JPH08107137A

JPH08107137A - 搬送装置、搬送方法、洗浄装置及び洗浄方法

Info

Publication number: JPH08107137A
Application number: JP22254895A
Authority: JP
Inventors: Yoshiyuki Honda; 儀幸本田
Original assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd; Tokyo Electron Kyushu Ltd
Priority date: 1994-08-08
Filing date: 1995-08-08
Publication date: 1996-04-23
Anticipated expiration: 2015-08-08
Also published as: JP3202898B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ウエハチャック等における保持部材で半導体
ウエハなどの被処理体を保持したまま搬送する際、被処
理体相互間の間隔を適切に保って接触を防止し、パーテ
ィクルの発生、ダメージを防止すると共に、ボートなど
の保持具への移載も円滑に行い、更にジャンプスロット
も防止する。【解決手段】ウエハＷを保持する保持溝５６の断面形
状を、２段テーパ形状とし、開口側の上側テーパ部５６
ａの開き角度を、溝底部５６ｃ側の下側テーパ部５６ｂ
よりも大きくする。ウエハＷを下降させて保持溝５６に
保持させる場合、ウエハＷの下端周縁部が下側テーパ部
５６ｂに入るまでは相対的高速に、それ以後は相対的低
速にして、ウエハＷを保持している保持部材を下降移動
させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、搬送装置、搬送方
法、洗浄装置及び洗浄方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】例えばＬＳＩ等の半導体デバイスの製造
工程における洗浄処理を例にとって説明すると、従来か
ら半導体ウエハ（以下、「ウエハ」という）表面のパー
ティクル、有機汚染物、金属不純物等のコンタミネーシ
ョンを除去するために洗浄装置が使用されており、その
中でもとりわけ、ウェット型の洗浄装置は、パーティク
ルを効果的に除去できしかもバッチ処理が可能なため、
広く普及している。

【０００３】かかる洗浄装置においては、所定枚数例え
ば２５枚のウエハを収納したカセット単位でロードする
ロード機構と、このロード機構によってロードされたウ
エハを所定枚数、例えば５０枚ずつ搬送する搬送装置
と、この搬送装置によって搬送されたウエハを一括して
洗浄するように配列された複数の処理槽と、各処理槽に
よって洗浄されたウエハをアンロードするアンロード機
構とを備えて構成されている。

【０００４】そして前記搬送装置は、前記各処理槽へウ
エハを搬送する際に所定枚数、例えば５０枚のウエハを
一括して同時に保持する、ウエハチャックと呼ばれる保
持装置を有している。この保持装置は通常、一対の保持
部材を対向して有し、各保持部材には、夫々保持溝が形
成された上側保持体と下側保持体とが平行に設けられ、
被処理体の周縁部をこれら保持溝で保持し、かつ下側保
持体の保持溝で前記被処理体の荷重を支持してウエハを
保持するように構成されている。そして上側保持体の保
持溝は、ウエハの転倒を防止すると共に、ウエハ相互間
の間隔を所定の間隔で保って整列状態の維持を図るよう
になっている。

【０００５】この場合、いかにパターンが形成されない
ウエハ周縁部であっても、パーティクルやウエハ自体に
対するダメージの防止のため、保持溝との接触面積はで
きるだけ小さくする必要がある。しかも保持体でウエハ
周縁部を保持するにあたっては、その間口が広いほど溝
内に納入しやすく、ジャンプスロットなどを防止するこ
とができる。従って従来は、これらの点に鑑みて前記上
側保持体と下側保持体の各保持溝の断面形状（溝内壁の
断面形状）は、夫々略Ｖ字形に成形されていた。

【０００６】一方ウエハの洗浄がなされる処理槽内に
は、前記搬送装置によって搬送されてくる前記ウエハを
保持するためのボートと呼ばれる保持具が設けられてい
る。この保持具は、前記保持装置によって保持された状
態のウエハを一括して受け取って保持するため、保持装
置における前記保持溝に対応した複数の保持溝が形成さ
れ、これら各保持溝内で各ウエハの周縁部を垂直に受容
して、前記ウエハを所定の保持位置にて保持するように
構成されている。そしてこれら保持具の保持溝において
も、前記した保持体の場合と同様、その断面形状がＶ字
形となるように形成されていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】しかしながらそのよう
に保持溝の断面形状をＶ字形にすると、溝底部を中心と
してウエハがその面方向に回動する範囲も大きくなって
しまう。即ちいわゆる「遊び」が大きくなる。その結
果、隣り合うウエハ相互間の間でウエハ同士が接触し、
パーティクルが発生したりウエハが損傷するおそれが出
てくる。また接触するに至らない場合でも、ウエハ相互
間の間隔が余りに狭小であると、整列したウエハをウエ
ハチャックで処理槽から引き上げた際、洗浄処理液の表
面張力との関係から、ウエハ相互間の間に洗浄液の滴が
残留し、その後の処理に悪影響を及ぼす場合がある。

【０００８】そして、例えば高温の薬液を用いてウエハ
を洗浄する処理槽内においては、洗浄液中にウエハを浸
漬させた状態で薬液の沸騰が行われる場合がある。ま
た、ウエハやウエハチャックを洗浄するために洗浄液中
にＮ₂ガスのバブリングが行われることもある。しか
し、ウエハを支持している保持溝の深さが十分でない
と、洗浄の際にウエハが沸騰した洗浄液の勢いやＮ₂バ
ブリングの勢いで動いてしまい、保持溝からウエハの周
縁が抜ける、いわゆるジャンプスロットといった問題が
発生する場合がある。

【０００９】本発明はそのような問題点に鑑みてなされ
たものであり、前記したようなウエハなどの被処理体を
搬送する搬送装置における保持装置や、処理槽内の保持
具における保持溝の形状に改良を加え、間口は広くかつ
被処理体との接触面積をなるべく小さくしつつ、整列状
態にある被処理体相互間の間隔を適切な範囲内に規制で
きる搬送装置を提供することを目的とするものである。

【００１０】また本発明では、かかる改良された形状の
保持溝を利用して、搬送装置と保持具との間の搬送にあ
たって、被処理体にダメージを与える危険のない範囲で
迅速な搬送を可能とする新しい搬送方法を提供すること
も目的とする。さらに本発明は、これら搬送装置や搬送
方法を利用した洗浄装置、洗浄方法を提供して、ジャン
プスロットがなく、歩留まりが高くかつスループットの
良好な洗浄処理を実現することもその目的とするもので
ある。

【００１１】

【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、請求項１によれば、一対の保持部材を対向して有
し、各保持部材には、夫々保持溝が形成された上側保持
体と下側保持体とが平行に設けられ、被処理体の周縁部
をこれら保持溝で保持し、かつ下側保持体の保持溝で前
記被処理体の荷重を支持した状態で前記被処理体を搬送
する如く構成された搬送装置において、前記上側保持
体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側の
第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２のテーパ部
の開き角度よりも大きく設定したことを特徴とする、搬
送装置が提供される。

【００１２】請求項１の搬送装置の場合、被処理体の転
倒防止を図る上側保持体の保持溝の断面形状が２段テー
パ形状であり、開口側の第１のテーパ部の開き角度が、
溝底部側の第２のテーパ部の開き角度よりも大きく設定
されている。従って溝の開口（間口）を広くとり、しか
も保持された被処理体の周縁部を、開き角度がより狭く
なった溝底部側の第２のテーパ部内に保持することがで
きる。その結果、保持した被処理体の面方向に回動する
範囲を従来よりも規制することができ、被処理体相互間
のクリアランスを適切に保つことができるのである。

【００１３】請求項２によれば、一対の保持部材で被処
理体を保持したままこの被処理体を搬送する如く構成さ
れた搬送装置を用い、保持溝が形成された保持具に前記
被処理体を搬送する搬送方法において、前記保持具の保
持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側の上側テ
ーパ部の開き角度を溝底部側の下側テーパ部の開き角度
よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の
移動速度を、前記被処理体の周縁部が前記保持溝におけ
る下側テーパ部に納入する前までは相対的高速に、それ
以後少なくとも下側テーパ部に納入して保持されるまで
は相対的低速に切り替えることを特徴とする、搬送方法
が提供される。

【００１４】請求項２に記載した搬送方法は、保持部材
から保持具へと被処理体を移載する際の搬送に関するも
のであり、保持具の保持溝のうち、被処理体の荷重を支
持しない保持溝の断面形状を、開口側の上側テーパ部の
開き角度が溝底部側の下側テーパ部の開き角度よりも大
き２段テーパ形状としたうえで、前記搬送装置における
保持部材の移動速度を、前記被処理体の周縁部が前記保
持溝における下側テーパ部に納入する前までは相対的高
速に、それ以後少なくとも下側テーパ部に納入して保持
されるまでは相対的低速に切り替えるようになってい
る。

【００１５】即ち、実際に保持した被処理体の回動方向
を規制する上側テーパ部内に、被処理体の周縁部が入る
までは速く、以後溝底部側の下側テーパ部内に納入させ
る際はそれより遅い速度で納入させることになる。従っ
て、状況に応じた速度設定であるから、パーティクル発
生を防止して被処理体にダメージを与える危険のない範
囲で迅速な搬送が可能となっている。なお移載完了後は
高速で保持部材を待避させればよい。

