換ホログラム、イメージホログラム
等のレーザー再生ホログラム、リップマンホログラム、
デニシュークホログラム、レインボーホログラム等の白
色光再生ホログラム、これらの原理を利用したホログラ
フィックスステレオグラム、マルチプレックスホログラ
ム、カラーホログラム、コンピューターホログラム、ホ
ログラムディスプレー、ホログラフィック回折格子等が
挙げられる。

【００３０】光回折構造形成層４に上記の如き回折格子
やホログラムの干渉縞を記録するには、従来既知の方法
によって記録することができ、例えば、回折格子やホロ
グラムの干渉縞を表面凹凸のレリーフとして記録する場
合には、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版
をプレス型として用い、この原版上に樹脂シートを置い
て加熱ロール等の適宜手段によって両者を加熱圧接して
上記原版の凹凸模様を複製する等すれば良く、このよう
にして表面凹凸のレリーフとして回折格子やホログラム
の干渉縞を光回折構造形成層４の表面に記録するのは量
産性やコスト面で好ましい。

【００３１】また、回折格子やホログラムの干渉縞が記
録される光回折構造形成層４の材質としては、ポリ塩化
ビニル、アクリル（例、ＭＭＡ）、ポリスチレン、ポリ
カーボネート等の熱可塑性樹脂、不飽和ポリエステル、
メラミン、エポキシ、ポリエステル（メタ）アクリレー
ト、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）
アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポ
リオール（メタ）アクリレート、メラミン（メタ）アク
リレート、トリアジン系アクリレート等の熱硬化性樹脂
を硬化させたもの、或いは、上記熱可塑性樹脂と熱硬化
性樹脂の混合物が使用可能であり、これらのもの以外に
もラジカル重合性不飽和基を有する熱成形性物質を使用
することもできる。

【００３２】更に、光回折構造形成層４の表面に凹凸の
レリーフとして回折格子やホログラムの干渉縞を記録す
る場合には、回折効率を高めるための薄膜層５をそのレ
リーフ面６に形成するのが好ましく、光を反射する金属
薄膜を薄膜層５として形成すれば反射型の光回折構造が
得られ、また、透明薄膜を薄膜層５として形成すれば光
回折構造が転写形成される基材が隠蔽されない透明型の
光回折構造が得られ、これらのものは目的に応じて適宜
選択することができる。

【００３３】光回折構造を反射型のものとする場合に形
成される金属薄膜は、Ｃｒ、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｓｎ等
の金属及びその酸化物や窒化物等を単独、又は２種以上
組み合わせ、真空蒸着法、スパッタリング法、反応性ス
パッタリング法、イオンプレーティング法、電気メッキ
等によりその膜厚が５００〜１０００Åとなるように形
成するのが好ましく、また、当該金属薄膜は光回折構造
が転写された被転写材が完全に隠蔽されないように網点
状に形成することもできる。

【００３４】光回折構造を透明型のものとする場合に形
成される透明薄膜は、回折効率を高めることができる光
透過性のものであれば特に限定されないが、特開平４−
２８１４８９号公報に開示されているような、１）光回
折構造形成層４より屈折率の大きい透明連続薄膜であっ
て、Ｓｂ₂Ｓ₃、ＴｉＯ₂、ＺｎＳ、ＳｉＯ、ＴｉＯ、
ＳｉＯ₂等のような可視領域で透明なものや、赤外又は
紫外領域で透明なもの、２）光回折構造形成層４よりも
屈折率の大きい透明強誘電体、３）光回折構造形成層４
よりも屈折率の小さい透明連続薄膜、４）厚さ２００Å
以下の反射金属薄膜、５）光回折構造形成層４と屈折率
の異なる樹脂、６）上記１）〜５）の材質を適宜組み合
わせてなる積層体、等を挙げることができる。

【００３５】上記１）〜６）のうち、４）の厚みは２０
０Åであるが、１）〜３）、及び５）、６）の厚みは薄
膜層５を形成する材質の透明領域であれば良く、一般に
は、５００〜２０００Åである。また、上記１）〜４）
により薄膜層５を形成する場合は、真空蒸着法、スパッ
タリング法、反応性スパッタリング法、イオンプレーテ
ィング法、電気メッキ等の一般的な薄膜形成手段で形成
でき、上記５）により薄膜層５を形成する場合は、一般
的なコーティング法により薄膜層５を形成することがで
きる。更に、上記６）により薄膜層５を形成する場合
は、上記の各種手段、方法を適宜組み合わせることによ
って薄膜層５を形成することができる。

【００３６】本発明では、前述したような背面滑性層２
を基材シート３の光回折構造形成層４が設けられている
側と反対側の面、即ち、転写時に加熱媒体が接する面に
設けた点が特に重要であって、このような構成を採用し
た本発明転写シートによれば、光回折構造を転写する際
に、空気が入り込んだりして転写層への熱伝導が不充分
とならないよう転写シートに強く押し付けられながら移
動するサーマルヘッドの如き加熱媒体が、転写シートに
対して滑らか移動してスティッキング現象を起こすこと
なく光回折構造の良好な転写を行うことができる。更
に、加熱媒体との接触面が削られてカスが生じると、こ
れが加熱媒体の熱で燃えて当該加熱媒体を損傷する原因
となる虞があるが、本発明転写シートにおいてはこのよ
うなカスが生じることもない。