【００１６】この請求項２の搬送方法において、請求項
３に記載したように、さらに前記搬送装置における各保
持部材に、夫々被処理体の周縁部を保持するための保持
溝が形成された上側保持体と下側保持体とを平行に設
け、かつ下側保持体の保持溝で前記被処理体の荷重を支
持する如く構成し、さらに前記上側保持体の保持溝の断
面形状を２段テーパ形状とし、開口側の第１のテーパ部
の開き角度を溝底部側の第２のテーパ部の開き角度より
も大きく設定してもよい。

【００１７】請求項３では、その場合の保持部材におけ
る上側保持体に形成される保持溝も、２段テーパ形状で
あるから、保持して搬送中の被処理体の回動範囲を抑え
ることができる。したがって、被処理体相互間のクリア
ランスを適切に保ちつつ請求項２の搬送が可能となる。
なおこの請求項３の場合、保持部材における上側保持体
に形成される保持溝も２段テーパ形状であるから、保持
具への移載完了後、保持部材を待避させるにあたり、保
持具に保持させた被処理体の周縁部が未だ上側保持体の
第２テーパ部にある間は、相対的低速に、第２テーパ部
から外れた以後は相対的高速で保持部材を移動、待避さ
せるようにすれば、さらに安全な保持部材の待避動作が
行える。

【００１８】請求項４によれば、一対の保持部材で被処
理体を保持したままこの被処理体を搬送する如く構成さ
れた搬送装置を用い、保持溝が形成された保持具に保持
された被処理体を前記保持具から搬送する搬送方法にお
いて、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理
体の周縁部を保持するための保持溝が形成された上側保
持体と下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保
持溝で前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さら
に前記上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状
とし、開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の
第２のテーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記搬
送装置における保持部材の移動速度を、前記被処理体の
周縁部が前記保持溝における第２のテーパ部に納入する
前までは相対的高速に、それ以後少なくとも第２のテー
パ部に納入して保持されるまでは相対的低速に切り替え
ることを特徴とする、搬送方法が提供される。

【００１９】請求項４の搬送方法は、保持具から搬送装
置の保持部材へと被処理体を移載する際の保持部材の移
動速度に関し、被処理体の周縁部が上側保持体の保持溝
における第２のテーパ部に納入される前までは相対的高
速に、それ以後第２のテーパ部に入って移載が完了する
までは相対的低速に切り替えている。従って開き角度の
小さい第２テーパ部内での動きは遅くなっており、パー
ティクル発生を防止して被処理体にダメージを与える危
険のない移載が行える。もちろん保持部材への移載が完
了した後は、高速で移動させてもよい。

【００２０】この請求項４の搬送方法において、請求項
５に記載したように、さらに前記保持具の保持溝の断面
形状を２段テーパ形状とし、開口側の上側テーパ部の開
き角度を溝底部側の下側テーパ部の開き角度よりも大き
く設定してもよい。

【００２１】請求項５では、保持具における保持溝も２
段テーパ形状となっているから、保持されている被処理
体の動く範囲が小さく、移載が円滑に行え、接触の際の
パーティクル発生やダメージが防止される。

【００２２】また、これら請求項２、３、５に記載の搬
送方法において、請求項６に記載したように、さらに前
記保持具の保持溝の下側テーパ部を深くしても良い。

【００２３】請求項６では、保持具における保持溝の下
側テーパ部が深くなっており、保持具によって被処理体
を保持した際には、被処理体の周縁部が下側テーパ部に
通常よりも深く嵌入した状態となる。このため、保持具
によって保持されている被処理体が洗浄の際に保持溝か
ら抜ける心配がなく、洗浄液の沸騰やＮ₂ガスのバブリ
ングなどに起因するジャンプスロットといった問題が解
消されるようになる。

【００２４】請求項７によれば、上面に複数の保持溝が
形成された突き上げ部材を、複数の被処理体を収納した
収納部材の下面側開口部に相対的に挿入して、前記収納
部材内の被処理体を前記保持溝に保持して前記収納部材
の上方に突き上げ、次いでこの突き上げ部材に保持され
た前記被処理体を、一対の保持部材で被処理体を保持し
たままこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置
を用いて、前記突き上げ部材から搬送する方法におい
て、前記突き上げ部材上面に形成する保持溝を２段テー
パ形状とし、開口側の上方テーパ部の開き角度を溝底部
側の下方テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記
突き上げ部材の収納部材下面開口部内への相対的挿入時
の速度を、前記収納部材内にある被処理体の周縁部が前
記保持溝における下方テーパ部に納入する前までは相対
的高速に、それ以後少なくとも下方テーパ部に納入して
保持されるまでは相対的低速に切り替えることを特徴と
する、搬送方法が提供される。

【００２５】請求項７は、例えばキャリアと称される収
納部材から、被処理体のみを突き上げる際の突き上げに
特徴があるもので、突き上げ部材上面に形成された保持
溝が２段テーパ形状となっており、開き角度が小さい下
方テーパ部に収納部材内の被処理体の周縁部が入るまで
は相対的高速に、それ以後下方テーパ部に入った後保持
溝に支持されるまでは相対的低速にて、突き上げが行わ
れる。従って、スピーディーでかつ安全な突き上げを実
現することができる。

【００２６】請求項８によれば、上面に複数の保持溝が
形成された突き上げ部材を、複数の被処理体を収納した
収納部材の下面側開口部に相対的に挿入して、前記収納
部材内の被処理体を前記保持溝に保持して前記収納部材
の上方に突き上げ、次いでこの突き上げ部材に保持され
た前記被処理体を、一対の保持部材で被処理体を保持し
たままこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置
を用いて、前記突き上げ部材から搬送する方法におい
て、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理体
の周縁部を保持するための保持溝が形成された上側保持
体と下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保持
溝で前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さらに
前記上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状と
し、開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第
２のテーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記搬送
装置における保持部材の移動速度を、前記被処理体の周
縁部が前記保持溝における第２のテーパ部に納入する前
までは相対的高速に、それ以後少なくとも第２のテーパ
部に納入して保持されるまでは相対的低速に切り替える
ことを特徴とする、搬送方法が提供される。

【００２７】請求項８は、収納部材から突き上げられた
被処理体を搬送する際における、搬送装置の保持部材へ
の移載について特徴があるもので、上側保持体の保持溝
の断面形状が２段テーパ形状となっているので、基本的
には、前記した請求項４と同様な作用効果が得られる。

【００２８】請求項９は、前記請求項７に記載した突き
上げ部材に被処理体を搬送する方法に関するものであっ
て、一対の保持部材で被処理体を保持したままこの被処
理体を搬送する如く構成された搬送装置を用い、上面に
複数の保持溝が形成された突き上げ部材に前記被処理体
を搬送する方法であって、前記突き上げ部材は、複数の
被処理体を収納自在な収納部材の上方から下面開口部を
通過して退出し、前記保持溝上の被処理体を収納部材内
へと授受する如く構成された搬送方法において、前記突
き上げ部材上面に形成する保持溝を２段テーパ形状と
し、開口側の上方テーパ部の開き角度を溝底部側の下方
テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置
における保持部材の移動速度を、前記被処理体の周縁部
が前記保持溝における下方テーパ部に納入する前までは
相対的高速に、それ以後少なくとも下方テーパ部に納入
して保持されるまでは相対的低速に切り替えることを特
徴とする、搬送方法を提供する。

【００２９】請求項９によれば、搬送装置の保持部材か
ら前記した突き上げ部材に被処理体を搬送する際に特徴
があるもので、突き上げ部材上面に形成された保持溝が
２段テーパ形状となっており、開き角度が小さい下方テ
ーパ部に搬送装置の保持部材に保持された被処理体の周
縁部が入るまでは相対的高速に、それ以後下方テーパ部
に入った後保持溝に支持されるまでは相対的低速にて搬
送されるので、基本的には、前出請求項２と同様、パー
ティクル発生を防止して、被処理体にダメージを与える
おそれのない範囲で、スピーディーな突き上げ部材への
搬送が可能となっている。

【００３０】この請求項９に記載の搬送方法において
は、請求項１０に記載したように、さらに前記搬送装置
における各保持部材に、夫々被処理体の周縁部を保持す
るための保持溝が形成された上側保持体と下側保持体と
を平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で前記被処理体
の荷重を支持する如く構成し、さらに前記上側保持体の
保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側の第１
のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２のテーパ部の開
き角度よりも大きく設定してもよい。

【００３１】請求項１０では、その場合の保持部材にお
ける上側保持体に形成される保持溝も、２段テーパ形状
であるから、保持して搬送中の被処理体の回動範囲を抑
えることができる。したがって、被処理体相互間のクリ
アランスを適切に保ちつつ請求項７の搬送が可能とな
る。なおこの請求項０の場合、さらに保持部材における
上側保持体に形成される保持溝も２段テーパ形状である
から、突き上げ部材への移載完了後、保持部材を待避さ
せるにあたり、突き上げ部材に保持させた被処理体の周
縁部が未だ上側保持体の第２テーパ部にある間は、相対
的低速に、第２テーパ部から外れた以後は相対的高速で
保持部材を移動、待避させるようにすれば、さらに安全
な保持部材の待避動作が行える。

【００３２】請求項１１では、被処理体を保持したまま
搬送する如く構成された搬送装置と、洗浄処理液を蓄え
る処理槽とを有し、被処理体を前記搬送装置で処理槽内
へと搬送し、洗浄処理液に浸漬させてこの被処理体を洗
浄する如く構成された洗浄装置において、前記搬送装置
は一対の保持部材を対向して有し、各保持部材には、夫
々保持溝が形成された上側保持体と下側保持体とが平行
に設けられ、被処理体の周縁部をこれら保持溝で保持
し、かつ下側保持体の保持溝で前記被処理体の荷重を支
持した状態で前記被処理体を搬送する如く構成され、さ
らに前記上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形
状とし、開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側
の第２のテーパ部の開き角度よりも大きく設定したこと
を特徴とする、洗浄装置が提供される。

【００３３】請求項１１の洗浄装置では、処理槽へと被
処理体を搬送する搬送装置における保持部材が、請求項
１に記載した特徴を有しているので、請求項１の場合と
同様、被処理体の搬送にあたり、被処理体相互間のクリ
アランスを適切に保ってこれを行うことができ、接触に
よる被処理体のダメージ、パーティクルの発生が防止さ
れ、被処理体相互間に洗浄処理液の滴が挟まったまま搬
送するといったことも防止される。

【００３４】請求項１２によれば、被処理体を保持した
まま搬送する如く構成された搬送装置と、洗浄処理液を
蓄える処理槽とを有し、被処理体を前記搬送装置で処理
槽内へと搬送し、洗浄処理液に浸漬させてこの被処理体
を洗浄する如く構成された洗浄装置において、前記処理
槽内に、前記被処理体を保持するための保持具を設置
し、かつこの保持具の保持溝の断面形状を２段テーパ形
状とし、開口側の上側テーパ部の開き角度を溝底部側の
下側テーパ部の開き角度よりも大きく設定したことを特
徴とする、洗浄装置が提供される。

【００３５】請求項１２の洗浄装置では、処理槽内で被
処理体を保持する保持具に、２段テーパ形状の保持溝が
形成されているので、洗浄処理の間、被処理体相互間の
クリアランスを適切に保って接触による被処理体のダメ
ージ、パーティクルの発生が防止される。また保持され
ているときの「遊び」も少なくできるので、被処理体の
搬送装置の保持部材への移載も円滑に行え、洗浄効果も
向上する。

【００３６】また、この請求項１２に記載の洗浄装置に
おいて、請求項１３に記載したように、さらに前記保持
具の保持溝の下側テーパ部を深くしても良い。

【００３７】請求項１３の洗浄装置では、処理槽へと被
処理体を搬送する搬送装置における保持部材が、請求項
６に記載した特徴を有しているので、請求項６の場合と
同様、被処理体の洗浄にあたり、保持されている被処理
体が保持溝から抜け難くなり、洗浄液の沸騰などに起因
するジャンプスロットといった問題が解消される。

【００３８】請求項１４によれば、複数の被処理体を収
納した収納部材から、被処理体を上方に相対的に突き上
げる如く構成された突き上げ部材と、被処理体を保持し
たまま搬送する如く構成された搬送装置と、洗浄処理液
を蓄える処理槽とを有し、突き上げ部材に保持された被
処理体を前記搬送装置で処理槽内へと搬送し、洗浄処理
液に浸漬させてこの被処理体を洗浄する如く構成された
洗浄装置において、前記突き上げ部材上面に形成する保
持溝を２段テーパ形状とし、開口側の上方テーパ部の開
き角度を溝底部側の下方テーパ部の開き角度よりも大き
く設定したことを特徴とする、洗浄装置が提供される。

【００３９】請求項１４の洗浄装置では、突き上げ部材
上面に形成される保持溝の断面形状が２段テーパ形状で
あるから、被処理体の周縁部を保持する際の間口を広く
し、かつ保持後は、被処理体相互間のクリアランスを適
切に維持することが可能になっている。

【００４０】さらに請求項１５によれば、洗浄処理液を
蓄えた処理槽内に設置した保持具に、搬送装置によって
被処理体を搬送して、前記保持具に形成された保持溝に
前記被処理体を保持させ、被処理体を前記洗浄処理液に
よって洗浄する洗浄方法において、前記保持具の保持溝
の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側の上側テーパ
部の開き角度を溝底部側の下側テーパ部の開き角度より
も大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動
速度を、前記被処理体が洗浄処理液に浸漬されるまでは
相対的高速に、次いで浸漬された後前記被処理体の周縁
部が前記保持溝における下側テーパ部に納入する前まで
は相対的中速に、それ以後少なくとも下側テーパ部に納
入して保持されるまでは相対的低速に切り替えることを
特徴とする、洗浄方法が提供される。

【００４１】請求項１５の洗浄方法では、洗浄処理液を
蓄えた処理槽内に、被処理体を移載するプロセスにおい
て、洗浄処理液外の間では相対的高速、洗浄処理液内に
浸漬され、保持具の保持溝の狭い下側テーパ部に入るま
では相対的中速に、下側テーパ部に入って完全に保持さ
れるまでは相対的低速にして、被処理体を保持した保持
部材を移動させている。即ち洗浄処理液内に浸漬されて
流体抵抗の大きいところでは相対的中速で移動し、さら
に狭い空間である保持溝の狭い下側テーパ部に入ってか
らは相対的低速で慎重に移動させることができる。従っ
て、状況に応じた速度設定がなされているので、安全で
かつ迅速な移載が行え、結果的に歩留まりの低下を防止
しつつ、かつスループットを向上させる洗浄を実施する
ことができる。

【００４２】また、この請求項１５に記載の洗浄方法に
おいて、請求項１６に記載したように、さらに前記保持
具の保持溝の下側テーパ部を深くしても良い。

【００４３】請求項１６の洗浄装置では、処理槽へと被
処理体を搬送する搬送装置における保持部材が、請求項
６および請求項１３に記載した特徴を有しているので、
請求項６および請求項１３の場合と同様、被処理体の洗
浄にあたり、保持されている被処理体が保持溝から抜け
難く、洗浄液の沸騰などに起因するジャンプスロットと
いった問題が解消される。

【００４４】請求項１７によれば、洗浄処理液を蓄えた
処理槽内に設置した保持具に保持された被処理体を、前
記洗浄処理液に浸漬させて洗浄し、洗浄終了後に、搬送
装置の保持部材に前記被処理体を保持させて、そのまま
処理槽外へと搬送する洗浄方法において、前記搬送装置
における各保持部材に、夫々被処理体の周縁部を保持す
るための保持溝が形成された上側保持体と下側保持体と
を平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で前記被処理体
の荷重を支持する如く構成し、さらに前記上側保持体の
保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側の第１
のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２のテーパ部の開
き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持
部材の保持速度に関しては、前記被処理体の周縁部が前
記保持溝における第２のテーパ部に納入する前までは相
対的高速にし、保持した後保持部材自体の移動速度に関
しては、洗浄処理液に前記被処理体が浸漬されている間
は相対的中速に、次いで前記被処理体が洗浄処理液から
引き上げられた以後は相対的高速に切り替えることを特
徴とする洗浄方法が提供される。この請求項１７でいう
保持部材の保持速度とは、例えば回動動作によって被処
理体を保持するときの速度をいい、保持部材自体の移動
速度とは、被処理体を保持した後、例えば上昇する際の
速度をいう。

【００４５】請求項１７の洗浄方法では、処理槽内での
洗浄処理が終了した後の被処理体を、処理槽外へ搬送す
るプロセスにおいて、搬送装置の保持部材における上側
保持体の狭い第２のテーパ部に、被処理体の周縁部を納
入する前までは、例えば回動による保持動作が慎重に低
速となっており、納入して保持した後、槽内の洗浄処理
液に浸漬されている間は流体抵抗に鑑みてさほどスピー
ドを上げず、洗浄処理液から引き上げた後は、高速で移
動させることができる。従って、請求項１２の場合と同
様、状況に応じた速度設定がなされ、歩留まりの低下を
防止すると共に、スループットを向上させることが可能
になっている。

【００４６】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づいて説明すると、本実施の形態は半導体ウエ
ハ（以下、「ウエハ」という）の洗浄装置に対して適用
された例であって、まずその洗浄装置全体について説明
すると、この洗浄装置１は、図１に示したように、洗浄
処理前のウエハをキャリア単位で投入するための搬入部
２と、ウエハの洗浄処理が行われる洗浄処理部３と、洗
浄処理後のウエハをキャリア単位で取り出すための搬出
部４の、計３つのゾーンによって構成されている。

【００４７】前記搬入部２には、未洗浄処理のウエハが
所定枚数、例えば２５枚収納されたキャリアＣを搬入、
載置させる載置部５と、載置されたキャリアＣを整列部
６へ移送するための移送装置７が設けられている。また
前記洗浄処理部３には、その前面側（図１における手前
側）に３つの搬送装置１１、１２、１３が配列されてお
り、これら各搬送装置１１、１２、１３には夫々対応す
るウエハチャック１４、１５、１６が設けられている。
そして前記搬送装置１１のウエハチャック１４は、整列
部６からキャリア２つ分のウエハ（５０枚）を保持し、
その後これらウエハを後述の洗浄処理槽へ搬送していく
ように構成されている。