【００３７】従って、本発明転写シート１を用いれば、
何ら不都合が生じることなくサーマルヘッドの如き加熱
媒体によって光回折構造を任意のパターンでその目的や
用途に応じて個別的に転写形成することができるので、
種々多様のデザインに充分に対応することができるとと
もに、例えば、金券類、チケット、定期券等に記される
各種の個別情報を複製が困難である光回折構造で形成す
ることもでき、装飾性のみならずそのセキュリティ性を
大幅に向上させることも可能である。また、図２に示す
ように被転写材９に記された顔写真１０、番号表示１
１、署名１２、朱印１３等の情報の上に重ねてこれらの
サイズに応じて光回折構造１４を転写形成することもで
き、これによって上記情報の偽造・改ざんの防止が図れ
る。また、メーカーのシンボルマークのように、形状は
同一でもサイズが数多く存在するようなものにも問題な
く適用できる。また、透明薄膜を用いると、既に情報を
記録してある基材上に、転写しても、その情報を見るこ
とができ、意匠性、セイキュリティー性がさらに増加す
る。尚、図２では光回折構造１４による回折像の図示は
省略してある。

【００３８】次に、本発明転写シートの具体的な実施例
を挙げて本発明を更に詳細に説明する。

【００３９】〔実施例１〕厚さ１２μｍのポリエチレン
テレフタレートシートを基材シートとし、その一方の面
に乾燥後の厚みが１μｍとなるように以下の組成の塗工
液により背面滑性層を塗工形成した。

【００４０】〔背面滑性層〕・ポリビニルブチラール（エスレックＢＸ−１）８部・ポリイソシアネート硬化剤（バーノックＤ７５０）１８部・リン酸エステル（プライサーフＡ２０８Ｓ）５部・タルク 1.5部・メチルエチルケトン（ａ）＋トルエン（ｂ）（ａ：ｂ＝１：１）１３０部

【００４１】また、基材シートの他方の面には、乾燥後
の厚みが（）内の値となるよう保護層（１μｍ）と光
回折構造形成層（３μｍ）を以下の組成の塗工液により
順次塗工形成した後に、光回折構造形成層をレリーフホ
ログラムとして構成し、次いで、光回折構造形成層上に
ＴｉＯ_Xにより５００Åの膜厚で金属薄膜層を形成し
た。

【００４２】〔保護層〕・酢酸セルロース樹脂５部・メタノール２５部・メチルエチルケトン４５部・トルエン２５部・メチロール化メラミン樹脂５部・微粒子マイクロシリカ（粒径０．１μｍ）３部・パラトルエンスルホン酸 0.05部〔光回折構造形成層〕・アクリル樹脂４０部・メラミン樹脂１０部・シクロヘキサノン５０部・メチルエチルケトン５０部

【００４３】次に、金属薄膜層の上に、下記組成からな
る感熱接着剤を乾燥後３μｍとなるように形成し、本発
明の転写シートを得た。

【００４４】〔感熱接着層〕・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体３０部・アクリル樹脂１０部・微粒子マイクロシリカ（粒径０．１μｍ）１０部

【００４５】〔実施例２〕以下の組成の塗工液により背
面滑性層を塗工形成した以外は実施例１と同様にして転
写シートを得た。

【００４６】〔背面滑性層〕・ポリビニルブチラール（エスレックＢＸ−１）８部・ポリイソシアネート硬化剤（バーノックＤ７５０）１８部・マイクロシリカ５部・タルク 1.5部・メチルエチルケトン（ａ）＋トルエン（ｂ）（ａ：ｂ＝１：１）１３０部

【００４７】得られた転写シートに８ドット／ｍｍの解
像度のサーマルプリンター（サーマルヘッド）を用いて
１．０ｍｊ／ｄｏｔのエネルギーを印加し、カード上の
顔写真よりひとまわり大きいサイズで光回折構造（ホロ
グラム）を転写した。いずれの実施例における転写シー
トによっても、転写は良好に行うことができ、また、マ
イクロシリカを添加したことで膜切れ性も良く所定の形
状に転写することができた。更に、転写時にスティッキ
ングもなく、顔写真とホログラムの両方を観察できる意
匠性に優れた所望形状のホログラム転写をすることがで
きた。

【００４８】また、実施例２にあっては、背面滑性層を
実施例１で用いた塗工液組成中のリン酸エステルを固形
のマイクロシリカに変えたことにより、ブリード性をお
さえることができた。

【００４９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明転写シート
は光回折構造形成層が基材シートの一方の面に設けられ
ているとともに、該基材シートの他方の面には背面滑性
層が設けられているため、サーマルヘッドの如き加熱媒
体による転写を行っても、スティッキング等の問題が生
じることなく光回折構造を任意の転写パターンで被転写
材に良好に転写形成することができるので、本発明転写
シートによれば種々のデザインに対応した光回折構造の
転写形成が行えるとともに、光回折構造の有するセキュ
リティ性を大幅に向上させることを可能ならしめ、更に
は、被転写材に記された情報の上に重ねてこれらのサイ
ズに応じて光回折構造を転写形成することによって上記
情報の偽造・改ざんの防止を図ることもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明転写シートの一例を示す縦断面図であ
る。

【図２】本発明転写シートの一使用例を説明する概略図
である。

【符号の説明】

１転写シート２背面滑性層３基材シート４光回折構造形成層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光回折構造形成層が基材シートの一方の面
に設けられているとともに、該基材シートの他方の面に
は背面滑性層が設けられていることを特徴とする転写シ
ート。
【請求項２】背面滑性層が反応性水酸基を有する樹脂と
ポリイソシアネートからなり、且つこれに液状の滑剤を
加えてなる請求項１記載の転写シート。
【請求項３】背面滑性層が反応性水酸基を有する樹脂と
ポリイソシアネートからなり、且つこれに固形の滑剤を
加えてなる請求項１記載の転写シート。