【００４８】さらに前記搬出部４においても、前記載置
部５とほぼ同様な構成を有す載置部８、前記整列部６と
同一構成の整列部（図示せず）、前記移送装置７と同一
構成の移送装置（図示せず）が夫々設けられている。

【００４９】前記洗浄処理部３には、載置部５側から順
に、前記搬送装置１１のウエハチャック１４を洗浄、乾
燥するチャック洗浄・乾燥処理槽２１、ウエハ表面の有
機汚染物、金属不純物、パーティクル等の不純物質を薬
液によって洗浄処理する薬液洗浄処理槽２２、前記薬液
洗浄処理槽２２で洗浄されたウエハを例えば純水によっ
て洗浄する２つの水洗洗浄処理槽２３、２４、前記薬液
洗浄処理槽２２における薬液とは異なった薬液で洗浄処
理する薬液洗浄処理槽２５、前記薬液洗浄処理槽２５で
洗浄されたウエハを例えば純水によって洗浄する２つの
水洗洗浄処理槽２６、２７、前記搬送装置１３のウエハ
チャック１６を洗浄、乾燥するチャック洗浄・乾燥処理
槽２８、及び前記不純物質が除去されたウエハを、例え
ばＩＰＡ（イソプロピルアルコール）等で蒸気乾燥させ
るための乾燥処理槽２９が、夫々配設されている。これ
ら各処理槽２１〜２９は、洗浄効果等を向上させるた
め、例えば槽底部よりＮ₂ガスのバブリングが行われる
ように構成されている場合がある。また、特に薬液洗浄
処理槽２２および薬液洗浄処理槽２５においては、洗浄
液中にウエハを浸漬させた状態で薬液を沸騰させること
ができるように構成されている。

【００５０】次に本実施の形態にかかる搬送装置の詳細
を、例えば図２に示した水洗洗浄処理槽２４、薬液洗浄
処理槽２５、及び水洗洗浄処理槽２６相互間でウエハを
搬送させる如く構成された搬送装置１２を例にとって説
明すると、この搬送装置１２における前出ウエハチャッ
ク１５は、例えば５０枚のウエハＷを一括して保持する
ための左右一対の保持部材３１、４１によって構成され
ている。

【００５１】前記保持部材３１、４１は左右対称形であ
り、これら各保持部材３１、４１は各々対応する回動軸
３２、４２によって、搬送装置１２における支持部１７
によって支持されている。この支持部１７は、駆動機構
１８によって上下方向（Ｚ方向）に移動し、また前出ウ
エハチャック１５自体は支持部１７に内蔵された駆動機
構（図示せず）によって前後方向（Ｙ方向）に移動自在
となるように構成され、さらに前記駆動機構１８自体
は、洗浄処理部３の長手方向（Ｘ方向）に沿って移動自
在な搬送ベース１９（図１において図示される）の上部
に設けられている。そして前記支持部１７内に設けられ
たモータなどの駆動体（図示せず）によって、前記回動
軸３２、４２は、図２中の往復回動矢印に示されたよう
に、往復回動自在となるように構成されている。また支
持部１７自体もθ方向へと微調整自在である。

【００５２】ウエハチャック１５を構成する一対の保持
部材３１、４１は左右対称形であり、例えば保持部材３
１の構成について詳述すると、この保持部材３１は、そ
の上端に前出回動軸３２と固定される取付部材３３と、
この取付部材３３の前後端部から垂設されるステイ３
４、３５と、このステイ３４、３５の中央略上部に渡さ
れる補強バー３６と、ステイ３４、３５の下端間に渡さ
れる略棒形状の下側支持体３７と、この下側支持体３７
の上方に平行に渡される略棒形状の上側支持体３８とに
よって構成されている。

【００５３】前記上側支持体３８の表面には、対向する
保持部材４１側に向けて、図４に示された保持溝３９が
所定間隔、例えば８インチウエハを保持する場合には、
６．３５mm間隔で５０個形成されている。この保持溝３
９は断面形状が２段テーパ形状をなし、開口側の第１テ
ーパ部３９ａ、溝底部３９ｃ側の第２テーパ部３９ｂと
によって構成されている。そして第１テーパ部３９ａの
開き角度は５０〜７０゜、例えば８インチウエハを保持
する場合には、６０゜±４゜、即ち溝底部３９ｃを中心
とした片側の開き角度θ₁が３０゜±２゜となるように
設定されている。また第２テーパ部３９ｂの開き角度は
２０〜４０゜、例えば８インチウエハを保持する場合に
は、３０゜±４゜、即ち溝底部３９ｃを中心とした片側
の開き角度θ₂が１５゜±２゜となるように設定されて
いる。

【００５４】また本実施の形態においては、溝底部３９
ｃは断面弧状となるように成形されており、その曲率半
径は０．３〜０．８mm、例えば０．５mm±０．２mmに設
定されている。さらに前記保持溝３９の深さについてい
うと、図４に示したように、第１テーパ部３９ａの深さ
Ｌ₁が３mm、第２テーパ部３９ｂの深さＬ₂も３mmに設定
してあり、保持溝３９全体の深さは合計６mmである。な
おこれら第１テーパ部３９ａの深さＬ₁、第２テーパ部
３９ｂの深さＬ₂は、ウエハの大きさに応じた適切な範
囲内で任意に設定できる。

【００５５】以上のように設定された保持溝３９によれ
ば、例えば８インチのウエハＷの周縁部が、図５に示し
たように、保持溝３９内の底部３９ｃとの空隙が１mm程
度の間隔となるように保持された際、その第２テーパ部
３９ｂによって左右の回動が規制されているが、前記し
たように、本実施の形態においては第２テーパ部３９ｂ
の開き角度が２８゜に設定されているため、図６に示し
たように、隣接した他の保持溝３９’で保持される他の
ウエハＷ’との最接近幅Ｄが２mmとなっている。もちろ
んこのこの最接近幅Ｄは、前出保持溝３９の間隔や溝底
部３９ｃを中心とした片側の開き角度θ₁に応じて、１
〜３mmの範囲で任意に選択することが可能である。

【００５６】また前記下側保持体３７の表面には、ウエ
ハＷの荷重を直接受けてこれを支持することになる保持
溝４０が、前記保持溝３９と同一ピッチでかつ同一個数
形成されている。この保持溝４０は、図７に示したよう
に、断面形状がＶ字形に成形されており、その開き角度
は５０゜〜７０゜、即ち溝底部４０ａを中心とした片側
の開き角度θ₃が２５゜〜３５゜となるように設定され
ている。またこの保持溝４０の深さＬ₃は、４mmに設定
され、溝底部４０ａの曲率半径も０．３mm〜０．８mmに
設定されている。

【００５７】このようにして構成される保持部材３１と
対向する他の保持部材４２も、前記の保持溝３９が形成
された上側保持体４８、保持溝４０が形成された下側保
持体４７を夫々有している。そしてウエハチャック１５
における保持部材３１、４１は、各回動軸３２、４２の
回動により開閉し、被処理体であるウエハＷは、対向す
る各下側保持体３７、４７にその下端周縁部が保持され
てウエハＷの荷重が支持され、かつ同時に対向する各上
側支持体３８、４８にその側端周縁部が保持されてウエ
ハＷの転倒が防止されるようになっている。

【００５８】より詳述すれば、各下側保持体３７、４７
の保持溝４０によってウエハＷの周縁部を介してその荷
重が支持された際、各上側支持体３８、４８の保持溝３
９における第２のテーパ部３９ｂ内に、当該ウエハＷの
他の周縁部が納入されて保持されるようになっている。
また換言すれば、ウエハＷの他の周縁部が未だ第２のテ
ーパ部３９ｂ内に入っていない時には、ウエハＷの周縁
部は各下側保持体３７、４７の保持溝４０で支持されて
いない状態である。

【００５９】他の搬送装置１１、１３及びそのウエハチ
ャック１４、１６も前記した、搬送装置１２、ウエハチ
ャック１５と同一の構成を有している。

【００６０】前出薬液洗浄処理槽２５をはじめとする各
洗浄処理槽の内底部には、図２、図８に示したような、
処理槽内でウエハＷを保持するための保持具となるボー
ト５１が設置されている。このボート５１は、支持体５
２を有しており、その下部には当該支持体５２によって
支持される保持部５３、５４、５５が夫々設けられてい
る。

【００６１】前記各保持部５３、５４、５５のうち、中
央に位置する保持部５４の表面には保持溝５６が、前出
上側保持体３８の保持溝３９と同一ピッチで５０個形成
されている。この保持溝５６は、ウエハＷの転倒防止を
図るものであり、図９に示したように、断面形状が２段
テーパ形状をなしており、開口側の上側テーパ部５６
ａ、溝底部５６ｃ側の下側テーパ部５６ｂとによって構
成されている。そして上側テーパ部５６ａの開き角度は
５０゜〜７０゜、即ち溝底部５６ｃを中心とした片側の
開き角度θ₄が２５゜〜３５゜となるように設定され、
下側テーパ部５６ｂの開き角度は１０゜〜２０゜、即ち
溝底部５６ｃを中心とした片側の開き角度θ₅が５゜〜
１０゜となるように設定されている。

【００６２】またこの保持溝５６の深さについては、図
９に示した例では、上側テーパ部５６ａの深さＬ₅が３m
m、下側テーパ部５６ｂの深さＬ₄も３mmに設定してあ
り、保持溝５６全体の深さは６mmとなっている。かかる
設定により、前出ウエハチャック１５の上側保持体３８
の保持溝３９の場合と同様、保持されたウエハＷ相互の
先端部の最接近間隔は２mmとなっている。

【００６３】もちろん、これら上側テーパ部５６ａの深
さＬ₅と下側テーパ部５６ｂの深さＬ₄は適宜変更するこ
とが可能である。図１０に示した例では、保持溝５６の
上側テーパ部５６ａの深さＬ₅は図９の例と同様に３mm
であるが、下側テーパ部５６ｂの深さＬ₄は図９の例よ
りも深い５mmとした構成になっている。このように、図
１０の例においては、上側テーパ部５６ａの深さＬ₅と
下側テーパ部５６ｂの深さＬ₄の比Ｌ₅：Ｌ₄が３：５と
なるように設定してある。但し、この図１０に示した例
においても先の図９の例と同様に、上側テーパ部５６ａ
の開き角度は５０゜〜７０゜で片側の開き角度θ₄が２
５゜〜３５゜となるように設定され、下側テーパ部５６
ｂの開き角度は１０゜〜２０゜で片側の開き角度θ₅が
５゜〜１０゜となるように設定されている。

【００６４】前出保持部５３、５４、５５のうち、両側
に位置する保持部５３、５５は、左右対称形であり、そ
の各表面には、前記保持溝５６と同一ピッチで５０個の
保持溝５７が形成されている。この保持溝５７は、ウエ
ハＷの荷重を直接支持するためのものであって、図１１
に示したようにその断面形状はＶ字形に成形され、その
開き角度は６０゜、即ち溝底部５７ａを中心とした片側
の開き角度θ₆が３０゜となるように設定されている。
さらにこの保持溝５７の深さＬ₆は４mmに設定され、溝
底部４０ａの曲率半径は０．４mmに設定されている。こ
れら溝底部５７ａを中心とした片側の開き角度θ₆も１
０〜２０゜、保持溝５７の深さＬ₆も３〜１０mmの間の
適宜の深さ、例えば４mmに設定されている。

【００６５】そして保持部５３、５５の保持溝５７によ
って、周縁部を介してウエハＷの荷重が支持された際、
保持部５４の保持溝５６における下側テープ部５６ｂ内
に、当該ウエハＷの他の周縁部が納入されて保持される
ようになっており、ウエハＷの他の周縁部が未だ保持溝
５６の下側テープ部５６ｂ内に入っていない時には、ウ
エハＷの周縁部は各保持部５３、５５の各保持溝５７で
支持されていない状態となっている。

【００６６】本実施の形態にかかる洗浄装置１は以上の
ように構成されており、次にこの洗浄装置１を用いてウ
エハＷの洗浄処理を実施する一例について説明すると、
例えば搬送ロボット（図示せず）によって前出前記搬入
部２に、未洗浄処理のウエハを収納したキャリアＣが載
置されると、オリフラ合わせが終了した後、移送装置７
によって整列部６へと移送され、次いで整列部６に設置
されている突き上げ装置（図示せず）によってこのキャ
リアＣから、ウエハＷのみが突き上げられる。そしてそ
の後まず搬送装置１１のウエハチャック１４によって、
ウエハＷが一括して保持され、以後順次、薬液洗浄処理
槽２２、水洗洗浄処理槽２３、次いで搬送装置１２のウ
エハチャック１５によってウエハＷが一括保持されて水
洗洗浄処理槽２４、薬液洗浄処理槽２５・・・、の順
に、ウエハＷが処理槽内に浸漬され、所定の洗浄処理が
ウエハＷに対して実施されていく。

【００６７】各処理槽内にウエハＷを浸漬する際には、
既述した各処理槽内に設置されたボートに、ウエハチャ
ックで保持したウエハＷを一括して移載して行われる
が、その詳細について説明すると、例えば前出薬液洗浄
処理槽２５内に設置されているボート５１に、ウエハチ
ャック１５が保持しているウエハＷを搬送、移載するプ
ロセスに基づいていえば、まず図１２に示したように、
ウエハチャック１５が、薬液洗浄処理槽２５の所定位置
上方までＸ方向に移動すると、今度はウエハチャック１
５がＺ方向に沿って下方に降下していく、この時の移動
（降下）速度は、相対的高速で行われる。

【００６８】そして保持しているウエハＷの下端部が、
薬液洗浄処理槽２５内の薬液に浸かり始めると、移動速
度は相対的中速（後述するように、ウエハＷの下端周縁
部が下側テーパ部５６ｂに入った後の移動速度に比べれ
ば相対的高速）に切り替わり、速度を落として予め設定
された停止点まで降下する。ウエハチャック１５の停止
のタイミングは、例えば図１３（ａ）に示したように、
保持しているウエハＷの中心Ｐと、ボート５１によって
ウエハＷが保持された場合のウエハＷの中心Ｐ₀との
差、ｄ₁を基準にして設定すればよい。

【００６９】本実施の形態では、図１４に示した状態、
即ちウエハＷの下端周縁部が保持部５４の保持溝５６の
上側テーパ部５６ａにある間はもちろんのこと、図１５
に示したように、保持溝５６の下側テーパ部５６ｂに納
入される前までは、相対的中速（後述するように、ウエ
ハＷの下端周縁部が下側テーパ部５６ｂに入った後の移
動速度に比べれば相対的高速）を維持している。そして
その後なおも降下させてウエハＷの下端周縁部が、下側
テーパ部５６ｂに入る時点で、移動（降下）速度を相対
的低速に切り替えて、以後少なくとも図１３（ｂ）、図
１６に示したように、ウエハＷの荷重が保持部５３、５
５の保持溝５７によって支持されるまで、当該相対的低
速で降下移動する。なお設定を変え、図１４に示した状
態、即ちウエハＷの下端周縁部が保持部５４の保持溝５
６の上側テーパ部５６ａに入るまでを相対的中速又は高
速にし、以後上側テーパ部５６ａに納入して、図１６に
示した状態になるまでは相対的低速とするようにしても
よい。

【００７０】本実施の形態では、前記図１３（ｂ）のウ
エハＷが保持部５３、５４、５５で保持された後も降下
させるようにし、図１３（ｃ）に示したように、保持部
５３、５４、５５で支持されたときのウエハＷの中心Ｐ
₀よりも、ウエハチャック１５でウエハＷを保持してい
た時のウエハＷの中心Ｐの方が、３mm下がった位置（図
１３（ｃ）におけるｄ₂）まで前記相対的低速での速度
で降下させるように設定している。

【００７１】なお図１３（ｂ）に示したように、保持溝
等の加工精度等の問題からウエハＷの下端周縁部が、保
持部５４の保持溝５６の底部５６ｃに万が一接触するこ
とも考えられる。しかしながら、通常この種の８インチ
ウエハの周縁部の曲率半径は、０．３mmであるのに対
し、本実施の形態における保持溝５６の底部５６ｃの幅
は、それより大きくなっている。従って、たとえそのよ
うなウエハＷ下端周縁部と保持溝５６の底部５６ｃが接
触したとしても、接触部分が極めて狭小であり、接触に
伴うパーティクルの発生は極力抑えられており、しかも
ウエハＷ自体が受ける接触によるダメージもほとんどな
い。

【００７２】そしてそのようにしてウエハチャック１５
の保持部材が前記した降下点まで降下した後、今度は図
１３（ｄ）のように回動軸３２、４２の開放回動を実施
し、図１３（ｅ）及び図１７に示したように、保持部材
３１、４１の下側支持体３７、４７の保持溝４０が、ウ
エハＷの周囲端部にかからない位置まで開放させる。こ
のときの回動軸３２、４２の開放回動、即ち開脚移動の
際の速度は、図１３（ｃ）から図１３（ｄ）までは相対
的低速に、図１３（ｄ）から図１３（ｅ）までは相対的
高速に設定してもよい。次いで図１３（ｅ）の状態の後
は、かかる保持部材３１、４１の開度を維持したまま、
ウエハチャック１５をＺ方向に沿って上昇させ、保持部
材３１、４１を薬液洗浄処理槽２５から引き上げる。

【００７３】次に、こうして薬液洗浄処理槽２５内のボ
ート５１によって保持されたウエハＷに対しては、所定
の薬液による洗浄が施される。薬液洗浄処理槽２５にお
いては、この洗浄の際には洗浄効率を高めるために、ウ
エハＷを薬液中に浸漬させた状態で薬液の沸騰やＮ₂ガ
スのバブリングが行われることもある。しかし、ボート
５１に保持されたウエハＷは、保持部５４の保持溝５６
における下側テーパ部５６ｂによって、保持されたウエ
ハＷ相互の先端部の最接近間隔も適切に設定されている
から、洗浄処理中、沸騰した薬液の流れやバブリングガ
スの勢いによってウエハＷが揺動しても、ウエハＷ同士
が接触することはない。従って、洗浄中にウエハＷの接
触によるパーティクルの発生、損傷等は防止される。

【００７４】更にまた、ウエハＷが沸騰した洗浄液の勢
いやＮ₂バブリングの勢いで動くと、保持溝５６、５７
からウエハＷの周縁が抜ける、いわゆるジャンプスロッ
トといった問題も発生し易いが、保持溝５６における下
側テーパ部５６ｂの開き角度が上側テーパ部５６ａの開
き角度よりも狭くなっていることにより、そのようなジ
ャンプスロットの発生も有効に防止できるようになる。
特に、前述の図１０に示した例では、保持溝５６におい
て下側テーパ部５６ｂが深く構成されているので、ウエ
ハＷが保持溝５６から抜け難く、そのようなジャンプス
ロットの発生をより有効に防止することが可能である。

【００７５】一方、保持具５４の保持溝５６における下
側テーパ部５６ｂを深くすればするほどウエハＷのジャ
ンプスロットといった問題は解消されるが、反面、下側
テーパ部５６ｂをあまり深くし過ぎると、図１０に示さ
れるように、ウエハＷのエッジカット部（ウエハＷ周縁
部のデバイスが形成されない部分）Ｗ’を超えた部分
（ウエハＷのデバイス形成部分）Ｗ”までが下側テーパ
部５６ｂに嵌入することとなるので好ましくない。ま
た、上側テーパ部５６ａの深さＬ₅が下側テーパ部５６
ｂの深さＬ₄に比べてあまり小さいと保持具５４の保持
溝５６へのウエハＷの移載が困難となるといった問題も
生じる。ウエハＷのデバイス形成部分Ｗ”が下側テーパ
部５６ｂに嵌入することなく、しかも保持具５４におけ
る保持溝５６へのウエハＷの移載が円滑に行え、かつジ
ャンプスロットといった問題を有効に解決するために
は、先に図１０に示したように、保持具５４の保持溝５
６の上側テーパ部５６ａの深さＬ₅と下側テーパ部５６
ｂの深さＬ₄の比Ｌ₅：Ｌ₄は３：５にするのが最も適当
である。

【００７６】そして洗浄終了後、ウエハＷを薬液洗浄処
理槽２５から引き上げて、次の水洗洗浄処理槽２６へと
搬送する場合には、基本的には、前述のボート５１へウ
エハＷを搬送、移載する時のプロセスと全く逆の手順プ
ロセスを経て行われる。即ち、まずウエハチャック１５
が薬液洗浄処理槽２５内に入るまでは、相対的高速に移
動し、次いで薬液洗浄処理槽２５内の薬液に浸かった後
は相対的中速に切り替わって以後、図１３（ｅ）までは
当該速度で降下して停止する。そして図１３（ｅ）から
図１３（ｄ）までは相対的高速で回動軸３２、４２の閉
脚移動がなされる。

【００７７】そしてかかる閉脚移動の途中、ボート５１
に保持されているウエハＷの側端周縁部が、ウエハチャ
ック１５の保持部材３１、４１の各上側支持体３７、４
８の各保持溝３９における第２のテーパ部３９ｂに入る
までは、かかる相対的高速の下で移動（閉脚）され、図
１３（ｄ）の時点の第２のテーパ部３９ｂ内にウエハＷ
の当該側端周縁部が納入し始めた後は相対的低速に切り
替えられて、しばらくそのままの速度で閉脚する。即ち
図１３（ｄ）から図１３（ｃ）までは、相対的低速に切
り替わって回動軸３２、４２の閉脚移動がなされる。な
おウエハチャック１５の降下移動と、回動軸３２、４２
の閉脚移動とを適宜同時に進行するするように構成して
もよい。

【００７８】そして図１３（ｃ）の時点で回動軸３２、
４２の閉脚移動は停止し、その後ウエハチャック１５の
上昇移動がなされるが、この場合の上昇移動の速度はま
ず相対的低速に設定される。そして図１３（ｂ）に示し
たように、ウエハＷをその周縁部を介して下側支持体３
７の保持溝４０で支持し、かつ第２のテーパ部３９ｂ内
にウエハＷの周縁部を納入して、ウエハＷを保持した後
は、例えば図１３（ａ）の時点までは、そのまま相対的
低速で上昇させ、それ以後ウエハＷが薬液洗浄処理槽２
５内の薬液に浸かっている間は、相対的中速で上昇移動
させ、ウエハＷが薬液洗浄処理槽２５内の薬液から引き
上げられた後は、相対的高速に切り替えて、ウエハＷを
次の水洗洗浄処理槽２６へと搬送する。

【００７９】以上のようにウエハチャック１５の保持部
材３１、４１の移動、即ち上昇・下降、並びに開閉回動
の各速度を適宜切り替えて移動させることにより、ウエ
ハＷに対してダメージを与えることがない範囲で迅速に
ウエハＷの搬送、移送を実施することが可能である。即
ち、ボート５１とウエハチャック１５間のウエハＷの授
受の際に、ウエハＷを損傷させることなく、しかもパー
ティクルを発生させることなくこれを実施することがで
き、しかも授受した後は相対的中速、相対的高速でウエ
ハチャック１５を移動しているので、結果的に安全、か
つ迅速なウエハＷの搬送を行うことができる。

【００８０】また本実施の形態では、授受完了後、ウエ
ハチャック１５が未だ薬液洗浄処理槽２５内の薬液に浸
っている間は相対的中速移動であって、薬液から引き上
げられた後にさらに高速移動させる方法を採っている。
従って、薬液の飛散等も抑えられ、洗浄装置１内の汚染
を抑えた適切な搬送速度の切換がなされている。

【００８１】そのうえウエハチャック１５における保持
部材３１、４１の各上側支持体３７、４８の各保持溝３
９は２段テーパ形状であって、既述の如く、この保持溝
３９の第２のテーパ部３９ｂで保持された際には、ウエ
ハＷの先端部相互間の最接近距離が１〜３mmの範囲の
値、例えば２mmに設定されているから、薬液洗浄処理槽
２５内の薬液からウエハＷが引き上げられた際、当該薬
液の滴がウエハＷの表面に付着していたとしても、隣接
する２枚のウエハ間に当該薬液の滴挟まり、その表面張
力によってそのままウエハＷ間に残留することはなく、
そのまま下方に滴り落ちる。従って、ウエハＷを汚染し
たり、以後の処理に支障をきたすおそれはない。

【００８２】しかもそのようにしてウエハチャック１５
に保持されたウエハＷ相互間の間隔は適切に設定されて
いるので、ウエハチャック１５による搬送中に、隣り合
ったウエハＷ相互が接触して、パーティクルが発生した
り、損傷したりするおそれはないものである。

【００８３】なお以上のような速度の切換時点の判断
は、ウエハチャック１５のＺ方向の移動、並びに回動軸
３２、４２の回動を実現させる駆動源にパルスモータ等
を使用し、速度切換点を予め設定した基準パルス数に基
づいて行えば、容易にこれをなし得る。即ち、ウエハチ
ャック１５の移動量を適宜パルスカウンタで計測して起
き、所定の積算パルス数の時点で、当該パルスモータの
速度を切り替えるように設定しておけばよいのである。

【００８４】ところでこの洗浄装置１においては、既述
のように、整列部６に設置されている突き上げ装置（図
示せず）によって、キャリアＣから、ウエハＷのみが突
き上げられるプロセスがなされる。そしてこの種の突き
上げ装置は、例えば図１８に示したように、上下動自在
な突き上げ部材８１の上面にウエハＷを保持するための
保持溝が所定間隔で所定数、例えば２５個形成されてい
る。そして突き上げる場合には、例えば突き上げ部材８
１を上昇させて、キャリアＣの下面に設けた開口部８２
内に挿入し、当該保持溝でキャリアＣ内のウエハＷを保
持し、そのままさらに突き上げ部材８１を上昇させて、
ウエハＷをキャリアＣから突き上げるようになってい
る。また他の方法として、逆にキャリアＣを下降させて
ウエハＷに対して相対的に突き上げ部材８１の突き上げ
を実現して、ウエハＷを突き上げる方法も提案されてい
る。

【００８５】いずれの場合でも、かかる保持溝を、その
断面形状が図１９に示したように２段テーパ形状とした
保持溝８３として構成してもよい。この保持溝８３は、
開口側の上方テーパ部８３ａの開き角度が、溝底部８３
ｃ側の下方テーパ部８３ｂよりも大きく設定されてい
る。

【００８６】そして前記した突き上げ動作にあたって
も、常に同一速度で前記したような相対的突き上げ移動
を行うのではなく、適宜速度を切り替えて、図１９に示
したように、キャリアＣ内のウエハＷの下端周縁部が、
保持溝８３における下方テーパ部８３ｂに入るまでは相
対的高速に、以後少なくともウエハＷの下端周縁部が保
持溝８３で支持されるまでは、相対的低速で突き上げ移
動させるようにしてもよい。

【００８７】このように状況に応じて速度切換を実施す
ることにより、ウエハＷの下端周縁部と保持溝８３内壁
との接触によるダメージやパーティクルの発生を抑えつ
つ迅速な突き上げ動作を行うことができるものである。

【００８８】さらに突き上げ後のウエハＷをウエハチャ
ック１４によって搬送していく際の、ウエハＷのウエハ
チャック１４への移載にあたっても、既述の実施の形態
のおける処理槽内のボート５１からウエハチャック１５
への移載と同様、速度を切り替えて行ってもよい。

【００８９】

【発明の効果】請求項１の搬送装置によれば、被処理体
の転倒防止を図る上側保持体の保持溝の断面形状が２段
テーパ形状となっているので、その間口は広く被処理体
を受け取る際これを円滑に行え、保持した後は開き角度
の小さい第２のテーパ部に被処理体の周縁部が入ってい
るので、被処理体相互間のクリアランスを適切に保つこ
とができる。従って、被処理体同士の接触が防止される
と共に、他への移載もスムーズに行える。

【００９０】請求項２に記載した搬送方法によれば、搬
送装置の保持部材の移動速度が、状況に応じた速度設定
となっており、パーティクル発生を防止すると共に被処
理体自体がダメージを受ける危険のない範囲で迅速な搬
送が可能であり、歩留まり、スループットの向上が図れ
る。請求項３の搬送方法では、かかる効果に加えて、さ
らに被処理体相互間のクリアランスを適切に保って、被
処理体同士の接触の防止、移載の円滑化を図ることが可
能である。

【００９１】請求項４の搬送方法によれば、保持具から
搬送装置の保持部材へと被処理体を移載する際にあたっ
て、搬送装置の保持部材の移動速度が状況に応じた速度
設定となっているので、パーティクル発生を防止すると
共に被処理体自体がダメージを受ける危険のない範囲で
迅速な搬送が可能であり、歩留まり、スループットの向
上が図れる。

【００９２】請求項５の搬送方法では、かかる効果に加
えて、さらに保持具の保持溝が２段テーパ形状であるか
ら、被処理体相互間のクリアランスを適切に保って、被
処理体同士の接触の防止、移載の円滑化を図ることが可
能である。

【００９３】請求項６の搬送方法では、さらに保持具に
おける保持溝の下側テーパ部が深くなっているから、保
持具によって保持されている被処理体が抜ける心配がな
く、いわゆるジャンプスロットといった問題が解消され
るようになる。

【００９４】請求項７は、収納部材から被処理体のみを
突き上げる際に、迅速でかつ安全な突き上げを実現する
ことができ、請求項８では、収納部材から突き上げられ
た被処理体を搬送装置へ移載する際に、迅速でかつ安全
な移載が行える。

【００９５】請求項９によれば、搬送装置の保持部材か
ら、突き上げ部材へ被処理体を搬送するにあたり、搬送
装置の保持部材の移動速度が、状況に応じた速度設定と
なっており、パーティクル発生を防止すると共に被処理
体自体がダメージを受ける危険のない範囲で迅速な搬送
が可能であり、歩留まり、スループットの向上が図れ
る。請求項１０の搬送方法では、かかる効果に加えて、
さらに被処理体相互間のクリアランスを適切に保って、
被処理体同士の接触の防止、移載の円滑化を図ることが
可能である。

【００９６】請求項１１の洗浄装置によれば、被処理体
を処理槽へと搬送する場合、被処理体相互間のクリアラ
ンスを適切に保ってこれを行うことができ、接触による
被処理体のダメージ、パーティクルの発生が防止され、
被処理体相互間に洗浄処理液の滴が挟まったまま搬送す
るといったことも防止される。

【００９７】請求項１２の洗浄装置によれば、洗浄処理
の間、被処理体相互間のクリアランスを適切に保って接
触による被処理体のダメージ、パーティクルの発生が防
止される。また被処理体の搬送装置の保持部材への移載
も円滑に行える。

【００９８】請求項１３の洗浄装置では、請求項６の場
合と同様、被処理体の洗浄にあたり、保持されている被
処理体が保持溝から抜け難くなり、ジャンプスロットと
いった問題が解消される。

【００９９】請求項１４の洗浄装置では、収納部材から
被処理体を突き上げる際に、突き上げ部材への支持を円
滑にし、かつ支持した後突き上げ状態にあるときの、被
処理体相互間のクリアランスを適切に維持することが可
能になっている。しかも以後の搬送装置への移載も円滑
に行える。

【０１００】請求項１５の洗浄方法によれば、洗浄処理
液を蓄えた処理槽内に被処理体を移載するプロセスにお
いて、状況に応じた速度設定がなされているので、安全
でかつ迅速な移載が行え、結果的に歩留まりを向上さ
せ、かつスループットを向上させる洗浄を実施すること
ができる。

【０１０１】請求項１６の洗浄装置では、請求項６およ
び請求項１３の場合と同様、被処理体の洗浄にあたり、
保持されている被処理体が保持溝から抜け難く、ジャン
プスロットといった問題が解消される。

【０１０２】請求項１７の洗浄方法では、処理槽内での
洗浄処理が終了した後の被処理体を、処理槽外へ搬送す
るプロセスにおいて、状況に応じた速度設定がなされて
いるので、歩留まりの低下を防止すると共に、スループ
ットを向上させることが可能になっている。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態にかかる洗浄装置の概観を
示す斜視図である。

【図２】図１の洗浄装置における搬送装置の斜視図であ
る。

【図３】図２の搬送装置における保持部材の正面図であ
る。

【図４】図３の保持部材の上側支持体に形成された２段
テーパ形状の保持溝の断面説明図である。

【図５】図４の保持溝にウエハの周縁部を保持させた様
子を示す断面説明図である。

【図６】隣り合った図４の保持溝に保持されたウエハの
先端が最接近した様子を示す説明図である。

【図７】図３の保持部材の下側支持体に形成されたＶ字
形の保持溝の断面説明図である。

【図８】図２の薬液洗浄処理槽内に設置されたボートの
正面説明図である。

【図９】図８のボートの中央の保持部における２段テー
パ形状の保持溝の断面説明図である。

【図１０】保持溝の下側テーパ部を深くした保持部にお
ける２段テーパ形状の保持溝の断面説明図である。

【図１１】図８のボートの両側の保持部におけるＶ字形
の保持溝の断面説明図である。

【図１２】薬液洗浄処理槽の上方で、図２の搬送装置に
おけるウエハチャックでウエハを保持した様子を示す説
明図である。

【図１３】図２の搬送装置におけるウエハチャックで保
持したウエハを、薬液洗浄処理槽のボートの保持部に移
載するプロセスを示す説明図である。

【図１４】図１３のプロセスにおいて、ウエハの下端周
縁部が未だ保持溝の上側テーパ部にも納入されていない
時の要部断面説明図である。

【図１５】図１３のプロセスにおいて、ウエハの下端周
縁部が、保持溝の下側テーパ部に入る直前の状態示す要
部断面説明図である。

【図１６】図１３のプロセスにおいて、ウエハの下端周
縁部が保持溝の下側テーパ部へと納入された状態を示す
要部断面説明図である。

【図１７】図１３のプロセスにおいて、ウエハをボート
に保持させて後ウエハチャックを引き上げる直前の状態
を示す説明図である。

【図１８】キャリア内のウエハを突き上げ部材によって
突き上げる前の様子を示す説明図である。

【図１９】図１８の突き上げ部材の保持溝に適用できる
２段テーパ形状の保持溝の断面説明図である。

【符号の説明】

１洗浄装置１１、１２、１３搬送装置１４、１５、１６ウエハチャック２５薬液洗浄処理槽３１、４１保持部材３２、４２回動軸３７下側保持体３８上側保持体３９保持溝（断面２段テーパ形状）３９ａ第１テーパ部３９ｂ第２テーパ部３９ｃ溝底部４０保持溝（断面Ｖ字形状）５１ボート５２、５３、５４保持部５６保持溝（断面２段テーパ形状）５６ａ上側テーパ部５６ｂ下側テーパ部５６ｃ溝底部５７保持溝（断面Ｖ字形状）ＣキャリアＷウエハ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一対の保持部材を対向して有し、各保持
部材には、夫々保持溝が形成された上側保持体と下側保
持体とが平行に設けられ、被処理体の周縁部をこれら保
持溝で保持し、かつ下側保持体の保持溝で前記被処理体
の荷重を支持した状態で前記被処理体を搬送する如く構
成された搬送装置において、前記上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状と
し、開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第
２のテーパ部の開き角度よりも大きく設定したことを特
徴とする、搬送装置。
【請求項２】一対の保持部材で被処理体を保持したま
まこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置を用
い、保持溝が形成された保持具に前記被処理体を搬送す
る搬送方法において、前記保持具の保持溝のうち、被処理体の荷重を支持しな
い保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側の上
側テーパ部の開き角度を溝底部側の下側テーパ部の開き
角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処
理体の周縁部が前記保持溝における下側テーパ部に納入
する前までは相対的高速に、それ以後少なくとも下側テ
ーパ部に納入して保持されるまでは相対的低速に切り替
えることを特徴とする、搬送方法。
【請求項３】一対の保持部材で被処理体を保持したま
まこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置を用
い、保持溝が形成された保持具に前記被処理体を搬送す
る搬送方法において、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理体の周
縁部を保持するための保持溝が形成された上側保持体と
下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で
前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さらに前記
上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、
開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２の
テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、一方前記保持具の保持溝のうち、被処理体の荷重を支持
しない保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側
の上側テーパ部の開き角度を溝底部側の下側テーパ部の
開き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処
理体の周縁部が前記保持溝における下側テーパ部に納入
する前までは相対的高速に、それ以後少なくとも下側テ
ーパ部に納入して保持されるまでは相対的低速に切り替
えることを特徴とする、搬送方法。
【請求項４】一対の保持部材で被処理体を保持したま
まこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置を用
い、保持溝が形成された保持具に保持された被処理体を
前記保持具から搬送する搬送方法において、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理体の周
縁部を保持するための保持溝が形成された上側保持体と
下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で
前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さらに前記
上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、
開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２の
テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処
理体の周縁部が前記保持溝における第２のテーパ部に納
入する前までは相対的高速に、それ以後少なくとも第２
のテーパ部に納入して保持されるまでは相対的低速に切
り替えることを特徴とする、搬送方法。
【請求項５】一対の保持部材で被処理体を保持したま
まこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置を用
い、保持溝が形成された保持具に保持された被処理体を
前記保持具から搬送する搬送方法において、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理体の周
縁部を保持するための保持溝が形成された上側保持体と
下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で
前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さらに前記
上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、
開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２の
テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、一方前記保持具の保持溝のうち、被処理体の荷重を支持
しない保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側
の上側テーパ部の開き角度を溝底部側の下側テーパ部の
開き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処
理体の周縁部が前記保持溝における第２のテーパ部に納
入する前までは相対的高速に、それ以後少なくとも第２
のテーパ部に納入して保持されるまでは相対的低速に切
り替えることを特徴とする、搬送方法。
【請求項６】前記保持具の保持溝の下側テーパ部を深
くした請求項２、３、５の何れかに記載の搬送方法。
【請求項７】上面に複数の保持溝が形成された突き上
げ部材を、複数の被処理体を収納した収納部材の下面側
開口部に相対的に挿入して、前記収納部材内の被処理体
を前記保持溝に保持して前記収納部材の上方に突き上
げ、次いでこの突き上げ部材に保持された前記被処理体
を、一対の保持部材で被処理体を保持したままこの被処
理体を搬送する如く構成された搬送装置を用いて、前記
突き上げ部材から搬送する方法において、前記突き上げ部材上面に形成する保持溝を２段テーパ形
状とし、開口側の上方テーパ部の開き角度を溝底部側の
下方テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記突き上げ部材の収納部材下面開口部内への相対的挿
入時の速度を、前記収納部材内にある被処理体の周縁部
が前記保持溝における下方テーパ部に納入する前までは
相対的高速に、それ以後少なくとも下方テーパ部に納入
して保持されるまでは相対的低速に切り替えることを特
徴とする、搬送方法。
【請求項８】上面に複数の保持溝が形成された突き上
げ部材を、複数の被処理体を収納した収納部材の下面側
開口部に相対的に挿入して、前記収納部材内の被処理体
を前記保持溝に保持して前記収納部材の上方に突き上
げ、次いでこの突き上げ部材に保持された前記被処理体
を、一対の保持部材で被処理体を保持したままこの被処
理体を搬送する如く構成された搬送装置を用いて、前記
突き上げ部材から搬送する方法において、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理体の周
縁部を保持するための保持溝が形成された上側保持体と
下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で
前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さらに前記
上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、
開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２の
テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処
理体の周縁部が前記保持溝における第２のテーパ部に納
入する前までは相対的高速に、それ以後少なくとも第２
のテーパ部に納入して保持されるまでは相対的低速に切
り替えることを特徴とする、搬送方法。
【請求項９】一対の保持部材で被処理体を保持したま
まこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置を用
い、上面に複数の保持溝が形成された突き上げ部材に前
記被処理体を搬送する方法であって、前記突き上げ部材
は、複数の被処理体を収納自在な収納部材の上方から下
面開口部を通過して退出し、前記保持溝上の被処理体を
収納部材内へと授受する如く構成された搬送方法におい
て、前記突き上げ部材上面に形成する保持溝を２段テー
パ形状とし、開口側の上方テーパ部の開き角度を溝底部
側の下方テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記
搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処理体
の周縁部が前記保持溝における下方テーパ部に納入する
前までは相対的高速に、それ以後少なくとも下方テーパ
部に納入して保持されるまでは相対的低速に切り替える
ことを特徴とする、搬送方法。
【請求項１０】一対の保持部材で被処理体を保持した
ままこの被処理体を搬送する如く構成された搬送装置を
用い、上面に複数の保持溝が形成された突き上げ部材に
前記被処理体を搬送する方法であって、前記突き上げ部
材は、複数の被処理体を収納自在な収納部材の上方から
下面開口部を通過して退出し、前記保持溝上の被処理体
を収納部材内へと授受する如く構成された搬送方法にお
いて、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理体の周
縁部を保持するための保持溝が形成された上側保持体と
下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で
前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さらに前記
上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、
開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２の
テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記突き上げ
部材上面に形成する保持溝を２段テーパ形状とし、開口
側の上方テーパ部の開き角度を溝底部側の下方テーパ部
の開き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処
理体の周縁部が前記保持溝における下方テーパ部に納入
する前までは相対的高速に、それ以後少なくとも下方テ
ーパ部に納入して保持されるまでは相対的低速に切り替
えることを特徴とする、搬送方法。
【請求項１１】被処理体を保持したまま搬送する如く
構成された搬送装置と、洗浄処理液を蓄える処理槽とを
有し、被処理体を前記搬送装置で処理槽内へと搬送し、
洗浄処理液に浸漬させてこの被処理体を洗浄する如く構
成された洗浄装置において、前記搬送装置は、一対の保持部材を対向して有し、各保
持部材には、夫々保持溝が形成された上側保持体と下側
保持体とが平行に設けられ、被処理体の周縁部をこれら
保持溝で保持し、かつ下側保持体の保持溝で前記被処理
体の荷重を支持した状態で前記被処理体を搬送する如く
構成され、さらに前記上側保持体の保持溝の断面形状を
２段テーパ形状とし、開口側の第１のテーパ部の開き角
度を溝底部側の第２のテーパ部の開き角度よりも大きく
設定したことを特徴とする、洗浄装置。
【請求項１２】被処理体を保持したまま搬送する如く
構成された搬送装置と、洗浄処理液を蓄える処理槽とを
有し、被処理体を前記搬送装置で処理槽内へと搬送し、
洗浄処理液に浸漬させてこの被処理体を洗浄する如く構
成された洗浄装置において、前記処理槽内に、前記被処理体を保持するための保持具
を設置し、かつこの持具の保持溝のうち、被処理体の荷
重を支持しない保持溝の断面形状を２段テーパ形状と
し、開口側の上側テーパ部の開き角度を溝底部側の下側
テーパ部の開き角度よりも大きく設定したことを特徴と
する、洗浄装置。
【請求項１３】前記保持具の保持溝の下側テーパ部を
深くした請求項１２に記載の洗浄装置。
【請求項１４】複数の被処理体を収納した収納部材か
ら、被処理体を上方に相対的に突き上げる如く構成され
た突き上げ部材と、被処理体を保持したまま搬送する如
く構成された搬送装置と、洗浄処理液を蓄える処理槽と
を有し、突き上げ部材に保持された被処理体を前記搬送
装置で処理槽内へと搬送し、洗浄処理液に浸漬させてこ
の被処理体を洗浄する如く構成された洗浄装置におい
て、前記突き上げ部材上面に形成する保持溝を２段テーパ形
状とし、開口側の上方テーパ部の開き角度を溝底部側の
下方テーパ部の開き角度よりも大きく設定したことを特
徴とする、洗浄装置。
【請求項１５】洗浄処理液を蓄えた処理槽内に設置し
た保持具に、搬送装置によって被処理体を搬送して、前
記保持具に形成された保持溝に前記被処理体を保持さ
せ、被処理体を前記洗浄処理液によって洗浄する洗浄方
法において、前記保持具の保持溝のうち、被処理体の荷重を支持しな
い保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、開口側の上
側テーパ部の開き角度を溝底部側の下側テーパ部の開き
角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の移動速度を、前記被処
理体が洗浄処理液に浸漬されるまでは相対的高速に、次
いで浸漬された後前記被処理体の周縁部が前記保持溝に
おける下側テーパ部に納入する前までは相対的中速に、
それ以後少なくとも下側テーパ部に納入されて保持され
るまでは相対的低速に切り替えることを特徴とする、洗
浄方法。
【請求項１６】前記保持具の保持溝の下側テーパ部を
深くした請求項１５に記載の洗浄方法。
【請求項１７】洗浄処理液を蓄えた処理槽内に設置し
た保持具に保持された被処理体を、前記洗浄処理液に浸
漬させて洗浄し、洗浄終了後に、搬送装置の保持部材に
前記被処理体を保持させて、そのまま処理槽外へと搬送
する洗浄方法において、前記搬送装置における各保持部材に、夫々被処理体の周
縁部を保持するための保持溝が形成された上側保持体と
下側保持体とを平行に設け、かつ下側保持体の保持溝で
前記被処理体の荷重を支持する如く構成し、さらに前記
上側保持体の保持溝の断面形状を２段テーパ形状とし、
開口側の第１のテーパ部の開き角度を溝底部側の第２の
テーパ部の開き角度よりも大きく設定し、前記搬送装置における保持部材の保持速度に関しては、
前記被処理体の周縁部が前記保持溝における第２のテー
パ部に納入する前までは相対的高速にし、保持した後保
持部材自体の移動速度に関しては、洗浄処理液に前記被
処理体が浸漬されている間は相対的中速に、次いで前記
被処理体が洗浄処理液から引き上げられた以後は相対的
高速に切り替えることを特徴とする、洗浄方法。